JPS6346466A - 両面露光用ワ−クアライメント装置 - Google Patents
両面露光用ワ−クアライメント装置Info
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- JPS6346466A JPS6346466A JP61190341A JP19034186A JPS6346466A JP S6346466 A JPS6346466 A JP S6346466A JP 61190341 A JP61190341 A JP 61190341A JP 19034186 A JP19034186 A JP 19034186A JP S6346466 A JPS6346466 A JP S6346466A
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q3/00—Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine
- B23Q3/18—Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine for positioning only
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q7/00—Arrangements for handling work specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools, e.g. for conveying, loading, positioning, discharging, sorting
- B23Q7/04—Arrangements for handling work specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools, e.g. for conveying, loading, positioning, discharging, sorting by means of grippers
- B23Q7/043—Construction of the grippers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/02—Exposure apparatus for contact printing
- G03B27/04—Copying apparatus without a relative movement between the original and the light source during exposure, e.g. printing frame or printing box
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/02—Exposure apparatus for contact printing
- G03B27/14—Details
- G03B27/18—Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material
- G03B27/20—Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material by using a vacuum or fluid pressure
-
- G—PHYSICS
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-
- H—ELECTRICITY
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0082—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks
Landscapes
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プリント基板等のワークの両面に印刷配線等
の画像を同時露光する際に、画像マスクとワークとを位
置合せする両面露光用ワークアライメント装置に関する
。
の画像を同時露光する際に、画像マスクとワークとを位
置合せする両面露光用ワークアライメント装置に関する
。
プリント基板等のワークに所定の配線パターン等の画像
を露光焼付けするには、ワークにマスクフィルムを位置
合せし近接配置して平行光を透過照射することにより行
なわれる。ワークの両面を同時露光する際のプリント基
板とマスクの位置合せ方法に関する従来の技術として、
