JP3019260B1 - 電子ビ―ム描画装置 - Google Patents
電子ビ―ム描画装置Info
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Abstract
【要約】
【課題】 従来、描画時にウエーハと接触するアース針
の交換や静電チャック面の清掃時には、電子ビーム描画
装置を停止し、大容積の真空チャンバを大気状態とする
必要がある。 【解決手段】 静電チャック７、アース針６、ウエーハ
回転補正機構８などＸ-Ｙステージ上でウエーハ１０と
直接接触する部分（ステージ上部）をＸ-Ｙステージか
ら分離可能な構造とし、このステージ上部を電子ビーム
描画が行なわれる大容積の真空チャンバとは別の新たに
設けた小容積のステージ調整用チャンバ３０、または試
料交換用チャンバ１２ａへ搬送可能な構造とし、この小
容積のチャンバを大気状態としてステージ上部のアース
針の交換や静電チャックの吸着面の清掃を行なう。
の交換や静電チャック面の清掃時には、電子ビーム描画
装置を停止し、大容積の真空チャンバを大気状態とする
必要がある。 【解決手段】 静電チャック７、アース針６、ウエーハ
回転補正機構８などＸ-Ｙステージ上でウエーハ１０と
直接接触する部分（ステージ上部）をＸ-Ｙステージか
ら分離可能な構造とし、このステージ上部を電子ビーム
描画が行なわれる大容積の真空チャンバとは別の新たに
設けた小容積のステージ調整用チャンバ３０、または試
料交換用チャンバ１２ａへ搬送可能な構造とし、この小
容積のチャンバを大気状態としてステージ上部のアース
針の交換や静電チャックの吸着面の清掃を行なう。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビームを使用
してウエーハやマスクなどへの回路パターンの描画等を
行なう電子ビーム描画装置に係わり、特に、描画時間の
短縮および装置の稼働率の向上を図るのに好適な電子ビ
ーム描画装置に関するものである。
してウエーハやマスクなどへの回路パターンの描画等を
行なう電子ビーム描画装置に係わり、特に、描画時間の
短縮および装置の稼働率の向上を図るのに好適な電子ビ
ーム描画装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】電子ビーム描画装置では、電子ビームの
偏向範囲よりも被描画試料の描画領域が大きいため、ウ
エーハやマスクといった試料の全面を描画するには、試
料を移動するためのＸＹステージが必要である。さら
に、電子ビームは真空中で描画が行われるため、ステー
ジはステージチャンバと呼ばれる真空容器内に設置する
必要がある。
偏向範囲よりも被描画試料の描画領域が大きいため、ウ
エーハやマスクといった試料の全面を描画するには、試
料を移動するためのＸＹステージが必要である。さら
に、電子ビームは真空中で描画が行われるため、ステー
ジはステージチャンバと呼ばれる真空容器内に設置する
必要がある。
【０００３】電子ビーム描画装置では、効率的な描画を
行なうためには、このような真空チャンバが２つ以上は
必要である。なぜなら、ステージチャンバは容積が大き
く、大気圧から電子ビーム描画に必要な所定の真空度に
達するまで多大な時間を要する。このため、通常の電子
ビーム描画装置では、ステージチャンバは減圧雰囲気を
保ち、他のチャンバで試料の真空／大気間の雰囲気変化
を行い、試料交換の高速化を図っている。
行なうためには、このような真空チャンバが２つ以上は
必要である。なぜなら、ステージチャンバは容積が大き
く、大気圧から電子ビーム描画に必要な所定の真空度に
達するまで多大な時間を要する。このため、通常の電子
ビーム描画装置では、ステージチャンバは減圧雰囲気を
保ち、他のチャンバで試料の真空／大気間の雰囲気変化
を行い、試料交換の高速化を図っている。
【０００４】このような電子ビーム描画装置の構成を図
１０，１１を用いて説明する。図１０は、従来の電子ビ
ーム描画装置の構成例を示す上断面図、図１１は、図１
０における電子ビーム描画装置の側断面図である。本例
は、「ジャーナル オブ ヴァキューム サイエンス
アンド テクノロジー Ｂ Vol. 10, No.6, Nov/Dec 1
992」に記載されたものであり、３つの真空チャンバよ
り構成されている。
１０，１１を用いて説明する。図１０は、従来の電子ビ
ーム描画装置の構成例を示す上断面図、図１１は、図１
０における電子ビーム描画装置の側断面図である。本例
は、「ジャーナル オブ ヴァキューム サイエンス
アンド テクノロジー Ｂ Vol. 10, No.6, Nov/Dec 1
992」に記載されたものであり、３つの真空チャンバよ
り構成されている。
【０００５】この技術では、ステージチャンバ２ａの他
に、試料交換用チャンバ１２と減圧チャンバ２０が備え
られている。ステージチャンバ２ａに真空バルブ１１を
介して隣接する試料交換用チャンバ１２では、描画済み
と未描画の２枚の試料を、減圧雰囲気を保ったまま、エ
レベータ１４等からなるローダ機構により搬送し、行き
違い交換する。この試料交換用チャンバ１２内は、２枚
の試料を収容できる構造となっていて、エレベータ１４
で上下することで、試料を選択できる。
に、試料交換用チャンバ１２と減圧チャンバ２０が備え
られている。ステージチャンバ２ａに真空バルブ１１を
介して隣接する試料交換用チャンバ１２では、描画済み
と未描画の２枚の試料を、減圧雰囲気を保ったまま、エ
レベータ１４等からなるローダ機構により搬送し、行き
違い交換する。この試料交換用チャンバ１２内は、２枚
の試料を収容できる構造となっていて、エレベータ１４
で上下することで、試料を選択できる。
【０００６】また真空バルブ１３を介して試料交換用チ
ャンバ１２に隣接する減圧チャンバ２０では、真空ポン
プ２２により試料を大気から所定の真空度まで減圧する
作業、あるいは、リークバルブ２１により描画後の試料
を大気圧雰囲気に戻すという作業を行う。このような構
成とすることで、真空と大気間の増減圧作業と、試料の
搬送時間を短縮し、電子ビーム描画装置のトータルの描
画処理枚数の増加を図っている。
ャンバ１２に隣接する減圧チャンバ２０では、真空ポン
プ２２により試料を大気から所定の真空度まで減圧する
作業、あるいは、リークバルブ２１により描画後の試料
を大気圧雰囲気に戻すという作業を行う。このような構
成とすることで、真空と大気間の増減圧作業と、試料の
