JPS63255295A - ３′−アジド−３′−デオキシチミジン - Google Patents

３′−アジド−３′−デオキシチミジン

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JPS63255295A
JPS63255295A JP63071709A JP7170988A JPS63255295A JP S63255295 A JPS63255295 A JP S63255295A JP 63071709 A JP63071709 A JP 63071709A JP 7170988 A JP7170988 A JP 7170988A JP S63255295 A JPS63255295 A JP S63255295A
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JP63071709A
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ジョン　ロバート　ハーフォード
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Wellcome Foundation Ltd
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
    • C07D405/04—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
    • C07H15/00—Compounds containing hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
    • C07H15/02—Acyclic radicals, not substituted by cyclic structures
    • C07H15/04—Acyclic radicals, not substituted by cyclic structures attached to an oxygen atom of the saccharide radical
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
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    • C07H19/02—Compounds containing a hetero ring sharing one ring hetero atom with a saccharide radical; Nucleosides; Mononucleotides; Anhydro-derivatives thereof sharing nitrogen
    • C07H19/04—Heterocyclic radicals containing only nitrogen atoms as ring hetero atom
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は６′−アジド−６′−デオキシチミジンの新規
製造法ならびにこの方法に役立つ中間体に関する。
６′−アジド−６２−デオキシチミジンの製造は最初Ｊ
、Ｐ、　Ｈｏｒｗｉｔｚ等、Ｊ、Ｏｒｇ、　Ｃｈｅｍ、
、　２９　、２０７（Ｓ〜２０７８．１９６４によシ、
その後例えばＲ，Ｐ。
Ｇ１１ｎ８ｋｉ等、Ｊ　、ｏｒｇ、　Ｃｈｅｍ、ｔ　５
８　＊　４２９９〜４５０５．１９７３およびＴ−８Ｌ
ｉｎ等、Ｊ、　Ｍｅｄ。
Ｃｈｅｍ、、２１　（１）１０９〜１１２（１９７８）
によシ記述された。更に最近になって、６′−アシト−
６′−デオキシチミジンはヒト免疫欠損ウィルス（ＨＩ
Ｖ）に対し強力な抗ウィルス活性をもつことが発見され
、後天性免疫不全症候群（エイズ）の治療に可能性を秘
めていることが報告された［　Ｒ，Ｙａｒｃｈｏａｎ等
、Ｔｈｅ　Ｌａｎｃｅｔ、　１　（８４８１）、５７５
〜５８０．６月１５日、１９８６年〕。更に広汎な臨床
的調査の後、この化合物はエイズおよびエイズ関連症候
群（ＡＲＣ）の治療に療法上有益であることが判明した
。６′−アジｒ−６′−デオキシチミジン〔また１　−
（３’−アジド−２’、３’−ジデオキシ−β−Ｄ−エ
リトロペントフラノシル）−チミンとも名付けられる〕
は最近ジドブジンという名称が承認された。
更に詳しい臨床試験の要件を満すため、また化合物の需
要を満すため、比較的大量のシトプシンに対する需要が
見込まれるので、この化合物の工業的規模での十分な供
給に向けて多大の努力が払われて来た。ジドブジンの商
業的製造で遭遇した一つの大きな困難は、ジドブジンの
実験室規模での調製に以前報告された方法が一般に出発
原料または中間体としてチミジンを使用することである
。
しかし、チミジンは比較的高価な物質であシ、商業的規
模でチミジンを入手することは難かしく、従って以前に
報告された方法によシジドプジンを製造するならば、そ
の供給量が制限されるであろう。
それ故に、本発明者等はチミジン以外のよ勺安価な、入
手容易な出発原料から出発する別のジドブジン合成経路
を研究して来た。多大の研究開発の結果、本発明者等は
ここに出発原料としてＤ−キシロースを用いるジドブジ
ン合成経路を発見した。Ｄ−キシロースは比較的安価な
商業上入手容易な出発原料であ）、チミジンを使用せず
に済む。
この新しい合成経路の特徴は、幾つかの新規中間体、と
シわけ以下更に詳細に記述する新規２′−ハロヌクレオ
シド中間体を用いる一連の重要工程にある。次にこれら
中間体は、２′−説ハロゲン、６′−位に脱離基の導入
、およびアジド基〈よる前記脱離基の置換を本質的に含
む一連の工程にょシジドデジンに変換できる。
以下に述べるＤ−キシロースからジドブジンへの全体的
合成経路は、本発明に従ってＤ−キシロースから２’、
６’、５’−保護１−チミジル誘導体を得る工程とこの
誘導体から２１−、ｐｓ口誘導体を経由してシトプシン
に変換する工程とを示す。ここで全合成経路を上で引用
した重要工程に関して述べることにする。これら工程は
（１）Ｄ−キシロースから１−（β−Ｄ−キシロフラノ
シル）チミンの２’、３’、５’−保護誘導体への変換
〔下記工程（イ）から（ロ）〕、（Ｉ＋）　２’−ノ・
口誘導体の形成とその後のキシロフラノシルチミンの還
元〔下記工程（ホ）から（ハ）〕、および（ｌｉ１）　
２’−デオキシ化合物の６′−アジド化〔下記工程（す
）からに）〕を本質的に含む。
変換 （イ）式（Ｉ） ＪＭ のＤ−キシロースをＣ１〜６アルキル化剤、例えば０１