本出願人は昭和61年3月31日付の特許出願「プリン
ト基板の焼付方法」において開示している。この両面同
時露光におけるワークと上下両面のマスクフィルムとの
位置合せ方法は、まずワークを露光位置にセットし、こ
のワークに対して上面のマスクフィルムを保持する焼枠
をワークとマスクフィルムの位置決め用の基準マークを
撮像して位置決めし、続いて下面のマスクフィルムを保
持する焼枠を同様に位置決めして行なうものであった。
を露光焼付けするには、ワークにマスクフィルムを位置
合せし近接配置して平行光を透過照射することにより行
なわれる。ワークの両面を同時露光する際のプリント基
板とマスクの位置合せ方法に関する従来の技術として、
本出願人は昭和61年3月31日付の特許出願「プリン
ト基板の焼付方法」において開示している。この両面同
時露光におけるワークと上下両面のマスクフィルムとの
位置合せ方法は、まずワークを露光位置にセットし、こ
のワークに対して上面のマスクフィルムを保持する焼枠
をワークとマスクフィルムの位置決め用の基準マークを
撮像して位置決めし、続いて下面のマスクフィルムを保
持する焼枠を同様に位置決めして行なうものであった。
しかしながら上記従来の技術における上下両面の各マス
クフィルムの位置合せ機構は、プリント基板とマスクフ
ィルムとの基準マークの位置ズレの量によって平面上で
直交する2方向(X方向。
クフィルムの位置合せ機構は、プリント基板とマスクフ
ィルムとの基準マークの位置ズレの量によって平面上で
直交する2方向(X方向。
Y方向)とその平面の回転方向(θ方向)を制御して位
置決めし、その後その位置合せ機構を含めてプリント基
板にマスクフィルムを精度良(接近させなければならな
かったので、極めて1M9iであるという問題点があっ
た。このためコスト高となり、さらにそれが上面マスク
フィルムと下面マスクフィルムと別個の位置合せ機構が
必要となるので装置が増々コスト高となった。
置決めし、その後その位置合せ機構を含めてプリント基
板にマスクフィルムを精度良(接近させなければならな
かったので、極めて1M9iであるという問題点があっ
た。このためコスト高となり、さらにそれが上面マスク
フィルムと下面マスクフィルムと別個の位置合せ機構が
必要となるので装置が増々コスト高となった。
本発明は上記問題点を解決するためのものであり、ワー
クの両面を同時露光する際の位置合せ機構を簡単化し、
装置コストを低減する両面露光用ワークアライメント装
置を提供することを目的とする。
クの両面を同時露光する際の位置合せ機構を簡単化し、
装置コストを低減する両面露光用ワークアライメント装
置を提供することを目的とする。
本発明の上記目的を達成するための手段は、画像マスク
を上下両面に夫々保持する焼枠の間で両面露光されるワ
ークの露光位置に該ワークを位置決め搬入するワークア
ライメント装置であって、上記露光位置のワークと上記
画像マスクとの位置ズレ世の確認算出手段と、上記焼枠
外に配設されワークの載置位置を上記位置ズレ量に基づ
いてアライメント座標系で位置決めするアライメントス
テージと、上記アライメント座標系で位置決めされたR
置位置のワークを上記露光位置に搬入する搬送手段とを
備えて成る両面露光用ワークアライメント装置である。
を上下両面に夫々保持する焼枠の間で両面露光されるワ
ークの露光位置に該ワークを位置決め搬入するワークア
ライメント装置であって、上記露光位置のワークと上記
画像マスクとの位置ズレ世の確認算出手段と、上記焼枠
外に配設されワークの載置位置を上記位置ズレ量に基づ
いてアライメント座標系で位置決めするアライメントス
テージと、上記アライメント座標系で位置決めされたR
置位置のワークを上記露光位置に搬入する搬送手段とを
備えて成る両面露光用ワークアライメント装置である。
ワークはアライメントステージ上で毎回同じ載置位置に
セットされ、搬送手段によって精度良く露光位置へ搬入
されるので、この載置位置のワークを必要に応じて前の
ワーク露光位置における位置ズレ量を基に位置合せ修正
できるようにすることにより、ワークと画像マスク(以
下マスクと略記する)の位置合せを焼枠外で行なうこと
が可能となる。上面マスクと下面マスクは予め位置合せ
固定し相対的に近接し得るようになっている。以上の作
用によって本発明は焼枠の上下二つの位置合せ機構を不
要とし、焼枠外の一つの位置合せ機構(アライメントス
テージ)でワークとマスクの位置合せを行なうことがで
き、またアライメントステージは上下動する必要がない
ので位置合せ機構の簡単化が達成される。
セットされ、搬送手段によって精度良く露光位置へ搬入
されるので、この載置位置のワークを必要に応じて前の
ワーク露光位置における位置ズレ量を基に位置合せ修正
できるようにすることにより、ワークと画像マスク(以
