JPS6261067A - 磁性現像剤 - Google Patents
磁性現像剤Info
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- JPS6261067A JPS6261067A JP60200460A JP20046085A JPS6261067A JP S6261067 A JPS6261067 A JP S6261067A JP 60200460 A JP60200460 A JP 60200460A JP 20046085 A JP20046085 A JP 20046085A JP S6261067 A JPS6261067 A JP S6261067A
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- JP
- Japan
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- toner
- powder
- magnetic
- silicic acid
- oxide
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
- G03G9/09708—Inorganic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
- G03G9/09708—Inorganic compounds
- G03G9/09725—Silicon-oxides; Silicates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、電P写真、静電記録、静電印刷、磁気記Q笠
に於る潜像を現像するための現像剤に関する。さらに詳
しくは直接又は間接電子写真現像方法に於て、均一に強
く正電荷に帯電し、負の静電荷像を可視化して、高品質
な画像を芋える電子写真用現像剤に関する。
に於る潜像を現像するための現像剤に関する。さらに詳
しくは直接又は間接電子写真現像方法に於て、均一に強
く正電荷に帯電し、負の静電荷像を可視化して、高品質
な画像を芋える電子写真用現像剤に関する。
[FA示の概要]
本明細書喚曇母呑は、直接又は間接電子写真現像に使用
される正荷電性磁性現像剤において、該磁性現像剤に磁
性トナーと正荷電性ケイ酸微粉体と周期律表の■a族に
属する元素の酸化物粉末とを含有させることにより、カ
ブリや飛びちりがなく初期から安定した高い画像濃度が
得られ、経時および温度、湿度の変化に影響を受けない
安定した画像を再現させる技術を開示するものである。
される正荷電性磁性現像剤において、該磁性現像剤に磁
性トナーと正荷電性ケイ酸微粉体と周期律表の■a族に
属する元素の酸化物粉末とを含有させることにより、カ
ブリや飛びちりがなく初期から安定した高い画像濃度が
得られ、経時および温度、湿度の変化に影響を受けない
安定した画像を再現させる技術を開示するものである。
[従来の技術]
従来より′1[子写真法は次の様な手順で行なわれてい
る。■光導電層の帯電→■光像露光(11I像形成)→
■トナーの付着(現像)→■紙、布等への転写峠■加熱
、加圧(定1B> 。
る。■光導電層の帯電→■光像露光(11I像形成)→
■トナーの付着(現像)→■紙、布等への転写峠■加熱
、加圧(定1B> 。
この電子写真における現像方法は数多く知られているが
、大別して二成分現像法と一成分現像法がある。前者は
例えばカスケード法や磁気ブラシ法などとして広く行な
われてきた方法であり、トナーとキャリヤー粒子とを混
合した2成分トナーが現像に用いられる。これらの方法
はいずれも比較的安定に良画像の得られる方法である′
が1反面キャリヤーの劣化、トナーとキャリヤーの混合
比の変動という?成分現像剤にまつわる共通の問題点を
有する。
、大別して二成分現像法と一成分現像法がある。前者は
例えばカスケード法や磁気ブラシ法などとして広く行な
われてきた方法であり、トナーとキャリヤー粒子とを混
合した2成分トナーが現像に用いられる。これらの方法
はいずれも比較的安定に良画像の得られる方法である′
が1反面キャリヤーの劣化、トナーとキャリヤーの混合
比の変動という?成分現像剤にまつわる共通の問題点を
有する。
かかる問題点を回避するためキャリヤーを含まない・−
・成分現像剤を用いる方法が各種提案されているが、中
でも磁性を有するトナー粒子より成る現像剤を用いる方
法にすぐれたものが多い。
・成分現像剤を用いる方法が各種提案されているが、中
でも磁性を有するトナー粒子より成る現像剤を用いる方
法にすぐれたものが多い。
導電性磁性トナーを用いるマグネドライ法(米国特許第
3,11013,258号)は二成分現像方法の問題点
は回避できるが、トナーが導電性であるため。
3,11013,258号)は二成分現像方法の問題点
は回避できるが、トナーが導電性であるため。
現像した画像を普通紙等の最終的な支持部材へ静電的に
転写する事が困難であるという問題点を有している。
転写する事が困難であるという問題点を有している。
また、高抵抗磁性トナーを用いると、静゛−[的β転写
が可能であり、このトナーの誘電分極を利用した現像方
法があるが、木質的に現像速度がおそい、現像面の濃度
が充分に得られない等の問題点を有している。また、こ
の高抵抗磁性トナーを用いた他の方法に、トナー粒子を
トナー粒子相互ま □たはスリーブ7との摩擦により帯
電する方法が知られているが、トナー粒子と摩1M部材
との接触回数が少なく摩擦帯電が不充分になり易い、帯
電したトナー粒子はスリーブとの間のクーロン力が強ま
りスリーブ上で凝集しやすい、などの問題点を有してい
た。
が可能であり、このトナーの誘電分極を利用した現像方
法があるが、木質的に現像速度がおそい、現像面の濃度
が充分に得られない等の問題点を有している。また、こ
の高抵抗磁性トナーを用いた他の方法に、トナー粒子を
トナー粒子相互ま □たはスリーブ7との摩擦により帯
電する方法が知られているが、トナー粒子と摩1M部材
との接触回数が少なく摩擦帯電が不充分になり易い、帯
電したトナー粒子はスリーブとの間のクーロン力が強ま
りスリーブ上で凝集しやすい、などの問題点を有してい
た。
出願人は先に特開昭55−42141号においてE述の
問題点を除去した新規な現像方法を提案した。これはス
リーブ上に絶縁性磁性トナーをきわめて薄く#J!布し
、これをff!!l帯電し、磁界の作用の下で静電像に
きわめて近接して対向させ、トナーを飛翔させることに
より現像する。ジャンピング法である。この方法によれ
ば、スリーブとトナーの接触する度合を増し、−成分現
像剤としては良好な摩m借電を可能にした事1m力によ
ってトナーを支持し、かつ磁石とトナーを相対的に移動