〜６アルカノールで処理して式（ＩＩ）Ｈ （式中、Ｒ１はＣ１〜６アルキル基である）の化合物を
つくる。
（ロ）式（Ｉ［）の化合物をヒドロキシ保護剤で処理し
て式（１） 〔式中、Ｒ１は前に定義した通シであり、Ｒ２、Ｒｉ’
１およびＲ４は各々ヒドロキシ保護基（例えば、アシル
基、なるべくは芳香族アシル基、例えばベンゾイルまた
はｐ−）ルオイル）を表わす〕の化合物をつくる。
（ハ）式（１）の化合物をアシル化して式（ＩＶ）０Ｒ
４ （式中、Ｒ２、Ｒ３ｐよびＲ４は前に定義した通シであ
シ、Ｒ５はアシル基、なるべくはアセチルを表わす）の
化合物をつくる。
（ロ）式（ＩＭ＞の化合物を式（Ｖ） （式中、Ｒ６およびＲ？は各々ヒドロキシ保護基、例え
ばトリメチルシリル基を表わす）のチミン誘導体と反応
させ、その後前記Ｒ６およびＲ６保護基を除去して式（
ＶＩＩ） （式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は前に定義した通シであ
る）の化合物をつくる。
工程（イ）に関して、Ｄ−キシロースの１−ヒドロキシ
基はなるべくメチル基で保護するのがよい。
この反応は０１〜６アルキル化剤、例えば０１〜６アル
カノール、なるべくはメタノールを用い、酸、例えば塩
酸の存在下に行なうのが有利である。
工程（ロ）に関しては、２−１６−および５−ヒドロキ
シ基を、例えばアシル基、なるべくは芳香族アシル基、
例えばベンゾイルで保護する。アシル基の場合に、２−
１５−および５−ヒドロキシ基の保護は、ピリジンのよ
うな塩基性溶媒の存在下、適当なハロゲン化アシル（例
えば塩化アシル）、とりわけ塩化ベンゾイルで処理する
ことにょシ行なう。適当なアシル保護基にはピバロイル
とベンゾイルが含まれるが、後者の方がよい。ピパロイ
ル保護基に対して特によい試剤は塩化トリメチルアセチ
ルである。
工程（ハ）に関して、１−ヒドロキシ基の選択的アシル
化は、酢酸無水物またはハロゲン化物、例えば塩化物を
用い、なるべくは硫酸のような強酸の存在下で行なうこ
とができる。
工程（ロ）に関して、式（Ｖ）のチミン誘導体の保護基
はトリメチルシリル基がよい。チミンのヒドロキシ基の
保護は、例えばチミンをヘキサメチレンシラデフ中硫酸
アンモニウム存在下で還流するか、あるいはＢＳＡ中で
還流するか、あるいはチミンをベンゼンのような非プロ
トン性溶媒中、トリエチルアミンのような塩基の存在下
に塩化トリメチルシリルと加熱することによシ行なう。
式（ＩＶ）および（Ｖ）の化合物から式（ＶＩ）の化合
物をつくる反応は、ルイス酸、例えば塩化第二スズの存
在下、なるべくはアセトニトリルまたは７１０ｒン化炭
化水素、例えばジクロロエタンのような非プロトン極性
溶媒中、一般に室温で行なうのが有利である。
（ホ）式（Ｖｌ）の化合物をこの化合物のキシロフラノ
シル部分の２′−ヒドロキシ位の脱保護を行なうのに役
立つ試剤かまたは役立つ条件下で処理し、そして任意に
前記保護基Ｒ２およびＲ３を、前記キシロフラノシル部
分の６′位および５′位両方を保護する単一の基Ｖこよ
シ置き換えて式（■）：○ Ｈ （式中、ＡおよびＢは各々ヒドロキシ保護基を表、わず
か、またはこれらが結合して６′位および５′位を保護
する単一の基を形成する）の化合物をつくる。
（へ）式（■）の化合物を式（■）の２′−ヒドロキシ
基のところに脱離基を導入する試剤で処理することによ
り式（■） Ｌ （式中、Ａ２よびＢは前に定義した通シであシ、Ｌは脱
離基、例えばメタンスルホニルオキシまたはｐ−トルエ
ンスルホニルオキシ基を表わす）の化合物をつくる。
（ト）式（■）の化合物を、脱離基りを還元性ノー口基
Ｍで置き換えることのできる試剤で処理し、任意に前記
試剤による処理の前後いずれかで、保護基ＡおよびＢを
除去するか、または前記保護基を別のこのような基で置
換することによシ式（［）（式中、Ａ１およびＢ１は前
に定義した通りであ択また水素を表わすこともあシ、Ｍ
は）・口塞である）の化合物をつくる。式（ｆｆ）の前
記化合物は直接つくられることもあるし、あるいは式（
Ｘ）（式中　ＡｌおよびＢ１は前に定義した通シである
）の中間体を任意に経由してつくることもある。
（４１６’位および５′位をふさいでいる結合基または
単一の６′−保護基の除去および５′−ヒドロキシ保護
基の任意除去またはこのような５′−ヒドロキシ保護基
を別のヒドロキシ保護基によジ置換することを含めて式
（ＩＸ）の化合物を還元し、このような保護基の除去ま
たは置換を前記還元の前後いずれかで行なうことによシ
式（ＸＩ） （式中　Ａ２は水素またはヒドロキシ保護基を表わす）
の化合物をつくる。
工程（ホ）に関して、キシロフラノシル部分の２１−ヒ
ドロキシ保護基の選択的除去は、例えば保護基がベンゾ
イルであるときは、なるべくはピリジンのような塩基性
溶媒の存在下、２０°Ｃを越えない温度でヒドロキシル
アミニウムアセテートを用いることＫよシ行ない式（■
）の化合物をつくる。別法として、式（Ｖｌ）の化合物
を、例えばメタノール性アンモニアで処理して２’、５
’および５′−保護基の除去を行なうこともできる。生
じた化合物を次に適当な試剤で処理して６′位と５′位
の両方をふさぐ基の導入を行なう。例えば、６′−およ
び５′−ヒドロキシ基をアセタールまたはケタール基、
例えばアセトニドまたはべ／ジリデン基、他のこのよう
な基、例えば環状カーボネート、およびシリルエーテル
基によシふさぐことができる。アセトニド基の場合には
、例えば強有機酸または塩酸のような無機酸の存在下、
なるべくはアセトンのような非極性溶媒存在下にジメト
キシプロパンで処理することによって保護を行なうのが
有利である。
工程（へ）に関して、脱離基りにオルガノスルホニルオ
キシ、例えばアルキル−またはアリール−スルホニルオ
キシ、例えばメタンスルホニルオキシ、ｐ−）ルエンス
ルホニルオキシｔたは）！Ｊフルオロメタンスルホニル
オキシ基が有利である。式（■）の化合物を、なるべく
は塩基、例えばトリエチルアミンのようなアミン存在下
、例えばぎリジンのような塩基性溶媒を用いて適当な酸
ハロゲン化物、例えば塩化メシルで処理するのが有利で
ある。
工程（ト）に関して、基Ｍはハロ基、と）わけブロモま
たはヨードが有利である。これらの基、と多わけブロモ
基の場合は、適当な試剤、例えば第三級アミンのノ・ロ
デン化水素酸塩、例えばピリジン臭化水素酸塩、を用い
るか、またはＤＭＦ中アルカリ金属ハロｒン化物、例え
ば臭化リチウムを用いて導入される。
式（■）の化合物を式（ＩＫ）の化合物へ式（Ｘ）の新
規２，２′−アンヒドロ誘導体を経て変換する場合、６
′ヒドロキシ基と５′ヒドロキシ基とが結合して一つの
保護基を形成する式（■）の化合物の環化け、ＤＢＵま