下マスクと略記する)の位置合せを焼枠外で行なうこと
が可能となる。上面マスクと下面マスクは予め位置合せ
固定し相対的に近接し得るようになっている。以上の作
用によって本発明は焼枠の上下二つの位置合せ機構を不
要とし、焼枠外の一つの位置合せ機構(アライメントス
テージ)でワークとマスクの位置合せを行なうことがで
き、またアライメントステージは上下動する必要がない
ので位置合せ機構の簡単化が達成される。
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて詳細に説明す
る。
る。
第1図は本発明の一実施例の上面より見た装置構成と制
御系のブロック構成を示す図であり、第2図は第1図X
−X線断面図である。まず装置の構成を述べる。1は両
面同時露光装置であり焼枠2a、2bで保持された上面
マスク3と下面マスク4の間にプリント基板等のワーク
5を露光位置に移送して、例えば下面マスク4側に図示
しない真空吸着手段等で密着ないし近接して保持し、上
面マスク3を上面焼枠2aの上下動機構6によってワー
ク5へ密着ないし近接させる。マスク3゜4はガラスマ
スクにより、またはガラスやアクリル板等の樹脂板にマ
スクフィルムを吸着保持することにより構成される。上
面マスク3と下面マスク4とは上記密着または近接時に
夫々の位置合せ用の基準マークが合致するようセットさ
れる。合致したかどうかは自動または手動介入によりテ
レビカメラ7で定期的に確認し狂いがあれば再セ・7ト
する。このテレビカメラはワーク5の基準マークと下面
マスク4の基準マークの位置ズレ景算出のためのセンサ
ーとしても使用される。
御系のブロック構成を示す図であり、第2図は第1図X
−X線断面図である。まず装置の構成を述べる。1は両
面同時露光装置であり焼枠2a、2bで保持された上面
マスク3と下面マスク4の間にプリント基板等のワーク
5を露光位置に移送して、例えば下面マスク4側に図示
しない真空吸着手段等で密着ないし近接して保持し、上
面マスク3を上面焼枠2aの上下動機構6によってワー
ク5へ密着ないし近接させる。マスク3゜4はガラスマ
スクにより、またはガラスやアクリル板等の樹脂板にマ
スクフィルムを吸着保持することにより構成される。上
面マスク3と下面マスク4とは上記密着または近接時に
夫々の位置合せ用の基準マークが合致するようセットさ
れる。合致したかどうかは自動または手動介入によりテ
レビカメラ7で定期的に確認し狂いがあれば再セ・7ト
する。このテレビカメラはワーク5の基準マークと下面
マスク4の基準マークの位置ズレ景算出のためのセンサ
ーとしても使用される。
上記焼枠2a、2b外には露光前のワークを所定位置に
載置するアライメントステージ8がある。
載置するアライメントステージ8がある。
アライメントステージ8は平面上で直交する2方向(X
、Y)のうちX方向に移動制御されるXテーブル9と、
Y方向に移動制御されるYテーブル10と、上記平面上
においてXテーブル9とYテーブル10とを回動制御す
るθテーブル11とから構成される。Xテーブル9はY
テーブルlo上にスライド軸受90等によりX方向へ摺
動可能に配設される。テーブル10のX方向の一方の辺
部にはパルスモータ等によって指定量だけX方向に進退
するXテーブル押圧手段9aが設けられ、その他方の辺
部にはXテーブル付勢部材9bがXテーブル押圧手段9
aの退却方向にXテーブルを付勢するように配設される
。上記の構成によりXテーブルはX方向に位置決め制御
される。Yテーブル10はθテーブル11上にスライド
軸受10c等によりY方向へ摺動可能に配設される。θ
テーブル11のY方向の一方の辺部には、パルスモータ
等によって指定量だけX方向に進退するYテーブル押圧
手段10aが設けられ、その他方の辺部にはYテーブル
付勢部材10bがYテーブル押圧手段10aの退却方向
にYテーブルを付勢するように配設される。上記構成に
よりYテーブルはY方向に位置決め制御される。露光装
置の基台12上のθテーブル11下方の部分には円形に
V溝123が設けられ、一方θテーブル11の下面にも
同径の円形にVilldが設けられて、両者が重なり合
うように配設され、その間にはボールベアリングlie
が挿入されて、θテーブル11を回動可能にしている。
、Y)のうちX方向に移動制御されるXテーブル9と、
Y方向に移動制御されるYテーブル10と、上記平面上
においてXテーブル9とYテーブル10とを回動制御す
るθテーブル11とから構成される。Xテーブル9はY
テーブルlo上にスライド軸受90等によりX方向へ摺
動可能に配設される。テーブル10のX方向の一方の辺
部にはパルスモータ等によって指定量だけX方向に進退
するXテーブル押圧手段9aが設けられ、その他方の辺
