JPS6287548A - ２−アセチルレゾルシンの製造法 - Google Patents
２−アセチルレゾルシンの製造法Info
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- JPS6287548A JPS6287548A JP22758885A JP22758885A JPS6287548A JP S6287548 A JPS6287548 A JP S6287548A JP 22758885 A JP22758885 A JP 22758885A JP 22758885 A JP22758885 A JP 22758885A JP S6287548 A JPS6287548 A JP S6287548A
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- Japan
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- cyclohexanedione
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- acetylresorcin
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
- C07C45/64—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by introduction of functional groups containing oxygen only in singly bound form
-
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/006—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by hydrogenation of aromatic hydroxy compounds
-
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- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/45—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by condensation
- C07C45/455—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by condensation with carboxylic acids or their derivatives
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- C07C45/65—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by splitting-off hydrogen atoms or functional groups; by hydrogenolysis of functional groups
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は２−アセチルレゾルシンの製造法に関する。
〈従来の技術〉
２−アセチルレゾルシンは医薬、農梨等の分野における
重要な中間体であり、その製造法としてはレゾルシンを
出発原料として４−ヒドロキシクマリンを経由する方法
（Ｏｒｇ、 ５ｙｎｔｈ。
重要な中間体であり、その製造法としてはレゾルシンを
出発原料として４−ヒドロキシクマリンを経由する方法
（Ｏｒｇ、 ５ｙｎｔｈ。
Ｃｏ１１．、 Ｖｏｌ、 ８．２８１ ）が知られティ
る。
る。
〈発明が解決しようとする問題点〉
しかしながら、この方法は反応工程が多く、収率が、比
較的低いため、工業的に有利な方法とはｇえなかった。
較的低いため、工業的に有利な方法とはｇえなかった。
〈問題点を解決するための手段〉
このようなことから、本発明者は高収率で、工業的有利
に２−アセチルレゾルシンを製造すへ＜検討の！果、２
−アセチル−１，３−シクロヘキサンジオンを原料とし
、これを特定条件下で脱水素することにより、高収率で
、容易に目的化合物が得られることを見出し、本発明を
完成するに至った。
に２−アセチルレゾルシンを製造すへ＜検討の！果、２
−アセチル−１，３−シクロヘキサンジオンを原料とし
、これを特定条件下で脱水素することにより、高収率で
、容易に目的化合物が得られることを見出し、本発明を
完成するに至った。
すなわち本発明は、２−アセチル−１，３−シクロヘキ
サンジオンを反応媒体中、パラジウム触媒の存在下に加
熱脱水素することを特徴とする２−アセチルレゾルシン
の製造法を提供するものである。
サンジオンを反応媒体中、パラジウム触媒の存在下に加
熱脱水素することを特徴とする２−アセチルレゾルシン
の製造法を提供するものである。
本発明において原料として使用される２−アセチル−１
，３−シクロヘキサンジオンは公知化合物であり、たと
えば１．３−シクロヘキサンジオンから容易に得ること
ができる（Ｊ。
，３−シクロヘキサンジオンは公知化合物であり、たと
えば１．３−シクロヘキサンジオンから容易に得ること
ができる（Ｊ。
Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｅ、。（１９５Ｂ）８０８）。
本発明に使用する反応媒体としては、反応に不活性な種
々の溶媒が使用される。
々の溶媒が使用される。
かかる溶媒として、ベンゼン、クメン、シメン、ジイソ
プロピルベンゼン、デカリン、ナフタリン、ビフエニル
などの炭化水素類、ジフェニルエーテル、ジエチレング
リコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジ
エチルエーテルなどの脂肪族エーテル、芳香族エーテル
類などが例示されるが、何らこれらに限定されるもので
