JPS63115011A - 変位測定装置 - Google Patents

変位測定装置

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JPS63115011A
JPS63115011A JP25993786A JP25993786A JPS63115011A JP S63115011 A JPS63115011 A JP S63115011A JP 25993786 A JP25993786 A JP 25993786A JP 25993786 A JP25993786 A JP 25993786A JP S63115011 A JPS63115011 A JP S63115011A
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JP
Japan
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interference
signals
displacement
signal
interference signals
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Pending
Application number
JP25993786A
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English (en)
Inventor
Susumu Kozuki
上月 進
Tetsuji Nishimura
西村 哲治
Akira Ishizuka
公 石塚
Masaaki Tsukiji
築地 正彰
Tsutomu Sato
力 佐藤
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は被測定物体の回転状態や移動状態等の変位を測
定する変位測定装置に関し、特に被測定物体に連絡した
チャート板上に設けた周期的若しくは所定模様の回折格
子に可干渉性の光束を入射させ、該回折格子から生ずる
回折光を互いに干渉させて干渉縞を形成し、この干渉縞
の明暗を計数することにより被測定物体の変位を求める
変位測定装置に関するものである。
(従来の技術) 従来より産業用工作機械における移動物体の移動量検出
やロボットアームの回転、移動1位置等の検出や回転機
構の回転量1回転速度等の検出を行う為の変位測定装置
として充電的なロータリーエンコーダーやりニアエンコ
ーダーが多く利用されている。
このうち被測定物体に回折格子を設け、該回折格子より
生ずる回折光を利用して、被測定物体の移動量や回転量
等の変位量を求める回折方式の変位測定装置が種々と提
案されている。この変位測定装置は高精度な測定が比較
的容易である為、特にNC工作機械や半導体焼付装置等
の7に密機械用に多く用いられている。
この回折方式の変位測定装置においては回折格子から生
ずる回折光を互いに干渉させて干渉縞を形成し、この干
渉縞の明暗を受光手段により計数して変位に関する干渉
信号を得ている。
従って光源の出力が温度変化等の環境変化によって変動
したり、回折格子の透過率(反射回折格子の場合は反射
率)が−様でなかったり、振幅型の回折格子を用いた場
合に透過部若しくは反射部の線幅の太さが均一でなかっ
たりすると受光手段からの干渉縞に関する出力値Eが例
えば第6図(A)に示すように不安定な波形となって出
力されてくる。
特に回折格子は製作時のエツチングむらが生じやすく、
測定領域全域での線幅(位相型回折格子のときは段差等
の形状)の不均一を改善することが大変難しく、この傾
向が特に顕著に現われてくる。
以上のような原因により受光手段からの出力値が第6図
(A)に示す如く変動し、後段の計数回路における比較
器のスライスレベル以下となったときは出力波形を精度
良く計数することができなくなってくる。又たとえスラ
イスレベル以上の出力値があっても振幅の中心レベルが
不安定な為、同図(B)に示す如く比較器の出力の“H
”レベルと“L”レベルの幅が不安定になってくる。
このス)後段の電気回路における電気分割が困難となり
、高精度で、かつ高い分解能で変位測定をするのが大変
難しくなってくる。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明は光源の出力変動や回折格子の製作上の誤差によ
り回折効率が変動しても回折光を互いに干渉させて形成
した干渉縞の明暗を受光手段で計数する際、受光手段か
らの出力値が一定となるようにし、常に高精度な変位測
定が可能な回折方式の変位測定装置の提供を目的とする
(問題点を解決する為の手段) 被測定物体に連結した回折格子から生ずる回折光を互い
に干渉させて、干渉縞を形成し、該干渉縞の明暗に対応
した干渉信号を前記被測定物体の変位に関する信号とし
て抽出する変位測定装置において、前記干渉信号を抽出
する際、光学手段により互いに120度以下の位相差を
付与した少なくとも3つの干渉信号として抽出し、この
少なくとも3つの干渉信号を利用して、該干渉信号に含
まれる誤差信号を補正したことである。
(実施例) 第1図は本発明をリニアエンコーダーに適用したときの
一実施例の光学系の概略図である。同図において1は半