部にはXテーブル付勢部材9bがXテーブル押圧手段9
aの退却方向にXテーブルを付勢するように配設される
。上記の構成によりXテーブルはX方向に位置決め制御
される。Yテーブル10はθテーブル11上にスライド
軸受10c等によりY方向へ摺動可能に配設される。θ
テーブル11のY方向の一方の辺部には、パルスモータ
等によって指定量だけX方向に進退するYテーブル押圧
手段10aが設けられ、その他方の辺部にはYテーブル
付勢部材10bがYテーブル押圧手段10aの退却方向
にYテーブルを付勢するように配設される。上記構成に
よりYテーブルはY方向に位置決め制御される。露光装
置の基台12上のθテーブル11下方の部分には円形に
V溝123が設けられ、一方θテーブル11の下面にも
同径の円形にVilldが設けられて、両者が重なり合
うように配設され、その間にはボールベアリングlie
が挿入されて、θテーブル11を回動可能にしている。
基台12上にはパルスモータ等によって指定量だけθテ
ーブル11の回動方向に進退するθテーブル押圧手段1
1aが設けられ、このθテーブル押圧手段11aはθテ
ーブル11の縁部に固着された突起片11を進退させる
。この突起片11bは基台12に設けられたθテーブル
付勢部材11Cによって押圧手段11aの退却方向へ付
勢される。上記構成によりθテーブルは回動方向に指定
角度θだけ回動制御がなされる。
ーブル11の回動方向に進退するθテーブル押圧手段1
1aが設けられ、このθテーブル押圧手段11aはθテ
ーブル11の縁部に固着された突起片11を進退させる
。この突起片11bは基台12に設けられたθテーブル
付勢部材11Cによって押圧手段11aの退却方向へ付
勢される。上記構成によりθテーブルは回動方向に指定
角度θだけ回動制御がなされる。
なお、各テーブルの移動機構は上記に限定するものでは
なく、例えばスクリュー棒とナツトを使用するものなど
他のものでも良い。
なく、例えばスクリュー棒とナツトを使用するものなど
他のものでも良い。
次に搬送手段13を説明する。露光前のワーク5は適宜
配置されたXテーブル9上の位置決めビン9Cに規制さ
れて毎回一定のi!3!置位置定位置される。このワー
クのR置は搬送手段I3を兼用しても良いし、他のコン
ベアやロボット、ハンドラ等の搬送手段によっても良い
、搬送手段13はハンドラの例を示し、吸着板13aに
適宜個数配設された真空吸着ノズル13bにより、下降
してXテーブル9上のワーク5を真空吸着し所定の高さ
まで上昇した後、水平移動して焼枠間の露光位置へワー
クを移送する。このとき上面の焼枠2aは、上方へ退避
しており、搬送手段13が下降してワーク5を露光位置
へ離し再び上昇して焼枠外へ移動した後、露光のために
下降する。なお搬送手段13は上記に限定するものでは
なく、ロボット。
配置されたXテーブル9上の位置決めビン9Cに規制さ
れて毎回一定のi!3!置位置定位置される。このワー
クのR置は搬送手段I3を兼用しても良いし、他のコン
ベアやロボット、ハンドラ等の搬送手段によっても良い
、搬送手段13はハンドラの例を示し、吸着板13aに
適宜個数配設された真空吸着ノズル13bにより、下降
してXテーブル9上のワーク5を真空吸着し所定の高さ
まで上昇した後、水平移動して焼枠間の露光位置へワー
クを移送する。このとき上面の焼枠2aは、上方へ退避
しており、搬送手段13が下降してワーク5を露光位置
へ離し再び上昇して焼枠外へ移動した後、露光のために
下降する。なお搬送手段13は上記に限定するものでは
なく、ロボット。
コンベアなどワークの種類に応じて適切なものが使用で
きる。
きる。
次に制御系の構成を述べる。制御系は焼枠のマスクとワ
ークの基準マークから位置ズレの画像情報を得るための
テレビカメラ7と、Xテーブル9上面下の基台12側に
配設され、Xテーブル載置位置のワーク5のアライメン
ト座標系での絶対位置を計測するための画像情報を得る
テレビカメラ18と、前記位置ズレの画像情報からワー
クとマスクの位置ズレ量を算出し、その値を基に各テー
ブルの位置補正のための指定量、指定角度を算出する位
置制御量算出手段14と、この指定量、指定角度に基づ
いて所定パルス数を各押圧手段9a。
ークの基準マークから位置ズレの画像情報を得るための
テレビカメラ7と、Xテーブル9上面下の基台12側に
配設され、Xテーブル載置位置のワーク5のアライメン
ト座標系での絶対位置を計測するための画像情報を得る
テレビカメラ18と、前記位置ズレの画像情報からワー
クとマスクの位置ズレ量を算出し、その値を基に各テー
ブルの位置補正のための指定量、指定角度を算出する位
置制御量算出手段14と、この指定量、指定角度に基づ
いて所定パルス数を各押圧手段9a。