させる事によりトナー粒子相互の東集を解くとともにス
リーブと充分にI!141Iせしめている事、また、ト
ナーを静ffi像に接することなく対向させて現像する
事により地力ブリを防止していること等によって倹れた
画像が得られるものである。しかしながらこの方法でも
、トナー粒子の有するトリボ電荷量は1通常の二成分現
像におけるトナー粒子のトリボ電荷量に比しては著しく
小さい。
問題点を除去した新規な現像方法を提案した。これはス
リーブ上に絶縁性磁性トナーをきわめて薄く#J!布し
、これをff!!l帯電し、磁界の作用の下で静電像に
きわめて近接して対向させ、トナーを飛翔させることに
より現像する。ジャンピング法である。この方法によれ
ば、スリーブとトナーの接触する度合を増し、−成分現
像剤としては良好な摩m借電を可能にした事1m力によ
ってトナーを支持し、かつ磁石とトナーを相対的に移動
させる事によりトナー粒子相互の東集を解くとともにス
リーブと充分にI!141Iせしめている事、また、ト
ナーを静ffi像に接することなく対向させて現像する
事により地力ブリを防止していること等によって倹れた
画像が得られるものである。しかしながらこの方法でも
、トナー粒子の有するトリボ電荷量は1通常の二成分現
像におけるトナー粒子のトリボ電荷量に比しては著しく
小さい。
これらのような方法において弱い帯電量しか保持してい
ない磁性トナーが使用されると0画像濃度が低い、飛び
散り、にじみ1画像ムラの発生など1両負が不充分にな
る。特に初期の画像濃度が低く1.一定の濃度になるの
に通常数百枚の複写が必要で、この立りりの不安定性が
二成分系現像の大きな問題の一つである。また1画像濃
度を高くするため、現像バイアスを低くすると、地力ブ
リを生じる等開通があった。
ない磁性トナーが使用されると0画像濃度が低い、飛び
散り、にじみ1画像ムラの発生など1両負が不充分にな
る。特に初期の画像濃度が低く1.一定の濃度になるの
に通常数百枚の複写が必要で、この立りりの不安定性が
二成分系現像の大きな問題の一つである。また1画像濃
度を高くするため、現像バイアスを低くすると、地力ブ
リを生じる等開通があった。
このため1m性トナーのトリボ帯電量を改善する必要が
あった。この1段として、負帯電性を有する現像剤に対
してはケイ酸微粉体を添加することが知られており1画
像濃度および画質が向トし、ある程度満足できる画像が
得られている。しかしながら、・・般にケイ酸微粉体は
負荷電性が強く、正帯電性現像剤にA荷電性ケイ酸微粉
体を添加しても良好な画像は得られない。
あった。この1段として、負帯電性を有する現像剤に対
してはケイ酸微粉体を添加することが知られており1画
像濃度および画質が向トし、ある程度満足できる画像が
得られている。しかしながら、・・般にケイ酸微粉体は
負荷電性が強く、正帯電性現像剤にA荷電性ケイ酸微粉
体を添加しても良好な画像は得られない。
一般に、トナーには所望の極性1強さの荷電性を得る目
的で、荷電制御剤を含有させる。正荷電性制御剤として
は1例えば一般に、第4級アンモニウム化合物および有
機染料、特に塩基性染料とモの塩がある0通常の正荷電
性制御剤は、ペンジルジメトルー・\キサデシルアンモ
ニウムクロライド、デシル−トリメチルアンモニウムク
ロライド及びクリスタルバイオレット等である.特にニ
グロシン塩基及び、ニグロシンがしばしば正荷電性制御
剤として用いられている.これらは通常マグネタイトと
熱可塑性樹脂に添加され,加熱溶融分 。
的で、荷電制御剤を含有させる。正荷電性制御剤として
は1例えば一般に、第4級アンモニウム化合物および有
機染料、特に塩基性染料とモの塩がある0通常の正荷電
性制御剤は、ペンジルジメトルー・\キサデシルアンモ
ニウムクロライド、デシル−トリメチルアンモニウムク
ロライド及びクリスタルバイオレット等である.特にニ
グロシン塩基及び、ニグロシンがしばしば正荷電性制御
剤として用いられている.これらは通常マグネタイトと
熱可塑性樹脂に添加され,加熱溶融分 。
散じ、これを微粉砕して、必要に応じて適当な粒径に調
整され使用される。
整され使用される。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、これらの荷電制御剤としての染料は、構
造が複雑で性質が−1しておらず、安定性に乏しい。ま
た、熱混練時の分解、機械的衝撃、摩擦、温湿度条件の
変化、などにより分解又は変質し易く、荷電制御性が低
下する現象を生じ易い。
造が複雑で性質が−1しておらず、安定性に乏しい。ま
た、熱混練時の分解、機械的衝撃、摩擦、温湿度条件の
変化、などにより分解又は変質し易く、荷電制御性が低
下する現象を生じ易い。
従って、これらの荷電制御剤を用いたトナーを複写機に
用い現像すると、複写回数の増大に従い、荷電制御剤が
分解あるいは変質し、耐久中にトナーの劣化を引き起こ
すことがある。
用い現像すると、複写回数の増大に従い、荷電制御剤が
分解あるいは変質し、耐久中にトナーの劣化を引き起こ
すことがある。
又、正荷電性制御剤は、親水性のものが多く。
これらの樹脂中への分散不良のために、溶融混線後、粉
砕した時に、制御剤がトナー表面に露出する。従って高
湿条件下での該トナーの使用時に、これら制御剤が親水
性であるがために良質な画像が得られないという問題点
を有している。
砕した時に、制御剤がトナー表面に露出する。従って高
湿条件下での該トナーの使用時に、これら制御剤が親水
性であるがために良質な画像が得られないという問題点
を有している。
この様に、従来の正荷電性制御剤をトナーに用いた際に
は、トナー粒子間に於て、あるいはトナーとキャリヤー
間、トナーとスリーブのごときトナー担持体間に於て、
トナー粒子表面に発生する電荷値にバラツキを生じ、現
像カブリ、トナー飛散、キャリヤー汚染算の障害が発生
し易い。
は、トナー粒子間に於て、あるいはトナーとキャリヤー
間、トナーとスリーブのごときトナー担持体間に於て、
トナー粒子表面に発生する電荷値にバラツキを生じ、現
像カブリ、トナー飛散、キャリヤー汚染算の障害が発生
し易い。
該トナーを長期保存した際には、用いた正荷電性制御剤
の不安定性のために変質を起こし、使用不能になる場合
が多い。
の不安定性のために変質を起こし、使用不能になる場合
が多い。
そこで、本来負荷電性のケイ酸微粉体を正荷電性に変性
し、添加する方法がある0例えば、特公昭53−224
47号、特開昭58185405号に記載されているよ
うにアミノシランで処理したケイ酸微粉体をトナーに含
有させる方法、また側鎖にアミンを有するシリコーンオ
イルで処理されたケイ酸微粉体を含有させる方法が試み
られている。
し、添加する方法がある0例えば、特公昭53−224
