JPS63214906A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は高密度磁気記録に適した磁気ヘッドに係り、
特に高保磁力媒体に記録再生するのに適した性能を有し
更に数十ＭＨｚの高記録周波数にも適する性能を有する
ＶＴＲ用等の磁気ヘッドに関するものである。

〔従来の技術〕

近年、磁気記録の高密度化に伴いメタルテープ等の高保
磁力媒体に十分記録するためには、ギャップ近傍の磁性
材料がフェライトでは不光分で飽和磁束密度の大きい金
属磁性体（センダスト、アモルファス、パーマロイなト
）を用イる必要がある。ただし、これらは電気抵抗率が
小さいので、ヘッドコア全体を金属磁性体で作ると、Ｖ
ＴＲなどの記録周波数である数ＭＨｚ程度でも渦電流損
が大きくて使えない。

そこで一般に複合磁気ヘッドが用いられる。

従来例を轡開昭５９−２２２４号を例にして説明する。

第１２図は複合磁気ヘッドの外観斜視図である。図にお
いて（６１）は疑似ギャップ長、（６２）、（６３）は
強磁性酸化物よりなる補助コア、（６４）は金属磁性材
料よりなる主コア、（１０）はギャップ、（６６）、（
６８）はガラス、（６７）は巻線溝である。かかる複合
磁気ヘッドを製造する方法としては、第１３図に示すよ
うに、主コア（６４）と一方の補助コア（６２）とを有
機接着剤で固着した後、主コアを研磨してその厚みを所
定のトラック幅（６９）になるまで薄くする（第１４図
参照）。

そして第１４図のようにもう一方の補助コア（６３）を
有機接着剤で固着する。なお（６５）は疑似ギャップで
ある。これら主コア、補助コア共に現在のＶＴＲ用フェ
ライトとほぼ同様の工程で作っている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記のような従来の複合磁気ヘッドは主コアと補助コア
を別々に作らなくてはならないのみならず、主コアと補
助コアを一つずつ接着しなければならないので全く量産
性に欠ける。また有機接着剤では経年変化により主コア
と補助コアの間に隙間が空きやすく、そこに磁気テープ
のバインダーが詰まるなど信頼性にも問題があった。爽
に主コアの厚さに対応する分だけ渦電流損が発生するの
で、高周波化に対応で、きないという問題がある。

この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、薄膜形成技術を用いて大量に作れるので量産
性に富み、しかも接合部は総てガラスによりなっている
ので信頼性も高い。

また主コアに相当する部分を金属磁性体と絶縁体との積
層に出来るので、厚さの二乗に比例する渦電流損を抑え
ることができ数十ＭＨｚの高記録周波数化に対応できる
。

〔問題点を解決するための手段〕

磁気ヘッドの製造方法は基板上にガラスの溝を加工し、
その溝にガラスをモールドして余剰ガラスを除去した後
にその上へ金属磁性体膜を形成し、それらを複数枚積み
重ねて溝にモールドされたガラスにより高温溶着し、そ
れを所定寸法に切断器−してコア半体詔よび／またはピ
ースを得るというものである。

〔作用〕

この発明においては、補助コアと主コアとを別々に作り
それを一つずつ有機接着剤で固着する必要がないので、
量産性に優れ、更に接合部はガラス溶着のみでできてい
るので隙間が出来ることもなく信頼性が高い。

〔実施例〕

第１図はこの発明の一実施例を示す断面図であり、（１
）はＭｎ　−Ｚｎフェライトなどの強磁性基板である。

これにガラス充填用の８（２）をホイールなどにより加
工する。

次に第２図のように溶着ガラス（３）をモールドし、余
剰ガラスを研磨により除去する。これを基板（１）の裏
にも施す。

第３図は基板（１）の両面に溝およびモールドガラスを
施したものを示す。

第４図は第３図に示すものの片面に金属磁性体（４）と
絶縁体（５）の積層体（２３）をスパッタなどの方法で
形成したものを示す。積層体（２３）の厚みはトラック
幅に相当する。

第５図は第４図でつくられたものを更に何枚か積み重ね
て高温溶着したものを示す（なお、これら基板１は溶着
ガラス３のある溝２の部分のみで接合されることはいう
までもない）。このようにして出来たものを破線で示す
如く所定の寸法に切断しピース（６）を得る。これをギ
ャップ面になる側を研磨する。

