JPH0143581Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案は、ソレノイドの吸引力によつてスプー
ルを摺動させて圧力流体の給排流量を制御する電
磁流量制御装置に関するものである。

〈従来技術〉 一般にこの種の電磁流量制御装置Ｖを例えば第
１図に示すような流体圧回路に組込み、この電磁
流量制御装置Ｖを切換制御することによりポンプ
Ｐ０から流体圧シリンダＣへ流入する圧力流体な
らびに流体圧シリンダＣからタンクＴへ流出する
圧力流体の流量を制御し、引張力Ｆにて引張られ
るピストンＰの位置制御を行うものがある。

このようなピストンＰの位置制御等に用いられ
る電磁流量制御装置Ｖは、第２図に示すようにピ
ストンＰの右進を制御する第１電磁流量制御バル
ブVaと、ピストンＰの左進を制御する第２電磁
流量制御バルブVbより構成され、例えばピスト
ンＰを右進させる場合には第１電磁流量制御バル
ブVaのソレノイド１ａを励磁してスプール２ａ
を摺動させ、これによつてポンプＰ０に通じる側
部弁室３ａと流体圧シリンダＣに通じる中央弁室
４間をスリツト５ａを介して連通させ、そのスリ
ツト開度に応じた流量を流体圧シリンダＣに供給
し、またピストンＰを左進させる場合には第２電
磁流量制御バルブVbのソレノイド１ｂを励磁し
てスプール２ｂを摺動させ、これによつてタンク
Ｔに通じる側部弁室３ｂと流体圧シリンダＣに通
じる中央弁室４ｂ間をスリツト５ｂを介して連通
させ、そのスリツト開度に応じた流量を流体圧シ
リンダＣよりタンクＴに排出させている。

しかしながら、かかる従来装置は、ピストンＰ
の右進時には供給通路８より供給された圧力流体
が第１電磁流量制御バルブVaの側部弁室３ａか
らスリツト５ａを介して中央弁室４ならびに給排
通路７へ通過し、またピストンＰの左進時には給
排通路７からの排出流体が中央弁室４からスリツ
ト５ｂを介して第２電磁流量制御バルブVbの側
部弁室３ｂならびに排出通路９へと通過するた
め、その圧力流体の流れ方向が反対となつてスリ
ツト５ａ，５ｂに作用するフローフオースに差異
が生じ、第１０図Ｂに示すようにピストンＰの右
進時と左進時とで制御特性がアンバランスとなる
傾向があつた。

このような問題に対処するには、第１、第２電
磁流量制御バルブのいずれにおいても圧力流体が
各弁室間を同じ条件で流通するようにバルブハウ
ジングに特別な通路を形成することで制御特性の
アンバランスを解消することができる。

しかしながら上記通路をドリル加工する場合、
バルブハウジングの大きさに制限があるため、そ
の口径を大きくとることができず、従つて圧力損
失も大きく、大容量の流量制御に適用できないと
いう問題がある。

〈考案の目的〉 本考案はこのような問題を解決するためになさ
れたものでその目的とするところは第１、第２電
磁流量制御バルブの制御特性をアンバランスが生
じないようにすることである。

さらに本考案の他の目的とするところは、前記
第１、第２電磁流量制御バルブに通じる通路面積
を大きくして圧力損失を少なくすることである。

〈考案の構成〉 本考案はかかる目的を達成するために、前記第
１、第２電磁流量制御バルブのいずれのバルブに
おいても圧力流体が各弁室間において同じ条件で
圧力流体が流出するように供給通路、給排通路な
らびに排出通路を構成したこと、さらにこの各通
路をバルブハウジングに挿嵌される中間スリーブ
に形成したことを特徴とする電磁流量制御装置で
ある。

〈実施例〉 以下本考案の実施例を図面に基づいて説明す
る。第３図は本考案の電磁流量制御装置Ｖを示す
もので、バルブハウジングＨと、中間スリーブＳ
と、第１電磁流量制御バルブVa、第２電磁流量
制御バルブVbとを備えている。

バルブハウジングＨにはその内孔４０より外周
に開口する給排ポートＰ１、供給ポートＰ２なら
びに排出ポートＰ３が形成され、これらポートＰ
１，Ｐ２，Ｐ３を例えば第１図に示す流体圧シリ
ンダＣ、ポンプＰ０、タンクＴにそれぞれ接続す
ることで、流体圧シリンダＣに圧力流体が給排さ
れ、ピストンＰの位置を制御することができる。

