JPS63131144A - 原版収納カセツト - Google Patents
原版収納カセツトInfo
- Publication number
- JPS63131144A JPS63131144A JP61276856A JP27685686A JPS63131144A JP S63131144 A JPS63131144 A JP S63131144A JP 61276856 A JP61276856 A JP 61276856A JP 27685686 A JP27685686 A JP 27685686A JP S63131144 A JPS63131144 A JP S63131144A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- cassette
- duct
- original
- dust
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 9
- 230000003670 easy-to-clean Effects 0.000 abstract description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、吸着用管路を介して原版をカセット内で固定
することが可能な原版収納カセットに関する。
することが可能な原版収納カセットに関する。
［従来技術］
半導体露光装置に用いられる原版（マスクまたはレチク
ル、以下マスクと総称する）は、露光装早は湘り鼾腓ム
柄イｈ１寸フカ向ｍｈ六鳴壮嬰出ド複数枚収納されてお
り、露光等に際しては、所望のマスクが選択され所定の
位置ヘセットされる。
ル、以下マスクと総称する）は、露光装早は湘り鼾腓ム
柄イｈ１寸フカ向ｍｈ六鳴壮嬰出ド複数枚収納されてお
り、露光等に際しては、所望のマスクが選択され所定の
位置ヘセットされる。
上記複数枚のマスクは、各々独立した収納カセット（以
後マスクカセットと称する）に保管され応埃や汚染から
保護されている。
後マスクカセットと称する）に保管され応埃や汚染から
保護されている。
第３図は従来のマスクカセットの一例を示す。
同図において、マスクカセットは上皿ｌＯと下皿１１に
分かれており、マスクは下皿１１の上に置かれた状態で
収納される。
分かれており、マスクは下皿１１の上に置かれた状態で
収納される。
［発明が解決しようとする問題点］
しかしながらこのような従来例においては、マスクを下
皿に固定する手段がないがために、搬送する場合は細心
の注意が必要であった。具体的には、カセット内のマス
クが揺動しないようにゆっくりした速度で移動させなけ
ればならなかった。
皿に固定する手段がないがために、搬送する場合は細心
の注意が必要であった。具体的には、カセット内のマス
クが揺動しないようにゆっくりした速度で移動させなけ
ればならなかった。
また、マスクは、半導体露光装置で転写される原版とな
るものであるから、塵埃の付着やパターン面の汚染に対
して十分管理されなければならない。ところが、搬送中
にカセット中で揺動されるようなことが起これば、カセ
ットとマスクが摺動し、その摺動面から微細なゴミが発
生する可能性かある。このことは、マスクを取り扱う上
では絶対避けなければならないことである。以上の理由
により、マスクカセットは、発塵性がなく、密閉性か良
く、取出しやすく、そして洗浄しやすい構造のものが求
められている。
るものであるから、塵埃の付着やパターン面の汚染に対
して十分管理されなければならない。ところが、搬送中
にカセット中で揺動されるようなことが起これば、カセ
ットとマスクが摺動し、その摺動面から微細なゴミが発
生する可能性かある。このことは、マスクを取り扱う上
では絶対避けなければならないことである。以上の理由
により、マスクカセットは、発塵性がなく、密閉性か良
く、取出しやすく、そして洗浄しやすい構造のものが求
められている。
本発明は、上述従来例の問題点に鑑み、カセットケース
の構造を複雑にすることなく洗浄性や密閉性を損わずに
、搬送中カセットに原版を固定する手段を設けることに
よって摺動をなくし、発応を防止するとともに原版交換
等のための搬送をスヒ゛−ドアツブすることを目的とす
る。
の構造を複雑にすることなく洗浄性や密閉性を損わずに
、搬送中カセットに原版を固定する手段を設けることに
よって摺動をなくし、発応を防止するとともに原版交換
等のための搬送をスヒ゛−ドアツブすることを目的とす
る。
［問題点を解決するための手段および作用］上記目的を
達成するため本発明は、原版収納カセットにおいて、吸
気されることにより原版を吸着し固定する管路を設けて
いる。
達成するため本発明は、原版収納カセットにおいて、吸
気されることにより原版を吸着し固定する管路を設けて
いる。
［実施例］
以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第１図は、本発明の一実施例に係るマスクカセットの断
面図である。このマスクカセットは、下皿に吸着固定用
の吸着管路を付加したものである。同図において、１は
カセット下皿、２はマスク、３は吸着用の管路、５はカ
セット上皿である。従来のカセットは、管路３がなく、
マスク２は下皿１の上に乗せただけであった。
