JPS58222444A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS58222444A JPS58222444A JP57105971A JP10597182A JPS58222444A JP S58222444 A JPS58222444 A JP S58222444A JP 57105971 A JP57105971 A JP 57105971A JP 10597182 A JP10597182 A JP 10597182A JP S58222444 A JPS58222444 A JP S58222444A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- layer
- recording medium
- magnetic recording
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属薄膜型の磁気記録媒体の耐摩耗性および
耐酸化性の改良に関するものである。
耐酸化性の改良に関するものである。
従来より磁気記録媒体の高密−記録は、磁気記録分野の
重大なテーマであり、高密度記録化への材料研究や製法
開発の発表が多くなされている。
重大なテーマであり、高密度記録化への材料研究や製法
開発の発表が多くなされている。
一般的に磁気記録媒体の記録密度を上げようとするとき
には、抗磁力Ｈａを大きくし、最大磁束密度Ｂ８と残留
磁束密度Ｂｒの比、いわゆる角形比を１．０に近づける
ことが必要とされる。また磁性層は反磁場などを考えた
場合極力薄い方が高密度記録に有利であることが知られ
ている。
には、抗磁力Ｈａを大きくし、最大磁束密度Ｂ８と残留
磁束密度Ｂｒの比、いわゆる角形比を１．０に近づける
ことが必要とされる。また磁性層は反磁場などを考えた
場合極力薄い方が高密度記録に有利であることが知られ
ている。
塗布型磁気記録媒体の高密度記録化へのアプローチとし
ては、高抗磁力、高角形比、超微粒子磁性体の使用など
で対応をしている。しかし塗布型にあっては、磁性層の
形成にあたり磁性体を固定するだめのバインダーを使用
するため、磁性層中の磁性体含有率が、体積比で３０〜
４０％程度しかなく、厚みも数ミクロン程度の厚いもの
になってし捷うなどの問題がある。
ては、高抗磁力、高角形比、超微粒子磁性体の使用など
で対応をしている。しかし塗布型にあっては、磁性層の
形成にあたり磁性体を固定するだめのバインダーを使用
するため、磁性層中の磁性体含有率が、体積比で３０〜
４０％程度しかなく、厚みも数ミクロン程度の厚いもの
になってし捷うなどの問題がある。
一方前述した高密度記録媒体に有利であることが知られ
ている薄い磁性層として後述する各種の方法による金属
薄膜がある。この金属薄膜は磁性層が１００％磁性体で
あり、しかも、数１０オングストローム八から数千オン
グストローム人までの極めて薄い薄膜を作ることが可能
である０さらに命属薄膜は最大磁束密度ＢｓもＴタイプ
塗布型に比べて約１０倍と高く、抗磁力や角形比も、薄
膜作成条件により抗磁力１００００ｅ以上、角形比で０
．９以上という値も十分可能であることが知られている
。
ている薄い磁性層として後述する各種の方法による金属
薄膜がある。この金属薄膜は磁性層が１００％磁性体で
あり、しかも、数１０オングストローム八から数千オン
グストローム人までの極めて薄い薄膜を作ることが可能
である０さらに命属薄膜は最大磁束密度ＢｓもＴタイプ
塗布型に比べて約１０倍と高く、抗磁力や角形比も、薄
膜作成条件により抗磁力１００００ｅ以上、角形比で０
．９以上という値も十分可能であることが知られている
。
しかしながら金属薄膜型磁気記録媒体は、磁性層が１０
０％金属であるため、表面を未処理のま１大気中や高温
、高湿状態に長期間露出すると、金属酸化々どによるさ
びが発生し、また磁気ヘッドとの摩擦力の変化などによ
る表面摩耗によるキズが発生する欠点をもっている、一
般的に金属薄膜は、メッキ法、真空蒸着法、イオンプレ
イティング法、スパッタ法などの方法により作成するこ
とができるが、磁性面のさび、耐摩耗性などは、薄膜作
成方法による優劣は少なく、本質的に薄膜形成に用いる
材料によって央するものである。
０％金属であるため、表面を未処理のま１大気中や高温
、高湿状態に長期間露出すると、金属酸化々どによるさ
びが発生し、また磁気ヘッドとの摩擦力の変化などによ
る表面摩耗によるキズが発生する欠点をもっている、一
般的に金属薄膜は、メッキ法、真空蒸着法、イオンプレ