たはＤＢＮのような強塩基の存在で、ＤＭＦ′のような
極性非プロトン性溶媒中で便利に行なわれる。
６′および５′−保護基がベンゾイルである式（■）の
化合物の項化け、メタノールおよびアセトニトリル中炭
酸カリウムにより行なわれ、式（Ｘ）の新規３’、５’
−ヒドロキシ化合物をつくることができる。
式（■）の化合物は、式（■）の化合物を２′位にカー
ボネート基を導入するのに役立つ試剤（例えばジフェニ
ルカーボネート）で処理することによシ、（■）を単離
する必要なく式（Ｘ）の化合物に変換できる。生じた式
（■）の２′−カーボネート化合物は、例えば重炭酸ナ
トリウムのような温和な無機塩基で処理することによシ
、式ＣＸ”）の相当する化合物へその場で変換される。
式（Ｘ）の化合物は、キシロフラノシル部分の２′位に
還元性の基を導入するのに役立つ試剤で処理するのが有
利である。この還元性基は、とシわけブロモ基の場合、
式＜Ｘ＞の化合物を無機臭化物、例えばアルカリ金属臭
化物（例えば臭化ナトリウムまたは臭化リチウム）ある
いは臭化アシル、例えば臭化アセチルまたは臭化ベンゾ
イルで処理することによル導入できるが、後者の場合に
は、結合した６′−および５′−保護基が単一保護基に
変換される。個々のアシル保護基は適当な有機溶媒、例
えばアセトニトリルまたはジメチルホルムアミド中の反
応によシ導入できるが、臭化アセチルを前述したように
使用するときけ酢酸中で反応を行なうのがよい。
６′位および５′位の保護基の除去は、例えば加水分解
によう行なうことができる。アセタールまたはケタール
保護基の場合の加水分解は、酸性条件下、例えば塩酸の
ような強酸存在下で行なうのが有利である。
アシルまたは環状カーボネート保護基のようなエステル
保護基の場合には、加水分解を酸性条件下で、例えばメ
タノール中塩化水素を用いて行なうのが有利であるが、
シリル占−テル基の場合には、このような加水分解を、
例えばフッ化テトラブチルアンモニウムによシ行なうこ
とができる。
本発明の特に適当な一面においては、二段階反応を単一
容器内で行なうことによシ直接式（Ｘ）の化合物に変換
することができ、そしてこれは先ず非プロトン性溶媒（
例えばＤＭＦ　）中でジアルキルアデジカルざキシレー
ト、トリアルキルまたはトリアリールホスフィン（例え
ば、ｐｈｒｓｐ）を用い、二番目にプロトン源（例えば
、ＫＨＳＯ３−Ｈ２Ｏ）と共にアルカリまたはアルカリ
土類金属臭化物（例えば、ＬｉＢｒ　）を添加すること
によシなされる。
Ａ１およびＢ１がベンゾイル基である式（ＩＸ）の化合
物の場合、キシロフラノシル部分の６′−ヒドロキシ基
の選択的脱保護は、なるべくはぎリジンのような塩基性
溶媒の存在下、２０°Ｃよシ高く７０℃以下の温度にお
いてヒドロキシルアミニウムアセテートを用いて行なわ
れる。
工程（ハ）に関して、式（ＤＯの化合物の還元は、例え
ばなるべく１０°〜６０℃の温度でパラジウム触媒存在
下の接触水素化によって行なうことができる。
式（Ｘｔ）の化合物（Ａ２は水素を表わす）、即ち５′
−ヒドロキシ化合物をつくる場合には、前記ヒドロキシ
基を、例えばなるべくはピリジンのような非プロトン性
塩基の存在下、適当なへロデン化物、例えば塩化トリチ
ルまたは塩化ベンゾイルによシ導入されたトリチルまた
はベンゾイル基によ）保護できる。
（Ｘｌｌ）　式（ＸＩ）の２′−デオキシ化合物の３−
アジド化（す）　　式（Ｍ）の化合物を、前記化合物の
キシロフラノシル部分の６′−ヒドロキシ位に脱離基を
導入するのに役立つ試剤と反応させて式（Ｘｌｌ）（式
中、Ａ２は前に定義した通りであシ、Ｑは脱離基、例え
ばメタンスルホニルオキシ１ｆｃｕｐ−トルエンスルホ
ニルオキシ基である）の化合物ヲつくる。
（ヌ）式（Ｘ！Ｉ）の化合物を無機アジ化物と反応させ
て式（Ｘｌ） 町 （式中、Ａ２は前に定義した通シである）の化合物をつ
くる。そして に）その後、式（Ｘわの化合物を脱保護してジドブジン
をつくる。
工程（す）に関して、脱離基Ｑの導入に役立つ試剤は、
なるべくはピリジンのような塩基性溶媒および（または
）塩基、例えばトリエチルアミンのようなアミン存在下
、２０℃未満の温度における適当な酸ハロダン化物、例
えば塩化メシルである。
工程（ヌ）において、６′−アジド基の導入は、なるべ
くは有機溶媒、例えばジメチルホルムアミドの存在下、
アルカリ金属アジ化物、例えばアジ化リチウムまたはア
ジ化ナトリウムによシ行なうことができる。最後に、工
程に）に関して、脱保護は、なるべくはメタノールのよ
うな溶媒中塩基、例えばアンモニア、ナトリウムメトキ
シド、重炭酸ナトリウム、または炭酸ナトリウムで処理
することによシ行なりことができる。
前記合成経路はＤ−キシロースから出発する何個の特別
な段階および明記された中間体の使用を含み、工業規模
で使用するために容易に発展させられる都合のよい段階
によって、シトプシンを極めて純粋な形でまた驚く程好
収量で得る手段を提供する。
上記の諸段階および中間体（このうちのあるものは後述
するように新規である）の開発は、とシわけシトプシン
製造のために前述した合成経路を形づくるように組み合
わせたとき、少なからぬ研究と調査の結果であった。
本発明は次の各特徴のどれも包含する：（（）　　式（
Ｎ）および（Ｘ）の新規化合物。
（ロ）　ＡおよびＢが各ベンゾイルである式（■）の新
規化合物。
（ハ）　Ａ２がベンゾイルである式（Ｘｆｆ）の新規化
合物。
に）特に出発原料Ｄ−キシロースからのジドブジンの合
成における式ＣＩ）　、（１）　、（１）　、（ｆｆ）
　、（Ｖｌ）、（■）、（■）　、（ｆｆ）　、（Ｘ）
の各化合物およびあらゆる化合物の使用。
（ホ）　特に出発原料Ｄ−キシロースから出発するジド
ブジン合成に使用する式ＣＩ）　、（Ｉｆ）　、（１）
　、　（ＩＴ）、ＱＶＩ）　、（■）、（■）　、（ｆ
ｆ）　、（Ｘ）の化合物。
（へ）上記段階（ト）に従って式（■）の化合物から式
（Ｉｌ［）の化合物を製造する方法。
（ト）上記段階（ト）に従って式（■）の化合物から直
接式（ＩＸ）め化合物を製造する方法。
（ト）上記段階（ト）に従って式（［）の化合物から式
（Ｘ［）の化合物を製造する方法。
（す）　前記段階ピ）〜に）ならびにその各々のあらゆ
る新規段階を含むＤ−キシロースからのシトプシンの製
造法。
下記の例によシ本発明を説明する。
例　　１ メチル−Ｄ−キシロフラノシド（ＩＩ）（Ｂａｋｅｒ、
　Ｂ、Ｒ，、５ｈａｕｂ、　Ｒ，Ｆ、、およびＷｉｌｌ
ｉａｍｓ。
Ｊ、Ｈ，、Ｊ、Ａｍｅｒ、　Ｃｈｅｍ、　８ｏｃ、（１
９５５）　＊　７７　ｅ７〕。
Ｄ−キシロース（１５２，０ｇ、０．８８モル）をメタ
ノールに塩化水素を溶かした溶液（０，５％ｖ／ｖ　、
