JPS59142735A - 磁気記録体 - Google Patents
磁気記録体Info
- Publication number
- JPS59142735A JPS59142735A JP58015659A JP1565983A JPS59142735A JP S59142735 A JPS59142735 A JP S59142735A JP 58015659 A JP58015659 A JP 58015659A JP 1565983 A JP1565983 A JP 1565983A JP S59142735 A JPS59142735 A JP S59142735A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- film
- substrate
- recording medium
- metallic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 36
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 19
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 24
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 9
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 6
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N ferrosoferric oxide Chemical compound O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 abstract description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 abstract description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)iron;iron Chemical compound [Fe].O[Fe]=O.O[Fe]=O UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 CO1Cu Substances 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical group [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/658—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing oxygen, e.g. molecular oxygen or magnetic oxide
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記憶装置に用いられる磁気ディスクに関す
るものである。
るものである。
磁気記録装置における記録密度の向上は斯界の変らぬ趨
勢であシ、これを実現する為には磁気記録体の薄層化、
薄膜化が不可欠である。
勢であシ、これを実現する為には磁気記録体の薄層化、
薄膜化が不可欠である。
従来、磁気ディスクとしては酸化鉄微粒子とバインダー
との混合物を基板上に塗布したいわゆるコーティング媒
体がム〈用いられてきてお少記録密度の増加に伴ないコ
ーティング媒体の薄膜化が々されている。しかしコーテ
ィング媒体においては、厚さを数千Å以下にし、しかも
均一な記録再生特性を実現することはきわめて困難であ
る。
との混合物を基板上に塗布したいわゆるコーティング媒
体がム〈用いられてきてお少記録密度の増加に伴ないコ
ーティング媒体の薄膜化が々されている。しかしコーテ
ィング媒体においては、厚さを数千Å以下にし、しかも
均一な記録再生特性を実現することはきわめて困難であ
る。
そこでコーディング媒体に代る高性能磁気記録媒体とし
て、薄膜化が容易な連続薄膜媒体が注目されている。連
続薄膜媒体としで金属メッキ膜を用いたメッキ磁気ディ
スクが開発されて込るが、近年になって＞−Ｆｅ２０．