第１、第２電磁流量制御バルブVa，Vbは同一
構成をなし、それぞれ前記中間スリーブＳに挿入
嵌合されるバルブ本体１７ａ，１７ｂを有してい
る。このバルブ本体１７ａ，１７ｂは先端部に支
持筒１１７ａ，１１７ｂを有し、この支持筒１１
７ａ，１１７ｂの軸端側に第１弁室１８ａ，１８
ｂが形成され、支持筒１１７ａ，１１７ｂの外周
側に第２弁室１９ａ，１９ｂがそれぞれ形成され
る。またバルブ本体１７ａ，１７ｂにはそれぞれ
弁孔２２ａ，２２ｂが形成され、この弁孔２２
ａ，２２ｂにスプール２０ａ，２０ｂが摺動可能
に嵌合されている。このスプール２０ａ，２０ｂ
には第４図に示すように直径方向に切欠かれたバ
イパス用スリツト２１ａ，２１ｂがそれぞれ軸方
向に所定の長さに亘つて形成され、スプール２０
ａ，２０ｂの軸方向移動によつてこのスリツト２
１ａ，２１ｂを前記第２弁室１９ａ，１９ｂに対
応させ、第１、第２弁室１８ａ，１８ｂ，１９
ａ，１９ｂ間を連通制御するようになつている。
またスプール２０ａ，２０ｂにはソレノイド３６
ａ，３６ｂへの印加電流に応じた吸引力が付与さ
れ、前記弁孔２２ａ，２２ｂ内を摺動するように
なつている。

一方中間スリーブＳには前記バルブ本体１７
ａ，１７ｂを挿嵌するための支持孔５０ａ，５０
ｂがその中央に位置する仕切壁５１を残して両端
に開口され、また外周部には第５図ないし第９図
に示すように供給通路５３、給排通路５４ならび
に排出通路５５が形成されている。この供給通路
５３は中間スリーブＳの一端外周を占有する円弧
状凹溝５３ａと、径方向に貫通する多数の貫通孔
５３ｂより構成され、同様に給排通路５４は中間
スリーブＳの中央外周ならびに他端外周の半分を
占有する円弧状凹溝５４ａと、径方向に貫通する
多数の貫通孔５４ｂと、半径状に切欠いた切欠孔
５４ｃより構成され、さらに排出通路５５は中間
スリーブＳの他端外周の半分を占有する円弧状凹
溝５５ａと、半円状に切欠いた切欠孔５５ｂより
構成されている。このように中間スリーブＳの外
周を有効に利用して供給通路５３、給排通路５
４、排出通路５５を形成することで、大きな通路
面積を確保するようになつている。

上記供給通路５３、給排通路５４、排出通路５
５を有する中間スリーブＳをバルブハウジングＨ
に挿嵌したとき、前記供給通路５３はそれぞれ第
２弁室１９ａ、供給ポートＰ２に対応して両者間
を接続し、同様に給排通路５４はそれぞれ第１弁
室１８ａ、第２弁室１９ｂ、給排ポートＰ１に対
応して両者間を接続し、さらに排出通路５５はそ
れぞれ第１弁室１８ｂ、排出ポートＰ３に対応し
て両者間を接続するようになつている。

上記構成の電磁流量制御装置Ｖにおいて、所定
の電流がソレノイド２７ａに印加されると、スプ
ール２０ａにはソレノイド２７ａに印加された電
流に比例した吸引力が作用する。これによりバイ
パス用スリツト２１ａが第２弁室９ａに開口し、
第１弁室１８ａならびに第２弁室１９ａが互いに
連通される。このバイパス用スリツト２１ａの開
口面積はソレノイド２７ａに印加される電流に比
例した大きさに設定され、流体圧シリンダＣには
第１０図に示すようにソレノイド２７１ａに印加
される電流に比例した量の圧力流体が供給ポート
Ｐ２、供給通路５３、第２弁室１９ａ、第１弁室
１８ａ、給排通路５４、給排ポートＰ１を介して
供給され、ピストンＰを所定位置まで右進させ
る。