かくして得られたものを第６図に示す。図において（７
）はギャップ面である。この面には第８図に示す如くギ
ャップ材（９）を積む。

他方で、第５図のピース（６）から第７図に示す如く巻
線溝（８）を切り込んだピースを形成する。

第６図に示すピースと第７図に示すピースとは対になる
ものであって、第８図のように二つのピースをギャップ
面（７）で突き合わせその溶着ガラス（３）により高温
溶着する。なお、ギャップ材（９）は非常に薄い層であ
るので突き合わさった溶着ガラス間のギャップ材（９）
はガラス（３１の高温溶着に障害とはならない。

第８図はかくして得られたものを示す斜視図である。こ
れを更に破線で示す如く切断するのである。

第９図は第８図のものを切断して得られたものの原形を
点線で示し、研磨して薄くなされたものを実線で示す。

なおこの第９図ではギャップ（１０）を形成するための
ギャップ材（９１は溶着ガラス（３）と融合する部分で
は溶着ガラス（３）に含ませ区別せずに図示している。

かくして複合磁気ヘッドが得られる。勿論第９図のもの
から所望の輪郭形状に加工されることは明らかであろう
。な初アジマス角の付いたヘッドを得るには溶着された
ブロックの切断をアジマス角に相当する角度を付けて行
なえば良い。

このような製造方法を用いると、基板（１）が大きけれ
ば大きい程、そして基板の積み重ねを多くする程、一度
に大量にヘッドチップを得ることができ、量産性に富む
ことになる。更に接合はすべて溶着ガラスによって行な
っているので信頼性が高い。また、金属磁性体が積ＭＭ
によってできているので渦電流損が少なく、数十Ｍｕｍ
！のデジタルＶＴＲ１高品位ＶＴＲＩＣ対応する記録周
波数であっても、十分に使用に討える。

なお、上記実施例では基板（１）に強磁性酸化物を用い
たが、非磁性体であっても良い。特に数十ＭＨＩＩの高
記録周波数の場合、インダクタンスを小さくする必要が
あるので非磁性体の方が望ましい場合もある。

また金属磁性体は比較的低い周波数で使用する場合、金
属磁性体膜単層であっても上記実施例と同様の効果があ
る。

更に積層膜の形成方法については、いろいろ考えられる
。例えばスパッタ、ＣＶＤ　（ケミカルブエイパー　デ
ポジション）、プラズマＣ！ＶＤ。

光ＣＶＤ　、電子ビーム蒸着、Ｍｏ−ＣＶＤなどがあり
、その装置、方法に対してはいかなる制限を付けるもの
ではない。

また上記実施例では、ギャップ突き合わせ後の溶着にも
溶着ガラス（３）を兼用したが第１０図に示すようにガ
ラス！（１１）を加工し、低融点ガラス（１２）で第１
１図に示すようにＭＷしても良い。