　２９５０　Ｍ　）中２０℃で６時間かきまぜた。
混合物をメタノール性ナトリウムメトキシドで中和し、
メタノールの大部分を減圧で蒸発させて表題化合物を黄
色シロップとして得た。このものは痕跡量のメタノール
と無機塩を含有した。収量１　８６．６　ｇ（１２７％
）。
残留メタノールを除去するため、このシロップをトルエ
ンと共に蒸発させ（２Ｘ２００ｄ）、次にピリジン（２
Ｘ２００ｍ）と共に蒸発させた。
例　　２ メチル２．５．５−トリー〇−ベンゾイルーＤ−例１に
記載のようにして得たメチル−Ｄ−キシロフラノシド（
１１７，１、ｌｉ’、０．５６モルのＤ−キシロースに
相当）をクロロホルム（５ＱＱｄ）とピリジン（１８０
＋＋＋／）に溶かし、水浴で冷却した。
温度を２０°Ｃ以下に保ちつつ、かきまぜながら塩化ベ
ンゾイル（２４８Ｍ、２．１６モル）を１時間にわたシ
導入した。混合物を室温に１６時間放置し、その後減圧
下に溶媒を除去した。得られた残留物をクロロホルム（
６００ｍ）に溶かし、水（６００＋ｄ）、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液（６×６ｏｏｍｔ＞、そして最後に水（
５Ｘ５００ｄ）で順次洗浄し、その後有機抽出液を無水
硫酸マグネシウム上で乾燥した。
クロロホルムを蒸発させることによシ表題化合物を赤い
シロップとして得た。収！、５１２．．５ｇ（Ｄ−キシ
ロースから１１７．２％）。
例　　６ （Ｎａｋａｙａｍａ、　Ｃおよび５ａｎｅｙｏｓｈｉ、
　Ｍ、　ＮｕｃｌｅｏｓｉｄｅｓａｎｄＮｕｃｌｅｏｔ
ｉｄｅｌｉ、　（１９８２Ｌ　１　（２）＋１６９〕。
例２記載のようにして得られたメチル２，６゜５−トリ
ー〇−ベンゾイルーＤ−キシロフラノシド（５１２，５
ｇ、Ｄ−キシロース０．５６モルに相当）を約０°Ｃに
冷却しつつ酢酸（５７５ｍｊ）および無水酢酸（１４５
ｍ／）に溶かした。このかきまぜた溶液に１５分にわた
）濃硫酸（８６ｄ）を２０°Ｃ以下の温度に保ちつつ加
えた。溶液を２０℃に１６時間放置後、α−アセテート
アノマーの種結晶を入れ、これによって結晶化を起こさ
せた。
結晶化した生成物を濾集し、メタノール（２Ｘ１００１
ｄ）で洗浄し、真空乾燥した。収量（α−アノマー）＝
１１２ｇ（Ｄ−キシロースに基づき６９％）。融点１２
５．５〜１２６℃。
例　４ １−　（２’、　５’、　５’−トリー〇−ベンゾイル
ーβ−Ｄ−キシロフラノシル）チミン（Ｖｌ）（Ｆａｘ
、　Ｊ、Ｊ、、　Ｙｕｎｇ、　Ｎ、　Ｄａｖｏｌｌ、Ｊ
、およびＢｒｏｗｎ。
Ｇ、Ｂ、、　Ｊ、　Ａｍｅｒ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓａｃ、
　（１９５６）　ｅ　７８ｔ２１１７’ｌ。
例６記載のようにして得た粗製１−０−アセチル−２，
５，５−）ソー０−ベンゾイルーα−Ｄ−キシロフラノ
ース（５５，Ｏｇ、０．１０９モル）を２，４−ビス−
トリメチルシリルチミン（３１，６ｙ、０．１９０モル
）と共にアセトニトリル（６００ｍｌ　）に溶解し、水
浴で冷却した。かきまぜた混合物に無水塩化第二スズ（
２５，５ｍ、　　０．２１８モル）を三回に分けて（１
分間隔で）加え、２０°Ｃに１６時間放置した。
この黄色溶液に水（２００ｍ）を加え、固形炭酸水素ナ
トリウム（１００ｇ）の添加によシーを８に調節した。
生じたスラリーをハイフロ濾過助剤の床を通して濾過し
、濾塊を熱クロロホルム（６Ｘ１０００Ｍ）で洗浄した
。
合わせたクロロホルム抽出液を水（３Ｘ１０００ｄ）で
洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発させて
残留物を得、これを真空乾燥して表題化合物を得た。収
量４９．８　ｇ（８０，１％）、−ンクがかった固体。
ＮＭＲスペクトルはこのものが殆ど純粋な化合物で、公
知のβ−アノマーに特徴的なピークをもつことを示した
。Ｇｏｓｅｅｌｉｎ　Ｇ、。
Ｂｅｒｇｏｇｎｅ　Ｍ、　ｄｏ−ｒｕｄｄｅｒ　Ｊ、、
　Ｄｅ−Ｃｌｅｒｇ　Ｆ、およびＩｍｂａｃｈ　Ｊ、、
　Ｊ、Ｍｅｄ、　Ｃｈｅｍ、　１９８６．　２９．２０
４゜ハイフロ床をクロロホルムで再抽出することによシ
更に生成物（１，ｔｌ、　２．１チ）を得た。
例　　５ （Ｇｏｓｓｅｌｉｎ、　Ｇ、、　Ｂｅｒｇｏｇｎｅ、　
Ｍ、Ｃ，、Ｉｍｂａｃｈ、Ｊ−Ｌ、。
Ｎｕｃｌｅｏｓｉｄｅｓ　Ｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅ８　（
１９８４）＊　５　（６）ｔ２６５〜７５〕。
例４で述べたようにして得た１　−（２’、　６’、　
５’−ト！Ｊ−０−ベンゾイルーβ−Ｄ−キシロフラノ
シル）チミン（１００，０ｇ、０．１７５モル）のピリ
ジン（１０００ｒｎ／）中の４液へ、ヒドロキシルアミ
ン塩酸塩（４８，８ｇ、０．７０２モル）および無水酢
酸ナトリウム（５７，６１１，０，７０２モル）を２０
°Ｃで激しくかきまぜながら加えた。２４時間抜アセト
ン（５０ｍ−ｇ）’ｅ加え、溶媒の大部分を真空下で除
去し、生じた固体をクロロホルムに懸濁した。有機相を
氷冷した塩酸（２Ｎ、２０００ｍ１　）と１時間激しく
かきまぜて多量の白色沈殿を得た。これをブフナーヘッ
ドに集め、氷水（５×５００　ｍｌ　）で洗浄し、吸引
してできるだけ乾燥させた。
湿った白色固体（１０４ｇ）を沸騰ＳＶＭ　（１２０ｍ
１　）から再結晶し、４°Ｃに冷却すると細かい白色針
状晶として表題化合物が得られた。収量５６．５ｇ（６
９％）、融点１５５〜６°Ｃ０ 例　　６ （Ｆｏｘ　Ｊ、Ｊ、、Ｙｕｎｇ　Ｎ、、Ｄａｖｏｌｌ　
Ｊ、およびＢｒ０Ｗｎ　Ｇ。
Ｂ、、Ｊ、Ａｍｅｒ、Ｃｈｅｍ、５ＯＣ−＋　　１　９
　５　６　ｔ　　７　８　＊、　　２１１１７゜　Ｇｏ
８ｓｅｌｉｎ　Ｇ、、Ｂｅｒｇｏｇｎｅ　Ｍ、、ｄｅ−
ｒｕｄｄｅｒ　Ｊ、、　Ｄｅ−Ｃｌｅｒｇ　Ｆ、および
Ｉｍｂａｃｈ　Ｊ、、　Ｊ。
Ｍｅｄ、Ｃｈｅｍ、１　９８６．　２９．　２０４）ｏ
　　１　−（２’、　６’、　５’−トリー０−ベンゾ
イル−β−キシロフラノシル）チミン（例４記ｆｔｔ）
　（５１，０ｇ、０．０８９モル）、炭酸水素ナトリウ
ム（５ｇ）、およびメタノール（４００１ｄ）を還流温
度で１．５時間かきまぜると、ヌクレオシド全部が溶解
した。
フロリシル詰め物（６０ｇ）を通して溶液を濾過し、次
に蒸発させて残留物を得た。この残留物を水（２５０ｍ
Ｊ）に溶かし、次にクロロホルム（４−５Ｑｍ／）で抽
出して安息香酸メチルを除いた。
水層を蒸発させて残留物を得、これを真空下に乾燥させ
て褐色固体（２４，９ｇ）を得た。
残留する塩類を除去するため、褐色残留物をメタノール
（４００ｍｌ？）に再び溶かし、二番目のフロリシル床
（５０ｇ）に通過させ、続いて蒸発および真空乾燥を行
