JPS63206923A - 情報記録媒体 - Google Patents

情報記録媒体

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Publication number
JPS63206923A
JPS63206923A JP62040915A JP4091587A JPS63206923A JP S63206923 A JPS63206923 A JP S63206923A JP 62040915 A JP62040915 A JP 62040915A JP 4091587 A JP4091587 A JP 4091587A JP S63206923 A JPS63206923 A JP S63206923A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recording
layer
recording layer
recording medium
alloy
Prior art date
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Pending
Application number
JP62040915A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsumi Suzuki
克己 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP62040915A priority Critical patent/JPS63206923A/ja
Publication of JPS63206923A publication Critical patent/JPS63206923A/ja
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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は、例えばレーザビーム等の光ビームを照射す
ることにより記録層に相変化を生じさせて情報を記録消
去する情報記録媒体に関する。
(従来の技術) 従来、情報の消去が可能な光ディスクとして相変化型の
ものが知られている。この相変化型の光ディスクにおい
ては、記録層にレーザビームを照射することにより、記
録層が例えば結晶質と非晶質との間で可逆的に相変化す
ることを利用して情報を記録消去する。
このような相変化する材料としては、例えば、Te、G
e、TeGe、InSe、5bSe。
5bTe等の半導体、半導体化合物又は金属間化合物が
ある。これらは、その温度により、結晶質相と非晶質相
との2つの状態を選択的にとり、各状態においてN=n
−ikで現される複素屈折率が相違するので、レーザビ
ームによる熱処理でこれら2つの状態を可逆的に変化さ
せて情報を記録消去する( S 、 R、Ovshln
sky  M etal IurglcalT ran
sactlons 2  B411971) oこの技
術の場合には、結晶質相と非晶質相とで反射率が著しく
異なるため、記録レベルが高い。
一方、上述の方式と異なり、レーザビームの照射により
相異なる結晶質間で可逆的に相変化させて情報を記録消
去する技術もある。このような相変化をする材料として
はIn−5b合金が知られている。
Irx−8b合金薄膜は、比較的パルス幅が大きいレー
ザビームの照射により微細な結晶部分が短時間に比較的
大きな結晶に成長する。これら2つの結晶構造は異なる
複素屈折率を有し、レーザビームを照射して再生する場
合に、例えば、反射光量の差として結晶状態を区別する
。この技術の場合には、記録部分の安定性が高いという
利点を有する。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、結晶質−非晶質間で相変化させて情報を
記録消去する技術の場合には、記録部分が非晶質を主体
としているため安定性が低いものが多く、材料の結晶化
温度が低い場合に、非晶質の記録ビットが徐々に結晶化
してしまい、記録部分と非記録部分との区別がつかなく
るという欠点を有する。また、記録層をIn−5bで形
成して相異なる結晶質の間で相変化させるタイプの光デ
ィスクの場合には、安定なI n 5oS b 50金
属間化合物の近傍の組成で記録層を形成するが、この場
合には、記録レベルが低いという問題点がある。
従って、このような組成で記録層を形成する場合には、
情報の記録が不十分になる虞がある。これに対し、この
In−5b合金でsbを若干過剰にした組成で記録層を
形成することも試みられている。この場合には、レーザ
ビーム照射によりIn5g5b50結晶粒とsb結晶粒
との混合相となり、レーザビームの照射条件によりsb
結晶粒子の大きさが変化するので、ある程度の記録レベ
ルを得ることができるが、記録レベルが未だ十分とは言
えず、また、このsbは結晶化速度が遅いので、初期化
及び消去の速度が小さく、初期化不良及び消去残りが生
じてしまう。
この発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、
記録の安定性及び記録レベルが高く、初期化不良及び消
去残りが発生しない情報記録媒体を提供することを目的
とする。
[発明の構成] (問題点を解決するための手段) この発明に係る情報記録媒体は、基板と、光ビームが照
射されることにより相変化して情報が記録消去される記
録層とを存する情報記録媒体であって、前記記録層は、
一般式 I n56xMX S b5gで表される組成の合金で
形成されており、このMは周期律表の第nB族に属する