を主成分とする酸化物磁性薄膜が注目され、これも金属
メッキ膜と同様薄膜化が可能で磁気特性及び機械的強度
、耐食性に優れている。
て、薄膜化が容易な連続薄膜媒体が注目されている。連
続薄膜媒体としで金属メッキ膜を用いたメッキ磁気ディ
スクが開発されて込るが、近年になって＞−Ｆｅ２０．
を主成分とする酸化物磁性薄膜が注目され、これも金属
メッキ膜と同様薄膜化が可能で磁気特性及び機械的強度
、耐食性に優れている。
この様な酸化物磁性薄膜媒体を用いた磁気記録体の製造
は基板形成工程と媒体形成工程に大別され、基板形成工
程には以下に述べる問題があった。
は基板形成工程と媒体形成工程に大別され、基板形成工
程には以下に述べる問題があった。
酸化物磁１−薄膜媒体用基板としては、媒体の薄膜化を
可能とし低浮上量における安定したヘッド浮揚を確保す
るため平担性および平滑性が要求され、また記録体のビ
ットエラーの観点から基板欠陥の著しい低減が必要とさ
れる。更に機械的な強度、加工性、研磨性、軽量性、低
価格性、大量生産などの諸特性と媒体形成工程での熱処
理後も非磁性を保つことが必要とされた。基体材料とし
ては安価で加工性も良いアルミニウム合金が一般に広く
使用されているが、アルミニウム合金だけでは基板面の
硬さ及び研磨性が不十分であるのでアルミニウム合金の
表面を陽極酸化処理し研磨加工したもの、まだアルミニ
ウム合金上に８１０２もしくはガラスを被覆した基板（
特開昭５７−８９２１）が提案されている。これらの基
板は前記諸特性の各項目をほぼ満足するが、基板欠陥の
点で問題点を有している。このような磁気ディスク基板
の欠陥を低減するために特開昭５７−１８０２９公報に
見られる如く、アルミニウム合金基体上に形成したニッ
ケル・リン合金皮膜表面を研磨した基板を用いて酸化物
磁性薄膜媒体を形成する方法が提案されている。
可能とし低浮上量における安定したヘッド浮揚を確保す
るため平担性および平滑性が要求され、また記録体のビ
ットエラーの観点から基板欠陥の著しい低減が必要とさ
れる。更に機械的な強度、加工性、研磨性、軽量性、低
価格性、大量生産などの諸特性と媒体形成工程での熱処
理後も非磁性を保つことが必要とされた。基体材料とし
ては安価で加工性も良いアルミニウム合金が一般に広く
使用されているが、アルミニウム合金だけでは基板面の
硬さ及び研磨性が不十分であるのでアルミニウム合金の
表面を陽極酸化処理し研磨加工したもの、まだアルミニ
ウム合金上に８１０２もしくはガラスを被覆した基板（
特開昭５７−８９２１）が提案されている。これらの基
板は前記諸特性の各項目をほぼ満足するが、基板欠陥の
点で問題点を有している。このような磁気ディスク基板
の欠陥を低減するために特開昭５７−１８０２９公報に
見られる如く、アルミニウム合金基体上に形成したニッ
ケル・リン合金皮膜表面を研磨した基板を用いて酸化物
磁性薄膜媒体を形成する方法が提案されている。
しかしながら、このような方法では−Ｊ−に’ｅｓ ０
４を主成分とする磁性酸化鉄薄膜で基板を被覆し、その
後酸化性雰囲気で熱酸化し酸化鉄薄膜をγ−Ｆｅ２０Ｂ
化しよりとした場合、酸化物磁性膜が基板界面において
下地ニッケル・リン合金と反応し磁気特性がガラスヤア
ルマイト被覆したアルミニウム合金基板上のそれよシ劣
化し、高密度記録に適した１を伝変換特性を得ることが
難かしかった。
４を主成分とする磁性酸化鉄薄膜で基板を被覆し、その
後酸化性雰囲気で熱酸化し酸化鉄薄膜をγ−Ｆｅ２０Ｂ
化しよりとした場合、酸化物磁性膜が基板界面において
下地ニッケル・リン合金と反応し磁気特性がガラスヤア
ルマイト被覆したアルミニウム合金基板上のそれよシ劣
化し、高密度記録に適した１を伝変換特性を得ることが
難かしかった。
本発明は上述した従来技術の欠点を改善して磁気特性が
良好で且つ基板欠陥によるドロップアウトの少ない高密
度記録に通した磁気記録体を提供することにめる。
良好で且つ基板欠陥によるドロップアウトの少ない高密
度記録に通した磁気記録体を提供することにめる。
本発明によれば、笠属基体をＮ ｉ Ｐ 合金メッキ
層、非磁性非金属硬質膜、酸化物磁性薄膜の順に被覆し
た構成をもつことを特徴とする磁気記録体が提供される
。
層、非磁性非金属硬質膜、酸化物磁性薄膜の順に被覆し
た構成をもつことを特徴とする磁気記録体が提供される
。
ここで使用さ１する金属基体は、アルミニウム合金が好
ましく、ニラグル合金メツ、キ層は電気メッキ法Ｉたは