イティング法、スパッタ法などの方法により作成するこ
とができるが、磁性面のさび、耐摩耗性などは、薄膜作
成方法による優劣は少なく、本質的に薄膜形成に用いる
材料によって央するものである。
ここで材料的にみた場合、磁性層を作成する目的に合成
した、鉄（Ｆｅ）、コバルト（ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ
）、などの磁性材料を７″１体に、適当な添加物を混入
して合金とすることで、耐酸化性、耐摩耗性ともかなり
改良されるが、磁気記録媒体とじての必要な特性を得る
ためには、合金成分も制限されるところであり、十分な
磁気特性と十分なｍｌ酸化性、耐摩耗性をあわせて有す
る金属薄膜型磁気記録媒体は従来知られていなかった。
した、鉄（Ｆｅ）、コバルト（ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ
）、などの磁性材料を７″１体に、適当な添加物を混入
して合金とすることで、耐酸化性、耐摩耗性ともかなり
改良されるが、磁気記録媒体とじての必要な特性を得る
ためには、合金成分も制限されるところであり、十分な
磁気特性と十分なｍｌ酸化性、耐摩耗性をあわせて有す
る金属薄膜型磁気記録媒体は従来知られていなかった。
本発明は、これら従来の技術に鑑み十分な磁気特性を有
した金属ｉ模型の磁気記録媒体の表面に、極めて薄い保
護層を形成したことを特徴とするもので、金属薄膜の酸
化防止と耐摩耗性を向上させたものである。以下本発明
の一実施例を図面に示して説明する。
した金属ｉ模型の磁気記録媒体の表面に、極めて薄い保
護層を形成したことを特徴とするもので、金属薄膜の酸
化防止と耐摩耗性を向上させたものである。以下本発明
の一実施例を図面に示して説明する。
第１図に連続式真空蒸着法による製造装置を示す。真空
排気装置１３により１０−’Ｔｏｒｒ以下の条件下にあ
る真空槽１内に、巻取２巻出し用の軸２と軸３があり、
軸の下部に蒸着用キャン６が設けられている。蒸着基板
である高分子基板４は本実施例では１０μｍのポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）を用い、この高分子基板
４は、巻出し軸２からキャン６に働着して、巻取ＩＰＩ
ＩＪ３に経っている。蒸発源１ｏはキャン６の下部の耐
火レンガ１１−に入れられていて、加熱源１２により加
熱蒸発する。蒸発原子６は、下部仕切板８の間からキャ
ン６上に接した高分子基板４に向って飛散し、この基板
上に蒸着による薄膜層を形成する。９は蒸発原子が、巻
取２巻出し軸方向へ飛散するのを防止するための仕切板
である。
排気装置１３により１０−’Ｔｏｒｒ以下の条件下にあ
る真空槽１内に、巻取２巻出し用の軸２と軸３があり、
軸の下部に蒸着用キャン６が設けられている。蒸着基板
である高分子基板４は本実施例では１０μｍのポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）を用い、この高分子基板
４は、巻出し軸２からキャン６に働着して、巻取ＩＰＩ
ＩＪ３に経っている。蒸発源１ｏはキャン６の下部の耐
火レンガ１１−に入れられていて、加熱源１２により加
熱蒸発する。蒸発原子６は、下部仕切板８の間からキャ
ン６上に接した高分子基板４に向って飛散し、この基板
上に蒸着による薄膜層を形成する。９は蒸発原子が、巻
取２巻出し軸方向へ飛散するのを防止するための仕切板
である。
このような真空蒸着装置において、最初に蒸発源１０を
コバルトＣｏ、＝ｙケルＮｉの８０：２０の合金とし、
これを加熱蒸発して、第３図に示す如く高分子基板４上
に約１０００Ａの金属薄膜１４を蒸着形成した後、蒸発
源をアルミニウムＡｌに交換して、−Ｅ記コバルト・ニ
ッケル合金と同一の方法で約１００〜２００人蒸着する
っこのＡｌ蒸着の場合には仕切板８の上に設けた酸素ノ
ズル７から酸素を３．０１７ｍ１ｎ供給した。
コバルトＣｏ、＝ｙケルＮｉの８０：２０の合金とし、
これを加熱蒸発して、第３図に示す如く高分子基板４上
に約１０００Ａの金属薄膜１４を蒸着形成した後、蒸発
源をアルミニウムＡｌに交換して、−Ｅ記コバルト・ニ
ッケル合金と同一の方法で約１００〜２００人蒸着する
っこのＡｌ蒸着の場合には仕切板８の上に設けた酸素ノ
ズル７から酸素を３．０１７ｍ１ｎ供給した。
ここで酸素供給量は第２図に示す如く、高分子基板走行
速度２００ ｍ／ｍｉｎ で膜厚１００〜２００人の
場合、酸素供給量に対応してＡＩの酸化が進み約３ 、
ｄ／ｍｉｎ以上では、Ａ１層はほとんど透明の酸化物と
なる。本実施例で３．０ ｌ／ｍｉｎ としたのは１