搬送時間を短縮し、電子ビーム描画装置のトータルの描
画処理枚数の増加を図っている。
【０００７】次に、試料の搬送形態について述べる。試
料がウエーハ２６である場合、試料の減圧チャンバ２０
からステージチャンバ２ａへの搬送には、大きく次の２
つの技術がある。１つは、Ｘ-Ｙステージのトップテー
ブル５上に載せられたウエーハ２６を単独で減圧チャン
バ２０から搬送されるウエーハ直接搬送技術であり、も
う１つは、減圧チャンバ２０内にパレット１８と呼ばれ
る板状の台を備えておき、このパレット１８にウエーハ
２６を載せ、パレット１８ごと減圧チャンバ２０からス
テージチャンバ２ａへ搬送するパレット搬送技術であ
る。
料がウエーハ２６である場合、試料の減圧チャンバ２０
からステージチャンバ２ａへの搬送には、大きく次の２
つの技術がある。１つは、Ｘ-Ｙステージのトップテー
ブル５上に載せられたウエーハ２６を単独で減圧チャン
バ２０から搬送されるウエーハ直接搬送技術であり、も
う１つは、減圧チャンバ２０内にパレット１８と呼ばれ
る板状の台を備えておき、このパレット１８にウエーハ
２６を載せ、パレット１８ごと減圧チャンバ２０からス
テージチャンバ２ａへ搬送するパレット搬送技術であ
る。
【０００８】図１０，１１の例は、パレット１８を３枚
用いてステージチャンバ２ａ、試料交換用チャンバ１
２、減圧チャンバ２０間でウエーハ２６をパレット１８
に載せたまま、パレット１８ごと搬送している。しか
し、このようなパレット１８を使用した真空内搬送技術
には、以下の課題がある。
用いてステージチャンバ２ａ、試料交換用チャンバ１
２、減圧チャンバ２０間でウエーハ２６をパレット１８
に載せたまま、パレット１８ごと搬送している。しか
し、このようなパレット１８を使用した真空内搬送技術
には、以下の課題がある。
【０００９】１）パレット１８は重く、搬送速度が低下
する。すなわち、最近のパレット１８には、ウエーハ２
６を載せるためのいわゆる静電チャックが備えられてい
るが、この静電チャックはアルミナなどを主材としたセ
ラミックで構成されているため、ウエーハ２６自身の数
倍から数十倍の重量となる。加えてアース針６やウエー
ハ２６の回転位置決め機構８などを備えているため、結
果として、パレット１８の重量が１ｋｇから５ｋｇ程度
にもなる。そのため、ウエーハ２６単品での搬送並の速
度で搬送することが難しく、電子ビーム描画装置のトー
タルなスループット低下の原因となっていた。
する。すなわち、最近のパレット１８には、ウエーハ２
６を載せるためのいわゆる静電チャックが備えられてい
るが、この静電チャックはアルミナなどを主材としたセ
ラミックで構成されているため、ウエーハ２６自身の数
倍から数十倍の重量となる。加えてアース針６やウエー
ハ２６の回転位置決め機構８などを備えているため、結
果として、パレット１８の重量が１ｋｇから５ｋｇ程度
にもなる。そのため、ウエーハ２６単品での搬送並の速
度で搬送することが難しく、電子ビーム描画装置のトー
タルなスループット低下の原因となっていた。
【００１０】２）パレット１８間での互換性、例えば、
ウエーハ２６保持時のウエーハ２６の反りの誤差が描画
精度に影響する。すなわち、静電チャックはウエーハ２
６をチャック面に倣って吸着するが、パレット１８を複
数枚使用する場合には、各パレット１８間の静電チャッ
クの吸着面の面形状や構成部品の取り付け位置の違いな
どが、合わせ精度のウエーハ２６間再現性に影響し、精
度を低下させる。
ウエーハ２６保持時のウエーハ２６の反りの誤差が描画
精度に影響する。すなわち、静電チャックはウエーハ２
６をチャック面に倣って吸着するが、パレット１８を複
数枚使用する場合には、各パレット１８間の静電チャッ
クの吸着面の面形状や構成部品の取り付け位置の違いな
どが、合わせ精度のウエーハ２６間再現性に影響し、精
度を低下させる。
【００１１】ウエーハ２６を直接搬送する技術では、こ
のような問題に対処することができ、この技術では、試
料の搬送速度が向上するので、スループットが向上す
る。さらに、複数のパレットを用いないのでＸ-Ｙステ
ージ上でのウエーハ吸着面が常に一定となり、各パレッ
トの吸着面加工形状の違いによるウエーハ反りがなくな
るので、描画合わせ精度も向上する。しかし、このよう
なウエーハ２６を直接搬送する技術においても、以下の
課題がある。
のような問題に対処することができ、この技術では、試
料の搬送速度が向上するので、スループットが向上す
る。さらに、複数のパレットを用いないのでＸ-Ｙステ
ージ上でのウエーハ吸着面が常に一定となり、各パレッ
トの吸着面加工形状の違いによるウエーハ反りがなくな
るので、描画合わせ精度も向上する。しかし、このよう
なウエーハ２６を直接搬送する技術においても、以下の
課題がある。
【００１２】３）アース針６の交換が装置の稼働率を低
下させる。すちわち、電子ビーム描画では、不要な電場
・磁場が電子ビーム軌道近傍に生じると、ビームが曲げ
られ描画パタン不良がおきるので、試料を等電位に保つ
必要がある。このため、アース針６と呼ばれる針状の突
起を試料に刺すことによって試料表面を等電位としてい
る。しかし、多数枚の試料を描画する過程でこのアース
針６の先端が磨耗して等電位を保つことができなくな
る。そこで、アース針６は定期的に交換する必要があ
る。このアース針６はＸ-Ｙステージ上に設置されてい
るため、交換時には、ステージチャンバ２ａを大気状態
にする必要がある。このため、装置の稼働率が低下す
る。
下させる。すちわち、電子ビーム描画では、不要な電場
・磁場が電子ビーム軌道近傍に生じると、ビームが曲げ
られ描画パタン不良がおきるので、試料を等電位に保つ
必要がある。このため、アース針６と呼ばれる針状の突
起を試料に刺すことによって試料表面を等電位としてい
る。しかし、多数枚の試料を描画する過程でこのアース
針６の先端が磨耗して等電位を保つことができなくな
る。そこで、アース針６は定期的に交換する必要があ
る。このアース針６はＸ-Ｙステージ上に設置されてい
るため、交換時には、ステージチャンバ２ａを大気状態
にする必要がある。このため、装置の稼働率が低下す
る。
【００１３】４）静電チャック上に付着した異物の除去
が困難。すなわち、描画時にはウエーハ２６をＸ-Ｙス
テージ上に固定する必要があるが、プロセスを経たウエ
ーハ２６では５０μｍ以上の反りが生じている例があ
る。このようにウエーハ２６が反ったまま固定して描画
すると、描画後の合わせ精度が低下する。そこで平坦度
