JPS6346466A - 両面露光用ワ−クアライメント装置 - Google Patents

両面露光用ワ−クアライメント装置

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JPS6346466A
JPS6346466A JP61190341A JP19034186A JPS6346466A JP S6346466 A JPS6346466 A JP S6346466A JP 61190341 A JP61190341 A JP 61190341A JP 19034186 A JP19034186 A JP 19034186A JP S6346466 A JPS6346466 A JP S6346466A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プリント基板等のワークの両面に印刷配線等
の画像を同時露光する際に、画像マスクとワークとを位
置合せする両面露光用ワークアライメント装置に関する
。
〔従来の技術〕
プリント基板等のワークに所定の配線パターン等の画像
を露光焼付けするには、ワークにマスクフィルムを位置
合せし近接配置して平行光を透過照射することにより行
なわれる。ワークの両面を同時露光する際のプリント基
板とマスクの位置合せ方法に関する従来の技術として、
本出願人は昭和６１年３月３１日付の特許出願「プリン
ト基板の焼付方法」において開示している。この両面同
時露光におけるワークと上下両面のマスクフィルムとの
位置合せ方法は、まずワークを露光位置にセットし、こ
のワークに対して上面のマスクフィルムを保持する焼枠
をワークとマスクフィルムの位置決め用の基準マークを
撮像して位置決めし、続いて下面のマスクフィルムを保
持する焼枠を同様に位置決めして行なうものであった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら上記従来の技術における上下両面の各マス
クフィルムの位置合せ機構は、プリント基板とマスクフ
ィルムとの基準マークの位置ズレの量によって平面上で
直交する２方向（Ｘ方向。
Ｙ方向）とその平面の回転方向（θ方向）を制御して位
置決めし、その後その位置合せ機構を含めてプリント基
板にマスクフィルムを精度良（接近させなければならな
かったので、極めて１Ｍ９ｉであるという問題点があっ
た。このためコスト高となり、さらにそれが上面マスク
フィルムと下面マスクフィルムと別個の位置合せ機構が
必要となるので装置が増々コスト高となった。
本発明は上記問題点を解決するためのものであり、ワー
クの両面を同時露光する際の位置合せ機構を簡単化し、
装置コストを低減する両面露光用ワークアライメント装
置を提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の上記目的を達成するための手段は、画像マスク
を上下両面に夫々保持する焼枠の間で両面露光されるワ
ークの露光位置に該ワークを位置決め搬入するワークア
ライメント装置であって、上記露光位置のワークと上記
画像マスクとの位置ズレ世の確認算出手段と、上記焼枠
外に配設されワークの載置位置を上記位置ズレ量に基づ
いてアライメント座標系で位置決めするアライメントス
テージと、上記アライメント座標系で位置決めされたＲ
置位置のワークを上記露光位置に搬入する搬送手段とを
備えて成る両面露光用ワークアライメント装置である。
〔作用〕
ワークはアライメントステージ上で毎回同じ載置位置に
セットされ、搬送手段によって精度良く露光位置へ搬入
されるので、この載置位置のワークを必要に応じて前の
ワーク露光位置における位置ズレ量を基に位置合せ修正
できるようにすることにより、ワークと画像マスク（以
下マスクと略記する）の位置合せを焼枠外で行なうこと
が可能となる。上面マスクと下面マスクは予め位置合せ
固定し相対的に近接し得るようになっている。以上の作
用によって本発明は焼枠の上下二つの位置合せ機構を不
要とし、焼枠外の一つの位置合せ機構（アライメントス
テージ）でワークとマスクの位置合せを行なうことがで