〜２１／ｍｉｎ では、Ａｄ層が黄もしくは黄金色とな
り、ＣＯ・Ｎｉ 合金の金属光沢が失われるためであっ
て、特に酸素供給量が３．０ ｄ／ｍｉｎ に限定さ
れるものではない。なお第３図には基板４にＣＯ・キャ
ン６の下部に磁性材用蒸発源１６と保護層用蒸着材１７
を同時に配置した装置の要部である。
速度２００ ｍ／ｍｉｎ で膜厚１００〜２００人の
場合、酸素供給量に対応してＡＩの酸化が進み約３ 、
ｄ／ｍｉｎ以上では、Ａ１層はほとんど透明の酸化物と
なる。本実施例で３．０ ｌ／ｍｉｎ としたのは１
〜２１／ｍｉｎ では、Ａｄ層が黄もしくは黄金色とな
り、ＣＯ・Ｎｉ 合金の金属光沢が失われるためであっ
て、特に酸素供給量が３．０ ｄ／ｍｉｎ に限定さ
れるものではない。なお第３図には基板４にＣＯ・キャ
ン６の下部に磁性材用蒸発源１６と保護層用蒸着材１７
を同時に配置した装置の要部である。
磁性材用蒸発源１６には、Ｆｅ 、 Ｃｏ 、 Ｎｉ
、 Ｏｒを単一もしくは合金として使用した。ｉ！た保
護層用蒸着材１７にはＡ５．Ｃｕ、Ｆｅ等を使用した。
、 Ｏｒを単一もしくは合金として使用した。ｉ！た保
護層用蒸着材１７にはＡ５．Ｃｕ、Ｆｅ等を使用した。
なお１８は磁性材の蒸発７ｉ１’１６ ａと保護層用の
蒸発原子１７＆が交らないようにした遮へい板である。
蒸発原子１７＆が交らないようにした遮へい板である。
本高分子基板４に、最初に磁性層を蒸着しひき続いて保
護層を蒸着した。保護層は第１図と同様に酸素ノズル２
ｏから酸素を２ ｌ／ｍｉｎ供給して、金属酸化物とし
た。
護層を蒸着した。保護層は第１図と同様に酸素ノズル２
ｏから酸素を２ ｌ／ｍｉｎ供給して、金属酸化物とし
た。
と−の様にして得られた金属酸化物の保護層を有する金
属簿膜型磁気１記録媒体を、保護層がない金属薄膜型磁
気記録媒体と比較した結果を第１表に示す。
属簿膜型磁気１記録媒体を、保護層がない金属薄膜型磁
気記録媒体と比較した結果を第１表に示す。
第１表二 酸化試験
第１表に示す如く金属酸化物による保護層を形成するこ
とによりさびの発生を著しく低減できた０また金属酸化
物保護層によ′□１名耐摩耗性を見るため、本実施例に
より作成した保護層の有るものと保護層めないものの金
属薄膜型磁気記録媒体を３．８１Ｍ巾に切断した後、コ
ンパクトカセット仕様でカセットハーフに巻込み、カセ
ットデツキにて、保護層の有、無における傷の発生を調
査するため、各々１００バス走行した。この場合の保護
層にはＡＩの酸化物を用いた。
とによりさびの発生を著しく低減できた０また金属酸化
物保護層によ′□１名耐摩耗性を見るため、本実施例に
より作成した保護層の有るものと保護層めないものの金
属薄膜型磁気記録媒体を３．８１Ｍ巾に切断した後、コ
ンパクトカセット仕様でカセットハーフに巻込み、カセ
ットデツキにて、保護層の有、無における傷の発生を調
査するため、各々１００バス走行した。この場合の保護
層にはＡＩの酸化物を用いた。
第２表： 耐摩耗性試験
顕微鏡により表面観察を行なったところ、保護層無の磁
性層の表面には無数の走行による傷が確認できたが、保
護層有の磁性層の表面は傷が極めて少なかった。これら
のことによシ磁性層表面に、金属酸化物の保護層を形成
することにより、金属薄膜型磁気記録媒体における、耐
酸化性、 ＩｔＩ摩粍性が大きく改良で１：光。すなわ
ち、 （プ 磁性層の表面に金属酸化保護層を形成することに
より金属薄膜型磁気記録媒体の実用性が向上した。
性層の表面には無数の走行による傷が確認できたが、保
護層有の磁性層の表面は傷が極めて少なかった。これら
のことによシ磁性層表面に、金属酸化物の保護層を形成
することにより、金属薄膜型磁気記録媒体における、耐
酸化性、 ＩｔＩ摩粍性が大きく改良で１：光。すなわ
ち、 （プ 磁性層の表面に金属酸化保護層を形成することに
より金属薄膜型磁気記録媒体の実用性が向上した。
（イ）蒸着法、イオンプレイティング、スパッタ法など
では同一装置で金属酸化物保護層の形成が可能であり、
工業的にも極めて効果が大きい。
では同一装置で金属酸化物保護層の形成が可能であり、
工業的にも極めて効果が大きい。
等の特徴を持つものである。
なお上記実施例の説明にあたっては膜厚、材料。
形状などを記述したが本発明はこれらに限定されるもの
ではなく、例えば磁性層の厚さも１０００人捷た金属酸
化物保護層も２００〜３００人に限られるものではなく
、特に金属酸化物保護層においては、スペーシング損失
にならない厚さの範囲までは本発明の範囲に入るもので
ある。
ではなく、例えば磁性層の厚さも１０００人捷た金属酸