10a、llaに与えるX駆動部15.Y駆動部16、
θ駆動部17から成る。テレビカメラ7゜18は絶
対位置を測定するため、基台12に固定される。各テレ
ビカメラの個数は限定しないが、顕微鏡カメラであれば
夫々2コ以上設けるのが好適である。テレビカメラおよ
び位置制御量算出手段14は本発明の位置ズレ看の確認
算出手段である。
θ駆動部17から成る。テレビカメラ7゜18は絶
対位置を測定するため、基台12に固定される。各テレ
ビカメラの個数は限定しないが、顕微鏡カメラであれば
夫々2コ以上設けるのが好適である。テレビカメラおよ
び位置制御量算出手段14は本発明の位置ズレ看の確認
算出手段である。
以上の構成による実施例の作用を述べる。アライメント
ステージ8におけるワークの1322位置はX、Y、
θ量で定まるアライメント座標系で管理される。ワー
ク5はアライメントステージ8上で毎回路同じVt載置
位置セットされ、搬送手段13によって精度良く同じ露
光位置へ搬入されるのでワーク5とマスク3.4との位
置合せはアライメントステージで行なうことが可能とな
る。最初のワーク5は仮の載置位置から露光位置へ移送
搬入され、テレビカメラ7をセンサーとして位置ズレ量
が算出されて、その値に基づいて載置位置の次ワークの
位置補正の指定量X、Yと指定角度θが算出され、駆動
部15,16.17を介して各テ−プル9,10.11
が位置決め制御される。制御結果は次ワークの基準マー
クをテレビカメラ18によって確認して行ない、合致し
なければさらに位置補正される。このとき位置ズレを生
じている露光位置のワークは搬送手段13により載置値
;Uへ戻して次ワークの替りに前記の位置補正を行なっ
ても良いし、露光を行なわず特定場所へ排出しても良い
。次ワーク以降においても同様に毎回−上記の位置確認
補正を行なっても良いし、搬送手段13の精度の再現性
が得られれば一定露光回数毎に行なって生産能率を上げ
ることもできる。露光位置ではワーク5と上下面のマス
ク3,4が近接ないしは密着した状態で上面と下面とか
ら平行光ないしは近似平行光が照射されて両面露光がな
され、終了すると焼枠2a、2b間が開いて搬送手段1
3により排出される。
ステージ8におけるワークの1322位置はX、Y、
θ量で定まるアライメント座標系で管理される。ワー
ク5はアライメントステージ8上で毎回路同じVt載置
位置セットされ、搬送手段13によって精度良く同じ露
光位置へ搬入されるのでワーク5とマスク3.4との位
置合せはアライメントステージで行なうことが可能とな
る。最初のワーク5は仮の載置位置から露光位置へ移送
搬入され、テレビカメラ7をセンサーとして位置ズレ量
が算出されて、その値に基づいて載置位置の次ワークの
位置補正の指定量X、Yと指定角度θが算出され、駆動
部15,16.17を介して各テ−プル9,10.11
が位置決め制御される。制御結果は次ワークの基準マー
クをテレビカメラ18によって確認して行ない、合致し
なければさらに位置補正される。このとき位置ズレを生
じている露光位置のワークは搬送手段13により載置値
;Uへ戻して次ワークの替りに前記の位置補正を行なっ
ても良いし、露光を行なわず特定場所へ排出しても良い
。次ワーク以降においても同様に毎回−上記の位置確認
補正を行なっても良いし、搬送手段13の精度の再現性
が得られれば一定露光回数毎に行なって生産能率を上げ
ることもできる。露光位置ではワーク5と上下面のマス
ク3,4が近接ないしは密着した状態で上面と下面とか
ら平行光ないしは近似平行光が照射されて両面露光がな
され、終了すると焼枠2a、2b間が開いて搬送手段1
3により排出される。
なお本発明は上記実施例に限るものではなく、本発明の
主旨に沿って種々の応用と実施態様を取り得るものであ
る。例えばテーブル8は精度が再現性よく制?TIでき
ればテレビカメラ18は省略でき、アライメントステー
ジちX、Y、 θ量が制御できるものであれば良く、
特に精度上必要がな′t′Jればx、 y、 θのい
ずれかのテーブルは省略しても良い。
主旨に沿って種々の応用と実施態様を取り得るものであ
る。例えばテーブル8は精度が再現性よく制?TIでき
ればテレビカメラ18は省略でき、アライメントステー
ジちX、Y、 θ量が制御できるものであれば良く、
特に精度上必要がな′t′Jればx、 y、 θのい
ずれかのテーブルは省略しても良い。
以上述べたように本発明によれば両面同時露光装置にお
いて、ワークと画像マスクとの位置合せ機構を露光位置
外に設けることによって位置合せ機構を一つとし、その
上下動も不要とすることにより、位置合せ機構を簡単化
することができ、合せてコストダウン効果を得ることで
きる。また未発明は、露光位置外にワークの位置合せ機
構を持つため、一つのワークの露光中に次ワークのアラ