はなく、また２１以上を混合して使用することもできる
。
プロピルベンゼン、デカリン、ナフタリン、ビフエニル
などの炭化水素類、ジフェニルエーテル、ジエチレング
リコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジ
エチルエーテルなどの脂肪族エーテル、芳香族エーテル
類などが例示されるが、何らこれらに限定されるもので
はなく、また２１以上を混合して使用することもできる
。
本反応を行うにあたり、触媒としてはパラジウム触媒を
使用するのが有利であり、かかる触媒において、パラジ
ウムは通常、グラファ、イト、活性炭、シリカ、アルミ
ナなどの公知の各間の担体に保持されて使用される。パ
ラジウムの濃度は担体に対して通常０．１〜１０重量％
であることが好ましい。
使用するのが有利であり、かかる触媒において、パラジ
ウムは通常、グラファ、イト、活性炭、シリカ、アルミ
ナなどの公知の各間の担体に保持されて使用される。パ
ラジウムの濃度は担体に対して通常０．１〜１０重量％
であることが好ましい。
かかるパラジウム触媒の使用量は、通常原料の２−アセ
チル−１，３−シクロヘキサンジオンに対して０．２〜
２０爪量％である。
チル−１，３−シクロヘキサンジオンに対して０．２〜
２０爪量％である。
反応温度は特に制限されないが、通常１４０〜２６０″
Ｃの範囲である。この温度より低いと反応速度が遅く、
またこの温度を越えると選択性が悪くなる傾向がある。
Ｃの範囲である。この温度より低いと反応速度が遅く、
またこの温度を越えると選択性が悪くなる傾向がある。
反応圧も特に制限はないが、一般的には常圧〜２０気圧
である。
である。
かかる反応により２−アセチル−１，３−シクロヘキサ
ンジオンの脱水素が行われるが、この反応の際に副生す
る水素により生成物の水素化が起こり、２−エチルレゾ
ルシンを副生ずるため、この影響を避けるために不活性
ガスたとえば窒素ガスまたは炭酸ガスを反応系に通じ、
水素分圧を下げることが好ましい。
ンジオンの脱水素が行われるが、この反応の際に副生す
る水素により生成物の水素化が起こり、２−エチルレゾ
ルシンを副生ずるため、この影響を避けるために不活性
ガスたとえば窒素ガスまたは炭酸ガスを反応系に通じ、
水素分圧を下げることが好ましい。
尚、本反応は原料の転化率が低い程、目的物の２−アセ
チルレゾルシンの選択率が高い傾向にある。そこで、低
い転化率で反応をストップして、目的物を回収後、未反
応原料をリサイクル使用して収率を上げることも可能で
ある。たとえば、脱水素反応後、触媒を戸別したのち母
液を冷却し、析出結晶を公職して、２−アセチルレゾル
シンを回収後、母液を未反応原料を含む溶剤として再び
脱水素反応に使用することができる。
チルレゾルシンの選択率が高い傾向にある。そこで、低
い転化率で反応をストップして、目的物を回収後、未反
応原料をリサイクル使用して収率を上げることも可能で
ある。たとえば、脱水素反応後、触媒を戸別したのち母
液を冷却し、析出結晶を公職して、２−アセチルレゾル
シンを回収後、母液を未反応原料を含む溶剤として再び
脱水素反応に使用することができる。
尚、この際副生ずる２−エチルレゾルシンは、例えば結
晶分離後の母液を水洗することにより、選択的に水層に
除くことができる。
晶分離後の母液を水洗することにより、選択的に水層に
除くことができる。
反応終了後、反応混合液からの２−アセチルレゾルシン
の取出しは、たとえば反応混合液から触媒をＰ側稜、母
液をそのままもしくは溶媒を一部留去したのち冷却し、
析出する結晶を分離する等の一般的操作で行われる。
の取出しは、たとえば反応混合液から触媒をＰ側稜、母
液をそのままもしくは溶媒を一部留去したのち冷却し、
析出する結晶を分離する等の一般的操作で行われる。
〈発明の効果〉
かくして、本発明の方法によれば工業的にも容易に、し
かも好収率で２−アセチルレゾルシンを製造することが
できる。
かも好収率で２−アセチルレゾルシンを製造することが
できる。
〈実施例〉
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明は何ら
これら実施例に限定されるものではない。
これら実施例に限定されるものではない。
実施例１〜４
還流冷却管付き８００ ｍｌフラスコに２−アセチル−
１，８−シクロヘキサンジオン５ｙ。
１，８−シクロヘキサンジオン５ｙ。
５％Ｐｄ−Ｃ触媒１ｙおよび表−１に記載の溶媒１００
ｆを仕込み、輩累ガス雰四下、１７５〜２００℃で４〜
９時間撹拌する。反応終了後、触媒を戸別し、Ｐ液をガ
スクロマトグラ実施例５ 触媒として５ ’／６ Ｐ ｄ−５ｉへ１，５ｙを使用
する以外は実施例４と同様に反応を行った。その結果、
転化率８６％、２−アセチルレゾルシン収率５７％、選
択率６６％、２−エチルレゾルシン収率７％、選択率８
％であった。
ｆを仕込み、輩累ガス雰四下、１７５〜２００℃で４〜
９時間撹拌する。反応終了後、触媒を戸別し、Ｐ液をガ
スクロマトグラ実施例５ 触媒として５ ’／６ Ｐ ｄ−５ｉへ１，５ｙを使用
する以外は実施例４と同様に反応を行った。その結果、
転化率８６％、２−アセチルレゾルシン収率５７％、選
択率６６％、２−エチルレゾルシン収率７％、選択率８
％であった。
実施例６
実施例１で用いたと同様のフラスコＩζ２−アセチル−
１，３−シクロヘキサンジオン１０ノ、５％Ｐｄ−Ｃ触
媒０．２１およびＰ−シメンＮｏ（１’を仕込み、窒素
ガス雰囲気下、１７５°Ｃで４時間撹拌した。
１，３−シクロヘキサンジオン１０ノ、５％Ｐｄ−Ｃ触
媒０．２１およびＰ−シメンＮｏ（１’を仕込み、窒素
ガス雰囲気下、１７５°Ｃで４時間撹拌した。
反応終了後、触媒を「別し、母液を冷却して２０°Ｃに
て析出結晶を分離した。得られた粗２−アセチルレゾル
シンをヘキサンにてリパルプ洗浄後、乾燥して２−アセ
チルレゾルシン４．８６ｆ（純度９９％）を得た。一方
、結晶分離後の母液の重量は１０５．２ｙであり、ガス
クロマトグラフィーにより分析した結果２−７セチルレ
ゾルシン０．４ｆ、２−エチルレゾルシン０．１ｙ及び
未反応原料４．８１を含んでいた。この反応終了時での