き、またアライメントステージは上下動する必要がない
ので位置合せ機構の簡単化が達成される。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて詳細に説明す
る。
第１図は本発明の一実施例の上面より見た装置構成と制
御系のブロック構成を示す図であり、第２図は第１図Ｘ
−Ｘ線断面図である。まず装置の構成を述べる。１は両
面同時露光装置であり焼枠２ａ、２ｂで保持された上面
マスク３と下面マスク４の間にプリント基板等のワーク
５を露光位置に移送して、例えば下面マスク４側に図示
しない真空吸着手段等で密着ないし近接して保持し、上
面マスク３を上面焼枠２ａの上下動機構６によってワー
ク５へ密着ないし近接させる。マスク３゜４はガラスマ
スクにより、またはガラスやアクリル板等の樹脂板にマ
スクフィルムを吸着保持することにより構成される。上
面マスク３と下面マスク４とは上記密着または近接時に
夫々の位置合せ用の基準マークが合致するようセットさ
れる。合致したかどうかは自動または手動介入によりテ
レビカメラ７で定期的に確認し狂いがあれば再セ・７ト
する。このテレビカメラはワーク５の基準マークと下面
マスク４の基準マークの位置ズレ景算出のためのセンサ
ーとしても使用される。
上記焼枠２ａ、２ｂ外には露光前のワークを所定位置に
載置するアライメントステージ８がある。
アライメントステージ８は平面上で直交する２方向（Ｘ
、Ｙ）のうちＸ方向に移動制御されるＸテーブル９と、
Ｙ方向に移動制御されるＹテーブル１０と、上記平面上
においてＸテーブル９とＹテーブル１０とを回動制御す
るθテーブル１１とから構成される。Ｘテーブル９はＹ
テーブルｌｏ上にスライド軸受９０等によりＸ方向へ摺
動可能に配設される。テーブル１０のＸ方向の一方の辺
部にはパルスモータ等によって指定量だけＸ方向に進退
するＸテーブル押圧手段９ａが設けられ、その他方の辺
部にはＸテーブル付勢部材９ｂがＸテーブル押圧手段９
ａの退却方向にＸテーブルを付勢するように配設される
。上記の構成によりＸテーブルはＸ方向に位置決め制御
される。Ｙテーブル１０はθテーブル１１上にスライド
軸受１０ｃ等によりＹ方向へ摺動可能に配設される。θ
テーブル１１のＹ方向の一方の辺部には、パルスモータ
等によって指定量だけＸ方向に進退するＹテーブル押圧
手段１０ａが設けられ、その他方の辺部にはＹテーブル
付勢部材１０ｂがＹテーブル押圧手段１０ａの退却方向
にＹテーブルを付勢するように配設される。上記構成に
よりＹテーブルはＹ方向に位置決め制御される。露光装
置の基台１２上のθテーブル１１下方の部分には円形に
Ｖ溝１２３が設けられ、一方θテーブル１１の下面にも
同径の円形にＶｉｌｌｄが設けられて、両者が重なり合
うように配設され、その間にはボールベアリングｌｉｅ
が挿入されて、θテーブル１１を回動可能にしている。
基台１２上にはパルスモータ等によって指定量だけθテ
ーブル１１の回動方向に進退するθテーブル押圧手段１
１ａが設けられ、このθテーブル押圧手段１１ａはθテ
ーブル１１の縁部に固着された突起片１１を進退させる
。この突起片１１ｂは基台１２に設けられたθテーブル
付勢部材１１Ｃによって押圧手段１１ａの退却方向へ付
勢される。上記構成によりθテーブルは回動方向に指定
角度θだけ回動制御がなされる。
なお、各テーブルの移動機構は上記に限定するものでは
なく、例えばスクリュー棒とナツトを使用するものなど
他のものでも良い。
次に搬送手段１３を説明する。露光前のワーク５は適宜
配置されたＸテーブル９上の位置決めビン９Ｃに規制さ
れて毎回一定のｉ！３！置位置定位置される。このワー
クのＲ置は搬送手段Ｉ３を兼用しても良いし、他のコン
ベアやロボット、ハンドラ等の搬送手段によっても良い
、搬送手段１３はハンドラの例を示し、吸着板１３ａに
適宜個数配設された真空吸着ノズル１３ｂにより、下降
してＸテーブル９上のワーク５を真空吸着し所定の高さ
まで上昇した後、水平移動して焼枠間の露光位置へワー
クを移送する。このとき上面の焼枠２ａは、上方へ退避
しており、搬送手段１３が下降してワーク５を露光位置