化物保護層も２００〜３００人に限られるものではなく
、特に金属酸化物保護層においては、スペーシング損失
にならない厚さの範囲までは本発明の範囲に入るもので
ある。
以」二のように本発明によれば、磁性層を金属薄膜で形
成し、その表向に磁性層とは異なる拐料を主にした金属
酸化物層を設けたものであるから、制酸化性、耐摩耗性
が向上し、一方磁性層による磁気特性は伺ら損なわれる
ことがないものであって、金属薄膜型の磁気記録媒体の
普及に大きく寄与するものである。
成し、その表向に磁性層とは異なる拐料を主にした金属
酸化物層を設けたものであるから、制酸化性、耐摩耗性
が向上し、一方磁性層による磁気特性は伺ら損なわれる
ことがないものであって、金属薄膜型の磁気記録媒体の
普及に大きく寄与するものである。
第１図は本発明の磁気記録媒体を製造するのに適する製
造装置の一実施例を示す断面図、第２図は酸素供給量を
示す特性線図、第３図は本実施例の磁気記録媒体の断面
図、第４図は他の製造装置を示す断面図である。 ４・・・・・・高分子基板、１４・・・・・・金属薄膜
、１６・・・・・・酸化層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図 酸氷依話（ 第 ３５１１ ２１
造装置の一実施例を示す断面図、第２図は酸素供給量を
示す特性線図、第３図は本実施例の磁気記録媒体の断面
図、第４図は他の製造装置を示す断面図である。 ４・・・・・・高分子基板、１４・・・・・・金属薄膜
、１６・・・・・・酸化層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図 酸氷依話（ 第 ３５１１ ２１
Claims (2)
- （１）金属薄膜の磁性層の表面上に、この磁性層に用い
た主材料とは異なる材料を主とした金属酸化物層を設け
たことを特徴とする磁気記録媒体。 - （２）磁性層は、鉄、コバルト、ニッケル、クロムの単
体または合金を主成分とし、一方金属酸化物層は、鉄、
コバルト、ニッケル、クロム、ケイ素。 チタン、アルミモウム、タングステン、銅を主成分とす
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記
録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57105971A JPS58222444A (ja) | 1982-06-18 | 1982-06-18 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57105971A JPS58222444A (ja) | 1982-06-18 | 1982-06-18 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58222444A true JPS58222444A (ja) | 1983-12-24 |
Family
ID=14421656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57105971A Pending JPS58222444A (ja) | 1982-06-18 | 1982-06-18 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58222444A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6292112A (ja) * | 1985-10-17 | 1987-04-27 | Tokico Ltd | 磁気デイスク |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4854498A (ja) * | 1971-11-12 | 1973-07-31 |
-
1982
- 1982-06-18 JP JP57105971A patent/JPS58222444A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4854498A (ja) * | 1971-11-12 | 1973-07-31 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6292112A (ja) * | 1985-10-17 | 1987-04-27 | Tokico Ltd | 磁気デイスク |
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