またソレノイド２７ｂに所定の電流を印加した
場合には前記と同様、スプール２０ｂにはソレノ
イド２７ｂに印加された電流に比例した吸引力が
発生する。これによりスリツト２１ｂが第２弁室
１９ｂに開口し、第１弁室１８ｂならびに第２弁
室１９ｂが互いに連通される。その結果このスリ
ツト２１ｂの開口面積に応じた量の圧力流体が給
排ポートＰ１、給排通路５４、第２弁室１９ｂ、
第１弁室１８ｂ、排出通路５５、排出ポートＰ３
よりタンクＴへ排出され、ピストンＰは左進され
る。

このようにピストンＰを所定の位置へ左進させ
る場合、あるいは右進させる場合のいずれの場合
でも、圧力流体が前記スリツト２１ａ，２１ｂを
通過する際、スプール２０ａ，２０ｂに対してフ
ローフオースが作用する。

しかるに本考案では、上記いずれの場合でも圧
力流体を第２弁室１９ａ，１９ｂ側よりスリツト
２１ａ，２１ｂを介して第１弁室１８ａ，１８ｂ
へと通過させているため、同じ条件でもつてスプ
ール２０ａ，２１ｂにフローフオースを作用させ
ることができ、第１０図Ａに示すようにピストン
Ｐの左進あるいは右進時とでアンバランスのない
制御特性を得ることができ、また供給通路５３、
給排通路５４、排出通路５５の各通路面積が大き
いため、圧力損失も少なく、大容量の流量制御が
できる。

〈考案の効果〉 前記したように本考案は、同一構成の第１、第
２電磁流量制御バルブの各弁室に対して、その圧
力流体の流れ方向を一致させることで同じ条件で
もつてフローフオースが発生するように供給通
路、排出通路ならびに給排通路を連通した構成で
あるため、第１、第２電磁流量制御バルブのいず
れを作動させた場合でも同じ制御特性となり、例
えばピストンの位置制御等に利用した場合、ピス
トン左進位置と右進位置にアンバランスがなくな
り、高精度な位置制御が可能となる。

また本考案は、中間スリーブの全外周面を有効
に利用して前記給排通路、供給通路ならびに排出
通路を形成した構成であるため、中間スリーブと
いう限られた体積内に大きな通路面積を確保する
ことができ、従つて圧力損失も少なくなり、大容
量の流量制御にも適用することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、電磁流量制御装置を流体圧シリンダ
に位置制御に利用した使用例を示す油圧回路図、
第２図は従来の電磁流量制御装置を示す断面図、
第３図は本考案の電磁流量制御装置の実施例を示
す断面図、第４図は第３図の−線断面矢視
図、第５図は中間スリーブの外観図、第６図ない
し第９図は第５図を−線、−線、−
線ないし−線でそれぞれ断面した断面矢視
図、第１０図はソレノイドに印加される電流と流
量との関係を示す制御特性図である。 Va……第１電磁流量制御バルブ、Vb……第２
電磁流量制御バルブ、Ｐ１……給排ポート、Ｐ２
……供給ポート、Ｐ３……排出ポート、Ｈ……バ
ルブハウジング、Ｓ……中間スリーブ、１７ａ，
１７ｂ……バルブ本体、１８ａ，１８ｂ……第１
弁室１、１９ａ，１９ｂ……第２弁室、２０ａ，
２０ｂ……スプール、２７ａ，２７ｂ……ソレノ
イド、５３……供給通路、５４……給排通路、５
５……排出通路。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 給排ポート、供給ポートならびに排出ポートを
   有するバルブハウジングの内孔に中間スリーブを
   挿嵌し、この中間スリーブには仕切壁を残してそ
   れぞれ両端に開口する支持穴と、この支持穴より
   外周に開口する供給通路、給排通路ならびに排出
   通路を形成し、前記支持穴には第１、第２電磁流
   量制御バルブのバルブ本体をそれぞれ挿嵌し、こ
   の第１、第２電磁流量制御バルブのバルブ本体に
   はソレノイドの吸引されるスプールの摺動によつ
   て開閉制御される同一構成の第１、第２弁室を設
   け、この第１電磁流量制御バルブの第１弁室なら
   びに第２電磁流量制御バルブの第２弁室を前記給
   排通路を介して前記給排ポートに接続し、第１電
   磁流量制御バルブの第２弁室を前記供給通路を介
   して前記供給ポートに接続し、第２電磁流量制御
   バルブの第１弁室を前記排出通路を介して前記排
   出ポートに接続したことを特徴とする電磁流量制
   御装置。