JPS63102231U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63102231U JPS63102231U JP19747586U JP19747586U JPS63102231U JP S63102231 U JPS63102231 U JP S63102231U JP 19747586 U JP19747586 U JP 19747586U JP 19747586 U JP19747586 U JP 19747586U JP S63102231 U JPS63102231 U JP S63102231U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- tank
- cleaning tank
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- angle
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- Pending
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 2
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
第１図はこの考案の一実施例による半導体ウエ
ハ洗浄槽の斜視図、第２図はこの考案の洗浄槽を
用いた洗浄装置の概略図、第３図および第４図は
従来の洗浄装置を説明するための概略図である。 １……洗浄槽、２……給水口、４……バルブ、
６……溢流縁。
ハ洗浄槽の斜視図、第２図はこの考案の洗浄槽を
用いた洗浄装置の概略図、第３図および第４図は
従来の洗浄装置を説明するための概略図である。 １……洗浄槽、２……給水口、４……バルブ、
６……溢流縁。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 半導体ウエハの洗浄装置における洗浄槽におい
て、 洗浄槽の洗浄液が溢れ出る開口縁に外方へ９０
°以上の角度を有する溢流縁を形成した、 ことを特徴とする半導体ウエハの洗浄槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19747586U JPS63102231U (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19747586U JPS63102231U (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63102231U true JPS63102231U (ja) | 1988-07-02 |
Family
ID=31157248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19747586U Pending JPS63102231U (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63102231U (ja) |
-
1986
- 1986-12-24 JP JP19747586U patent/JPS63102231U/ja active Pending