へ離し再び上昇して焼枠外へ移動した後、露光のために
下降する。なお搬送手段１３は上記に限定するものでは
なく、ロボット。
コンベアなどワークの種類に応じて適切なものが使用で
きる。
次に制御系の構成を述べる。制御系は焼枠のマスクとワ
ークの基準マークから位置ズレの画像情報を得るための
テレビカメラ７と、Ｘテーブル９上面下の基台１２側に
配設され、Ｘテーブル載置位置のワーク５のアライメン
ト座標系での絶対位置を計測するための画像情報を得る
テレビカメラ１８と、前記位置ズレの画像情報からワー
クとマスクの位置ズレ量を算出し、その値を基に各テー
ブルの位置補正のための指定量、指定角度を算出する位
置制御量算出手段１４と、この指定量、指定角度に基づ
いて所定パルス数を各押圧手段９ａ。
１０ａ、ｌｌａに与えるＸ駆動部１５．Ｙ駆動部１６、
　　θ駆動部１７から成る。テレビカメラ７゜１８は絶
対位置を測定するため、基台１２に固定される。各テレ
ビカメラの個数は限定しないが、顕微鏡カメラであれば
夫々２コ以上設けるのが好適である。テレビカメラおよ
び位置制御量算出手段１４は本発明の位置ズレ看の確認
算出手段である。
以上の構成による実施例の作用を述べる。アライメント
ステージ８におけるワークの１３２２位置はＸ、Ｙ、　
　θ量で定まるアライメント座標系で管理される。ワー
ク５はアライメントステージ８上で毎回路同じＶｔ載置
位置セットされ、搬送手段１３によって精度良く同じ露
光位置へ搬入されるのでワーク５とマスク３．４との位
置合せはアライメントステージで行なうことが可能とな
る。最初のワーク５は仮の載置位置から露光位置へ移送
搬入され、テレビカメラ７をセンサーとして位置ズレ量
が算出されて、その値に基づいて載置位置の次ワークの
位置補正の指定量Ｘ、Ｙと指定角度θが算出され、駆動
部１５，１６．１７を介して各テ−プル９，１０．１１
が位置決め制御される。制御結果は次ワークの基準マー
クをテレビカメラ１８によって確認して行ない、合致し
なければさらに位置補正される。このとき位置ズレを生
じている露光位置のワークは搬送手段１３により載置値
；Ｕへ戻して次ワークの替りに前記の位置補正を行なっ
ても良いし、露光を行なわず特定場所へ排出しても良い
。次ワーク以降においても同様に毎回−上記の位置確認
補正を行なっても良いし、搬送手段１３の精度の再現性
が得られれば一定露光回数毎に行なって生産能率を上げ
ることもできる。露光位置ではワーク５と上下面のマス
ク３，４が近接ないしは密着した状態で上面と下面とか
ら平行光ないしは近似平行光が照射されて両面露光がな
され、終了すると焼枠２ａ、２ｂ間が開いて搬送手段１
３により排出される。
なお本発明は上記実施例に限るものではなく、本発明の
主旨に沿って種々の応用と実施態様を取り得るものであ
る。例えばテーブル８は精度が再現性よく制？ＴＩでき
ればテレビカメラ１８は省略でき、アライメントステー
ジちＸ、Ｙ、　　θ量が制御できるものであれば良く、
特に精度上必要がな′ｔ′Ｊればｘ、　ｙ、　　θのい
ずれかのテーブルは省略しても良い。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば両面同時露光装置にお
いて、ワークと画像マスクとの位置合せ機構を露光位置
外に設けることによって位置合せ機構を一つとし、その
上下動も不要とすることにより、位置合せ機構を簡単化
することができ、合せてコストダウン効果を得ることで
きる。また未発明は、露光位置外にワークの位置合せ機
構を持つため、一つのワークの露光中に次ワークのアラ
イメントができ、スルーブソｌ−（単位時間当りの処理
能力）を大幅に向上させることが可能である。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例の上面より見た装置構成と制
御系のブロック構成を示す図、第２Ｍは第１図のＸ−Ｘ
線断面図である。 １・・・両面同時露光装置　２ａ、　　２ｂ・・・焼枠
３・・・上面マスク（画像マスク） ４・・・下面マスク（画像マスク） ５・・・ワーク ７・・・テレビカメラ（確認算出手段）８・・・アライ
メントステージ １３・・・搬送手段

