JPS6265227A - 垂直磁気記録用媒体 - Google Patents
垂直磁気記録用媒体Info
- Publication number
- JPS6265227A JPS6265227A JP20432385A JP20432385A JPS6265227A JP S6265227 A JPS6265227 A JP S6265227A JP 20432385 A JP20432385 A JP 20432385A JP 20432385 A JP20432385 A JP 20432385A JP S6265227 A JPS6265227 A JP S6265227A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic recording
- recording medium
- pen
- alloy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Thin Magnetic Films (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は高密度記録特性の優れた垂直磁気記録用媒体
に関するものである。
に関するものである。
［従来技術］
従来の垂直磁気記録用媒体としては、二軸配向ポリエチ
レンテレフタレートフィルム又はポリアミドやポリイミ
ドの非晶質無延伸フィルムよりなる非磁性基板にパーマ
ロイよりなる軟磁性膜及びｃｏ−ｃｒ金合金りなる垂ｉ
ａ磁化膜を、スパッタリング法、真空蒸着法又はイオン
ブレーティング法により形成せしめ、更にこの表面に保
護膜を設けたものが知られている。
レンテレフタレートフィルム又はポリアミドやポリイミ
ドの非晶質無延伸フィルムよりなる非磁性基板にパーマ
ロイよりなる軟磁性膜及びｃｏ−ｃｒ金合金りなる垂ｉ
ａ磁化膜を、スパッタリング法、真空蒸着法又はイオン
ブレーティング法により形成せしめ、更にこの表面に保
護膜を設けたものが知られている。
しかし、非磁性基板として二軸配向ポリエチレンテレフ
タレートフィルムを用いた場合、熱寸法安定性が悪く、
スパッタリング等の工程で皺が発生したり、処理速度が
上げられないばかりでなく、フィルム中に存在するモノ
マーやオリゴマーの為に、均一な厚みのパーマロイ膜や
ｃｏ−Ｃ「合金膜が形成されず保磁力が充分でない問題
がある。
タレートフィルムを用いた場合、熱寸法安定性が悪く、
スパッタリング等の工程で皺が発生したり、処理速度が
上げられないばかりでなく、フィルム中に存在するモノ
マーやオリゴマーの為に、均一な厚みのパーマロイ膜や
ｃｏ−Ｃ「合金膜が形成されず保磁力が充分でない問題
がある。
また非磁性基板としてポリアミドやポリイミドの非晶質
無延伸フィルムを用いた場合、熱寸法安定性は良好なる
ものの、フィルム中の残留空気が多く、スパッタリング
等の工程の真空度が上がらないばかりでなく、パーマロ
イ膜やＣｏ−Ｃｒ膜の結晶性が著しく阻害され、これら
軟磁性膜や垂直磁化膜の強度が弱く、実用に耐えない問
題もある。
無延伸フィルムを用いた場合、熱寸法安定性は良好なる
ものの、フィルム中の残留空気が多く、スパッタリング
等の工程の真空度が上がらないばかりでなく、パーマロ
イ膜やＣｏ−Ｃｒ膜の結晶性が著しく阻害され、これら
軟磁性膜や垂直磁化膜の強度が弱く、実用に耐えない問
題もある。
［発明の目的］
本発明の目−的は、前述の問題点を解消せしめ、保磁力
が高く、軟磁性膜や垂直磁化膜の膜強度の高い垂直磁気
記録媒体を提供するものである。
が高く、軟磁性膜や垂直磁化膜の膜強度の高い垂直磁気
記録媒体を提供するものである。
［発明の構成］
本発明は、二軸配向ポリエチレン−２，６−ナフタレン
ジカルボキシレート（以下ＰＥＮと略記する）フィルム
積層体よりなる非磁性基板に何磁性躾、！直磁化膜及び
保護膜を形成せしめた垂直磁気記録用媒体である。
ジカルボキシレート（以下ＰＥＮと略記する）フィルム
積層体よりなる非磁性基板に何磁性躾、！直磁化膜及び
保護膜を形成せしめた垂直磁気記録用媒体である。
本発明を説明する。
本発明に於ける二軸配向ＰＥＮフィルム積層体よりなる
非磁性基板は、センターラインアベレッジ測定法による
表面粗さがｏ、ｏｏｓμｍ以下であるＰＥＮフィルムの
表面の少なくとも一方に平均粒子径０．０２５μｍ以下
のコロイダルシリカを分散せしめた高分子バインダーを
塗設したものである。
非磁性基板は、センターラインアベレッジ測定法による
表面粗さがｏ、ｏｏｓμｍ以下であるＰＥＮフィルムの
表面の少なくとも一方に平均粒子径０．０２５μｍ以下
のコロイダルシリカを分散せしめた高分子バインダーを
塗設したものである。
基板のうち主層となるＰＥＮフィルムの表面粗さがｏ、
ｏｏｓμｍよりも大であるとスパッタリングにより形成