47号、特開昭58185405号に記載されているよ
うにアミノシランで処理したケイ酸微粉体をトナーに含
有させる方法、また側鎖にアミンを有するシリコーンオ
イルで処理されたケイ酸微粉体を含有させる方法が試み
られている。
このような正荷電性のケイ酸微粉体を添加することによ
り、比較的カプリのない鮮明な高濃度の画像を得ること
ができるが、前述のトリポ帯電性に起因する諸問題を充
分に解決するまでには至っていないのが現状である。
り、比較的カプリのない鮮明な高濃度の画像を得ること
ができるが、前述のトリポ帯電性に起因する諸問題を充
分に解決するまでには至っていないのが現状である。
本発明は」二足従来技術の問題点に鑑みてなされたもの
で、カブリがなく、鮮明で高濃度の、特に初期立上り時
に濃度変動のない画像を安定に得ることのできる正荷電
性磁性現像剤の提供を目的とする。
で、カブリがなく、鮮明で高濃度の、特に初期立上り時
に濃度変動のない画像を安定に得ることのできる正荷電
性磁性現像剤の提供を目的とする。
[問題点を解決するための手段および作用]本発明によ
れば、磁性トナーと正荷電性ケイ酸微粉体と周期律表の
IVa族に属する元素の酸化物粉末とから成る正荷電性
磁性現像剤が提供される。なお、ここで言う周期律表は
、理化学辞典(層液書店、第3版) P、 1484に
記載のものによる。
れば、磁性トナーと正荷電性ケイ酸微粉体と周期律表の
IVa族に属する元素の酸化物粉末とから成る正荷電性
磁性現像剤が提供される。なお、ここで言う周期律表は
、理化学辞典(層液書店、第3版) P、 1484に
記載のものによる。
ここで正荷電性ケイ酸微粉体とは、鉄粉キャリヤーとの
帯電量が+5pC/g以上のものをいう。
帯電量が+5pC/g以上のものをいう。
この帯電量測定はまず、被検物質(ケイ酸微粉体)を2
007300メツシユの粒径を有する鉄粉ギヤリヤーと
1 + 100の割合で混合したものを0.5〜1.5
g精秤する。これをエレクトロメーターと接続された金
属製400メツシユスクリーン上で25cmH2Oの圧
力により吸引し、その時分離吸引された被検物質とその
電荷量より単位重量当りの帯電量が求まる。
007300メツシユの粒径を有する鉄粉ギヤリヤーと
1 + 100の割合で混合したものを0.5〜1.5
g精秤する。これをエレクトロメーターと接続された金
属製400メツシユスクリーン上で25cmH2Oの圧
力により吸引し、その時分離吸引された被検物質とその
電荷量より単位重量当りの帯電量が求まる。
なお、本明細書中では、ケイI%i微粉体とは、無水二
酸化ケイ素(シリカ)、その他、ケイ酸アルミニウム、
ケイ酩ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸マグネシウ
ム、ケイ酸亜鉛などのケイ酸塩などをさす。
酸化ケイ素(シリカ)、その他、ケイ酸アルミニウム、
ケイ酩ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸マグネシウ
ム、ケイ酸亜鉛などのケイ酸塩などをさす。
また、本明細書中では、便宜的に「磁性現像剤」と「ト
ナー」の2種類の名称を用いているが、「トナー」とは
「磁性現像剤」の一部であり、結着樹脂、磁性体、染料
、顔料、荷電制御剤、流動改質剤、滑剤等から選ばれる
成分から成るものであるが、これに正荷電性ケイ酸微粉
体や、周期律表の■族の酸化物、必要に応じてカーボン
やその他の添加物を適宜加えたものを「磁性現像剤」と
いう。
ナー」の2種類の名称を用いているが、「トナー」とは
「磁性現像剤」の一部であり、結着樹脂、磁性体、染料
、顔料、荷電制御剤、流動改質剤、滑剤等から選ばれる
成分から成るものであるが、これに正荷電性ケイ酸微粉
体や、周期律表の■族の酸化物、必要に応じてカーボン
やその他の添加物を適宜加えたものを「磁性現像剤」と
いう。
本発明で用いられるケイ酸微粉体は乾式法及び湿式法で
製造される。乾式法とは、ケイ素ハロゲン化合物の蒸気
相酸化により生成するシリカ微粉体の製造法のことであ
る。例えば、四塩化ケイ素では次の反応式で表わされる
。
製造される。乾式法とは、ケイ素ハロゲン化合物の蒸気
相酸化により生成するシリカ微粉体の製造法のことであ
る。例えば、四塩化ケイ素では次の反応式で表わされる
。
5iGi’4+ 2H2+ 02→5i02÷4 HC
I!また、この工程中、塩化アルミニウムまたは塩化チ
タンなど他の金属/飄ロゲン化合物をケイ素/\ロゲン
化合物と共に用いる五によって得られるシリカと他の金
属酸化物の複合微粉体も包含する。乾式法により製造さ
れたケイ酸微粉体(シリカ)の市販品には次のようなも
のがある。
I!また、この工程中、塩化アルミニウムまたは塩化チ
タンなど他の金属/飄ロゲン化合物をケイ素/\ロゲン
化合物と共に用いる五によって得られるシリカと他の金
属酸化物の複合微粉体も包含する。乾式法により製造さ
れたケイ酸微粉体(シリカ)の市販品には次のようなも
のがある。
AEROSIL (アエロジル)130(日本アエロ
ジル社)200 X50 TTf;00 1110X80 0X170 0K84 Cab−0−SiL (ギヤブオージル)ト5GAB
OT Go、 (キャポット社) MS−7M
S−5 l−5 Wacker HDK N 20
V15(ヴアンケル ヘミエ
GMB)1社)T30D−CFine 5ilica
(7yイン シリカ)タウコーニング社 Fransol (7ランシル) Fransil (フランシル社) また、湿式法には、従来公知の種々の方法がある。たと
えばケイ酸ナトリウムの醜、アンモニア塩類またはアル
カリ塩類による分解、ケイ酸ナトリウムよりアルカリ土
類金属ケイ酸塩を生成せしめた後、酸で分解する方法、
ケイ酸ナトリウム溶液をイオン交換樹1指によりケイ酸
とする方法などがある。
ジル社)200 X50 TTf;00 1110X80 0X170 0K84 Cab−0−SiL (ギヤブオージル)ト5GAB
OT Go、 (キャポット社) MS−7M
S−5 l−5 Wacker HDK N 20
V15(ヴアンケル ヘミエ
GMB)1社)T30D−CFine 5ilica
(7yイン シリカ)タウコーニング社 Fransol (7ランシル) Fransil (フランシル社) また、湿式法には、従来公知の種々の方法がある。たと
えばケイ酸ナトリウムの醜、アンモニア塩類またはアル
カリ塩類による分解、ケイ酸ナトリウムよりアルカリ土
類金属ケイ酸塩を生成せしめた後、酸で分解する方法、
ケイ酸ナトリウム溶液をイオン交換樹1指によりケイ酸
とする方法などがある。
湿式法で合成されたケイ酸微粉体の市販品としては次の
様なものがある。
様なものがある。
カープレックス 塩野義製薬二7プシール