をよくして固定するため、静電吸着現象を利用した静電
チャックが使用される。しかし、この静電チャック面に
異物が付着するとウエーハ２６を変形させ、逆に精度を
低下させてしまう。この場合には、チャック面の異物を
除去する必要が生じる。この異物除去時にもステージチ
ャンバ２ａを大気状態にする必要がある。このため、装
置の稼働率が低下する。
が困難。すなわち、描画時にはウエーハ２６をＸ-Ｙス
テージ上に固定する必要があるが、プロセスを経たウエ
ーハ２６では５０μｍ以上の反りが生じている例があ
る。このようにウエーハ２６が反ったまま固定して描画
すると、描画後の合わせ精度が低下する。そこで平坦度
をよくして固定するため、静電吸着現象を利用した静電
チャックが使用される。しかし、この静電チャック面に
異物が付着するとウエーハ２６を変形させ、逆に精度を
低下させてしまう。この場合には、チャック面の異物を
除去する必要が生じる。この異物除去時にもステージチ
ャンバ２ａを大気状態にする必要がある。このため、装
置の稼働率が低下する。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】解決しようとする問題
点は、従来の技術では、試料を直接搬送する電子ビーム
描画装置においては、ステージチャンバを大気状態にし
なければ、アース針の交換や、ウエーハ吸着用の静電チ
ャック面の異物の除去を行なうことができない点であ
る。
点は、従来の技術では、試料を直接搬送する電子ビーム
描画装置においては、ステージチャンバを大気状態にし
なければ、アース針の交換や、ウエーハ吸着用の静電チ
ャック面の異物の除去を行なうことができない点であ
る。
【００１５】本発明の目的は、これら従来技術の課題を
解決し、描画精度を低下させることなく装置の稼働率を
高め、生産性の向上を図ることが可能な電子ビーム描画
装置を提供することである。
解決し、描画精度を低下させることなく装置の稼働率を
高め、生産性の向上を図ることが可能な電子ビーム描画
装置を提供することである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の電子ビーム描画装置は、Ｘ-Ｙステージの
試料と接触する静電チャック部分やアース針部分などか
らなるステージ上部を、Ｘ-Ｙステージ本体から着脱可
能な構造とし、ステージ上部単位で、ステージチャンバ
から真空バルブで仕切られた、容積の小さい別のチャン
バに移動可能な構造とし、この別のチャンバからステー
ジ上部を取り出し、すなわち電子ビーム描画が行なわれ
る大容積のステージチャンバを大気雰囲気とすることな
く、静電チャック面の清掃やアース針の交換等を行な
う。
め、本発明の電子ビーム描画装置は、Ｘ-Ｙステージの
試料と接触する静電チャック部分やアース針部分などか
らなるステージ上部を、Ｘ-Ｙステージ本体から着脱可
能な構造とし、ステージ上部単位で、ステージチャンバ
から真空バルブで仕切られた、容積の小さい別のチャン
バに移動可能な構造とし、この別のチャンバからステー
ジ上部を取り出し、すなわち電子ビーム描画が行なわれ
る大容積のステージチャンバを大気雰囲気とすることな
く、静電チャック面の清掃やアース針の交換等を行な
う。
【００１７】この小容積の別なチャンバとしては、新た
にステージチャンバに隣接して設置される調整用チャン
バ、あるいは、試料が置かれる場所とは別にステージ上
部を置くことができる部分を設けた試料交換用チャンバ
を用いる。この調整用チャンバおよび試料交換用チャン
バには、減圧用の真空ポンプと大気圧に戻すためのリー
クバルブが設けられ、真空／大気の雰囲気調整可能であ
る。
にステージチャンバに隣接して設置される調整用チャン
バ、あるいは、試料が置かれる場所とは別にステージ上
部を置くことができる部分を設けた試料交換用チャンバ
を用いる。この調整用チャンバおよび試料交換用チャン
バには、減圧用の真空ポンプと大気圧に戻すためのリー
クバルブが設けられ、真空／大気の雰囲気調整可能であ
る。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を、図面に
より詳細に説明する。図１は、本発明の電子ビーム描画
装置の本発明に係る構成の第１の実施例を示す上断面
図、図２は、図１における電子ビーム描画装置の側断面
図である。図１および図２に示す本例の電子ビーム描画
装置は、通常１０〓6から１０〓4Ｐａ程度の真空度に保
たれている電子ビーム光学系１、ステージチャンバ２を
有し、ステージチャンバ２内には、描画対象の試料であ
るウエーハ１０をＸＹ方向に移動するための駆動系３と
案内ガイド４およびトップテーブル５からなるＸ-Ｙス
テージが設けられている。このため、ステージチャンバ
２は大容積なものとなっている。
より詳細に説明する。図１は、本発明の電子ビーム描画
装置の本発明に係る構成の第１の実施例を示す上断面
図、図２は、図１における電子ビーム描画装置の側断面
図である。図１および図２に示す本例の電子ビーム描画
装置は、通常１０〓6から１０〓4Ｐａ程度の真空度に保
たれている電子ビーム光学系１、ステージチャンバ２を
有し、ステージチャンバ２内には、描画対象の試料であ
るウエーハ１０をＸＹ方向に移動するための駆動系３と
案内ガイド４およびトップテーブル５からなるＸ-Ｙス
テージが設けられている。このため、ステージチャンバ
２は大容積なものとなっている。
【００１９】トップテーブル５上には、ウエーハ１０の
表面の電位を一定にするためのアース針６と、ウエーハ
１０を静電吸着する静電チャック７、および、回転補正
機構８からなるステージ上部が、トップテーブル５と静
電吸着により分離可能に設けられている。
表面の電位を一定にするためのアース針６と、ウエーハ
１０を静電吸着する静電チャック７、および、回転補正
機構８からなるステージ上部が、トップテーブル５と静
電吸着により分離可能に設けられている。
【００２０】また、ステージチャンバ２の右隣には、真
空バルブ１１を介して試料交換用チャンバ１２がある。
この試料交換用チャンバ１２は、通常、ステージチャン
バ２と同等の真空度に保たれ、上下２段のウエーハ置き
場１５，１６を有し、このウエーハ置き場１５，１６を
エレベータ１４により上下動する。
空バルブ１１を介して試料交換用チャンバ１２がある。
この試料交換用チャンバ１２は、通常、ステージチャン
バ２と同等の真空度に保たれ、上下２段のウエーハ置き