される軟磁性膜や垂直磁化膜が不均一になることから、
垂直磁気記録媒体として用いた場合、垂直磁気ヘッドと
のスペーシングロスが大となり、保磁力が低下する。一
方、フィルム表面の少なくとも一表面に平均粒子径０．
０２５μｍ以下のコロイダルシリカを分散せしめた高分
子バインダーを塗設せしめないと、非磁性膜基板として
のＰＥＮフィルムがブロッキングをおこしたり、加工時
にローラー表面やスパッタリングキャン表面と粘着し、
作業においてフィルムを取扱うことが非常にむずかしく
なる。
ｏｏｓμｍよりも大であるとスパッタリングにより形成
される軟磁性膜や垂直磁化膜が不均一になることから、
垂直磁気記録媒体として用いた場合、垂直磁気ヘッドと
のスペーシングロスが大となり、保磁力が低下する。一
方、フィルム表面の少なくとも一表面に平均粒子径０．
０２５μｍ以下のコロイダルシリカを分散せしめた高分
子バインダーを塗設せしめないと、非磁性膜基板として
のＰＥＮフィルムがブロッキングをおこしたり、加工時
にローラー表面やスパッタリングキャン表面と粘着し、
作業においてフィルムを取扱うことが非常にむずかしく
なる。
表面が平滑なＰＥＮフィルムの表面に塗設する高分子バ
インダ一層の厚さはＰＥＮフィルムと接着力が強ければ
薄くてよい。またコロイダルシリカの平均粒径が綱かけ
れば高分子バインダ一層を薄くすることができる。この
高分子バインダ一層は０．０５μｍ程度から数μｍ程度
までの厚さを適宜選択できる。高分子バインダーは、Ｐ
ＥＮフィルムと接着力があり、コロイダルシリカを均一
に分散できるものであれば差支えない。ポリウレタン系
樹脂、ポリエステル樹脂などで、ベンゼン核。
インダ一層の厚さはＰＥＮフィルムと接着力が強ければ
薄くてよい。またコロイダルシリカの平均粒径が綱かけ
れば高分子バインダ一層を薄くすることができる。この
高分子バインダ一層は０．０５μｍ程度から数μｍ程度
までの厚さを適宜選択できる。高分子バインダーは、Ｐ
ＥＮフィルムと接着力があり、コロイダルシリカを均一
に分散できるものであれば差支えない。ポリウレタン系
樹脂、ポリエステル樹脂などで、ベンゼン核。
ナフタレン核を有するものが好ましい。
本発明に於ける軟磁性膜としては、Ｎｉ −Ｆｅ合金躾
なるパーマロイ膜を用いること、又垂直磁気膜としては
、Ｃｏ−Ｃｒ合合金金用いることが最も一般的であるが
、垂直磁気膜として、ＧＯ−Ｒｅ 、Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ
−Ｒｕ 、１３ａフェライトＣｏ−０，Ｃｏ −Ｎｉ
−Ｍｎ−Ｐ、Ｃｏ −Ｎｉ −Ｐ、Ｒｅ −Ｍｎ 、Ｃ
ｏなどを用いることも出来る。
なるパーマロイ膜を用いること、又垂直磁気膜としては
、Ｃｏ−Ｃｒ合合金金用いることが最も一般的であるが
、垂直磁気膜として、ＧＯ−Ｒｅ 、Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ
−Ｒｕ 、１３ａフェライトＣｏ−０，Ｃｏ −Ｎｉ
−Ｍｎ−Ｐ、Ｃｏ −Ｎｉ −Ｐ、Ｒｅ −Ｍｎ 、Ｃ
ｏなどを用いることも出来る。
本発明における保護膜としてはカーボンの蒸着膜やＡＩ
等の金属膜を用いたり、有機高分子よりなる塗膜を用い
たりすることが出来る。
等の金属膜を用いたり、有機高分子よりなる塗膜を用い
たりすることが出来る。
これらの膜は、蒸着法、イオンブレーティング法、スパ
ッタ法、電解メッキ法、無電解メッキ法や塗布法により
形成せしめることが出来るが、特にスパッタ法は膜強度
が大であり、膜にピンホールが出来にくく好ましい。
ッタ法、電解メッキ法、無電解メッキ法や塗布法により
形成せしめることが出来るが、特にスパッタ法は膜強度
が大であり、膜にピンホールが出来にくく好ましい。
次に、本発明の最も好ましい垂直磁気記録用媒体の構成
を第１図に示す。
を第１図に示す。
図の１は、二軸配向ＰＥＮフィルムよりなる厚さ３６〜
５０μｍの非磁性基板であり、図の２はパーマロイより
なる厚さ０．３〜０．７μｍの軟磁性膜であり、図の３
はｃｏ−Ｎｉ合金よりなる厚さ０．１５〜０．６μｍの
垂直磁化膜であり、図の４はカーボンよりなる厚さ０．
０５〜０．１５μｍの保護膜である。
５０μｍの非磁性基板であり、図の２はパーマロイより
なる厚さ０．３〜０．７μｍの軟磁性膜であり、図の３
はｃｏ−Ｎｉ合金よりなる厚さ０．１５〜０．６μｍの
垂直磁化膜であり、図の４はカーボンよりなる厚さ０．
０５〜０．１５μｍの保護膜である。
［発明の効果］
本発明は二軸配向ＰＥＮフィルムよりなる非磁性基板を
用いているので熱寸法安定性がよく、スパッタリングや
イオンブレーティングの工程に於て皺が発生することが
なく、また、キャンの温度を上げ、処理速度を上げるこ
とが出来る。更に二軸配向ＰＥＮフィルムは二輪配向さ
れているので、フィルム中の残留空気が少ない。加えて