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 画像マスクを上下両面に夫々保持する焼枠の間で両面露
    光されるワークの露光位置に該ワークを位置決め搬入す
    るワークアライメント装置であって、 上記露光位置のワークと上記画像マスクとの位置ズレ量
    の確認算出手段と、 上記焼枠外に配設されワークの載置位置を上記位置ズレ
    量に基づいてアライメント座標系で位置決めするアライ
    メントステージと、 上記アライメント座標系で位置決めされた載置位置のワ
    ークを上記露光位置に搬入する搬送手段とを備えて成る
    ことを特徴とする両面露光用ワークアライメント装置。
JP61190341A 1986-08-13 1986-08-13 両面露光用ワ−クアライメント装置 Granted JPS6346466A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01302259A (ja) * 1988-05-30 1989-12-06 Orc Mfg Co Ltd 自動露光装置におけるワーク位置決め方法
FR2633408A1 (fr) * 1988-06-01 1989-12-29 Bobst Sa Table pour le positionnement d'elements sur un support selon un document de reference

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4936655A (en) * 1988-07-07 1990-06-26 Grumman Aerospace Corporation Alignment fixture for an optical instrument
US4993809A (en) * 1988-10-07 1991-02-19 Grumman Aerospace Corporation Mounting fixture for an optical instrument
DE3936723A1 (de) * 1989-11-04 1991-05-08 Loehr & Herrmann Gmbh Vorrichtung zum selbsttaetigen positionieren von leiterplatten
US5083156A (en) * 1990-03-16 1992-01-21 Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha Vacuum contact printing device and exposure apparatus and original contact device
US5253012A (en) * 1990-10-05 1993-10-12 Canon Kabushiki Kaisha Substrate holding apparatus for vertically holding a substrate in an exposure apparatus
DE4105284A1 (de) * 1991-02-20 1992-11-05 Bacher Gmbh B Verfahren und vorrichtung zur videounterstuetzten montage
JP2769753B2 (ja) * 1991-08-28 1998-06-25 株式会社オーク製作所 画像形成用露光装置
US5337151A (en) * 1992-07-28 1994-08-09 Optical Radiation Corporation Double-sided circuit board exposure machine and method with optical registration and material variation compensation
FR2703558B1 (fr) * 1993-03-31 1995-06-30 Automa Tech Sa Installation d'exposition à la lumière d'une plaque de circuit imprimé double face à travers les clichés.
FR2704660B1 (fr) * 1993-04-27 1995-07-13 Sgs Thomson Microelectronics Masques pour une machine d'insolation double face.
EP0677787B1 (en) * 1994-03-15 1998-10-21 Canon Kabushiki Kaisha Mask and mask supporting mechanism
US5627378A (en) * 1996-02-28 1997-05-06 Orc Electronic Products, A Divison Of Benson Eyecare Corporation Die set for automatic UV exposure system
JP3322167B2 (ja) * 1997-05-29 2002-09-09 ウシオ電機株式会社 マスク保持フレームの支持構造
US6215548B1 (en) 1999-03-11 2001-04-10 Olec Corporation Nested glass exposure tool registration device
US6356337B1 (en) * 2000-03-08 2002-03-12 Anvik Corporation Two-sided substrate imaging using single-approach projection optics
US6621553B2 (en) 2001-03-30 2003-09-16 Perkinelmer, Inc. Apparatus and method for exposing substrates
US7888664B2 (en) * 2008-03-10 2011-02-15 Eastman Kodak Company Plate pallet alignment system
EP3250390B1 (en) 2015-01-29 2020-03-04 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Generating a day/night image

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5080122A (ja) * 1973-11-14 1975-06-30

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4389115A (en) * 1981-08-06 1983-06-21 Richter Thomas A Optical system
JPS60168148A (ja) * 1984-02-13 1985-08-31 Oak Seisakusho:Kk 焼付機
US4614425A (en) * 1984-04-20 1986-09-30 Western Litho Plate & Supply Co. Photographic printing method and apparatus
JPS62212657A (ja) * 1986-03-14 1987-09-18 Oak Seisakusho:Kk 移送式の両面露光装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5080122A (ja) * 1973-11-14 1975-06-30

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01302259A (ja) * 1988-05-30 1989-12-06 Orc Mfg Co Ltd 自動露光装置におけるワーク位置決め方法
US4996763A (en) * 1988-05-30 1991-03-05 Orc Manufacturing Co., Ltd. Method of locating work in automatic exposing apparatus
FR2633408A1 (fr) * 1988-06-01 1989-12-29 Bobst Sa Table pour le positionnement d'elements sur un support selon un document de reference

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Publication number Publication date
JPH0541981B2 (ja) 1993-06-25
US4764791A (en) 1988-08-16

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