元素であり、Xは0より大きく15原子%以下であるこ
とを特徴とする。
(作用) この発明においては、記録層に光ビームを照射すること
により上述の組成の合金が I n 50−X S b 50−XとSbxMXとに
分離し、SbxM)(が安定な結晶質のI n 5o−
xS b 50−X中に分散した状態で存在し、且つ、
このSbXMXは非晶質状態で安定であるため記録の安
定性が高い。また、相分離により生じたSbxMxは光
ビームの照射条件を変化させることにより結晶質相と非
晶質相との間で相変化するので高記録レベルを得ること
ができる。更に、このSbxMXは相変化の速度が大き
いので、初期化及び消去を高速化することができ、初期
化不良及び消去残りを抑制することができる。
(実施例) 以下、この発明の実施例について具体的に説明する。
rn50sb50で記録層を形成した場合には、In5
0Sb50は金属間化合物であるから安定性が高く、ま
た、レーザビーム照射による原子同士の近距離でのオー
ダリング(規則化)が極めて速いので、初期化及び消去
における結晶化が極めて速い。しかしながら、このI 
n 50S b 5)はレーザビーム照射条件を変化さ
せても、結晶粒径の変化量が少なく、記録レベルが低い
。また、 I n 5g S b 5gよりも若干Sb量が多い組
成の合金の場合には、レーザビーム照射により In50Sb5g結晶粒とsb結晶粒との混合相となり
、レーザビームの照射条件によりsb結晶粒子の大きさ
が変化するのである程度の記録レベルを得ることができ
るが、記録レベルが未だ十分とは言えず、また、結晶化
速度も小さい。一方、I n 50 S b 50より
も若干1nQが多い組成の合金で記録層を形成する場合
には、レーザビームの照射条件によるInの結晶粒の大
きさの変化が小さいので、記録レベルが極めて低い。こ
れに対し、記録層を一般式1 n5o−X MX S 
b父で表される組成の合金で形成し、Mとして周期律表
の第IIB族に属する元素、すなわちCd及びZn等か
ら選択された元素を用い、Xを0より大きく15原子%
以下にすることにより記録レベルを高めることができる
。つまり、上述の組成は、光ビームの照射によりI n
 5o−X S b 50−XとSbxMXとに相分離
するが、この中でSbxMXはレーザビームの照射条件
により結晶質と非晶質との間で相変化するので、これら
の相の反射率の相違により高記録レベルを得ることがで
きる。また、このSbXMxは相変化速度が大きいので
、初期化及び消去を高速化することができる。更に、S
bxMXは非晶質状態であっても安定であり、しかも、
このSbxMxが極めて安定なI n 5o−X S 
b 5o−X結晶の間に分散した状態で存在しているの
で、記録の安定性が高い。この場合に、Xが15原子%
よりも多くなると、光ビームの照射により他の結晶が現
出するので、Xを15%以下に規定する。
この実施例に係る情報記録媒体は、例えば第1図に示す
ように構成されている。基板11は透明で材質上の経時
変化が少ない材料、例えば、ガラス又はポリカーボネー
ト樹脂等の材料でつくられている。基板11には、保護
層12、記録層13及び保護層14がこの順に形成され
ている。保護層12は5i02で形成されており、記録
層13が溶融することを防止している。保護層14は、
5i02製の主層15と紫外線硬化樹脂製の補助層16
により構成されており、記録層13の上に主層15が形
成され、主層15の上に補助層16が形成されている。
そして、主層15は保護層13と同様に記録層13が溶
融することを防止する機能ををしており、補助層16は
ディスクの取扱い上表面に傷等が発生することを防止す
る機能を有している。記録層13は、前述した組成の合
金、例えばI n5o−X Cd)(S b50、I 
n5o−X Z n)(S b50(0< x≦15原
子%)で形成されており、レーザビームの照射条件の相
違により相変化する。
このような光ディスクは以下のように製造される。先ず
、基板11をスパッタ装置内に設置し、5i02ターゲ
ツトを使用してアルゴン雰囲気下でスパッタリングし、
5i02製の保護層12を形成する。次いで、同じ雰囲
気を維持したまま、記録層の各構成元素でつくられたタ
ーゲットによる3光間時スパッタ又は、予め得ようとす
る記録層組成に調整されたターゲットによるスパッタに
より、In5O−XCdXSbso又はIn5o−X 
Zn)(5b50等で形成された記録層13を形成する
。その後、再度5i02ターゲツトのスパッタにより5
i02製の主層15を形成し、その後、基板をスパッタ
装置から外して、スピンコード法により主層15の上に
紫外線硬化樹脂を塗布し、これに紫外線を照射して補助
層16を形成する。
次に、このような光ディスクの動作について説明する。
初期化 記録層13は成膜直後に非晶質であるため、この記録層
13に比較的弱い出力でパルス幅が長いレーザビームを
連続光照射して、記録層13を溶融徐冷して凝固させ、
I n 5o−X S b 5G−Xの微細結晶粒と5
b)(Cd)(又は5b)(Zn)(等の微細結晶粒と
で形成された結晶相に相変化させる。
記録 初期化された記録層13の上に比較的強い出力でパルス
幅が短いレーザビーム18を照射して5bxCdx又は
5b)(ZnX等の微細結晶を非晶質に相変化させ、I
 n 50−X S b 50−Xの微細結晶粒とsb
x Cdx又は5b3(ZnX等の非晶質との混合相で
記録ビット19を形成する。
再生 記録層13に比較的弱い出力のレーザビームを照射し、
記録ビットの反射光の強度を検出することにより情報を
読取る。
消去 レーザビームの照射条件を、基本的に初期化の場合の条
件と同様にして、記録ビット19に照射する。記録ビッ