、ポリマー中のナフタレン環に基因して、耐熱性やヤン
グ率・剛性率が高い利点がある。
用いているので熱寸法安定性がよく、スパッタリングや
イオンブレーティングの工程に於て皺が発生することが
なく、また、キャンの温度を上げ、処理速度を上げるこ
とが出来る。更に二軸配向ＰＥＮフィルムは二輪配向さ
れているので、フィルム中の残留空気が少ない。加えて
、ポリマー中のナフタレン環に基因して、耐熱性やヤン
グ率・剛性率が高い利点がある。
更にＰＥＮフィルム自体のガラス転移点が高いことから
、高温下や加熱時におけるオリゴマー発生量が少なく、
スパッタリング、イオンブレーティング又は蒸着法に於
て、ａ％真空度が得られるとともに、均一で結晶性の高
い高強度の軟磁性膜及び垂直磁化膜を形成せしめること
が出来る。
、高温下や加熱時におけるオリゴマー発生量が少なく、
スパッタリング、イオンブレーティング又は蒸着法に於
て、ａ％真空度が得られるとともに、均一で結晶性の高
い高強度の軟磁性膜及び垂直磁化膜を形成せしめること
が出来る。
このような製造・加工・使用における利点から垂直記録
用媒体として高保磁力及び強い耐久性を備えている。
用媒体として高保磁力及び強い耐久性を備えている。
［実施例］
５０μｍ厚さの２４０ａｍ＋幅の長尺の２軸配向ＰＥＮ
フイルムの表裏両面に片面あたり０．４５μｍ厚さのパ
ーマロイよりなる軟磁性膜と、該回磁性膜上に片面あた
り０．４μｍ厚さのＣｏ−Ｃｒ合金よりなる垂直磁化膜
を、更に片面あたり０．１μｍ厚さのカーボンよりなる
保護膜を形成し第１図の構成の垂直磁気記録媒体を作成
した。
フイルムの表裏両面に片面あたり０．４５μｍ厚さのパ
ーマロイよりなる軟磁性膜と、該回磁性膜上に片面あた
り０．４μｍ厚さのＣｏ−Ｃｒ合金よりなる垂直磁化膜
を、更に片面あたり０．１μｍ厚さのカーボンよりなる
保護膜を形成し第１図の構成の垂直磁気記録媒体を作成
した。
膜形成は２つの回転キャンを有する連続スパッタ装置を
用い、キャンの回転に沿ってこのシートを連続的に移送
させながらキャンに隣接したＮｉ−Ｆｅ合金よりなるタ
ーゲットとＣｏ−Ｃｒ合金よりなるターゲットとのスパ
ッタを施したのち、更に真空蒸着装置によりカーボンの
蒸着を行った。
用い、キャンの回転に沿ってこのシートを連続的に移送
させながらキャンに隣接したＮｉ−Ｆｅ合金よりなるタ
ーゲットとＣｏ−Ｃｒ合金よりなるターゲットとのスパ
ッタを施したのち、更に真空蒸着装置によりカーボンの
蒸着を行った。
スパッタは５ ｘ １Ｏ−７Ｔ ｏｒｒの真空度に到達
したのち、５ Ｘ １０’ Ｔ ｏｒｒのアルゴンガス
圧力を加え、平均堆積速１立０．３μｍ／Ｗｉｎの条件
で施した。このようにして得られた垂直磁気媒体を公知
の補助磁極励磁型垂直ヘッドを用い垂直方向の保磁力を
はかったところ、６５００ｅ （エルステッド）と良
好であった。更にこの装置により耐久性テストを行った
が、１０００万バス後も、垂直方向の保磁力は６０００
ｅ以上あり工業上実用に供し得る良好な耐久性を示し
た。
したのち、５ Ｘ １０’ Ｔ ｏｒｒのアルゴンガス
圧力を加え、平均堆積速１立０．３μｍ／Ｗｉｎの条件
で施した。このようにして得られた垂直磁気媒体を公知
の補助磁極励磁型垂直ヘッドを用い垂直方向の保磁力を
はかったところ、６５００ｅ （エルステッド）と良
好であった。更にこの装置により耐久性テストを行った
が、１０００万バス後も、垂直方向の保磁力は６０００
ｅ以上あり工業上実用に供し得る良好な耐久性を示し
た。
［比較例〕
実施例のＰＥＮフィルムのかわりに５０μｍ厚さの２４
０ｍ＋幅の長尺の２軸配向ポリエチレンテレフタレート
フイルムを用いた。但しスパッタにおいてフィルム中の
残留エアかオリゴマーの影響かのいず杭かに原因して、
５ ｘ １０’ Ｔ ｏｒｒの真空度にしか、到達しな
かったが、他は実施例と同一の作成方法とした。
０ｍ＋幅の長尺の２軸配向ポリエチレンテレフタレート
フイルムを用いた。但しスパッタにおいてフィルム中の
残留エアかオリゴマーの影響かのいず杭かに原因して、
５ ｘ １０’ Ｔ ｏｒｒの真空度にしか、到達しな
かったが、他は実施例と同一の作成方法とした。
この垂直磁気媒体を実施例と同じ装置により測定したと
ころ、垂直方向の保磁力は４５０Ｑｅ Ｌかなく、又耐
久性テストを行ったところ６００万バスで垂直方向の保
磁力は３００Ｑ ｅとなり工業上実用に耐えないもので
あった。
ころ、垂直方向の保磁力は４５０Ｑｅ Ｌかなく、又耐
久性テストを行ったところ６００万バスで垂直方向の保
磁力は３００Ｑ ｅとなり工業上実用に耐えないもので
あった。
第１図は、本発明による垂直磁気記録用媒体の構成を示
す断面図である。図において１は、二軸配向ポリエチレ
ン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートよりなる非