日本シリカトクシール、ファインシー
ル i 山=−達ビタシール 多木製
肥ジルトン、シルネックス 水沢化学スターシル
神島化学ヒメジール
愛媛薬品サイロイド 富士デビンン化学
Hi−Si+ (ハイシール) PittSburgh Plate Glass Co
。
日本シリカトクシール、ファインシー
ル i 山=−達ビタシール 多木製
肥ジルトン、シルネックス 水沢化学スターシル
神島化学ヒメジール
愛媛薬品サイロイド 富士デビンン化学
Hi−Si+ (ハイシール) PittSburgh Plate Glass Co
。
(ピッツバーグ プレート グラス)
Durosil (ドウロシール)
Ultrasil (ウルトラシール)Fiillst
off−Gesellschaft Marquart
(フユールストツフ・ゲゼールシャフトマルクオルト) Manosil (マノシール) Hardman and Ho1der+(ハードマン
アンド ホールデン) Hoescb (ヘアシュ) Ghemische Fabrik Hoesch K
−G(ヒエミッシュ・ファブリーク ヘラシュ)Sil
−3tone (シル−ストーン)Stoner R
ubber Co。
off−Gesellschaft Marquart
(フユールストツフ・ゲゼールシャフトマルクオルト) Manosil (マノシール) Hardman and Ho1der+(ハードマン
アンド ホールデン) Hoescb (ヘアシュ) Ghemische Fabrik Hoesch K
−G(ヒエミッシュ・ファブリーク ヘラシュ)Sil
−3tone (シル−ストーン)Stoner R
ubber Co。
(ストーナー ラバー)
Nalco (ナルコ)
Nalco Chew、 Go。
(ナルコ ケミカル)
Qusa (クツ)
Philadelphia Quartz Go。
(フィラデルフィア クォーツ)
Santocell (ナンドセル)Monsant
o Chemical Go。
o Chemical Go。
(モンサントケミカル)
Imsil (イムシル)
111inoisMinerals Co。
(イリノイス ミネラル)
Calcium 5ilikat (カルシウム シ
リカート〕Chetmische Fabrik Ho
esch、 K−G(ヒエミッシュ フアプリーク ヘ
ラシュ)Calsil (カルジル) Fiillstoff−Gesellschaft M
arquart(フユールストッフーゲゼルシャフト マルクオルト) Fortafil (フォルタフイル)fperial
Ghemical Industries Ltd。
リカート〕Chetmische Fabrik Ho
esch、 K−G(ヒエミッシュ フアプリーク ヘ
ラシュ)Calsil (カルジル) Fiillstoff−Gesellschaft M
arquart(フユールストッフーゲゼルシャフト マルクオルト) Fortafil (フォルタフイル)fperial
Ghemical Industries Ltd。
(インペリアル ケミカル
インダストリーズ)
Microcal (ミクロカル)
ハ サンプ)Manosil
(マノシール) Hardman and Ho1den(ハードマ
ン アンド ホールデン) Vulkasil (プルカジール) Tufknit (タフニー/ト) []urham Chemicals Ltd。
(マノシール) Hardman and Ho1den(ハードマ
ン アンド ホールデン) Vulkasil (プルカジール) Tufknit (タフニー/ト) []urham Chemicals Ltd。
(ドゥルハム ケミカルズ)
シルモス 白石r業スターレック
ス 神話化学フリコシル
多木製肥り記ケイ#微粉体のうち、BET法で測定し
た窒票吸着による比表面精が30m2/g以上(特に5
0〜40h2/g )の範囲のものが良好な結果を芋え
る。
ス 神話化学フリコシル
多木製肥り記ケイ#微粉体のうち、BET法で測定し
た窒票吸着による比表面精が30m2/g以上(特に5
0〜40h2/g )の範囲のものが良好な結果を芋え
る。
これらのケイ酸微粉体を正荷電性に変性し、現像剤中に
含有させると荷電制御性を発揮するが、ケイ酸微粉体を
正荷電性に変性させる方法としては、側鎖にアミンを有
するシリコーンオイルで処理する方法、アミノシランで
処理する方法などがある。
含有させると荷電制御性を発揮するが、ケイ酸微粉体を
正荷電性に変性させる方法としては、側鎖にアミンを有
するシリコーンオイルで処理する方法、アミノシランで
処理する方法などがある。
側鎖にアミンを右−するシリコーンオイルとしては、一
般に(1)式で表わぜる構成中位を含むシリコーンオイ
ルが使用される。
般に(1)式で表わぜる構成中位を含むシリコーンオイ
ルが使用される。
一5i−0−・・・・・・(1)
■
(ここで、R1は水素、アルキル基、アリール基又はア
ルコキシ基を表わし、R2はアルキレン基又はフェニレ
ン基、R3、R4は水素、アルキル基又はアリール基を
表わす。ただし、上記アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、アルキレン基、フェニレン基はアミンを含有し
ていても良いし、帯電性を損ねない範囲でハロゲン等の
置換基を有していても良い。) このうち、市販のものとしては例えば次の構造式で表わ
されるものが好ましく使用しうる。
ルコキシ基を表わし、R2はアルキレン基又はフェニレ
ン基、R3、R4は水素、アルキル基又はアリール基を
表わす。ただし、上記アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、アルキレン基、フェニレン基はアミンを含有し
ていても良いし、帯電性を損ねない範囲でハロゲン等の
置換基を有していても良い。) このうち、市販のものとしては例えば次の構造式で表わ
されるものが好ましく使用しうる。
(ここで、R1、Ra 、 R5はアルキル基、アリー
ル基を表わし、R2はアルキレン基又はフェニレン基を
表わし、R3は水素、アルキル基、アリール基を表わす
。5.。は1以上の整数である。)具体的には次のもの
が好ましく、1種又は2種以上の混合系で用いてもよい
。
ル基を表わし、R2はアルキレン基又はフェニレン基を
表わし、R3は水素、アルキル基、アリール基を表わす
。5.。は1以上の整数である。)具体的には次のもの
が好ましく、1種又は2種以上の混合系で用いてもよい
。
25℃における
商 品 名 粘度 (。ps)
”′5F8417 ()−レ・シリコーン社製)
1200 訳KF393 (信越化学社
製)60′KF857 (信越化学社製)70)KF
880 (信越化学社製) 25
0 71KF881 (信越化学社製)