イメントができ、スルーブソl−(単位時間当りの処理
能力)を大幅に向上させることが可能である。
いて、ワークと画像マスクとの位置合せ機構を露光位置
外に設けることによって位置合せ機構を一つとし、その
上下動も不要とすることにより、位置合せ機構を簡単化
することができ、合せてコストダウン効果を得ることで
きる。また未発明は、露光位置外にワークの位置合せ機
構を持つため、一つのワークの露光中に次ワークのアラ
イメントができ、スルーブソl−(単位時間当りの処理
能力)を大幅に向上させることが可能である。
第1図は本発明の一実施例の上面より見た装置構成と制
御系のブロック構成を示す図、第2Mは第1図のX−X
線断面図である。 1・・・両面同時露光装置 2a、 2b・・・焼枠
3・・・上面マスク(画像マスク) 4・・・下面マスク(画像マスク) 5・・・ワーク 7・・・テレビカメラ(確認算出手段)8・・・アライ
メントステージ 13・・・搬送手段
御系のブロック構成を示す図、第2Mは第1図のX−X
線断面図である。 1・・・両面同時露光装置 2a、 2b・・・焼枠
3・・・上面マスク(画像マスク) 4・・・下面マスク(画像マスク) 5・・・ワーク 7・・・テレビカメラ(確認算出手段)8・・・アライ
メントステージ 13・・・搬送手段
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 画像マスクを上下両面に夫々保持する焼枠の間で両面露
光されるワークの露光位置に該ワークを位置決め搬入す
るワークアライメント装置であって、 上記露光位置のワークと上記画像マスクとの位置ズレ量
の確認算出手段と、 上記焼枠外に配設されワークの載置位置を上記位置ズレ
量に基づいてアライメント座標系で位置決めするアライ
メントステージと、 上記アライメント座標系で位置決めされた載置位置のワ
ークを上記露光位置に搬入する搬送手段とを備えて成る
ことを特徴とする両面露光用ワークアライメント装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61190341A JPS6346466A (ja) | 1986-08-13 | 1986-08-13 | 両面露光用ワ−クアライメント装置 |
US07/084,872 US4764791A (en) | 1986-08-13 | 1987-08-13 | Work alignment apparatus for double-sided exposure of a work |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61190341A JPS6346466A (ja) | 1986-08-13 | 1986-08-13 | 両面露光用ワ−クアライメント装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6346466A true JPS6346466A (ja) | 1988-02-27 |
JPH0541981B2 JPH0541981B2 (ja) | 1993-06-25 |
Family
ID=16256583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61190341A Granted JPS6346466A (ja) | 1986-08-13 | 1986-08-13 | 両面露光用ワ−クアライメント装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4764791A (ja) |
JP (1) | JPS6346466A (ja) |
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-
1986
- 1986-08-13 JP JP61190341A patent/JPS6346466A/ja active Granted
-
1987
- 1987-08-13 US US07/084,872 patent/US4764791A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5080122A (ja) * | 1973-11-14 | 1975-06-30 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0541981B2 (ja) | 1993-06-25 |
US4764791A (en) | 1988-08-16 |
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