〔発明の効果〕

この発明は以上説明したとおり、基板上にガラス用の溝
を加工しその溝にガラスをモールドして余剰ガラスを除
去した後、その上へ金属磁性体膜を形成し、それら基板
を複数枚積み重ねて溝にモールドされたガラスにより高
温溶着し、それを所定寸法に切断研磨してピースを得る
たメ、補助コアを一つ一つ主コアに貼り着けるといった
非生産的な工程を有さす、また工程数も少ないので非常
に量産性が高い。更に金属磁性体膜を絶縁体との積層に
よって構成出来るので、渦電流損を抑えることが出来、
記録周波数が数十Ｍ）ｔｍであっても十分な性能を有す
る磁気ヘッドが得られるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図から第９図はこの発明の一実施例を示す図であり
、製造工程を順次追って並べており、第１図は溝を設け
た強磁性体基板の斜視図、第２図は溝にガラスをモール
ドした図、第３図は強磁性体の両面にガラスをモールド
した図、第４図は強磁性体の片面に積層膜を積んだ図、
第５図は積層膜を有した強磁性体基板を何枚かを積み重
ねて接合した図、第６図は第５図のものを所定寸法に切
断した図、第７図は第６図のものと並行して第６図のも
のを更に加工した図、第８図は第６図のものと第７図の
ものとを突き合わせて接合した図、第９図は第８図のも
のから切り出し加工して出来た一つの磁気ヘッドを示す
斜視図である。 第１０図および第１１図はこの発明の他の実施例を要部
のみ示し、第１０図は第７図のもに更に補助的な溝を切
り込んだ図、第１１図はそれを突き合わせた図である。 第１２図から第１４図は従来の磁気ヘッド並びにその製
法を概略的に示す斜視図で、第１２図は磁気ヘッドの斜
視図、第１３図は補助コアとこれに接合された主コアの
構造を示す図、第１４図は主コアを挾んでもう一つの補
助コアを接合しようとする図である。 図において（１）は強磁性酸化物基板、（２）はガラス
溝、（３）は溶着ガラス、（４）は金属磁性体膜、（５
）は絶縁膜、（２３）は金属磁性体膜と絶縁膜とによる
積層膜、（６）はピース、（７）はギャップ面、（８）
は巻線溝、（９）はギャップ材、（１０）はギャップ、
（１１）はガラス溝、（１２）は低融点ガラス、（６１
）は疑似ギャップ長、（６２）。 （６３）は補助コア、（６４）は主コア、（６６）　。 （６８）はガラス、（６７）は巻線溝、（６９）はトラ
ック幅である。 な忽、各図面中間−符号は同一または相当部分を示す。 代理人　弁理士　　大　　岩　　増　　雄第６図 ８：巻腺溝 第８図 第１Ｏ＠

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上にガラスを埋め込むための溝を加工する工
   程、その溝にガラスをモールドし余剰ガラスを除去する
   工程、その上へ物理的あるいは化学的蒸着法を用いて金
   属磁性体膜を形成する工程、それらの基板を複数枚前記
   溝が対置してかつ整合させて積み重ねて上記のガラスで
   基板どうしを溶着する工程、および、積み重ねられた基
   板を前記溝の方向に沿いしかも前記基板に直角な平面で
   少なくとも切断する工程からなるコア半体および／また
   はピースの製造過程を含むことを特徴とする磁気ヘッド
   の製造方法。
2. （２）溝の方向に沿う前記平面は前記溝を通る特許請求
   の範囲第１項記載の磁気ヘッドの製造方法。
3. （３）基板は溝の方向に対して直角に長く延び、前記切
   断によりコア半体を得る特許請求の範囲第１項または第
   ２項記載の磁気ヘッドの製造方法。
4. （４）基板は溝の方向に対して直角に長く延び、かつ基
   板への金属磁性体膜形成は上下両面に施し基板を３枚以
   上積み重ね、前記切断によりコア半体のつながつたピー
   スを得る特許請求の範囲第１項または第２項記載の磁気
   ヘッドの製造方法。
5. （５）片方のピースに巻線溝加工を施し、両方のピース
   のギャップ面研磨を行ない、片方あるいは両方のギャッ
   プ面にギャップ材を所定の膜厚だけ形成し、二つのピー
   スをギャップ面で突き合わせ高温溶着し、所定の寸法で
   切断加工をする特許請求の範囲第４項記載の磁気ヘッド
   の製造方法。
6. （６）基板が大きく前記平面に直角な平面にも切断する
   特許請求の範囲第１項または第２項記載の磁気ヘッドの
   製造方法。
7. （７）基板への金属磁性体膜形成は上下両面に施し基板
   を３枚以上積み重ね、前記切断によりコア半体のつなが
   つたピースを得る特許請求の範囲囲第６項記載の磁気ヘ
   ッド製造方法。
8. （８）片方のピースに巻線溝加工を施し、両方のピース
   のギャップ面研磨を行ない、片方あるいは両方のギャッ
   プ面にギャップ材を所定の膜厚だけ形成し、二つのピー
   スをギャップ面で突き合わせ高温溶着し、所定の寸法で
   切断加工をする特許請求の範囲第７項記載の磁気ヘッド
   の製造方法。
9. （９）基板が強磁性酸化物である特許請求の範囲第１項
   乃至第８項のいずれか１項に記載の磁気ヘッドの製造方
   法。
10. （１０）金属磁性体膜は金属磁性体と絶縁体とを交互に
    積み重ねた積層体である特許請求の範囲第１項記載乃至
    第９項のいずれか１項記載の磁気ヘッドの製造方法。