3500 21KF862 (信
越化学社製) 750 1’
KF864 (信越化学社製) 1
700 3KF865 (信越化学社製)
90 4400KF313!3
(信越化学社製) 20
320KF3113 (信越化学社製)
20 320X−22−3680
(信越化学社製) 90 as
o。
”′5F8417 ()−レ・シリコーン社製)
1200 訳KF393 (信越化学社
製)60′KF857 (信越化学社製)70)KF
880 (信越化学社製) 25
0 71KF881 (信越化学社製)
3500 21KF862 (信
越化学社製) 750 1’
KF864 (信越化学社製) 1
700 3KF865 (信越化学社製)
90 4400KF313!3
(信越化学社製) 20
320KF3113 (信越化学社製)
20 320X−22−3680
(信越化学社製) 90 as
o。
X−2,2−3800(信越化学社製)
2300 3800X−22−380IC(信越
化学社製) 3500 3800X
−22−3810B (信越化学社製)
1300 1700なお、アミン当量とは、アミ
ン1個あたりの当量(g/eqiマ〕で、分子量を1分
子あたりのアミンの数で割った値である。また、25℃
における粘度は5000cps以■が好ましく、特に3
000cps以下が当量 好ましい。5000cps
以りでは、ケイ酸微粉体への100 分散が不充分と
なりカブリ等の不良画像の原因と:6o なり易い
。
2300 3800X−22−380IC(信越
化学社製) 3500 3800X
−22−3810B (信越化学社製)
1300 1700なお、アミン当量とは、アミ
ン1個あたりの当量(g/eqiマ〕で、分子量を1分
子あたりのアミンの数で割った値である。また、25℃
における粘度は5000cps以■が好ましく、特に3
000cps以下が当量 好ましい。5000cps
以りでは、ケイ酸微粉体への100 分散が不充分と
なりカブリ等の不良画像の原因と:6o なり易い
。
130 L記、ケイ酸微粉体の側鎖にアミンを有
するシ;oo リコーンオイルによる処理は、例え
ば、次のよう100 イ酸微粉体を激しく撹乱して
おき、これに上記側溶液をスプレーもしくは気化して吹
きつけるか、又は、ケイ酸微粉体をスラリー状にしてお
き、これを攪拌しつつ側鎖にアミンを有するシリコーン
オイル或はその溶液を添加することによって容易に処理
することができる。このときのa鎖にアミンを有するシ
リコーンオイルの添加量は、処理されたケイ酸微粉体全
量の0.2〜70重量パーセント、現像剤中に0.00
01−10重量パーセントとなるようにするのが良い。
するシ;oo リコーンオイルによる処理は、例え
ば、次のよう100 イ酸微粉体を激しく撹乱して
おき、これに上記側溶液をスプレーもしくは気化して吹
きつけるか、又は、ケイ酸微粉体をスラリー状にしてお
き、これを攪拌しつつ側鎖にアミンを有するシリコーン
オイル或はその溶液を添加することによって容易に処理
することができる。このときのa鎖にアミンを有するシ
リコーンオイルの添加量は、処理されたケイ酸微粉体全
量の0.2〜70重量パーセント、現像剤中に0.00
01−10重量パーセントとなるようにするのが良い。
また、ケイ酸微粉体の表面処理に用いるアミノシランは
、いわゆるアミノファンクショナルシランで一般式、 X、 S i Y。
、いわゆるアミノファンクショナルシランで一般式、 X、 S i Y。
(Xはアルコキシ基またはクロル原子、1は1〜3の整
数、Yは1級〜3級アミン基を有する炭化水素基、nは
3〜lの整数である。) で示され、次のような化合物が挙げられる。
数、Yは1級〜3級アミン基を有する炭化水素基、nは
3〜lの整数である。) で示され、次のような化合物が挙げられる。
CH3
Hz N−CH2CH2NHCH2CH2CH2S i
−(OCH3)2IhN−C:0NH−C:IhG)
120H2−Si−(00,+H5)3H2N−CTo
CH?G)12si(OCH20H3)3H2NCH?
CH7NHCH2CIh CH25i (OCH3)
3H2NCH2GH2CToSi(OCH+)CH7
NCH20H2N)(C1h CH2NHCH2CH2
CH2S i (OClb ) 3Hs020GOCI
2GH2NHCH2GHzGHzSi(OCH:+hH
5C20COCH2CH2NHCH? CH2NHC:
H2CH2CH2S i (OGH:+ )3H5C2
0COCH2GH2NHCH2CH7NHCH2CH2
NHCH7CH2CHCIh CH2C1h S i
(OCH3) 3N87CもH^Si (OCH+ )
3C6H5NHGH2GH7CH2Si (QC:H+
)3或はポリアミノアルキルトリアルコキシシランな
どが挙げられ、これらは1種または2種以上の混合系で
用いてもよい。
−(OCH3)2IhN−C:0NH−C:IhG)
120H2−Si−(00,+H5)3H2N−CTo
CH?G)12si(OCH20H3)3H2NCH?
CH7NHCH2CIh CH25i (OCH3)
3H2NCH2GH2CToSi(OCH+)CH7
NCH20H2N)(C1h CH2NHCH2CH2
CH2S i (OClb ) 3Hs020GOCI
2GH2NHCH2GHzGHzSi(OCH:+hH
5C20COCH2CH2NHCH? CH2NHC:
H2CH2CH2S i (OGH:+ )3H5C2
0COCH2GH2NHCH2CH7NHCH2CH2
NHCH7CH2CHCIh CH2C1h S i
(OCH3) 3N87CもH^Si (OCH+ )
3C6H5NHGH2GH7CH2Si (QC:H+
)3或はポリアミノアルキルトリアルコキシシランな
どが挙げられ、これらは1種または2種以上の混合系で
用いてもよい。
しかして1−記ケイ酸微粉体表面のアミノファンクショ
ナルシランによる処理は例えば次のようにして行ない得
る。即ちケイ酸微粉体を攪拌しておき、これに上記アミ
ノシラン化合物乃至その溶液をスプレーもしくは気化し
て吹きつけるか、またはケイ酸微粉体をスラリー状化し
ておき、これに攪拌を施しつつアミノシラン化合物の溶
液を滴下することによって容易に処理できる。アミノシ
ランの添加量はケイ酸微粉体100重量部に対して0.
01〜10重量部、好ましくは0.1〜5改量部である
。
ナルシランによる処理は例えば次のようにして行ない得
る。即ちケイ酸微粉体を攪拌しておき、これに上記アミ
ノシラン化合物乃至その溶液をスプレーもしくは気化し
て吹きつけるか、またはケイ酸微粉体をスラリー状化し
ておき、これに攪拌を施しつつアミノシラン化合物の溶
液を滴下することによって容易に処理できる。アミノシ
ランの添加量はケイ酸微粉体100重量部に対して0.