面図である。このマスクカセットは、下皿に吸着固定用
の吸着管路を付加したものである。同図において、１は
カセット下皿、２はマスク、３は吸着用の管路、５はカ
セット上皿である。従来のカセットは、管路３がなく、
マスク２は下皿１の上に乗せただけであった。
第２図は、フォークハンドが下皿をつかんだところを示
す断面図である。同図において、６はフォークハンド、
７はフォークハンド６に固定された吸着用バッドである
。吸着用バッド７は真空ポンプに管路を介して接続され
ている。８はソレノイドバルブ、９は真空度を検出する
バキュームスイッチである。
す断面図である。同図において、６はフォークハンド、
７はフォークハンド６に固定された吸着用バッドである
。吸着用バッド７は真空ポンプに管路を介して接続され
ている。８はソレノイドバルブ、９は真空度を検出する
バキュームスイッチである。
マスク２を取り出すためには、第２図に示すように、フ
ォークハンド６で下皿１を支持し、矢印Ａ方向へ引出す
。この引出し速度が速いと、従来はマスクを下皿へ固定
していなかったためにマスクは揺動してしまった。そこ
で、本実施例では、下皿１に、一端が下皿１のマスク支
持面に開口し、他端が下皿１の外側面に開口する吸着用
管路３を設け、吸着用バッド７を、フォークハンド６か
下皿１の下へ到達し下皿１を支持した時に下皿１の管路
３の外側面への開口部をおおうように位置させている。
ォークハンド６で下皿１を支持し、矢印Ａ方向へ引出す
。この引出し速度が速いと、従来はマスクを下皿へ固定
していなかったためにマスクは揺動してしまった。そこ
で、本実施例では、下皿１に、一端が下皿１のマスク支
持面に開口し、他端が下皿１の外側面に開口する吸着用
管路３を設け、吸着用バッド７を、フォークハンド６か
下皿１の下へ到達し下皿１を支持した時に下皿１の管路
３の外側面への開口部をおおうように位置させている。
したがって、本実施例においては、フォーク６が下皿１
を固定した時に吸着用バッド７を介して管路３を真空に
するとマスク２が下皿１へ吸着され固定する。このマス
ク吸着を確認した後フオークハンド６を引出す。これに
より、マスク２は、下皿１に吸着固定された状態で搬送
されマスクのみを取り出す位置まで８動する。
を固定した時に吸着用バッド７を介して管路３を真空に
するとマスク２が下皿１へ吸着され固定する。このマス
ク吸着を確認した後フオークハンド６を引出す。これに
より、マスク２は、下皿１に吸着固定された状態で搬送
されマスクのみを取り出す位置まで８動する。
以上、マスク交換機内だけの搬送時について述へた。
現在は、前に述べたように交換機内へマスクを複数枚収
納しており、そこからのみ自動選択している。したがっ
て、該当するマスクが交換機内に収納されていない場合
は、人間が該当するマスクと交換機内の不用のマスクと
を入れ換えてやらなければならない。このようなとき等
、半導体製造工場内のマスク保管収納場所から各装置（
マスク自動交換機）へのマスクの運搬は人間によってい
る。将来この運搬も機械化自動化されればこの運ｉＱ２
中にもマスクとカセットの摺動が心配される。
納しており、そこからのみ自動選択している。したがっ
て、該当するマスクが交換機内に収納されていない場合
は、人間が該当するマスクと交換機内の不用のマスクと
を入れ換えてやらなければならない。このようなとき等
、半導体製造工場内のマスク保管収納場所から各装置（
マスク自動交換機）へのマスクの運搬は人間によってい
る。将来この運搬も機械化自動化されればこの運ｉＱ２
中にもマスクとカセットの摺動が心配される。
この場合にも本実施例のようにしてマスクを吸着固定す
ることで対処することが可能となる。
ることで対処することが可能となる。
また、本実施例においては、フォークハンド６で下皿を
固定し吸着した時、バキュームスイッチ９等で管路内の
圧力変化を検出し、カセット内のマスクの有無を確認す
ることも可能である。
固定し吸着した時、バキュームスイッチ９等で管路内の
圧力変化を検出し、カセット内のマスクの有無を確認す
ることも可能である。
なお、このマスクカセットを使用してマスクを工場内で
保管しておく場合、吸着用管路３の他に第１図に示した
管路４を設けておけば、それを介して窒素ガス等を流し
込むことによりマスクカセット内を外側周辺よりも正圧
に保つことができるため、もしカセットに隙間等があっ
ても塵埃の進入が防止できる。
保管しておく場合、吸着用管路３の他に第１図に示した
管路４を設けておけば、それを介して窒素ガス等を流し
込むことによりマスクカセット内を外側周辺よりも正圧
に保つことができるため、もしカセットに隙間等があっ
ても塵埃の進入が防止できる。
［発明の効果コ
カセット内での原版の固定手段を機械的なものにした場
合、カセットの構造は複雑になり、洗浄しても塵埃が取
り除きにくいものになる。しかし、以上説明したように
本発明によれば、扱者用管路を付加しただけという簡単
な構造で、原版を吸着固定して原版の揺動をなくし塵埃
の発生を抑えることを実現している。しかも、洗浄しや
すい構造となる。
合、カセットの構造は複雑になり、洗浄しても塵埃が取
り除きにくいものになる。しかし、以上説明したように
本発明によれば、扱者用管路を付加しただけという簡単
な構造で、原版を吸着固定して原版の揺動をなくし塵埃
の発生を抑えることを実現している。しかも、洗浄しや