導体レーザー等の可干渉性の光束を放射する単色の光源
、2は矢印21方向に移動している不図示の被測定物体
に連絡している回折格子、31.32はコーナーキュー
ブ、41゜42は%波長板、5は非偏光のビームスプリ
ッタ−161,62,63は偏光板で互いに120度の
位相差を付与するように構成している。71゜72.7
3は受光素子である。
光源1からの光束は回折格子2によって回折される。こ
のとき正と負の次数の回折光は各々コーナーキューブ3
1.32で反射され、A波長板41.42を介して再度
、回折格子2に入射する。ここで再び回折された正と負
の回折光は重ね合わされ、ビームスプリッタ−5に入射
し、ハーフミラ−而51で反射光束と透過光束の2つの
光束に分割される。このうち透過光束は偏光板61を通
過し受光素子71に入射する。一方ハーフミラー51か
らの反射光束はハーフミラ−52で再び反射光束と透過
光束に分割され、このうち反射光束は偏光板62を通過
し受光素子72に入射する。そしてハーフミラ−52を
通過した透過光束は反射面53で反射され偏光板63を
介し受光素子73に入射する。このとき受光素子71゜
72.73で受光される光束は互いに干渉した干渉縞の
明暗の強度に相当するものとなり、受光素子71,72
.73は干渉信号El 、E2.E3を出力する。
即ち回折格子2のピッチをP、正と負の回折光の次数な
mとすれば受光素子71,72.73は回折格子2の移
動量P / 4 m毎に1個の正弦波形の信号を出力す
る。
第2図(八)〜(C)は第1図の実施例における受光素
子71〜73から得られる干渉信号E1〜E3の説明図
である。本実施例では偏光板61〜63を各々の偏光方
位を互いに60度ずつ異なるように配置し、各偏光板6
1〜63を通過する光束間に120度の位相差を付与し
ている。この為受光素子71〜73から得られる干渉信
号El −E3は各々 θ度、120度、240度の位
相差を有している。
又各党光素子71〜73から得られる干渉信号El−E
3には光源1の出力変動や回折格子の製造誤差による回
折効率の違いによフて生ずる誤差信号が重畳され、干渉
信号は振幅の揃った正弦波形とならず、同図の点線で示
すように振幅方向にうねりが存在したものとなっている
このときのうねりの位相は同図に示すように各受光素子
71〜73間で一致している。本実施例はこの性質を利
用して互いに位相差が120度異l63つの干渉信号、
El、E2.E3を用いて、このときの誤差信号に基づ
くうねりを補正し、振幅が一定となるような正弦波形を
得ている。
第3図はこのときの信号処理を示す電気回路のブロック
図である。同図では120度位相が異なる受光素子71
,72.73からの干渉信号El。
E2 、E3を加算器81.で加算し、加算信号E12
3=El +E2 +E3を得ている。このときの加算
信号E123は第4図(A)に示すようにAC成分が除
去され、第2図の点線で示すうねりの振幅に相当する信
号のみとなる。
そこでこの加算信号E123を用いて振幅が不均一の干
渉信号Elを除算器83で割り、補正信号El =E1
 /E123を求めている。
このときの補正信号Elは第4図(B)に示すように振
幅が一定の正弦波形を有している。本実施例ではこの補
正信号百1を後段の計数回路86に入力して干渉縞の明
暗の計数を行っている。
又受光素子72.73からの干渉信号E2゜E3につい
ても同様に除算器84.85で補正信号百2 =E2 
/E123 、補正信号E34E37E123を求めて
いる。このときの補正信号E2゜百3は補正信号Elと
位相は異なるが第4図(B)と同様な一定の振幅を有し
た正弦波形となっている。
本実施例ではこのときの3つの補正信号百l。
百2.百3を用いて被測定物の変位及び変位方向を求め
ている。
このように本実施例ではうねりを含んだ干渉信号をうね
りの出力値そのものでレベル制御し、振幅レベルを一定
にした正弦波形の干渉信号を得、このときの正弦波形を
一定のスライスレベルで処理し、パルス信号を得て、こ
のパルス信号の位相差及び数を求めることにより被測定
物体の変位状態を求めている。
又本実施例では除算器83〜85から得られる振幅が一
定で、位相が互いに120度異l63つの補正信号El
、E2.E3を各々反転回路87゜88.89に人力し
て第5図に示すような逆相の信号El’、 E2’、 
E3’を得ている。これにより全体として6相の補正信
号を得てこれらの信号を計数回路86に人力し、干渉縞
の明暗の位相差及び数を求めることによって被測定物体
の変位状態を更に高精度に測定することを可能にしてい
る。
例え′ばこれらの各信号を比較器により一定のスライス
レベルでレベル制御し、デユーティの揃ったパルス信号
を得て、このパルス信号の位相差及び数を求めることに
より被測定物体の変動量及び変位方向を測定している。
(発明の効果) 以上のように本発明によれば互いに120度の位相差を
打する3つの干渉信号を利用することにより、光源の出
力変動や回折格子の回折効率の変動等があっても、干渉
縞の明暗を計数する際の干渉信号が不安定にならず一定
とすることができる為、常に高精度な測定が可能の変位
測定装置を達成することができる。
又本発明では干渉信号に基づく3つの補正信号の極性を
反転させた3つの信号の全体として6つの信号を利用す
ることにより更に高7〃度な変位測定を可能とした変位
測定装置を達成している。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実hh例の光学系の概略図、第2図
は第1図の各受光素子からの出力信号の説明図、第3図
は第1図の各受光素子からの出力信号の処理を示す電気
回路のブロック図、第4図は第3図のブロック図から得
られる出力信号の説明図、第5図は本発明に係る補正信
号を反転させた信号の説明図、第6図は従来の変位測定
装置から得られる出力信号の説明図である。 図中1は光源、2は回折格子、31.32はコーナーキ
ューブ、41.42はイ波長板、5はビームスプリッタ
−161,62,63は偏光板、71,72.73は受
光素子、81は加算器、83,84.85は除算器、8
6は計数回路である。 特許出願人  キャノン株式会社 夷  3  図 交に 男  5  図 第  4  図 兆  6  記

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被測定物体に連結した回折格子から生ずる回折光
    を互いに干渉させて、干渉縞を形成し、該干渉縞の明暗
    に対応した干渉信号を前記被測定物体の変位に関する信
    号として抽出する変位測定装置において、前記干渉信号
    を抽出する際、光学手段により互いに120度以下の位
    相差を付与した少なくとも3つの干渉信号として抽出し
    、この少なくとも3つの干渉信号を利用して、該干渉信
    号に含まれる誤差信号を補正したことを特徴とする変位
    測定装置。
  2. (2)前記3つの干渉信号を分割し全体として6つの干
    渉信号を利用したことを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の変位測定装置。
JP25993786A 1986-10-31 1986-10-31 変位測定装置 Pending JPS63115011A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05119284A (ja) * 1990-10-18 1993-05-18 Dr Johannes Heidenhain Gmbh 偏光装置
JP2007292735A (ja) * 2006-03-21 2007-11-08 Asml Netherlands Bv 変位測定システム、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
CN102445152A (zh) * 2011-09-16 2012-05-09 浙江师范大学 纳米位移测量传感器
CN106931887A (zh) * 2015-12-30 2017-07-07 上海微电子装备有限公司 双频光栅测量装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5999220A (ja) * 1982-11-29 1984-06-07 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 光電式のエンコ−ダ
JPS6097215A (ja) * 1983-11-01 1985-05-31 Canon Inc 測長装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5999220A (ja) * 1982-11-29 1984-06-07 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 光電式のエンコ−ダ
JPS6097215A (ja) * 1983-11-01 1985-05-31 Canon Inc 測長装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05119284A (ja) * 1990-10-18 1993-05-18 Dr Johannes Heidenhain Gmbh 偏光装置
JP2007292735A (ja) * 2006-03-21 2007-11-08 Asml Netherlands Bv 変位測定システム、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
US8390820B2 (en) 2006-03-21 2013-03-05 Asml Netherlands B.V. Displacement measurement system having a prism, for displacement measurement between two or more gratings
CN102445152A (zh) * 2011-09-16 2012-05-09 浙江师范大学 纳米位移测量传感器
CN106931887A (zh) * 2015-12-30 2017-07-07 上海微电子装备有限公司 双频光栅测量装置
CN106931887B (zh) * 2015-12-30 2019-11-26 上海微电子装备(集团)股份有限公司 双频光栅测量装置

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