01〜10重量部、好ましくは0.1〜5改量部である
。
又、特公昭54−18220号に記載されているように
前記ケイ酸微粉体表面上のシラノール基と有機ケイ素化
合物を反応させて正荷電性ケイ酸微粉体を得ても良い。
前記ケイ酸微粉体表面上のシラノール基と有機ケイ素化
合物を反応させて正荷電性ケイ酸微粉体を得ても良い。
又、本発明に用いられるケイ#微粉体に、必要に応じて
従来公知の疎水化処理剤でさらに処理してもよく、その
方法も公知の方法が用いられ、ケイm微粉体と反応ある
いは物理吸着する有機ケイ素化合物などで化学的に処理
することによって付与される。
従来公知の疎水化処理剤でさらに処理してもよく、その
方法も公知の方法が用いられ、ケイm微粉体と反応ある
いは物理吸着する有機ケイ素化合物などで化学的に処理
することによって付与される。
その様な有機ケイ素化合物の例は、ヘキサメチルジシラ
ザン、トリメチルシラン、トリメチルシリルシラン、l
・ジメチルエトキシシラン、ジメチルジクロルシラン、
メチルトリクロルシラン、アリルジメチルクロルシラン
、アリルフェニルジクロルシラン、ベンジルジメチルク
ロルシラン、ブロムメチルジメチルクロルシラン、α−
クロルエチルトリクロルシラン、β−クロルエチルトリ
クロルシラン、クロルメチルジメチルクロルシラン、ト
リオルカ゛ノシリルメル力ブタン、トリメチルシリルメ
ルカプタン、トリオルガノシリルアクリレート、ビニル
ジメチルアセトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、
ジメチルジメ)・キシシラン、ジフェニルジェトキシシ
ラン、ヘキサメチルジシロキサン、1,3−ジビニルテ
トラメチルジシロキサン、1.3−ジフェニルテトラメ
チルジシロキサン、および1分子ちり2から12個のシ
ロキサン単位を有し末端に位置する中位にそれぞれ1個
宛のSiに結合した水酸基を含有するジメチルポリシロ
キサン等がある。これらは1種あるいは2種以上の混合
物で用いられる。
ザン、トリメチルシラン、トリメチルシリルシラン、l
・ジメチルエトキシシラン、ジメチルジクロルシラン、
メチルトリクロルシラン、アリルジメチルクロルシラン
、アリルフェニルジクロルシラン、ベンジルジメチルク
ロルシラン、ブロムメチルジメチルクロルシラン、α−
クロルエチルトリクロルシラン、β−クロルエチルトリ
クロルシラン、クロルメチルジメチルクロルシラン、ト
リオルカ゛ノシリルメル力ブタン、トリメチルシリルメ
ルカプタン、トリオルガノシリルアクリレート、ビニル
ジメチルアセトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、
ジメチルジメ)・キシシラン、ジフェニルジェトキシシ
ラン、ヘキサメチルジシロキサン、1,3−ジビニルテ
トラメチルジシロキサン、1.3−ジフェニルテトラメ
チルジシロキサン、および1分子ちり2から12個のシ
ロキサン単位を有し末端に位置する中位にそれぞれ1個
宛のSiに結合した水酸基を含有するジメチルポリシロ
キサン等がある。これらは1種あるいは2種以上の混合
物で用いられる。
かくして側鎖にアミンを有するシリコーンオイルあるい
はアミノシランなどで表面処理したケイ酸微粉体を、現
像剤をなす他の構成成分たるバインダーとしての樹脂や
着色剤と混練、配合した後粉砕、分級することにより所
要の現像剤は得られる。尚上記ケイ酸微粉体の表面処理
は、この現像剤調整過程で行なってもよい。即ち所要の
ケイ酸微粉体をバインダーとしての樹脂などと混練、配
合する工程で上記側鎖にアミンを有するシリコーンオイ
ルあるいはアミノシランなどを加えて混練、配合と併せ
てケイ酸微粉体の表面処理を行なってもよい。
はアミノシランなどで表面処理したケイ酸微粉体を、現
像剤をなす他の構成成分たるバインダーとしての樹脂や
着色剤と混練、配合した後粉砕、分級することにより所
要の現像剤は得られる。尚上記ケイ酸微粉体の表面処理
は、この現像剤調整過程で行なってもよい。即ち所要の
ケイ酸微粉体をバインダーとしての樹脂などと混練、配
合する工程で上記側鎖にアミンを有するシリコーンオイ
ルあるいはアミノシランなどを加えて混練、配合と併せ
てケイ酸微粉体の表面処理を行なってもよい。
このようにして処理されたケイ酸微粉体の適用賃はトナ
ー100重量部に対して0.01〜20重量部のときに
効果を発揮し、特に好ましくは0.05〜5重量部添加
した際に優れた安定性を有する正の帯電性を示す。
ー100重量部に対して0.01〜20重量部のときに
効果を発揮し、特に好ましくは0.05〜5重量部添加
した際に優れた安定性を有する正の帯電性を示す。
本発明に使用しうるrVa族元素の酸化物としては、酸
化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウムがあげら
れる。
化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウムがあげら
れる。
酸化チタンは2,3.4価のものがあり、酸化チタン(
II)TiOは酸化チタン(IT)を炭素または金属で
還元して得られる。酸化チタン(I[[)は酸化チタン
(IV)を水素と塩化チタン(rV)の混合気で還元し
て得られる。酸化チタン(IV)は、ルチル型、板チタ
ン石型、鋭錐石型の3種の変態があり、実験室で製する
にはチタン(IV) J′!I水溶液から水酸化物を沈
殿分離し、強熱する。高温で焼けばルチル型が得られ、
鋭錐石型は硫酸水未カリウt・融解塩中に酸化チタン(
IV)粉末を少量ずつ溶かして得られる。4価のチタン
のハロゲン化物を水蒸気、二酸化炭素とともに赤熱管中
に通じると板チタン石型が得られる。白色顔料用として
市販されているもので充分満足のいく結果が得られる。
II)TiOは酸化チタン(IT)を炭素または金属で
還元して得られる。酸化チタン(I[[)は酸化チタン
(IV)を水素と塩化チタン(rV)の混合気で還元し
て得られる。酸化チタン(IV)は、ルチル型、板チタ
ン石型、鋭錐石型の3種の変態があり、実験室で製する
にはチタン(IV) J′!I水溶液から水酸化物を沈
殿分離し、強熱する。高温で焼けばルチル型が得られ、
鋭錐石型は硫酸水未カリウt・融解塩中に酸化チタン(
IV)粉末を少量ずつ溶かして得られる。4価のチタン
のハロゲン化物を水蒸気、二酸化炭素とともに赤熱管中
に通じると板チタン石型が得られる。白色顔料用として
市販されているもので充分満足のいく結果が得られる。
酸化ジルコニウムZrO2はジルコニウム酸の加熱ある
いはジルコニウム塩の熱分解によって得られ、白色微粉
状のものが市販されており、純度は一級試薬で95%以
上あり、本発明の目的にはこれで充分である。
いはジルコニウム塩の熱分解によって得られ、白色微粉
状のものが市販されており、純度は一級試薬で95%以
上あり、本発明の目的にはこれで充分である。
酸化ハフニウム旧02は水酸化ハフニウムを強熱すると
得られる白色結晶である。
得られる白色結晶である。
これらの金属酸化物はトナー100重量部に対して0.