すい構造となる。
第１図は、本発明の一実施例に係るマスフカセラ］・の
断面図、 第２図は、フォークハント６が下皿をつかんだところを
示す断面図、 第３図は、上皿と下皿の２部分から構成されているマス
クカセットの従来例を示す図である。 １、カセット下皿、 ２：マスク、 ３：マスクを吸着固定する管路、 ４：窒素がスバージする管路、 ５：マスクカセット上皿、 ７：吸着用パッド、 ８、管路３を真空状態にさせるソレノイドバルブ、 ９：管路内の真空度を検出するバキュームスイッチ。 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士 伊 東 辰 雄 代理人 弁理士 伊 東 哲 也 第１図 第２図
断面図、 第２図は、フォークハント６が下皿をつかんだところを
示す断面図、 第３図は、上皿と下皿の２部分から構成されているマス
クカセットの従来例を示す図である。 １、カセット下皿、 ２：マスク、 ３：マスクを吸着固定する管路、 ４：窒素がスバージする管路、 ５：マスクカセット上皿、 ７：吸着用パッド、 ８、管路３を真空状態にさせるソレノイドバルブ、 ９：管路内の真空度を検出するバキュームスイッチ。 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士 伊 東 辰 雄 代理人 弁理士 伊 東 哲 也 第１図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、吸気されることにより原版を吸着する管路を具備す
ることを特徴とする原版収納カセット。 ２、前記管路が、少なくとも前記原版をその収納カセッ
トとともに搬送するときに、搬送装置に吸気口を有する
吸気手段により吸気されるものである特許請求の範囲第
１項記載の原版収納カセット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27685686A JPH07104596B2 (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 原版収納カセツト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27685686A JPH07104596B2 (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 原版収納カセツト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63131144A true JPS63131144A (ja) | 1988-06-03 |
| JPH07104596B2 JPH07104596B2 (ja) | 1995-11-13 |
Family
ID=17575361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27685686A Expired - Fee Related JPH07104596B2 (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 原版収納カセツト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07104596B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007504683A (ja) * | 2003-05-14 | 2007-03-01 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | インプリント・リソグラフィ・プロセス中にテンプレートを移動させるための方法、システム、ホルダ、アセンブリ |
| JP2011035281A (ja) * | 2009-08-05 | 2011-02-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | ワーク収納機構および研削装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4917683A (ja) * | 1972-06-05 | 1974-02-16 | ||
| JPS5224335A (en) * | 1975-08-19 | 1977-02-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | A gas burner |
| JPS5624335A (en) * | 1979-08-03 | 1981-03-07 | Perkin Elmer Corp | Cassette for protecting projecting mask used for projector and method and device for inserting and discharging same cassette into and from projector |
-
1986
- 1986-11-21 JP JP27685686A patent/JPH07104596B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4917683A (ja) * | 1972-06-05 | 1974-02-16 | ||