ト19は初期化の場合と同様に溶融徐冷されて凝固し、
その中の5bxCdx又は5bXZn)(等の非晶質が
微細結晶化し、情報が消去される。
以上のように、レーザビームの照射条件にょる5bxC
dx又は5b)(Zn)(等の結晶質相と非晶質相との
間の相変化により情報を記録消去することができる。
次に、この実施例に係る情報記録媒体を製造して特性を
試験した試験例について説明する。
試験例1 アルゴンスパッタにより、グループ付のポリカーボネー
ト基板の上に5i02層を1000人成膜し、次いで、
その上にI”47Z n3 S b50の3元合金を3
元同時スパッタにより組成を厳密に制御しながら750
人成膜して記録層を形成し、この記録層の上に、更に5
i02層を1000人成膜した。その後、この5i02
層の上に紫外線硬化樹脂層を10μm形成して光ディス
クを製造した。次いで、同様の層構成及び製造方法によ
り、記録層の組成が夫々I n45Z n5 S b5
o。
I n4gZ nl。s b50、In37Zn13S
b50及びIn35Znよ5sb5Gの光デイスクサン
プルを作成した。これら5個の光デイスクサンプルを動
特性評価装置により特性評価した。ディスクの回転数を
90 Orpmとして波長が830nmの半導体レーザ
を使用し、初期化に際しては、出力10mWで連続光照
射し、記録に際しては、出力が16mWでパルス幅が2
00ns、デユーティ比が50%のレーザビームをパル
ス照射し、消去に際しては初期化と同様の出力で連続照
射した。
その結果、先ず、初期化に際しては、900rpmの高
速回転で、いずれのサンプルも3回のレーザビームの照
射で初期化することができた。従来のsbが過剰のIn
−8b合金で記録層を形成する場合には、初期化に際し
て6乃至8回のレーザビーム照射が必要であることから
、 In56)(ZnxSb50が高速で結晶化することが
わかった。即ちs I n 50−X S b カxの
みならず、5b)(Zn)(も高速で・結晶化する。
次に、記録の結果について説明する。第2図は、横軸に
I rlsc−X Z nxS b5gのXの値をとり
、縦軸に再生信号の大きさをとって、情報を記録した後
、0 、4 m Wのレーザビームによって再生した場
合のXと再生信号の大きさとの関係を示すグラフ図であ
る。これによれば、I n 5B S b 50の場合
には、極めて再生信号が低いが、Xの増加により再生信
号が増加することがわかる。また、Xが10原子%より
増加すると、再生信号レベルが低下することがわかる。
Xが15原子%より大きい場合については試験していな
いが、この場合には他の結晶相が現出して信号レベルが
著しく低下する。
消去に際しては、Xが10原子%までは記録ビットにレ
ーザビームパルスを1回照射することにより再生信号を
0にすることができたが、Xが13及び15原子%の場
合には、再生信号が10乃至30mVとなり若干消去残
りが確認された。
試験例2 記録層をI n−>z Cd)HS b5gで形成して
、0くx≦15原子%の間でXを変化させ、試験例1と
同様な層構成の光デイスクサンプルを作成した1、試験
例1と同様に動的特性評価装置により特性を評価した結
果、試験例1の In5o−XZnXSt)zの場合と同様の特性を得る
ことができた。
[発明の効果] この発明によれば、5bxCdx又は 5b)(Zn)(が非晶質状態で安定であり、且つ、安
定な結晶質のIn50Sb50中に分散した状態で存在
するので記録の安定性が高い。また、記録層中のI n
)(Cd)(又はIn)(Zn)(が光ビームの照射条
件により結晶質相と非晶質相との間で相変化するので、
記録レベルを高くすることができ、確実に情報を記録す
ることができる。更に、5bxCdX又は5bXZn>
(は高速で相変化するので、初期化及び消去を高速化す
ることができ、初期化不良及び消去残りを抑制すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の実施例に係る情報記録媒体を示す断
面図、第2図はXと再生信号の大きさとの関係を示すグ
ラフ図である。 11;基板、12,14;保護層、13;記録層、18
;レーザビーム、19;記録ビット出願人代理人 弁理
士 鈴江武彦 @1図 Xの411   (j?、3−’/、)賂2図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板と、光ビームが照射されることにより相異な
    る結晶相の間で相変化して情報が記録消去される記録層
    とを有する情報記録媒体において、前記記録層は、一般
    式In_5_0_−_xM_xSb_5_0で表される
    組成の合金で形成されており、このMは周期律表の第I
    IB族に属する元素であり、xは0より大きく15原子
    %以下であることを特徴とする情報記録媒体。
  2. (2)前記Mで示される元素は、Cd又はZnであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の情報記録
    媒体。
  3. (3)前記記録層の基板側の面及び基板と反対側の面に
    夫々第1の保護層及び第2の保護層を形成したことを特
    徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項に記載の情報
    記録媒体。(4)前記第2の保護層は主層の上に有機樹
    脂でつくられた補助層が形成された2層体であることを
    特徴とする特許請求の範囲第2項又は第3項に記載の情
    報記録媒体。
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