1〜20重量%、好ましくは0.2〜5重量%含有させ
ることが望ましい。その粒径としては、5ル以下、好ま
しくは0.01〜3牌の範囲であることが望ましい。
1〜20重量%、好ましくは0.2〜5重量%含有させ
ることが望ましい。その粒径としては、5ル以下、好ま
しくは0.01〜3牌の範囲であることが望ましい。
本発明に使用する結着樹脂としては公知のものがすべて
使用可能であるが、例えばポリスチレン、ポリ−p−ク
ロルスチレン、ポリビニルトルエンなどのスチレン及び
その置換体の単重合体:スチレン−p−クロルスチレン
共重合体、スチレン−プロピレン共重合体、スチレン−
ビニル)・ルエン共重合体、スチレン−ビニルナフタリ
ン共重合体、スチレン−アクリル酸メチル共重合体、ス
チレン−アクリル酸エチル共重合体、スチレン−アクリ
ル酸ブチル共重合体、スチレン−アクリル酸オクチル共
重合体、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチ
レン−メタクリル酸エチル共重合体、スチレン−メタク
リル酸ブチル共重合体、スチレン−α−クロルメタクリ
ル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重
合体、スチレン−ビニルメチルエーテル共重合体、スチ
レン−ビニルエチルエーテル共重合体、スチレン−ビニ
ルメチルケトン共重合体、スチレン−ブタジェン共重合
体、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−アクリ
ロニトリル−インデン共重合体、スチレン−マレイン酸
共重合体、スチレン−マレイン酸エステル共重合体など
のスチレン系共重合体;ポリメチルメタクリレート、ポ
リブチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、
ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリビニルブチラール、
ポリアマイド、ポリアクリル酸樹脂、ロジン、変性ロジ
ン、テルペン樹脂、フェノール樹脂、脂肪族又は脂環族
炭化本末樹脂、芳香族系石油樹脂、塩素化パラフィン、
パラフィン、ワンクスなどが単独或は混合して使用でき
る。
使用可能であるが、例えばポリスチレン、ポリ−p−ク
ロルスチレン、ポリビニルトルエンなどのスチレン及び
その置換体の単重合体:スチレン−p−クロルスチレン
共重合体、スチレン−プロピレン共重合体、スチレン−
ビニル)・ルエン共重合体、スチレン−ビニルナフタリ
ン共重合体、スチレン−アクリル酸メチル共重合体、ス
チレン−アクリル酸エチル共重合体、スチレン−アクリ
ル酸ブチル共重合体、スチレン−アクリル酸オクチル共
重合体、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチ
レン−メタクリル酸エチル共重合体、スチレン−メタク
リル酸ブチル共重合体、スチレン−α−クロルメタクリ
ル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重
合体、スチレン−ビニルメチルエーテル共重合体、スチ
レン−ビニルエチルエーテル共重合体、スチレン−ビニ
ルメチルケトン共重合体、スチレン−ブタジェン共重合
体、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−アクリ
ロニトリル−インデン共重合体、スチレン−マレイン酸
共重合体、スチレン−マレイン酸エステル共重合体など
のスチレン系共重合体;ポリメチルメタクリレート、ポ
リブチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、
ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリビニルブチラール、
ポリアマイド、ポリアクリル酸樹脂、ロジン、変性ロジ
ン、テルペン樹脂、フェノール樹脂、脂肪族又は脂環族
炭化本末樹脂、芳香族系石油樹脂、塩素化パラフィン、
パラフィン、ワンクスなどが単独或は混合して使用でき
る。
この結着樹脂に磁性体を含有せしめ粒子化した時の粒径
としては、一般のトナー粒径である5〜30壓が好まし
い。
としては、一般のトナー粒径である5〜30壓が好まし
い。
また、結着樹脂中に含有する磁性体としては、鉄、コバ
ルト、ニッケルなどの強磁性元素及びこれらを含む合金
や化合物であるマグネタイト、ヘマタイト、フェライト
などが適宜に使用できる。その粒度としては100〜8
00+sg、好ましくは300〜500ra p、であ
り、結着樹脂100重量部に対して30〜100重量部
、より好ましくは40〜80重量部含有することが好適
である。
ルト、ニッケルなどの強磁性元素及びこれらを含む合金
や化合物であるマグネタイト、ヘマタイト、フェライト
などが適宜に使用できる。その粒度としては100〜8
00+sg、好ましくは300〜500ra p、であ
り、結着樹脂100重量部に対して30〜100重量部
、より好ましくは40〜80重量部含有することが好適
である。
そのほか、本磁性トナー中に荷電制御剤、流動改質剤、
色剤、滑剤等を必要に応じて添加(外添)または含有(
内添)しても何ら本発明をさまたげるものではない。
色剤、滑剤等を必要に応じて添加(外添)または含有(
内添)しても何ら本発明をさまたげるものではない。
本発明の磁性トナーの製造にあたっては熱ロール、ニー
ダ−、エクストルーダー等の熱混練機によって構成材料
を良く混練した後機械的な粉砕、分級によって得る方法
が適用できる。
ダ−、エクストルーダー等の熱混練機によって構成材料
を良く混練した後機械的な粉砕、分級によって得る方法
が適用できる。
さらに前記各無機物粉末を該磁性トナーに添加含有せし
めるにあたっては公知の混合機、例えばV型混合機、タ
ープラミキサ−などの回転容器型混合機やリボン型、ス
クリュ型、回転刃型、その他の固定容器型混合機を適宜
に用いることができる。
めるにあたっては公知の混合機、例えばV型混合機、タ
ープラミキサ−などの回転容器型混合機やリボン型、ス
クリュ型、回転刃型、その他の固定容器型混合機を適宜
に用いることができる。
あるいは結着樹脂溶液中に磁性粉等の材料を分散した後