磁性基板、２は軟磁性膜。 ３は垂直磁化膜、図の４は保護膜である。
す断面図である。図において１は、二軸配向ポリエチレ
ン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートよりなる非
磁性基板、２は軟磁性膜。 ３は垂直磁化膜、図の４は保護膜である。
Claims (4)
- （１）二軸配向ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカ
ルボキシレートフイルム積層体よりなる非磁性基板に軟
磁性膜、垂直磁化膜及び保護膜を形成せしめてなる垂直
磁気記録用媒体。 - （２）０．００５μｍ以下の表面粗さを有する二軸配向
ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート
フイルムの表面に、粒子径０．０２５μｍ以下のコロイ
ダルシリカを分散せしめた高分子バインダーの塗膜を形
成せしめた積層体を非磁性基板とする特許請求の範囲第
１項記載の垂直磁気記録用媒体。 - （３）垂直磁化膜がＣｏ−Ｃｒ合金膜である特許請求の
範囲第１項記載の垂直磁気記録用媒体。 - （４）軟磁性膜がパーマロイからなる特許請求の範囲第
１項、第２項及び第３項のいずれか記載の垂直磁気記録
用媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20432385A JPS6265227A (ja) | 1985-09-18 | 1985-09-18 | 垂直磁気記録用媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20432385A JPS6265227A (ja) | 1985-09-18 | 1985-09-18 | 垂直磁気記録用媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6265227A true JPS6265227A (ja) | 1987-03-24 |
Family
ID=16488583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20432385A Pending JPS6265227A (ja) | 1985-09-18 | 1985-09-18 | 垂直磁気記録用媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6265227A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05154970A (ja) * | 1991-12-05 | 1993-06-22 | Teijin Ltd | 易接着性ポリエチレン―２，６―ナフタレートフイルム |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58169332A (ja) * | 1982-03-31 | 1983-10-05 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS5948825A (ja) * | 1982-09-14 | 1984-03-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS60113319A (ja) * | 1983-11-25 | 1985-06-19 | Teijin Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
-
1985
- 1985-09-18 JP JP20432385A patent/JPS6265227A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58169332A (ja) * | 1982-03-31 | 1983-10-05 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS5948825A (ja) * | 1982-09-14 | 1984-03-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS60113319A (ja) * | 1983-11-25 | 1985-06-19 | Teijin Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05154970A (ja) * | 1991-12-05 | 1993-06-22 | Teijin Ltd | 易接着性ポリエチレン―２，６―ナフタレートフイルム |
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