無電解メッキ法により形成出来る。非磁性非金属硬質膜
は一般に活性な金属表面と酸化物磁性媒体とを分離する
ことを目的とするもので、記録媒体の電磁特性に支障が
なく、基板の硬さを損なわないものが好ましく、化学的
な安定な酸化物であるＡＺ２０３、Ｓ ｉ （−）２、
ガラス、また窒化物である窒化シリコンなどが適当であ
る。また酸化物磁性薄膜としては、Ｃ０１Ｃｕ、Ｔｉ、
Ｚｎ、Ｍｎ 等の添加物を含有する’ｌ；−Ｆｅｗ
Ｏｓを主成分とする、もしくはｄｉ −Ｆ ｅ １０
ｓとＦｅ、Ｏ，の中間組成物を主成分とする酸化鉄磁性
薄膜が挙けられる。
ましく、ニラグル合金メツ、キ層は電気メッキ法Ｉたは
無電解メッキ法により形成出来る。非磁性非金属硬質膜
は一般に活性な金属表面と酸化物磁性媒体とを分離する
ことを目的とするもので、記録媒体の電磁特性に支障が
なく、基板の硬さを損なわないものが好ましく、化学的
な安定な酸化物であるＡＺ２０３、Ｓ ｉ （−）２、
ガラス、また窒化物である窒化シリコンなどが適当であ
る。また酸化物磁性薄膜としては、Ｃ０１Ｃｕ、Ｔｉ、
Ｚｎ、Ｍｎ 等の添加物を含有する’ｌ；−Ｆｅｗ
Ｏｓを主成分とする、もしくはｄｉ −Ｆ ｅ １０
ｓとＦｅ、Ｏ，の中間組成物を主成分とする酸化鉄磁性
薄膜が挙けられる。
以下、本発明による磁気記録体の特長を比較例および実
施例によシ説明する。
施例によシ説明する。
比較例１
機械加工によ部表面を平担かつ平滑に仕上げたアルミ合
金円板（直径２１０ｍ、厚さ１９ｍｍ ）を熱矯正、熱
処理などによシ平担性を更に向上させた後、酸洗浄、亜
鉛置換など施したアルミ合金上に無電解ニッケル合金メ
ッキ浴（日本カニセン社製無電解ニッケル・す／・メッ
キ液シューマーＢ−０）ｔ−用い膜厚２０μｍのニッケ
ル・リン・メッキｊ良を形成した。これを更に研磨によ
シ鏡面仕上げし、無電解ニッケル合金メッキ基板を得た
。こうして得られた基板はいずれも直径１．０μｍ以上
の欠陥および高さ０．１μ以上の突起がなく高密度記録
に適した表面精度を満してした。この基板上に重量パー
セントでＣｏ１．５％、Ｃｕ２．２％を含有するＦｅ、
Ｏ，ｍ結体をターゲットとし、Ａｒ ガス雰囲気中でス
パッタ圧力５Ｘ１０ Ｔｏｒｒ、 スパッタパワー２
ＫＷ 。
金円板（直径２１０ｍ、厚さ１９ｍｍ ）を熱矯正、熱
処理などによシ平担性を更に向上させた後、酸洗浄、亜
鉛置換など施したアルミ合金上に無電解ニッケル合金メ
ッキ浴（日本カニセン社製無電解ニッケル・す／・メッ
キ液シューマーＢ−０）ｔ−用い膜厚２０μｍのニッケ
ル・リン・メッキｊ良を形成した。これを更に研磨によ
シ鏡面仕上げし、無電解ニッケル合金メッキ基板を得た
。こうして得られた基板はいずれも直径１．０μｍ以上
の欠陥および高さ０．１μ以上の突起がなく高密度記録
に適した表面精度を満してした。この基板上に重量パー
セントでＣｏ１．５％、Ｃｕ２．２％を含有するＦｅ、
Ｏ，ｍ結体をターゲットとし、Ａｒ ガス雰囲気中でス
パッタ圧力５Ｘ１０ Ｔｏｒｒ、 スパッタパワー２
ＫＷ 。
基板回転１０ ｒ ｐｍの条件で０．１８ａｍのＦｅ、
Ｏ，を主成分とする酸化鉄磁性薄膜を形成した。これを
大気中で２７５°Ｃ１時間の熱処理を行なったところア
ルマイト被覆アルミニウム基板、ガラス基板上に形成し
たような黄金色ないし黄橙色のｒ−Ｆｅ２０． 色とな
らず紫色に変色した。こうして得られた磁気記録体の磁
気特性は、保磁力Ｈｅが６５００ｅ 、飽和磁束密度Ｂ
ｓが２７００Ｇ（ガウス）角形比Ｂｒ／Ｂｓ （Ｂｒ残
留磁束密度）が０．６４ であった。これを第１表の条
件下で記録再生の測定を行なった。
Ｏ，を主成分とする酸化鉄磁性薄膜を形成した。これを
大気中で２７５°Ｃ１時間の熱処理を行なったところア
ルマイト被覆アルミニウム基板、ガラス基板上に形成し
たような黄金色ないし黄橙色のｒ−Ｆｅ２０． 色とな
らず紫色に変色した。こうして得られた磁気記録体の磁
気特性は、保磁力Ｈｅが６５００ｅ 、飽和磁束密度Ｂ
ｓが２７００Ｇ（ガウス）角形比Ｂｒ／Ｂｓ （Ｂｒ残
留磁束密度）が０．６４ であった。これを第１表の条
件下で記録再生の測定を行なった。
第 １ 表
このディスクの記録周波数特性を測定した結果、孤立波
出力の１／２となる周波数における記録密度Ｄ５０
は２６，０ＯＯＦＲＰＩであシ孤立波出力は０．６８ｍ
Ｖであった。
出力の１／２となる周波数における記録密度Ｄ５０