| JPS5224335A (en) * | 1975-08-19 | 1977-02-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | A gas burner |
| JPS5624335A (en) * | 1979-08-03 | 1981-03-07 | Perkin Elmer Corp | Cassette for protecting projecting mask used for projector and method and device for inserting and discharging same cassette into and from projector |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007504683A (ja) * | 2003-05-14 | 2007-03-01 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | インプリント・リソグラフィ・プロセス中にテンプレートを移動させるための方法、システム、ホルダ、アセンブリ |
| JP4937750B2 (ja) * | 2003-05-14 | 2012-05-23 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | インプリント・リソグラフィ・プロセス中にテンプレートを移動させるための方法、システム、ホルダ、アセンブリ |
| JP2011035281A (ja) * | 2009-08-05 | 2011-02-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | ワーク収納機構および研削装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07104596B2 (ja) | 1995-11-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5752796A (en) | Vacuum integrated SMIF system | |
| US4859137A (en) | Apparatus for transporting a holder between a port opening of a standardized mechanical interface system and a loading and unloading station | |
| JPS62222625A (ja) | 半導体製造装置 | |
| US5451131A (en) | Dockable interface airlock between process enclosure and interprocess transfer container | |
| EP0565001A1 (en) | Closed container to be used in a clean room | |
| JP2002517088A (ja) | 半導体ウエハハンドリング用バッチ式エンドエフェクタ | |
| US5395198A (en) | Vacuum loading chuck and fixture for flexible printed circuit panels | |
| JPS63131144A (ja) | 原版収納カセツト | |
| JP3019260B1 (ja) | 電子ビ―ム描画装置 | |
| JP2873761B2 (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP3217110B2 (ja) | 搬送装置 | |
| JPH0615720B2 (ja) | 真空処理装置 | |
| JPH05114540A (ja) | レチクル搬送装置 | |
| JPS62252147A (ja) | 半導体ウエハ移し替え装置 | |
| JP4369159B2 (ja) | 真空処理装置 | |
| JPH04118913A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP3971081B2 (ja) | 真空処理装置 | |
| JPH0669317A (ja) | 搬送用ロボット | |
| KR102388390B1 (ko) | 로드 포트 유닛, 이를 포함하는 저장 장치 및 배기 방법 | |
| JPH07153721A (ja) | ダイシング装置 | |
| JPH0534108Y2 (ja) | ||
| JPH03155648A (ja) | ウエハーカセット | |
| JPS62252128A (ja) | 半導体製造装置の基板導入装置 | |
| JPH02230753A (ja) | 半導体基板自動立替機 | |
| JPS62154752A (ja) | ウエハ−ス吸着器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |