JPS6292112A - 磁気デイスク - Google Patents

磁気デイスク

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Publication number
JPS6292112A
JPS6292112A JP23172985A JP23172985A JPS6292112A JP S6292112 A JPS6292112 A JP S6292112A JP 23172985 A JP23172985 A JP 23172985A JP 23172985 A JP23172985 A JP 23172985A JP S6292112 A JPS6292112 A JP S6292112A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
magnetic
metal oxide
plating
oxide layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP23172985A
Other languages
English (en)
Inventor
Michio Kugue
久々江 道雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokico Ltd
Original Assignee
Tokico Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokico Ltd filed Critical Tokico Ltd
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Publication of JPS6292112A publication Critical patent/JPS6292112A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、固定磁気ディスク装置に使われる磁気ディ
スクに係わり、耐久性、耐食性に優れた磁性薄膜ディス
クに関する。
(従来技術とその問題点〕 近時、磁性メッキディスクにあっては、その記録媒体で
ある磁性メッキ層の磁気ヘッドによる摩耗を軽減するた
めに、磁性メッキ層上にカーボンをスパッタして保護層
としたものが提案されている。
このものは、磁気ヘッドによる磁性メッキ層の摩損に対
しては大きく改善されるものの、高価なスパッタ装置を
必要とし、製造コストが嵩み、実用性に乏しいという問
題点があった。
〔問題点を解決するための手段] そこで、この発明にあっては、磁性層上に金属酸化物層
を形成し、これを保IIIとすることにより、磁性層を
保護し、耐久性、耐食性を向上せしめるとともに安価に
製造することができるようにした。
(実施例〕 図面は、この発明の磁気ディスクの一例を示すもので、
図中符号1は基板である。この基板1は、アルミニウム
合金板やセラミックス板あるいは合成樹脂板などからな
り、その表面のうねりが小さいJ:うに加工されている
。この基板1上には下地層2が形成されてる。この下地
層2は基板1表面の微細な凹凸を平滑化するためのもの
で、例えば無電解メッキ法による厚み10〜30μ’I
nのNi−Pメッキ膜や、基板1がアルミニウム合金の
場合には陽極酸化法による厚み5〜20μm陽極酸化膜
が設けられ、その表面は表面粗さくRmax)0.1μ
m程度にまで仕上げられている。この下地層2上には磁
性層3が設けられている。この磁性層3は、磁気記録媒
体となるもので、例えば無電解メッキ法によるCo−N
 r−pメッキ、C。
−Pメッキなどのメッキ薄膜ヤスバッタ法、蒸着法など
による酸化鉄薄膜等の磁性薄膜などが、その目的に応じ
て厚み0.05〜0.5μm程度に形成されてなるもの
である。そして、この磁性層3上に金属酸化物層4が形
成されている。この金属酸化物層4は、磁性層3を磁気
ヘッドによる摩損から保護する保護膜として機能するも
のであって、酸化コバルト、酸化ニッケル、酸化鉄など
の酸化物からなり、その厚みが0.01〜0.1μm程
度のものである。この金属酸化物層4は、例えば磁性層
3がCo−N1−Pメッキやco−pメッキなどからな
る場合には、これを圧力2〜10 K9 / CIi程
度の加圧水蒸気中や高温沸騰水中に5分〜1時間放置す
ることにより、磁性メッキ層の表面を酸化することによ
って形成される。また、酸素富化気体中で加熱して、酸
化する方法によってもよい。その他、高周波スパッタや
反応性スパッタによって磁性層3上に金属酸化物層4を
形成してもよいがやや製造コストが嵩む不利がある。
また、この金属酸化物層4は、ピンホールヤノジュール
などの欠陥がなく、均質に形成されていることが必要で
ある。
また、この金属酸化物層4は、磁性層3の直−トに必ず
しも形成する必要はなく、磁性層3上に銅。
鉛などの金属よりなる層を、電解メッキ、無電解メッキ
、蒸着などの手段により設け、これを高圧水蒸気雰囲気
中や高温酸素富化ガス雰囲気中に置いてその表面を酸化
し、非磁性金属よりなる層の上に形成することもできる
このような金属酸化物層4上には、潤滑層5が必要に応
じて設けられる。潤滑層5は、例えばポリフッ化エーテ
ルなどの潤滑剤を0.01μm程度の厚さにスピンコー
ド法などにより塗布することによって形成される。
〔作 用〕
このような磁気ディスクにあっては、硬度の高い金属酸
化物層4によって磁性層3が被覆され、かつ金属酸化物
層4と磁性層3との密着性も良好であるので、磁気ヘッ
ドの摺接による磁性層3の摩耗がほとんど生じず、優れ
た耐久性が得られる。
また、金3酸化物層4が磁性層3の外側に来るので、耐
食性が向上し、かつ電磁特性に悪影響を与えることがな
い。さらに、金属酸化物層4の形成に高圧水蒸気曝露な
どの方法が採れるので、製造コストもわずかで済む。
〔実験例〕
次の仕様の磁気ディスクを試作し、そのC8S性、耐食
性を検討した。
基 板ニアルミニウム合金板、厚み1.9#下地層:無
電解N1−Pメッキ、厚み20μm面粗さくRlaX 
)  o、1am以下に研磨仕上げ 磁性層:無電解Co−Pメッキ、厚み0.1μmこのデ
ィスクを圧力4 K9 / cIIiの加圧水蒸気中に
25分間置き、ついで純水で洗浄し、乾燥して磁性層の
表面を酸化し、酸化コバルトよりなる厚さ約200nm
の金属酸化物層を形成した。ついで、この金属酸化物層
上に潤滑層としてパーフロロポリエーテルを0,01μ
TrL塗布した。
かくして得られた磁気ディスクを4X10’回のC8S
テストに供した結果、電磁変換特性などに変化は認めら
れず、摩耗粉の発生やヘッドクラッシュの発生も見られ
なかった。
また、この磁気ディスクを80℃、80%RHの雰囲気
下で1週間放置し、耐食性を検問した結果、表面欠陥の
発生は認められず、また電磁変換特性にも何ら変化は認
められなかった。
よって、この磁気ディスクは優れた耐久性、耐食性を有
し、高信頼性、高品質性であることが確められた。
(発明の効果〕 以上説明したように、この発明の磁気ディスクは、磁性
層上に金属酸化物層を形成してなるものであるので、 (イ)金属酸化物層によって磁性層が被覆され、保護さ
れるので、磁気ヘッドの摺接による磁性層の摩損がなく
なり、優れた耐久性を示し、(ロ)金属酸化物により表
面被覆されることになるので、磁気ディスクとしての耐
食性も向上し、(ハ)金属酸化物層の形成が高圧水蒸気
曝露などの方法によることができるので製造コストが嵩
むこともないなどの利点を有するものとなる。
【図面の簡単な説明】
図面は、この発明の磁気ディスクの一例を示す概略断面
図である。 3・・・・・・磁性層、4・・・・・・金属酸化物層。 −′・−I41!

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)磁性層上に金属酸化物層が設けられてなる磁気デ
    ィスク。
  2. (2)上記金属酸化物層が高温沸騰水または高圧水蒸気
    により形成されたものである特許請求の範囲第1項記載
    の磁気ディスク。
JP23172985A 1985-10-17 1985-10-17 磁気デイスク Pending JPS6292112A (ja)

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JP23172985A JPS6292112A (ja) 1985-10-17 1985-10-17 磁気デイスク

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JP23172985A JPS6292112A (ja) 1985-10-17 1985-10-17 磁気デイスク

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JPS6292112A true JPS6292112A (ja) 1987-04-27

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JP23172985A Pending JPS6292112A (ja) 1985-10-17 1985-10-17 磁気デイスク

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5030042A (en) * 1989-07-04 1991-07-09 Fuji Seiko Limited Machining apparatus having means for changing radial position of cutting tools

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5629837A (en) * 1979-08-10 1981-03-25 Tdk Corp Magnetic recording medium and its manufacture
JPS58222444A (ja) * 1982-06-18 1983-12-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気記録媒体
JPS60121521A (ja) * 1983-12-02 1985-06-29 Hitachi Maxell Ltd 磁気記録媒体

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