は２６，０ＯＯＦＲＰＩであシ孤立波出力は０．６８ｍ
Ｖであった。
実施例１
比較例と同様に仕上げた無電解ニッケル合金メッキ基板
上に、５Ｉ０２をターゲットとし、Ａｒガス雰囲気中で
スパッタ圧力２Ｘ１０ ”Ｔｏｒｒ、スパタパワー２
ＫＷ 、基板回転１０ｒｐｍの条件で、非磁性非金属で
ある５ｉｎ２をｔｏｏｌ、 ４ｏｏＸ、ｔｏｏｄの厚さ
に形成した基板を作製した。５１０２膜を形成した各基
板上に比較例と同様のスパッタ条件で０．１８μのＦｅ
ＨＱ４ を主成分とする酸化鉄磁性薄膜を形成した。
上に、５Ｉ０２をターゲットとし、Ａｒガス雰囲気中で
スパッタ圧力２Ｘ１０ ”Ｔｏｒｒ、スパタパワー２
ＫＷ 、基板回転１０ｒｐｍの条件で、非磁性非金属で
ある５ｉｎ２をｔｏｏｌ、 ４ｏｏＸ、ｔｏｏｄの厚さ
に形成した基板を作製した。５１０２膜を形成した各基
板上に比較例と同様のスパッタ条件で０．１８μのＦｅ
ＨＱ４ を主成分とする酸化鉄磁性薄膜を形成した。
これらを大気中で２７５°０１時間の熱処理を行なった
ところ各基板とも磁性膜は緑がかった黄色となシミ気抵
抗の測定の結果ｐ−Ｆｅ、ＯＢ化しておシ、これらの磁
気特性は第２表のように第 ２ 表 これらのディスクを比較例の第１表と同様の条件で各デ
ィスクの記録周波数特性を測定した結果、第３表の如く
、周波数特性及び比較例の場合よシも優れていた。
ところ各基板とも磁性膜は緑がかった黄色となシミ気抵
抗の測定の結果ｐ−Ｆｅ、ＯＢ化しておシ、これらの磁
気特性は第２表のように第 ２ 表 これらのディスクを比較例の第１表と同様の条件で各デ
ィスクの記録周波数特性を測定した結果、第３表の如く
、周波数特性及び比較例の場合よシも優れていた。
第３表
実施例２
比較例と同様に仕上げた無電解ニッケル合金メッキ基板
上にＡＪ２ Ｕｓ をターゲットとし、Ａｒ＠ス雰囲
気中でスパッタ圧力３ＸｌＯ”ｒｏｒｒ 、スバ、タパ
ワー２ ＫＷ 、基板回転１０ｒｐｍの条件で、非磁性
硬質膜であるん６０．を３００Ｘの厚さに形成した。こ
れを基板として比較例と同様のスパッタ条件で０．１７
ａｍのＦｅ、０４ を主成分とする酸化鉄磁性薄膜を
形成した。これらを大気中で２７５°０１時間の熱処理
をし、膜の電気抵抗の測定から７−Ｆｅ２Ｏ３を主成分
とする酸化鉄磁性薄膜が侍られた。この磁気特性は、Ｂ
ｓ３０２０Ｇ、Ｈｃ７０００ｅ。
上にＡＪ２ Ｕｓ をターゲットとし、Ａｒ＠ス雰囲
気中でスパッタ圧力３ＸｌＯ”ｒｏｒｒ 、スバ、タパ
ワー２ ＫＷ 、基板回転１０ｒｐｍの条件で、非磁性
硬質膜であるん６０．を３００Ｘの厚さに形成した。こ
れを基板として比較例と同様のスパッタ条件で０．１７
ａｍのＦｅ、０４ を主成分とする酸化鉄磁性薄膜を
形成した。これらを大気中で２７５°０１時間の熱処理
をし、膜の電気抵抗の測定から７−Ｆｅ２Ｏ３を主成分
とする酸化鉄磁性薄膜が侍られた。この磁気特性は、Ｂ
ｓ３０２０Ｇ、Ｈｃ７０００ｅ。
８０．７８であった。これを比較例の第１表と同様の条
件でディスクの記録周波数特性を調べた結果、Ｄ５０
は３１，０ＯＯＦＲＰＩが得られた。
件でディスクの記録周波数特性を調べた結果、Ｄ５０
は３１，０ＯＯＦＲＰＩが得られた。
実施例３
比較例と同様に仕上けた無電解ニラグル背金メッキ基板
上に１ターゲツトとして８ｉ３Ｎ４ を用いＡｒガス雰
囲気中でスパッタ圧力５Ｘ１０ Ｔｏｒｒスパッタパ
ワー２ ＫＷ 、基板回転１０ ｒ ｐｍの条件で非磁
性非金属硬質膜であるＳｉ、Ｎ、をｚｏｏＸの厚さに形
成した。これを基板として比較例と同様のスパッタ条件
で０．１７ｆｉｍのＦｅ、０． を主成分とする酸化鉄
を形成した。これを大気中で２７５°０１時間の熱処理
を行なった結果、膜の電気抵抗の測定から／； Ｆｅｗ
Ｏｓを主成分とする酸化鉄磁性薄膜でちった。またこ
の磁気特性はＢｓ ３０００ ＧＸＨＣ７１００ｅ、
Ｓ Ｏ，８でめった。これをギャップ長０．６μｍ１タ
ーン数１３＋１３のＭｎ−Ｚｎフェライトヘッドでヘッ
ド浮上量０．１．５μｍの条件で記録周波数特性を測定
し５た結果、Ｄ５０ が３８ＫＦ几ＰＩ でアった。
上に１ターゲツトとして８ｉ３Ｎ４ を用いＡｒガス雰
囲気中でスパッタ圧力５Ｘ１０ Ｔｏｒｒスパッタパ
ワー２ ＫＷ 、基板回転１０ ｒ ｐｍの条件で非磁
性非金属硬質膜であるＳｉ、Ｎ、をｚｏｏＸの厚さに形
成した。これを基板として比較例と同様のスパッタ条件
で０．１７ｆｉｍのＦｅ、０． を主成分とする酸化鉄