転化率は５２％、２−アセチルレゾルシンの収率４８％
、Ｍ 折率９２ ％ 、２−エチルレゾルシンの収率２
％、選択率４％であった。
て析出結晶を分離した。得られた粗２−アセチルレゾル
シンをヘキサンにてリパルプ洗浄後、乾燥して２−アセ
チルレゾルシン４．８６ｆ（純度９９％）を得た。一方
、結晶分離後の母液の重量は１０５．２ｙであり、ガス
クロマトグラフィーにより分析した結果２−７セチルレ
ゾルシン０．４ｆ、２−エチルレゾルシン０．１ｙ及び
未反応原料４．８１を含んでいた。この反応終了時での
転化率は５２％、２−アセチルレゾルシンの収率４８％
、Ｍ 折率９２ ％ 、２−エチルレゾルシンの収率２
％、選択率４％であった。
実施例７
実施例６で得られた結晶分離後の母液
１０５．２ｆに２−アセチル１．８−シクロヘキサンジ
オン５．２ｆおよび５％Ｐｄ−Ｃ触媒０、２９を加え、
実施例６と同様に窒素ガス雰囲気下、１７５°Ｃで４時
間撹拌した。反応終了後触好を評別し、ガスクロマトグ
ラフィーで分析した結果、２−アセチルレゾルシン５．
３１．２−エチル、レゾルシン０６３ｙが生成していた
。尚、未反応原料は５．Ｏｆ！であった。
オン５．２ｆおよび５％Ｐｄ−Ｃ触媒０、２９を加え、
実施例６と同様に窒素ガス雰囲気下、１７５°Ｃで４時
間撹拌した。反応終了後触好を評別し、ガスクロマトグ
ラフィーで分析した結果、２−アセチルレゾルシン５．
３１．２−エチル、レゾルシン０６３ｙが生成していた
。尚、未反応原料は５．Ｏｆ！であった。
Ｅ化率５０％、２−アセチルレゾルシン収率４５％、こ
訳本９０’１５％２−エチルレゾルシン収率２’／′ａ
％選択率４６藝で３）す、はぼ実施例６を再現しｔ：。
訳本９０’１５％２−エチルレゾルシン収率２’／′ａ
％選択率４６藝で３）す、はぼ実施例６を再現しｔ：。
Claims (1)
- ２−アセチル−１，３−シクロヘキサンジオンを反応媒
体中、パラジウム触媒の存在下に加熱脱水素することを
特徴とする２−アセチルレゾルシンの製造法
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22758885A JPS6287548A (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | ２−アセチルレゾルシンの製造法 |
| EP86307660A EP0219282A3 (en) | 1985-10-11 | 1986-10-03 | A method for producing 2-acetylresorcin |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22758885A JPS6287548A (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | ２−アセチルレゾルシンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6287548A true JPS6287548A (ja) | 1987-04-22 |
Family
ID=16863270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22758885A Pending JPS6287548A (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | ２−アセチルレゾルシンの製造法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0219282A3 (ja) |
| JP (1) | JPS6287548A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0331422A3 (en) * | 1988-03-02 | 1991-02-06 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Method of preparing 2-acylresorcinols |
| US5744648A (en) * | 1996-08-01 | 1998-04-28 | Hoechst Celanese Corporation | Process for the manufacture of 1, 3-cyclohexanedione |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5141332A (ja) * | 1974-08-07 | 1976-04-07 | Hoechst Ag |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL38182C (ja) * | 1933-04-04 | |||
| GB951435A (en) * | 1959-08-25 | 1964-03-04 | Distillers Co Yeast Ltd | Production of acyl-alkyl-phenols |
-
1985
- 1985-10-11 JP JP22758885A patent/JPS6287548A/ja active Pending
-
1986
- 1986-10-03 EP EP86307660A patent/EP0219282A3/en not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5141332A (ja) * | 1974-08-07 | 1976-04-07 | Hoechst Ag |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0219282A2 (en) | 1987-04-22 |
| EP0219282A3 (en) | 1987-08-12 |
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