場１５，１６を有し、このウエーハ置き場１５，１６を
エレベータ１４により上下動する。
【００２１】さらに、試料交換用チャンバ１２の右隣に
は、真空バルブ１３を介して小容積の減圧チャンバ２０
が設置されている。この減圧チャンバ２０には、リーク
バルブ２１、真空ポンプ２２が接続されており、チャン
バ内雰囲気を所定の真空度と大気圧間で変化できる。そ
して、チャンバ内雰囲気を所定の真空度とした状態で真
空バルブ１３を開き、減圧側搬送機構２５により、試料
交換用チャンバ１２間でのウエーハ２６の入替えを行な
う。減圧チャンバ２０は容積が小さいので、内圧の調整
は短時間で行なことができる。
は、真空バルブ１３を介して小容積の減圧チャンバ２０
が設置されている。この減圧チャンバ２０には、リーク
バルブ２１、真空ポンプ２２が接続されており、チャン
バ内雰囲気を所定の真空度と大気圧間で変化できる。そ
して、チャンバ内雰囲気を所定の真空度とした状態で真
空バルブ１３を開き、減圧側搬送機構２５により、試料
交換用チャンバ１２間でのウエーハ２６の入替えを行な
う。減圧チャンバ２０は容積が小さいので、内圧の調整
は短時間で行なことができる。
【００２２】また、減圧チャンバ２０には、ウエーハ搬
入口バルブ２４があり、このウエーハ搬入口バルブ２４
を介して、ウエーハ２６を搬送ロボット２３などを使っ
て出し入れ可能である。これらステージチャンバ２、試
料交換用チャンバ１２、減圧チャンバ２０の３つのチャ
ンバは従来のものと同一で良い。
入口バルブ２４があり、このウエーハ搬入口バルブ２４
を介して、ウエーハ２６を搬送ロボット２３などを使っ
て出し入れ可能である。これらステージチャンバ２、試
料交換用チャンバ１２、減圧チャンバ２０の３つのチャ
ンバは従来のものと同一で良い。
【００２３】本例では、これらのチャンバの他に、さら
に第４のチャンバとして、小容積のステージ調整用チャ
ンバ３０を設けた構成となっている。この小容積のステ
ージ調整用チャンバ３０は、ステージチャンバ２に真空
バルブ３１を介して隣接して設置され、リークバルブ３
３、真空ポンプ３４、外部取りだし用バルブ３２が設け
られている。
に第４のチャンバとして、小容積のステージ調整用チャ
ンバ３０を設けた構成となっている。この小容積のステ
ージ調整用チャンバ３０は、ステージチャンバ２に真空
バルブ３１を介して隣接して設置され、リークバルブ３
３、真空ポンプ３４、外部取りだし用バルブ３２が設け
られている。
【００２４】以下、このような構成の電子ビーム描画装
置におけるウエーハの交換動作について、図１，２およ
び図３，４を用いて説明する。図３は、図１における電
子ビーム描画装置のウエーハの交換動作に係わる第１の
構成例を示す上断面図であり、図４は、図１における電
子ビーム描画装置のウエーハの交換動作に係わる第２の
構成例を示す上断面図である。
置におけるウエーハの交換動作について、図１，２およ
び図３，４を用いて説明する。図３は、図１における電
子ビーム描画装置のウエーハの交換動作に係わる第１の
構成例を示す上断面図であり、図４は、図１における電
子ビーム描画装置のウエーハの交換動作に係わる第２の
構成例を示す上断面図である。
【００２５】ウエーハの交換は、ウエーハ交換時間の最
短化を図り、以下のようにして行なわれる。図１，２に
示すように、ステージチャンバ２において１枚のウエー
ハ１０がＸ-Ｙステージ機構を構成するトップテーブル
５上に置かれ、このウエーハ１０への電子ビームによる
描画中、次の描画対象となるウエーハ２６を、大気圧雰
囲気状態の減圧チャンバ２０内に搬送ロボット２３によ
り搬入する。そして、ウエーハ搬入口バルブ１４を閉
じ、真空ポンプ２２を使って所定の真空状態にする。
短化を図り、以下のようにして行なわれる。図１，２に
示すように、ステージチャンバ２において１枚のウエー
ハ１０がＸ-Ｙステージ機構を構成するトップテーブル
５上に置かれ、このウエーハ１０への電子ビームによる
描画中、次の描画対象となるウエーハ２６を、大気圧雰
囲気状態の減圧チャンバ２０内に搬送ロボット２３によ
り搬入する。そして、ウエーハ搬入口バルブ１４を閉
じ、真空ポンプ２２を使って所定の真空状態にする。
【００２６】次に、図３に示すように、真空バルブ１３
を開け、減圧室側搬送機構２５によりウエーハ２６を試
料交換用チャンバ１２の上段のウエーハ置き場１５に搬
送する。そして、減圧室側搬送機構２５を元の位置に戻
し、真空バルブ１３を閉じ、さらに、エレベータ１４を
使ってウエーハ置き場１５，１６を上昇させて下段のウ
エーハ置き場１６を交換位置とする。
を開け、減圧室側搬送機構２５によりウエーハ２６を試
料交換用チャンバ１２の上段のウエーハ置き場１５に搬
送する。そして、減圧室側搬送機構２５を元の位置に戻
し、真空バルブ１３を閉じ、さらに、エレベータ１４を
使ってウエーハ置き場１５，１６を上昇させて下段のウ
エーハ置き場１６を交換位置とする。
【００２７】以上の動作中においても、ステージチャン
バ２でのウエーハ１０の描画が続けられ、下段のウエー
ハ置き場１６を交換位置とした状態で、ウエーハ１０へ
の描画が終了するのを待つ。ウエーハ１０への描画終了
後、ステージチャンバ２において、まず、駆動系３によ
り案内ガイド４に沿ってＸ-Ｙステージ機構を移動さ
せ、トップテーブル５を交換位置に戻す。次に、ウエー
ハ１０から、静電チャック７、アース針６、ウエーハ回
転補正機構８を開放する。
バ２でのウエーハ１０の描画が続けられ、下段のウエー
ハ置き場１６を交換位置とした状態で、ウエーハ１０へ
の描画が終了するのを待つ。ウエーハ１０への描画終了
後、ステージチャンバ２において、まず、駆動系３によ
り案内ガイド４に沿ってＸ-Ｙステージ機構を移動さ
せ、トップテーブル５を交換位置に戻す。次に、ウエー
ハ１０から、静電チャック７、アース針６、ウエーハ回
転補正機構８を開放する。
【００２８】そして、図４に示すように、真空バルブ１
１を開け、ステージチャンバ側搬送機構９を使って、ス
テージチャンバ２内から試料交換用チャンバ１２の下段
のウエーハ置き場１６にウエーハ１０を搬送する。その
後、ステージチャンバ側搬送機構９を元の位置へ戻し、
試料交換用チャンバ１２において、エレベータ１４を使
ってウエーハ置き場１５，１６を下降させ上段のウエー
ハ置き場１５を交換位置とする。
１を開け、ステージチャンバ側搬送機構９を使って、ス
テージチャンバ２内から試料交換用チャンバ１２の下段
のウエーハ置き場１６にウエーハ１０を搬送する。その
後、ステージチャンバ側搬送機構９を元の位置へ戻し、
試料交換用チャンバ１２において、エレベータ１４を使
ってウエーハ置き場１５，１６を下降させ上段のウエー
ハ置き場１５を交換位置とする。
【００２９】その後、ステージチャンバ側搬送機構９に
より、今度は、未描画のウエーハ２６を、試料交換用チ
ャンバ１２からステージチャンバ２内のトップテーブル
５上へ搬送し、真空バルブ１１を閉じた後、ウエーハ回
転補正機構８を作動させて所定の回転位置を出し、アー
ス針６を下ろしてウエーハ２６に接触させてアースをと
り、静電チャック７に電圧を与えてウエーハ２６を吸着
する。この状態で２枚目のウエーハ２６が描画可能とな
る。
より、今度は、未描画のウエーハ２６を、試料交換用チ
ャンバ１２からステージチャンバ２内のトップテーブル
５上へ搬送し、真空バルブ１１を閉じた後、ウエーハ回
転補正機構８を作動させて所定の回転位置を出し、アー
ス針６を下ろしてウエーハ２６に接触させてアースをと
り、静電チャック７に電圧を与えてウエーハ２６を吸着
する。この状態で２枚目のウエーハ２６が描画可能とな
る。
【００３０】また、この状態で、試料交換用チャンバ１
２において、再度エレベータ１４を上昇させ、下段のウ
エーハ置き場１６にある描画済みの１枚目のウエーハ１
０を交換位置へ移動する。そして、真空バルブ１３を開
けて、減圧室側搬送機構２５により、減圧チャンバ２０
に搬送し、真空バルブ１３を閉じて、リークバルブによ
り大気状態とした後、ウエーハ搬入口バルブ１４を開
け、ウエーハ１０を取り出す。その後は、再度、未描画
のウエーハを減圧室に搬送し、同様な動作によるサイク
ルを繰り返す。
２において、再度エレベータ１４を上昇させ、下段のウ
エーハ置き場１６にある描画済みの１枚目のウエーハ１
０を交換位置へ移動する。そして、真空バルブ１３を開
けて、減圧室側搬送機構２５により、減圧チャンバ２０
に搬送し、真空バルブ１３を閉じて、リークバルブによ
り大気状態とした後、ウエーハ搬入口バルブ１４を開
け、ウエーハ１０を取り出す。その後は、再度、未描画
のウエーハを減圧室に搬送し、同様な動作によるサイク
ルを繰り返す。
【００３１】このように動作することにより、ステージ
チャンバ２と試料交換用チャンバ１２間だけでのウエー
ハの移動でウエーハ１０，２６の交換がなされるので、
交換時間の最短化が図られスループットが向上する。さ
らに、従来のパレットを使ってステージチャンバと試料
交換用チャンバ間を搬送する技術に比較して、ウエーハ
だけを搬送するので、搬送物の重量がパレットの数ｋｇ
からウエーハの数十ｇとなり、１回のウエーハ交換時間
を短縮でき、高速化を図ることができる。
チャンバ２と試料交換用チャンバ１２間だけでのウエー
ハの移動でウエーハ１０，２６の交換がなされるので、
交換時間の最短化が図られスループットが向上する。さ
らに、従来のパレットを使ってステージチャンバと試料
交換用チャンバ間を搬送する技術に比較して、ウエーハ
だけを搬送するので、搬送物の重量がパレットの数ｋｇ
からウエーハの数十ｇとなり、１回のウエーハ交換時間
を短縮でき、高速化を図ることができる。
【００３２】以上の動作により電子ビーム描画装置でウ
エーハを１日あたり２００枚描画していると、約２か月
でアース針６が摩耗して交換する必要が生じる。このよ
うな場合、本例の電子ビーム描画装置では、静電チャッ
ク７、アース針６、ウエーハ回転補正機構８を含むステ
ージ上部を、ステージチャンバ２より容積の小さいステ
ージ調整用チャンバ３０へ搬送し、このステージ調整用
チャンバ３０で大気圧雰囲気に戻してからステージ上部
を取り出せる構成となっている。このように、ステージ
上部を分離して、容積の小さいステージに移動し、取り
出すので、減圧調整に要する時間が短くなり、アース針
６の交換および静電チャック７のウエーハ吸着面の清掃
に係わる作業時間を短縮できる。
エーハを１日あたり２００枚描画していると、約２か月
でアース針６が摩耗して交換する必要が生じる。このよ
うな場合、本例の電子ビーム描画装置では、静電チャッ
ク７、アース針６、ウエーハ回転補正機構８を含むステ
ージ上部を、ステージチャンバ２より容積の小さいステ
ージ調整用チャンバ３０へ搬送し、このステージ調整用
チャンバ３０で大気圧雰囲気に戻してからステージ上部
を取り出せる構成となっている。このように、ステージ
上部を分離して、容積の小さいステージに移動し、取り
出すので、減圧調整に要する時間が短くなり、アース針
６の交換および静電チャック７のウエーハ吸着面の清掃
に係わる作業時間を短縮できる。
【００３３】以下、図５，６を用いてその動作を具体的
に説明する。図５は、図１における電子ビーム描画装置
のステージ上部の搬送動作に係わる構成例を示す側断面
図であり、図６は、図１における電子ビーム描画装置の
ステージ上部の搬送動作に係わる構成例を示す上断面図
である。まず、図５において、真空ポンプ３４によりス
テージ調整用チャンバ３０をステージチャンバ２と同程
度の真空度とし、その後、真空バルブ３１を開ける。
に説明する。図５は、図１における電子ビーム描画装置
のステージ上部の搬送動作に係わる構成例を示す側断面
図であり、図６は、図１における電子ビーム描画装置の
ステージ上部の搬送動作に係わる構成例を示す上断面図
である。まず、図５において、真空ポンプ３４によりス
テージ調整用チャンバ３０をステージチャンバ２と同程
度の真空度とし、その後、真空バルブ３１を開ける。
【００３４】そして、図６に示すように、静電チャック
７、アース針６、ウエーハ回転補正機構８が含まれるス
テージ上部を、Ｘ-Ｙステージの本体側のトップテーブ
ル５から分離し、ステージ上部搬送機構３５により、ス
テージチャンバ２からステージ調整用チャンバ３０へ搬
送する。
７、アース針６、ウエーハ回転補正機構８が含まれるス
テージ上部を、Ｘ-Ｙステージの本体側のトップテーブ
ル５から分離し、ステージ上部搬送機構３５により、ス
テージチャンバ２からステージ調整用チャンバ３０へ搬
送する。
【００３５】この搬送後、ステージ上部搬送機構３５を
元の位置に戻し、真空バルブ３１を閉めて図５のリーク
バルブ３３を開け、ステージ調整用チャンバ３０を大気
状態とした後、今度は外部取りだし用バルブ３２を開け
る。これら一連の動作で、ステージ上部を容易に大気中
に取り出せる。
元の位置に戻し、真空バルブ３１を閉めて図５のリーク
バルブ３３を開け、ステージ調整用チャンバ３０を大気
状態とした後、今度は外部取りだし用バルブ３２を開け
る。これら一連の動作で、ステージ上部を容易に大気中
に取り出せる。
【００３６】そしてアース針６を交換し、あるいは、静
電チャックの吸着面を清掃した後、ステージ調整用チャ
ンバ３０に戻し、外部取りだし用バルブ３２を閉じて真
空ポンプ３４を使って再度ステージチャンバ２と同程度
の真空度にした後、真空バルブ３１を開け、各搬送機構
を用いてステージ上部をステージチャンバ２内のＸ-Ｙ
ステージ上へ戻す。
電チャックの吸着面を清掃した後、ステージ調整用チャ
ンバ３０に戻し、外部取りだし用バルブ３２を閉じて真
空ポンプ３４を使って再度ステージチャンバ２と同程度
の真空度にした後、真空バルブ３１を開け、各搬送機構
を用いてステージ上部をステージチャンバ２内のＸ-Ｙ
ステージ上へ戻す。
【００３７】ステージ調整用チャンバ３０はステージチ
ャンバ２に比べて容積が小さいので短時間で大気状態お
よび真空状態となるので、アース針６の交換作業や静電
チャックの吸着面の清掃作業のために装置を停止させて
いる時間を従来技術よりも短縮することができる。すな
わち、ステージ調整用チャンバ３０が設けられていない
従来の電子ビーム描画装置では、アース針６を交換する
際、電子ビームを止め、容積の大きなステージチャンバ
２を大気状態としてからアース針６を交換し、再度ステ
ージチャンバ２の真空引きを行うといった、全ての作業
に半日以上も要し、装置の稼働率を低下させていた。
ャンバ２に比べて容積が小さいので短時間で大気状態お
よび真空状態となるので、アース針６の交換作業や静電
チャックの吸着面の清掃作業のために装置を停止させて
いる時間を従来技術よりも短縮することができる。すな
わち、ステージ調整用チャンバ３０が設けられていない
従来の電子ビーム描画装置では、アース針６を交換する
際、電子ビームを止め、容積の大きなステージチャンバ
２を大気状態としてからアース針６を交換し、再度ステ
ージチャンバ２の真空引きを行うといった、全ての作業
に半日以上も要し、装置の稼働率を低下させていた。
【００３８】このように、本例では、ステージ調整用チ
ャンバ３０とステージ上部搬送機構３５などを設けるこ
とにより、アース針６の交換に要する時間を大幅に短縮
することができる。さらに、静電チャック７のウエーハ
吸着面に異物を挟み込んだり、また異なるサイズのウエ
ーハを描画しようとする際にも、ステージ上部の交換だ
けで対応できるので、ステージ調整用チャンバ３０を持
たない従来の電子ビーム描画装置に比べ稼働率が向上す
る。
ャンバ３０とステージ上部搬送機構３５などを設けるこ
とにより、アース針６の交換に要する時間を大幅に短縮
することができる。さらに、静電チャック７のウエーハ
吸着面に異物を挟み込んだり、また異なるサイズのウエ
ーハを描画しようとする際にも、ステージ上部の交換だ
けで対応できるので、ステージ調整用チャンバ３０を持
たない従来の電子ビーム描画装置に比べ稼働率が向上す
る。
【００３９】次に、図７および図８を用いて、本発明の
電子ビーム描画装置の他の実施例を説明する。図７は、
本発明の電子ビーム描画装置の本発明に係る構成の第２
の実施例を示す上断面図、図８は、図７における電子ビ
ーム描画装置の側断面図である。本例では、図１におけ
る電子ビーム描画装置のステージ調整用チャンバ３０を
不要とするために、試料交換用チャンバ１２ａ内に、静
電チャック７とアース針６およびウエーハ回転補正機構
８などからなるステージ上部を搬送可能な構成としてい
る。
電子ビーム描画装置の他の実施例を説明する。図７は、
本発明の電子ビーム描画装置の本発明に係る構成の第２
の実施例を示す上断面図、図８は、図７における電子ビ
ーム描画装置の側断面図である。本例では、図１におけ
る電子ビーム描画装置のステージ調整用チャンバ３０を
不要とするために、試料交換用チャンバ１２ａ内に、静
電チャック７とアース針６およびウエーハ回転補正機構
８などからなるステージ上部を搬送可能な構成としてい
る。
【００４０】すなわち、試料交換用チャンバ１２ａに
は、リークバルブ３３と真空ポンプ３４が設けられ、減
圧調整可能となり、さらに、上下２段のウエーハ置き場
１５，１６とは別にステージ上部置き場１７が設けられ
ている。そして、真空ポンプ３４により、通常は、ステ
ージチャンバ２ａと同等の真空度に保たれ、ウエーハの
交換作業動作を行なうが、アース針６の交換や静電チャ
ックの吸着面の清掃等を行なう際には、ステージ上部
を、上述の第１の実施例と同様の動作手順で、ステージ
チャンバ２からステージ上部置き場１７に搬送し、その
後、リークバルブ３３により大気状態に戻すことができ
る。
は、リークバルブ３３と真空ポンプ３４が設けられ、減
圧調整可能となり、さらに、上下２段のウエーハ置き場
１５，１６とは別にステージ上部置き場１７が設けられ
ている。そして、真空ポンプ３４により、通常は、ステ
ージチャンバ２ａと同等の真空度に保たれ、ウエーハの
交換作業動作を行なうが、アース針６の交換や静電チャ
ックの吸着面の清掃等を行なう際には、ステージ上部
を、上述の第１の実施例と同様の動作手順で、ステージ
チャンバ２からステージ上部置き場１７に搬送し、その
後、リークバルブ３３により大気状態に戻すことができ
る。
【００４１】さらに、本例の試料交換用チャンバ１２ａ
には、外部取り出し用バルブ３２が設置されていて、こ
の外部取り出し用バルブ３２を通して試料交換用チャン
バ１２ａからステージ上部を取り出し、アース針６の交
換や静電チャック７の吸着面の異物除去が実施できる。
試料交換用チャンバ１２ａもステージチャンバに比べて
容積が小さいので、減圧雰囲気状態と大気雰囲気状態の
状態変更調整を短時間で行なうことができ、アース針６
の交換や静電チャックの吸着面の清掃等に伴う装置の停
止時間を短縮することができる。
には、外部取り出し用バルブ３２が設置されていて、こ
の外部取り出し用バルブ３２を通して試料交換用チャン
バ１２ａからステージ上部を取り出し、アース針６の交
換や静電チャック７の吸着面の異物除去が実施できる。
試料交換用チャンバ１２ａもステージチャンバに比べて
容積が小さいので、減圧雰囲気状態と大気雰囲気状態の
状態変更調整を短時間で行なうことができ、アース針６
の交換や静電チャックの吸着面の清掃等に伴う装置の停
止時間を短縮することができる。
【００４２】本例のステージチャンバ側搬送機構９ａと
しては、ステージ上部の搬送機構とウエーハ用の搬送機
構とは別の機構としても良いが、本例では、次の図９に
示すように、１つの搬送機構で、ウエーハとステージ上
部の搬送を兼用できる構造としている。図９は、図７に
おけるステージチャンバ側搬送機構の構成例を示す側断
面図である。
しては、ステージ上部の搬送機構とウエーハ用の搬送機
構とは別の機構としても良いが、本例では、次の図９に
示すように、１つの搬送機構で、ウエーハとステージ上
部の搬送を兼用できる構造としている。図９は、図７に
おけるステージチャンバ側搬送機構の構成例を示す側断
面図である。
【００４３】本図９に示す例のステージチャンバ側搬送
機構９ａは、第１の突起部９０ａ，９０ｂと、第２の突
起部９１ａ，９１ｂとを上下に配置したアーム９２を有
し、第１の突起部９０ａ，９０ｂにウエーハ１０の両縁
を載せ、第２の突起部９１ａ，９１ｂにステージ上部を
構成する静電チャック７の両縁を載せて搬送する。この
アーム９２を上下動することにより、ウエーハ１０とス
テージ上部のいずれかを選択して移動することができ
る。
機構９ａは、第１の突起部９０ａ，９０ｂと、第２の突
起部９１ａ，９１ｂとを上下に配置したアーム９２を有
し、第１の突起部９０ａ，９０ｂにウエーハ１０の両縁
を載せ、第２の突起部９１ａ，９１ｂにステージ上部を
構成する静電チャック７の両縁を載せて搬送する。この
アーム９２を上下動することにより、ウエーハ１０とス
テージ上部のいずれかを選択して移動することができ
る。
【００４４】以上、図１〜図９を用いて説明したよう
に、本例の電子ビーム描画装置では、静電チャック７、
アース針６、ウエーハ回転補正機構８など、Ｘ−Ｙステ
ージ上でウエーハ１０と直接接触する部分（ステージ上
部）を、Ｘ−Ｙステージ本体から分離可能（着脱自在）
な構造とし、このステージ上部を、ステージチャンバ２
から、新たに設けたステージ調整用チャンバ３０、また
は試料交換用チャンバ１２ａ等の、より容積が小さいチ
ャンバへ搬送可能な構造とする。
に、本例の電子ビーム描画装置では、静電チャック７、
アース針６、ウエーハ回転補正機構８など、Ｘ−Ｙステ
ージ上でウエーハ１０と直接接触する部分（ステージ上
部）を、Ｘ−Ｙステージ本体から分離可能（着脱自在）
な構造とし、このステージ上部を、ステージチャンバ２
から、新たに設けたステージ調整用チャンバ３０、また
は試料交換用チャンバ１２ａ等の、より容積が小さいチ
ャンバへ搬送可能な構造とする。
【００４５】これにより、ステージチャンバ２よりも減
圧調整が高速なチャンバを用いてステージ上部の搬出、
搬入ができ、従来のステージチャンバ２では半日以上必
要としていたアース針６の交換や静電チャック７面の異
物除去などの作業のために装置を停止していた時間を短
縮でき、装置の稼働率を向上させることができる。
圧調整が高速なチャンバを用いてステージ上部の搬出、
搬入ができ、従来のステージチャンバ２では半日以上必
要としていたアース針６の交換や静電チャック７面の異
物除去などの作業のために装置を停止していた時間を短
縮でき、装置の稼働率を向上させることができる。
【００４６】尚、本発明は、図１〜図９を用いて説明し
た実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲において種々変更可能である。例えば、図９に
おける搬送機構では、ウエーハ１０の搬送用と静電チャ
ック７の搬送用の２つの凸部を設けた構成としている
が、静電チャック７の切り込みをウエーハ１０のサイズ
と同等として、図中上部の第１の突起部９２ａ，９２ｂ
が不要となる構成とすることでも良い。
た実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲において種々変更可能である。例えば、図９に
おける搬送機構では、ウエーハ１０の搬送用と静電チャ
ック７の搬送用の２つの凸部を設けた構成としている
が、静電チャック７の切り込みをウエーハ１０のサイズ
と同等として、図中上部の第１の突起部９２ａ，９２ｂ
が不要となる構成とすることでも良い。
【００４７】また、本例では、アース針６と静電チャッ
ク７および回転補正機構８からなるステージ上部とＸ-
Ｙステージ（トップテーブル５）とを、静電吸着により
分離可能（着脱自在）に設けているが、他の機械的な構
造で分離可能とすることでも良い。
ク７および回転補正機構８からなるステージ上部とＸ-
Ｙステージ（トップテーブル５）とを、静電吸着により
分離可能（着脱自在）に設けているが、他の機械的な構
造で分離可能とすることでも良い。
【００４８】
【発明の効果】本発明によれば、試料を直接搬送する電
子ビーム描画装置においても、ステージチャンバを大気
状態にすることなく、すなわち装置の稼働率を低下させ
ることなくアース針の交換や試料吸着用の静電チャック
面の異物の除去を行なうことができるので、高度な描画
精度を維持しながら生産性の向上を図ることが可能であ
る。
子ビーム描画装置においても、ステージチャンバを大気
状態にすることなく、すなわち装置の稼働率を低下させ
ることなくアース針の交換や試料吸着用の静電チャック
面の異物の除去を行なうことができるので、高度な描画
精度を維持しながら生産性の向上を図ることが可能であ
る。
【図１】本発明の電子ビーム描画装置の本発明に係る構
成の第１の実施例を示す上断面図である。
成の第１の実施例を示す上断面図である。
【図２】図１における電子ビーム描画装置の側断面図で
ある。
ある。
【図３】図１における電子ビーム描画装置のウエーハの
交換動作に係わる第１の構成例を示す上断面図である。
交換動作に係わる第１の構成例を示す上断面図である。
【図４】図１における電子ビーム描画装置のウエーハの
交換動作に係わる第２の構成例を示す上断面図である。
交換動作に係わる第２の構成例を示す上断面図である。
【図５】図１における電子ビーム描画装置のステージ上
部の搬送動作に係わる構成例を示す側断面図である。
部の搬送動作に係わる構成例を示す側断面図である。
【図６】図１における電子ビーム描画装置のステージ上
部の搬送動作に係わる構成例を示す上断面図である。
部の搬送動作に係わる構成例を示す上断面図である。
【図７】本発明の電子ビーム描画装置の本発明に係る構
成の第２の実施例を示す上断面図である。
成の第２の実施例を示す上断面図である。
【図８】図７における電子ビーム描画装置の側断面図で
ある。
ある。
【図９】図７におけるステージチャンバ側搬送機構の構
成例を示す側断面図である。
成例を示す側断面図である。
【図１０】従来の電子ビーム描画装置の構成例を示す上
断面図である。
断面図である。
【図１１】図１０における電子ビーム描画装置の側断面
図である。
図である。
１：電子ビーム光学系、２，２ａ：ステージチャンバ、
３：駆動系、４：案内ガイド、５，５ａ：トップテーブ
ル、６：アース針、７：静電チャック、８：回転補正機
構、９，９ａ：ステージチャンバ側搬送機構、１０：ウ
エーハ、１１，１３：真空バルブ、１２，１２ａ：試料
交換用チャンバ、１４，１４ａ：エレベータ、１５，１
６：ウエーハ置き場、１７：ステージ上部置き場、１
８：パレット、２０：減圧チャンバ、２１：リークバル
ブ、２２：真空ポンプ、２３：搬送ロボット、２４：ウ
エーハ搬入口バルブ、２５：減圧室側搬送機構、２６：
ウエーハ、３０：ステージ調整用チャンバ、３１：真空
バルブ、３２：外部取り出しバルブ、３３：リークバル
ブ、３４：真空ポンプ、３５：ステージ上部搬送機構、
９０ａ，９０ｂ：第１の突起部、９１ａ，９１ｂ：第２
の突起部、９２アーム。
３：駆動系、４：案内ガイド、５，５ａ：トップテーブ
ル、６：アース針、７：静電チャック、８：回転補正機
構、９，９ａ：ステージチャンバ側搬送機構、１０：ウ
エーハ、１１，１３：真空バルブ、１２，１２ａ：試料
交換用チャンバ、１４，１４ａ：エレベータ、１５，１
６：ウエーハ置き場、１７：ステージ上部置き場、１
８：パレット、２０：減圧チャンバ、２１：リークバル
ブ、２２：真空ポンプ、２３：搬送ロボット、２４：ウ
エーハ搬入口バルブ、２５：減圧室側搬送機構、２６：
ウエーハ、３０：ステージ調整用チャンバ、３１：真空
バルブ、３２：外部取り出しバルブ、３３：リークバル
ブ、３４：真空ポンプ、３５：ステージ上部搬送機構、
９０ａ，９０ｂ：第１の突起部、９１ａ，９１ｂ：第２
の突起部、９２アーム。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 早田 康成 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (56)参考文献 特開 平８−115871（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−303092（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−284389（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 7/20
Claims (5)
- 【請求項１】 減圧雰囲気状態の第１の容器内で電子ビ
ームによる試料への描画を行なう電子ビーム描画装置で
あって、上記第１の容器と真空バルブで仕切られた上記
第１の容器に比して容積が小さく減圧調整可能な第２の
容器と、上記第１の容器内で上記試料を本体から分離可
能な部分に載せて上記電子ビームによる描画位置に移動
するＸ-Ｙステージと、該Ｘ-Ｙステージから上記分離可
能な部分を分離して該分離した部分を上記第１の容器か
ら減圧雰囲気状態の上記第２の容器に移動する搬送手段
とを有し、上記第２の容器から上記Ｘ-Ｙステージの上
記分離可能な部分を取り出すことを特徴とする電子ビー
ム描画装置。 - 【請求項２】 減圧雰囲気状態のステージチャンバ内で
電子ビームによる試料への描画を行なう電子ビーム描画
装置であって、減圧調整され描画対象の試料の搬入およ
び描画済み試料の搬出が行なわれる減圧チャンバと、減
圧雰囲気状態に保たれ、上記ステージチャンバ間ならび
に減圧雰囲気状態の上記減圧チャンバ間での上記描画対
象の試料および上記描画済み試料の入替えが行なわれる
試料交換用チャンバと、上記ステージチャンバと真空バ
ルブで仕切られた上記ステージチャンバに比して容積が
小さく減圧調整可能な調整用チャンバと、上記ステージ
チャンバ内で上記試料を本体から分離可能な部分に載せ
て上記電子ビームによる描画位置に移動するＸ-Ｙステ
ージと、該Ｘ-Ｙステージから上記分離可能な部分を分
離して該分離した部分を上記ステージチャンバから減圧
雰囲気状態の上記調整用チャンバに移動する搬送手段と
を有し、上記調整用チャンバから上記Ｘ-Ｙステージの
上記分離可能な部分を取り出すことを特徴とする電子ビ
ーム描画装置。 - 【請求項３】 減圧雰囲気状態のステージチャンバ内で
電子ビームによる試料への描画を行なう電子ビーム描画
装置であって、減圧調整され描画対象の試料の搬入およ
び描画済み試料の搬出が行なわれる減圧チャンバと、該
減圧チャンバと上記ステージチャンバならびに外部と真
空バルブで仕切られ減圧調整され、減圧雰囲気状態で上
記描画対象の試料および上記描画済み試料の上記減圧チ
ャンバ間ならびに上記ステージチャンバ間での入替えが
行なわれる上記ステージチャンバに比して容積が小さい
試料交換用チャンバと、上記ステージチャンバ内で上記
試料を本体から分離可能な部分に載せて上記電子ビーム
による描画位置に移動するＸ-Ｙステージと、該Ｘ-Ｙス
テージから分離された上記分離可能な部分もしくは上記
試料のいずれかを選択して上記ステージチャンバから減
圧雰囲気状態の上記試料交換用チャンバに移動する搬送
手段とを有し、上記試料交換用チャンバから上記Ｘ-Ｙ
ステージの上記分離可能な部分を取り出すことを特徴と
する電子ビーム描画装置。 - 【請求項４】 請求項３に記載の電子ビーム描画装置に
おいて、上記搬送手段は、移動対象の上記試料の対向す
る両縁を載せる第１の突起部と、移動対象の上記分離可
能な部分の対向する両縁を載せる第２の突起部とを上下
に配置したアームを有し、上記アームを上下に移動し
て、上記試料もしくは上記分離可能な部分のいずれかを
移動対象として選択することを特徴とする電子ビーム描
画装置。 - 【請求項５】 減圧雰囲気状態のチャンバに試料を単体
で搬入し、Ｘ-Ｙステージで位置合わせして電子ビーム
による描画を行なう電子ビーム描画装置であって、上記
Ｘ-Ｙステージの、上記試料を上記Ｘ-Ｙステージに吸着
するための静電チャックと該静電チャックに吸着した上
記試料に接触して該試料を等電位に保つためのアース針
とを、Ｘ-Ｙステージ本体から分離可能なステージ上部
に取り付け、上記試料単体での搬送ならびに上記ステー
ジ上部単位での搬送を行なうことを特徴とする電子ビー
ム描画装置。
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