なって灰色の物質（２，５，１ｇ）を得た。
粗製生成物を沸騰メタノール（４３ｍ／）の溶液から結
晶化させ、酢酸エチル（３０１ｄ）とすシまぜてかすか
な混濁状態にする。かきまぜながら００Ｃに冷却後、更
に酢酸エチル（１８０ｄ）を追加し、スラリーを４℃に
１６時間保つことによって表題化合物を得た。収量１５
．９　ｇ（、６０，２％）、灰色結晶性固体として第一
生成物、融点１４４〜１６２℃。前記の標準法を用いる
ことによ勺、更に生成物を得た。収量５．８　Ｅｌ　（
２５，１９６）　、灰色固体として。合計状ｔ１９．７
ｇ（８５％）。
化合物の第一生成物と第二生成物のＮＭＲスペクトルは
同一であシ、以前に記録されたβ−アノマーと一致する
共鳴を与えた。Ｇｏ８１１ｅｌｉｎ　Ｇ、。
Ｂｅｒｇｏｇｎｅ　Ｍ、、　ｄｅ−ｒｕｄｄｅｒ　Ｊ、
、　Ｄｅ−Ｃｌｅｒｇ　Ｅ、およびＩｍｂａｃｈ　Ｊ、
、　Ｊ、Ｍｅｄ、　Ｃｈｅｍ、、　１９８６ｅ　　２９
＊　２０４゜例　　７ 例６記載のようにして得た結晶性１−（β−Ｄ−キシロ
フラノシル）チミン（５，２ｇ、０．０２モル）を、濃
塩酸（０，１１ｄ）を含むアセトン（２０Ｍ）および２
，２−ジメチルオキシプロパン、（２０ｍ）の溶液中２
０’Ｃで激しくかきまぜた。
２時間後、透ＢＡ弓液を蒸発させて灰色の泡沫状物質（
、６，８＃　）を得、これを酢酸エチル（１５ｄ）から
結晶化させることにより表題化合物を白色結晶として得
た。収量３．４ｇ（５７％）、融点１７９〜８２°Ｃ０ 別の実験で、例６記載のようにして得た１−（β−Ｄ−
キシロフラ゛ノシル）−チミン（４，４ｇ、０．０１７
モル）を対応するインゾロビリデン誘導体に変換した。
この誘導体は例９で使用するのに適した灰色泡沫状物質
（５，Ｏｇ、９８％）として得られた。
例　　８ 例５記載のようにして得た１−（６’、５’−ジー○−
ベンゾイルーβ−Ｄ−キシロフラノシル）チミン（４０
ｇ、８６ミリモル）をピリジン（１００―）訃よびトリ
エチルアミン（１４，６ｍ、１０２ミリモル）中に溶解
し、冷却しかきまぜた溶液に、塩化メシル（１２，６Ｌ
ｌ、　　１６５ミリモル）をゆつくシ添加した。反応混
合物を徐々に２０℃の温度に達せしめ、６時間で水冷希
酢酸（２０％、６００μ）中に注入して反応を停止させ
念。
１時間かきまぜた後、淡黄色固体をプラナ−ヘッド上に
集め、氷水（３×５００ｍ／）で洗浄し、固体からでき
るだけ水を除去した。熱８ＶＭ（４ＱＱｄ）および水＜
５０ｍ１）から再結晶を行ない、徐途に４°Ｃに冷却す
ることによシ表題化合物を細かい白色針状晶として得た
。収量５２５ｆｉＣ６９，５％）、融点１１４〜８℃つ 例　　９ 例７記載のようにして得た粗Ｍ５’、５’−０−イング
ロピリデン誘導体（５，０ｇ、０．１７モル）をぎリジ
ン（５５１６）中で塩化メタンスルホニル（６扉／、０
．０５７モル）と２０℃で１．５時間、次に４０°Ｃで
１時間反応させた。クロマトグラフィーによると一つの
新しい主要生成物が存在することが示された。
溶媒を蒸発させて黄色残留物を得、このものをクロロホ
ルム（６０ｍ）に溶かし、水冷炭酸水素ナトリウム飽和
溶液（５×２０ｍＪ）、水（１×４　Ｑ　ｍｌ　）で洗
浄し、最後にクロロホルム抽出液を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を除去して表題化合物を黄色ガムと
して得た。収量７．８ｇ（１２６％）。
例１０ ミ　　ン　（■） 例８記載のようにして得た？−（３’、５’−ジーＯ−
ベンゾイルー２′−〇−メシル−β−Ｄ−キシロッジノ
シル）チミン（１２ｇ、２２ミリモル）のピリジン（８
Ｑｄ）中の溶液を、ピリジン臭化水素酸塩（７，２ｇ、
４５ミリモル）の存在下で還流温度に加熱した。２時間
後、反応混合物を徐々に水冷希酢酸（２０％、５００＋
ｄ）中に注ぎ、細かい白色固体を得、これをデフチーヘ
ッド上に集め、氷水（６×５００ｍ）で洗浄して表題化
合物を得た。収ｉｔ（粗製）　７．７　ｇ＜　６２％）
。
この灰色固体を熱ＳＶＭ（ＩＱＱｍｊ）および水（２０
ｄ）から再結晶し、これを冷却すると細かい白色針状晶
が得られた。収量（再結晶）、５．６ｇ（４５％）、融
点１１９〜２６°Ｃ０例１１ も−と二（■） 例５記載のようにして得た１−（３’、５’−ジー０−
ベンゾイル−β−Ｄ−キシロフラノシル）チミン（１０
ｇ、２１ミリモル）およびトリフェニルホスフィン（９
，５６ｇ、６６ミリモル）をジメチルホルムアミド（５
０１７）中でかきまぜた溶液へ、ジメチルホルムアミド
（，１０ｄ）に溶かしたジイソノロピルアゾジ力ルポキ
シレー）　（７，５７ｇ、６６ミリモル）を、温度を２
０°Ｃに調節しつつゆつくシ（２０分）加えた。
１時間後、この溶液へ臭化リチウム（５，１７ｇ、６６
ミリモル）、硫酸水素カリウムＣ４，９６９゜６６ミリ
モル）、および水（１，０ｄ）を９０〜１００℃でかき
まぜながら６時間にわたシ導入した。
冷却して不溶性の無機塩類を濾別し、続いて溶媒の大部
分を蒸発させた。黄色シロップをエタノール（４０＋ｙ
／）に溶かし、４°Ｃに２４時間放置した。表題化合物
を細かい白色結晶として得、これをデフチーヘッド上に
集め、洗浄しくエタノール）乾燥した。収！６．１９（
５４％）。
例１２ （Ｘ） 例９で得た不！４を２′−Ｏ−メシレート化合物（７，
８ｇ、０．０１７モルに相当）を、ジメチルホルムアミ
ドおよび１．８−ジアゾビシクロ〔５゜４、Ｏ〕−７−
ウンデセン（４，ＯＭ、０．０２６モル）の溶液中で１
５０℃に８時間加熱した。この時点で、クロマトグラフ
ィーで調べたところ新しい単一主成分を示し、前駆物質
は存在しなかった。
高真空蒸発によシ黄色シロップを得、これを酢酸エチル
（，５０ゴ）から結晶化させることにより細かい針状晶
を得た。４°Ｃに２時間放置後、表題化合例を白色結晶
として集めた。収量５．９　ｇ（８２％）。表題化合物
のＮ）ｉ４Ｒスペクトルは帰属構造と良い一致を示した
。
分析のため、６．９ｇの物質を熱メタノール（１５ｒｎ
ｔ　）中にスラリー化し、０℃に冷却することによって
更に精製した。この操作を行なった後の細かい白色針状
晶の重量は２．９ｇ、融点２７６〜４°Ｃであった。
例１６ ン（■） 例１２記載のようにして得た精製１−　（２、２’−ア
ンヒドロ−，５’、５’−０−インゾロとリデンーβ−
Ｄ−キシロフラノシル）チミンＣ２，６／！、９．６ミ
リモル）を、酢酸（２５ｍＪ）および臭化アセチル（２
，５ｒＩＬｌ！、６６．８ミリモル）ノ溶液中で加熱し
１００℃でかきまぜた。４５分後、赤色溶液を蒸発させ
て赤いガラス状物質（４，５ｇ）を得た。
溶離剤として酢酸エチルおよびクロロホルム（１：　ｌ
　ｖ／ｖ　）を使用してこの生成物のシリカゾルクロマ
トグラフィー（７０〜２５０メツシユ、１００ｇ）を行
ない表題化合物を白色泡沫状物質として得た。収！５．
４ｇ（９０％）。この生成物は鋭い高分解ＮＭＲスペク
トルを与え提出した構造を支持した。
例１４ 例１６記載のようにして得たクロマトグラフィー精製１
−（５’、５’−ジー０−アセチル−２′−ゾロモー２
′−デオキシ−β−Ｄ−キシロフラノシル）チミン（０
，５ｇ、１．２６ミリモル）を、酢酸ナトリウム三水和
物（０，５ｇ）含有の５０％水性メタノール（８＋ｕ／
）中で、硫酸バリウム上５％パラジウム（０，２ｇ’）
を用いて標準状態で水素化した。
６０分間にわたシ激しくかきまぜたところ溶液は約５Ｑ
ｃｃの水素ガスを吸収した。反応混合物をクロマトグラ
フィーによシ調べた結果、出発原料は無く、新しい二つ
の主生成物が存在することがわかった。
濾過および蒸発後、残留物を水（７ｄ）に溶かし、酢酸
エチル（３Ｘ７ｍｌ）で抽出した。合わせた抽出液を無
水硫酸ナトリウム上で乾燥し、蒸発させることＫより表
題化合物を無色シロップとして得た。収量０．５２　Ｆ
　（−７９チ）（粗製）。
上記生成物を含む粗製シロップのＮＭＲスペクトルは、
必要とする表題化合物を約７０％含有することを示した
。
例１５ 例１０記載のようにして得た１−（，５’、５’−ジー
０−べ／シイルー２′−ゾロモー２′−デオキシ−β−
Ｄ−キシロッジノシル）チミンＣ６，８ｇ、７．２ミリ
モル）をヒドロキシルアミン塩酸塩（１，８２ｇ、２６
．２ミリモル）および酢酸ナトリウム（２，１４ｇ、２
６ミリモル）のピリジン溶液（５０ｒｌＴｌ）中４０℃
で１９時間かきまぜた。混合物を氷冷し之希酢酸（２０
％、２００ｄ）中にゆつくシ注入し、生じた灰色固体を
デフチーヘッド上に集め、氷水（３Ｘ２００プ）で洗浄
し、最後に恒量になるまで乾燥することによシ表題化合
物を得た。収量（粗製）　５．０１１　（９８％）。こ
の物質を熱ＳＶＭおよび水から再結晶して細かい灰色結
晶を得た。収！（再結晶後）１．９ｇ（６υ１、融点１
１４〜７℃。
例１６ （Ｂｉｎｋｌｅｙ、　Ｒ，Ｗ、、　Ｈｅｈｅｍａｎｎ、
　Ｄ、Ｇ、、　Ｂｉｎｋｌｅｙ。
ｗ、ｗ、、　Ｊ、Ｏｒｇ、　Ｃｈｅｍ、（１９７８）　
４５　（１５）２５７６〜６〕 例１５記載のようにして得た１−（５’−０−ペンゾイ
ルー２′−プロモー２′−デオキシ−β−Ｄ−キシロフ
ラノシル）チミン（１，９ｇ、４．５　ミ’）モル）の
テトラヒｒロフラン（２４１ｄ）中の溶液ヘトリエチル
アミン（０，７Ｔｌｌ、５．０ミリモル）および活性炭
上５％パラジウム（０，９ｇ）を加え、激しくかきまぜ
た混合物を８＄状態で６時間水素化した（１２０ＣＯの
水素が吸収された）。固体を濾過し、濾液を蒸発させて
淡黄色ガム（１，５ｇ）を得、これをアセトン（４−）
に溶かした。生じた細かい白色沈殿（０，０４ｇ）を濾
過し、濾液をシクロヘキサンとすシまぜて表題化合物を
白色結晶として得た。収量０．９　ｇ（５８％）。生成
物のＮＭＲスペクトルは提出した構造と良い一致を示し
た。
例１７ 例１４記載のようにしぞ得た１−Ｃ６’、５’−ジー０
−アセチル−２′−デオキシ−β−り一トレオーベント
フラノシル）チミン（０，５１，０，９２ミリモル〕を
メタノール性アンモニアＣ４ｍ１．１０％ｗ／ｖ　）中
で４０’Ｃ！に６時間加温した。溶媒を蒸発させること
によシ表融化合物の真正試料と同じクロマトグラフィー
のＲｆ値をもつ白色泡沫状物質を得た。収ｔ０．２５ｇ
（１０４％）、かすかに７セトアミド臭かある。
例１８ 例１７記載のようにして得た１　−（２’−デオキシ−
β−Ｄ−）Ｌ／オーペントフラノシル）チミン（０，２
５１１，１，０ミリモル）をビリジｙ（４ｍＪ）に溶か
し、これを塩化トリチル（０，５８，１１，４ミリモル
）で４０°Ｃにおいて５時間処理した。標準の単離法に
よって粘着性の固体を得、これを酢酸エチル（４ｖＬｔ
）から結晶化させて表題化合物を灰色ロゼツト様結晶と
して得た。収量０．３２　ｇ（６７チ）。
上記生成物のクロマトグラフィーデータおよびＮＭＲデ
ータは真正試料と一致した。
例１９ チミン（ＸＩ） 例１７記載のようにして得た１　−（２’−デオキシ−
β−Ｄ−トレオーベントフラノシル）チミン（０，４９
ｇ、２．０ミリモル）をピリジン（８１１Ｌｌ）に溶か
し、これを４０℃で塩化トリチル（０，７５＃、２．７
ミリモル）によシ５時間処理した。溶液を１０〜１５°
Ｃに冷却し、１０〜１５℃の温度を１６時間保ちつつ塩
化メシル（０，２５ｇ、６．０ミリモル）を導入した。
標準的な単離法によシ淡黄色固体を得、これを酢酸エチ
ルから再結晶することによって表題化合物を灰色結晶と
して得た。収量０．８７　ｇ（７５チ）。
この生成物のクロマトグラフィーデータおよびＮＭＲデ
ータは真正試料と完全に一致した。
例２０ １−（５’−０−ベンゾイル−２′−デオキシ−６′−
）ｌシル−β−Ｄ−）レオ−ペントフラノシル）チミン
（Ｍ） 例１６記載のようにして得た結晶性１−（５’−０−ベ
ンゾイル−２′−デオキシ−β−Ｄ−）レオ−ペントフ
ラノシル）チミン（０，８ｇ　、２．．５ミリモル）を
ピリジン（６プ）およびトリエチルアミン（０，３８１
１／、２．７ミリモル）の冷却溶液（０°Ｇ）中で塩化
メシル（０，５４Ｔｎｌ、　　４．５ミリモル）によシ
処理した。６時間にわたって混合物を２０℃に到達させ
、その後水冷希酢酸（２０チ、２５　ｍｌ　）で反応を
停止させた。かきまぜると生じた粘着性固体は次第に砕
は易くなるので、これをデフチーヘッド上に集めて水洗
しく、５×１００ｍ）、風乾して表題化合物を得た。収
量（粗製）１．０ｇ（１０２チ）。
移動相として酢酸エチルを使用することによりシリカゾ
ル（６５ｇ、７０〜２５０メツシユ）上で上記生成物を
精製し、表題化合物を白色泡沫状物質として得た。収量
（精製後）　０．７５１！　（７６％）。
この生成物の凪伍スペクトルは提出した構造とよぐ一致
した。
例２１ 例２０記載のようにして得た１−（５’−０−ベンゾイ
ル−２′−デオキシ−６′−〇−メシルーβ−Ｄ−トレ
オーベントフラノシル）チミン（、０，５５ｇ、１．６
ミリモル）をジメチルホルムアミド（６ｒｎ／）中９０
’〜９５°Ｃ（油浴）の温度で微粉砕アジ化ナトリウム
（０，１６ｇ、２．０ミリモル）とかきまぜた。混合物
を４時間後氷水（２５ｄ）とすシまぜ、粘着性白色固体
を酢酸エチル（，５Ｘ１５Ｍ）中に抽出した。合わせた
有機層を水洗しく２×１５４）、溶媒を蒸発させること
によシ表題化合物を灰色の泡沫状物質として得た。収量
０．４５　ｇ（９４％）。
ｔｌｃ（溶離剤酢酸エチル）で検査したところ表題化合
物は単一スポットであることが判った。
例２２ １−　（６’−アジド−２’、３’−ジデオキシ−５′