を形成した。これを大気中で２７５°０１時間の熱処理
を行なった結果、膜の電気抵抗の測定から／； Ｆｅｗ
Ｏｓを主成分とする酸化鉄磁性薄膜でちった。またこ
の磁気特性はＢｓ ３０００ ＧＸＨＣ７１００ｅ、
Ｓ Ｏ，８でめった。これをギャップ長０．６μｍ１タ
ーン数１３＋１３のＭｎ−Ｚｎフェライトヘッドでヘッ
ド浮上量０．１．５μｍの条件で記録周波数特性を測定
し５た結果、Ｄ５０ が３８ＫＦ几ＰＩ でアった。
以上、比較例で示したように鏡面研磨されたニッケル合
金上に直接Ｆｃ５０４ を形成し、これをと−Ｆｅ２
０．化処理を行なった場合、下地金属との反応の影響に
よシ良好な磁気特性が得らｎなかったが、本発明によれ
ばニッケル合金基板上に化学的に安定な非磁性非金属硬
質膜を形成することによってＦｅ３Ｏ４から７−Ｆｅ２
Ｏ，への熱処理によっても下地金属との反応がな（ン一
＃″ｅ２０．化が正常に進行し高密を記録に適した良好
な磁気特性が得られる。このように非磁性非金属硬質膜
を形成することによって優れた磁気特性が得られるが、
非磁性非金属硬質膜の厚さは極く薄い１００Ｘ前後でも
十分その目的とするところが達せられること７）為らグ
ロ七スの増加によるディスクの生産性の低下もさほど支
障とはならない〇
金上に直接Ｆｃ５０４ を形成し、これをと−Ｆｅ２
０．化処理を行なった場合、下地金属との反応の影響に
よシ良好な磁気特性が得らｎなかったが、本発明によれ
ばニッケル合金基板上に化学的に安定な非磁性非金属硬
質膜を形成することによってＦｅ３Ｏ４から７−Ｆｅ２
Ｏ，への熱処理によっても下地金属との反応がな（ン一
＃″ｅ２０．化が正常に進行し高密を記録に適した良好
な磁気特性が得られる。このように非磁性非金属硬質膜
を形成することによって優れた磁気特性が得られるが、
非磁性非金属硬質膜の厚さは極く薄い１００Ｘ前後でも
十分その目的とするところが達せられること７）為らグ
ロ七スの増加によるディスクの生産性の低下もさほど支
障とはならない〇
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、金属基体をＮｉＰ合金メッキ層、非磁性非金属硬質
膜、酸化物磁性薄膜の順に被覆した構成を有することを
特徴とする磁気記録体。 ２、非磁性非金属硬質膜の厚さが１００〜１，０００！
である特許請求の範囲第１項記載の磁気記録体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58015659A JPS59142735A (ja) | 1983-02-02 | 1983-02-02 | 磁気記録体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58015659A JPS59142735A (ja) | 1983-02-02 | 1983-02-02 | 磁気記録体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59142735A true JPS59142735A (ja) | 1984-08-16 |
| JPH0520806B2 JPH0520806B2 (ja) | 1993-03-22 |
Family
ID=11894858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58015659A Granted JPS59142735A (ja) | 1983-02-02 | 1983-02-02 | 磁気記録体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59142735A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60231913A (ja) * | 1984-05-02 | 1985-11-18 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気デイスク |
| US5774783A (en) * | 1995-03-17 | 1998-06-30 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium |
| CN104607253A (zh) * | 2015-01-17 | 2015-05-13 | 东北农业大学 | 一种新型磁性复合氢化催化剂的制备方法 |
-
1983
- 1983-02-02 JP JP58015659A patent/JPS59142735A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60231913A (ja) * | 1984-05-02 | 1985-11-18 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気デイスク |
| US5774783A (en) * | 1995-03-17 | 1998-06-30 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium |
| USRE38587E1 (en) | 1995-03-17 | 2004-09-14 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium |
| CN104607253A (zh) * | 2015-01-17 | 2015-05-13 | 东北农业大学 | 一种新型磁性复合氢化催化剂的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0520806B2 (ja) | 1993-03-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20030199680A1 (en) | Magnetic recording medium, production process thereof, magnetic recording and reproducing apparatus, and sputtering target | |
| JPS59142735A (ja) | 磁気記録体 | |
| JPS61199224A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0421930B2 (ja) | ||
| JPS613317A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61276116A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPS5961107A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPH0451885B2 (ja) | ||
| JPS61276115A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPS59180829A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPS6035332A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPH0522290B2 (ja) | ||
| JPS60113320A (ja) | 記録体基板およびその製造方法 | |
| JPS5885923A (ja) | 磁気記録体 | |
| JPS6085433A (ja) | 磁気記録体 | |
| JPH0450646B2 (ja) | ||
| JPS5975609A (ja) | 可撓性磁気記録体 | |
| JPH01232517A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体 | |
| JPH04137217A (ja) | 磁気特性に優れた磁気ディスクの製造法 | |
| JPS6085432A (ja) | 磁気記録体 | |
| JPS61199232A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6361409A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61199231A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6033357A (ja) | 磁気ディスク用アルミ合金基板及びその製造方法 | |
| JPH03127322A (ja) | 磁気記録体 |