−０ル）チミン（ＸＩ） 例１９記載のようにして得た再結晶１−（２’−デオキ
シ−６′−〇−メシルー５’−０−）リチルーβ−Ｄ−
）レオ−ペントフラノシル）チミン＜　ｏ、ｓ　ｏ　ｙ
、１．４ミリモル）を、アジ化ナトリウム（０，１０ｇ
、１．５４ミリモル）存在下ＤＭＦ　（６ｍｌ　）の溶
液中９５°Ｃで４．５時間かきまぜた。先ず、過剰のア
ジ化物イオンを２０％酢酸水溶液（？Ａり中に溶解した
亜硝酸ナトリウム（０，１０，９，１，５ミリモル）と
２０°Ｃで１時間刃〜きまぜながら分解することによシ
生成物を単離した。更に酢酸水溶液（１２１１ｉを追加
して表題化合物を沈殿させ、これを濾過および乾燥する
ことによシ単離した。
収量肌６ｇ（８４％）。
例２６ 例２１記載のようにして得た１　−（５’−アジド−５
’−０−ベンゾイル−２’、５’−ゾデオキシーβ−Ｄ
−エリトロ−ペントフラノシル）チミン＜　０．５８　
ｇ、１．０ミリモル）をメタノール中で炭酸水素ナトリ
ウム（０，０６ｇ）と共に加熱し、６時間還流温度に加
熱した。水（１０Ｍ）を入れ、溶液を減圧で蒸発させて
うすいシロップとした。
更に水（１０ｍ）を加え、体積を約（６−）に濃縮し、
これを冷却すると表題化合物が細かい白色結晶として得
られた。収量０．１６ｇ＜５８％）、融点１２２〜４°
Ｃ１真正５０９Ｕとの混融点１２２〜４°Ｃ１真正５０
９Ｈの融点１２６〜５°Ｃ，＜すべての融点は未補正で
ある）。
例２４ ６′−アジド−６′−デオキシチミジン例２２記載のよ
うにして得た１　−（５’−アジド−２’、５’−ジデ
オキシ−５’−０−１−リチルーβ−り一エリトローベ
ントフラノシル）チミン（０，６０Ｆ、１．２ミリモル
）を塩酸で…２．０に調節した５０％水性メチル化アル
コール（５ｍｊ）の溶液に）ヒ濁し、４時間還流した。
２０°ＣＶＣ冷却するとトリフェニルメタノールが晶出
するのでこれを濾別した。母液を蒸発させてアルコール
の大部分を除去した。１０℃に冷却すると表題化合物（
１４）が溶液から白色固体として晶出した。収量０．２
５　ｇ（７６％）。
この生成物は、この化合物の真正試料とあらゆる点で同
一であることが示された。

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）式（Ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ａ） （式中、ＸおよびＹは各々ヒドロキシ保護基を表わすか
    、またはＸとＹが結合して３′と５′位とを保護する単
    一保護基を形成し、Ｗはオキソ基を表わし、Ｚはハロ基
    であり、あるいはＷとＺが結合して式（Ａ）の化合物の
    ２位と２′位との間の−Ｏ−結合を表わし、あるいはＺ
    はメシル基であり、Ｗはオキソ基であり、ＸおよびＹは
    各々ベンゾイル保護基を表わし、あるいはＺは水素を表
    わし、Ｗはオキソ基であり、Ｙはメシル基であり、Ｘは
    ベンゾイル保護基である）を有する新規化合物。
  2. （２）ＸおよびＹはヒドロキシ保護基であり、Ｚはブロ
    モである、特許請求の範囲第１項記載の化合物。
  3. （３）ＸおよびＹは結合して一つの保護基を形成し、Ｗ
    とＺは結合して式（Ａ）の化合物の２位と２′位の間の
    −Ｏ−結合を表わす、特許請求の範囲第１項記載の化合
    物。
  4. （４）ジドブジン合成に用いる式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） の化合物。
  5. （５）ジドブジン合成に用いる式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＿１はＣ＿１＿〜＿６アルキル基である）の
    化合物。
  6. （６）ジドブジン合成に用いる式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＾１は特許請求の範囲第５項で定義した通り
    であり、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４は各々ヒドロキシ
    保護基を表わす）の化合物。
  7. （７）ジドブジン合成に用いる式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｒ＿２、Ｒ＿３およびＲ＿４は特許請求の範囲
    第６項で定義した通りであり、Ｒ＿５はアシル基を表わ
    す）の化合物。
  8. （８）ジドブジン合成に用いる式（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） （式中、Ｒ＿２、Ｒ＿３およびＲ＿４は特許請求の範囲
    第６項で定義した通りである）の化合物。
  9. （９）ジドブジン合成に用いる式（VII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） （式中、ＡおよびＢは各々ヒドロキシ保護基を表わすか
    、あるいはＡとＢが結合して３′位および５′位を封鎖
    する単一保護基を形成する）の化合物。
  10. （１０）ジドブジン合成に用いる式（VIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） （式中、ＡおよびＢは特許請求の範囲第９項で定義した
    通りであり、Ｌは脱離基を表わす）の化合物。
  11. （１１）ジドブジン合成に用いる式（IX） ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） （式中、Ａ＾１およびＢ＾１は特許請求の範囲第９項で
    定義した通りであるが、また水素を表わすこともあり、
    Ｍはハロ基である）の化合物。
  12. （１２）ジドブジン合成に用いる式（Ｘ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ） （式中、Ａ＾１およびＢ＾１は特許請求の範囲第１１項
    で定義した通りである）の化合物。
  13. （１３）（IX） ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） （式中、Ａ＾１およびＢ＾１は特許請求の範囲第９項で
    定義した通りであるが、また水素を表わすこともあり、
    Ｍはハロである）の化合物の製造法において、式（VII
    I） ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） （式中、ＡおよびＢは前に定義した通りであり、Ｌは脱
    離基を表わす）の化合物を、脱離基Ｌを還元性ハロ基Ｍ
    で置き換えることのできる試剤で処理し、任意に前記試
    剤での処理の前後いずれかで保護基ＡおよびＢを除去す
    るか、または前記保護基を別のこのような基で置換する
    ことからなる上記方法。
  14. （１４）式（IX） ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） （式中、Ａ＾１およびＢ＾１は特許請求の範囲第１３項
    で定義した通りである）の化合物の製造法において、式
    （VII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） （式中、ＡおよびＢは前に定義した通りである）の化合
    物を、ジアルキルアゾジカルボキシレートおよびトリア
    ルキルまたはトリアリールホスフィンで処理し、その後
    アルカリまたはアルカリ土類金属ハロゲン化物で処理す
    ることからなる上記方法。
  15. （１５）式（Ｘ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ I ） （式中、Ａ＾２は水素またはヒドロキシ保護基を表わす
    ）の化合物の製造法において、式（Ｘ I ）（式中、Ａ
    ＾１およびＢ＾１は第１３項で定義した通りである）の
    化合物を還元し、これに含めて３′位と５′位を封鎖す
    る結合基の除去、単一の３′−保護基の除去、および５
    ′−ヒドロキシ保護基の任意除去、あるいはこのような
    ５′−ヒドロキシ保護基の他のヒドロキシ保護基による
    置換を前記還元の前後いずれかで行なう上記方法。
  16. （１６）Ｄ−キシロースからのジドブジンの製造法にお
    いて、 （イ）特許請求の範囲第４項で定義した式（ I ）のＤ
    −キシロースをＣ＿１＿〜＿６アルキル化剤で処理する
    ことにより、特許請求の範囲第５項で定義した式（II）
    の化合物をつくり、 （ロ）特許請求の範囲第５項で定義した式（II）の化合
    物をヒドロキシ保護剤で処理することにより、特許請求
    の範囲第６項で定義した式（III）の化合物をつくり、 （ハ）特許請求の範囲第６項で定義した式（III）の化
    合物をアシル化して特許請求の範囲第７項で定義した式
    （IV）の化合物をつくり、 （ニ）特許請求の範囲第７項で定義した式（IV）の化合
    物を式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （式中、Ｒ＾６およびＲ＾７は各々ヒドロキシ保護基を
    表わす）のチミン誘導体と反応させ、その後前記Ｒ＾６
    およびＲ＾７保護基を除去することにより特許請求の範
    囲第８項で定義した式（VI）の化合物をつくり、 （ホ）特許請求の範囲第８項で定義した式（VI）の化合
    物を、前記化合物のキシロフラノシル部分の２′ヒドロ
    キシ位の脱保護に役立つ試剤で処理するか、または役立
    つ条件下で処理し、任意に前記保護基Ｒ＾２およびＲ＾
    ３を前記キシロフラノシル部分の３′および５′位両方
    を保護する単一の基により置き換えて特許請求の範囲第
    ９項で定義した式（VII）の化合物をつくり、 （ヘ）特許請求の範囲第９項で定義した式（VII）の化
    合物を式（VII）の２′−ヒドロキシ基のところに脱離
    基を導入する試剤で処理して特許請求の範囲第１０項で
    定義した式（VIII）の化合物をつくり、 （ト）特許請求の範囲第１０項で定義した式（VIII）の
    化合物を、脱離基Ｌを還元性ハロ基Ｍで置き換えること
    のできる試剤で処理し、そして任意に前記試剤による処
    理の前後いずれかで、保護基ＡおよびＢを除去するかま
    たは前記保護基を別のこのような基で置き換えることに
    より特許請求の範囲第１１項で定義した式（IX）の化合
    物をつくり〔式（IX）の前記化合物は直接つくられるか
    、特許請求の範囲第１２項で定義した式（Ｘ）の中間体
    を経由して任意につくられる〕、 （チ）特許請求の範囲第１１項で定義した式（IX）の化
    合物を還元し、これに含めて３′および５′位を封鎖し
    ている結合基の除去または単一３′−保護基の除去およ
    び５′−ヒドロキシ保護基の任意な除去または他のヒド
    ロキシ保護基によるこのような５−ヒドロキシ保護基の
    置換を前記還元の前後いずれかで行なって式（Ｘ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ I ） （式中、Ａ＾２は水素またはヒドロキシ保護基を表わす
    ）の化合物をつくり、 （リ）上で定義した式（Ｘ I ）の化合物を、前記化合
    物のキシロフラノシル部分の３′−ヒドロキシ位のとこ
    ろに脱離基を導入するのに役立つ試剤と反応させること
    により式（ＸII） ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸII） （式中、Ａ＾２は前に定義した通りであり、Ｑは脱離基
    である）の化合物をつくり、 （ヌ）前に定義した式（ＸII）の化合物を無機アジ化物
    と反応させて式（ＸIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸIII） （式中、Ａ＾２は前に定義した通りである）の化合物を
    つくり、そして （ル）その後式（ＸIII）の化合物を脱保護してジドブ
    ジンをつくる ことからなる上記方法。
  17. （１７）ジドブジンの製造法において、 （イ）特許請求の範囲第１１項で定義した式（IX）の化
    合物を還元して特許請求の範囲第１５項で定義した式（
    Ｘ I ）の化合物を得、 （ロ）前に定義した式（Ｘ I ）の化合物に脱離基を導
    入して特許請求の範囲第１６項（リ）で定義した式（Ｘ
    II）の化合物を得、 （ハ）前に定義した式（ＸII）の化合物をその後アジド
    化および脱保護してジドブジンを得る ことからなる上記方法。
  18. （１８）ジドブジンの製造法において、 （イ）特許請求の範囲第１６項（リ）で定義した式（Ｘ
    II）の化合物（Ａ＾２はベンゾイル）のアジド化および （ロ）その後の前記ベンゾイル基の除去 によりジドブジンを得ることからなる上記方法。
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