、噴霧乾燥することにより得る方法、また、結着樹脂を
構成すべき単量体に所定材料を混合した後、この乳化懸
濁液を重合させることにより磁性ト升−を得る重合法ト
ナー製造法等それぞれの方法が応用出来る。
、噴霧乾燥することにより得る方法、また、結着樹脂を
構成すべき単量体に所定材料を混合した後、この乳化懸
濁液を重合させることにより磁性ト升−を得る重合法ト
ナー製造法等それぞれの方法が応用出来る。
[実施例コ
以下実施例によりさらに詳細に説明する。
マグネタイト 。。重量部(戸田
r業製EPT−1000) 低分子量ポリエチレンワックス 4重量部上記材料
を混合し、ロールミルにて溶融混練する。冷却後、/\
ンマーミルにて粗粉砕した後、ジェット粉砕機にて微粉
砕する。次1.%で風力分級機を用いて分級し粒径がお
よそ5〜30牌の磁性トナーを得た。
r業製EPT−1000) 低分子量ポリエチレンワックス 4重量部上記材料
を混合し、ロールミルにて溶融混練する。冷却後、/\
ンマーミルにて粗粉砕した後、ジェット粉砕機にて微粉
砕する。次1.%で風力分級機を用いて分級し粒径がお
よそ5〜30牌の磁性トナーを得た。
L記磁性トナーに各種正荷電性ケイ酸微粉体及び■a族
元素酸化物及びその他を添カロし、磁性現像剤を作成し
た。
元素酸化物及びその他を添カロし、磁性現像剤を作成し
た。
実施例1
乾式法で合成されたケイ酸微粉体(商品名アエロジル1
1130.比表面積およそ130+++2/g ;アエ
ロジル社製)100重量部を攪拌しながら250℃に保
持して側鎖にアミンを有するシリコーンオイル(KF8
57 、25℃における粘度70cps 、アミン当量
830、信越化学製)2叫1部を噴霧し、10分間で処
理した。
1130.比表面積およそ130+++2/g ;アエ
ロジル社製)100重量部を攪拌しながら250℃に保
持して側鎖にアミンを有するシリコーンオイル(KF8
57 、25℃における粘度70cps 、アミン当量
830、信越化学製)2叫1部を噴霧し、10分間で処
理した。
前記磁性トナーtoo z置部にE記の側鎖にアミンを
有するシリコーンオイルで処理したケイ酸微粉体0.4
重量部と酸化チタン(IV) (TiO2,東京化成
製試薬1級)2重量部を外添混合し磁性現像剤とした。
有するシリコーンオイルで処理したケイ酸微粉体0.4
重量部と酸化チタン(IV) (TiO2,東京化成
製試薬1級)2重量部を外添混合し磁性現像剤とした。
実施例2
乾式法で合成されたケイ酸微粉体(アエロジル0X−5
0、比表面積およそ50m2/g;アエロジル社製91
00重量部を側鎖にアミンを有するシリコーンオイル(
KF393 、25℃における粘度GOcps 、アミ
ン当g=360.信越化学製)1重量部で処理したもの
を用いることを除いては実施例1とほぼ同様にして磁性
現像剤を得た。
0、比表面積およそ50m2/g;アエロジル社製91
00重量部を側鎖にアミンを有するシリコーンオイル(
KF393 、25℃における粘度GOcps 、アミ
ン当g=360.信越化学製)1重量部で処理したもの
を用いることを除いては実施例1とほぼ同様にして磁性
現像剤を得た。
実施例3
乾式法で合成されたケイ酸微粉体(アエロジル霧200
、比表面積的200m2/g ;アエロジル社製)10
0重量部を側鎖にアミンを有するシリコーンオイル(X
−22−3801C:、 25℃における粘度3500
cps、アミン当量3800、信越化学製)40重量部
で処理したものを用いることを除いては実施例1とほぼ
同様にして磁性現像剤を得た。
、比表面積的200m2/g ;アエロジル社製)10
0重量部を側鎖にアミンを有するシリコーンオイル(X
−22−3801C:、 25℃における粘度3500
cps、アミン当量3800、信越化学製)40重量部
で処理したものを用いることを除いては実施例1とほぼ
同様にして磁性現像剤を得た。
実施例4
湿式法で合成されたケイ酸微粉体(プルカジールC1比
表面M約80s2/g;フアルペンファブリーケンバイ
エル製)100重量部を側鎖にアミンを有するシリコー
ンオイル(X−22−38108、粘度1300cps
、アミン”+u1700、信越化学製)10−mW部
で処理したものを用いることを除いては実施例1とほぼ
同様にして磁性現像剤を得た。
表面M約80s2/g;フアルペンファブリーケンバイ
エル製)100重量部を側鎖にアミンを有するシリコー
ンオイル(X−22−38108、粘度1300cps
、アミン”+u1700、信越化学製)10−mW部
で処理したものを用いることを除いては実施例1とほぼ
同様にして磁性現像剤を得た。
実施例5
乾式法で合成されたケイ酸微粉体(アエロジル1138
0、比表面積的380m2/g ;アエロジル社製)1
00重量部を側鎖にアミンを有するシリコーンオイル(
KF8G2 、粘度750、アミン当量1900、信越
化学製)40重量部で処理したものを用いることを除い
ては実施例1とほぼ同様にして磁性現像剤を得た。
0、比表面積的380m2/g ;アエロジル社製)1
00重量部を側鎖にアミンを有するシリコーンオイル(
KF8G2 、粘度750、アミン当量1900、信越
化学製)40重量部で処理したものを用いることを除い
ては実施例1とほぼ同様にして磁性現像剤を得た。
実施例6
湿式法で合成されたケイ酸微粉体(ナルコCD−100
、比表面積的120m2/g ;ナルコケミカル製)1
00重量部を、側鎖にアミンを有するシリコーンオイル
(SF8417、粘度1200cps 、アミンち1.
3500、トーレ・シリコーン製)15重量部で処理し
たものを用いることを除いては、実施例1とほぼ同様に
して磁性現像剤を得た。
、比表面積的120m2/g ;ナルコケミカル製)1
00重量部を、側鎖にアミンを有するシリコーンオイル
(SF8417、粘度1200cps 、アミンち1.
3500、トーレ・シリコーン製)15重量部で処理し
たものを用いることを除いては、実施例1とほぼ同様に
して磁性現像剤を得た。
実施例7
乾式法で合成されたケイ酸微粉体(アエロジル#200
、比表面積的200m2/g ;アエロジル社製)10
0重量部を攪拌しながら、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン(A−1100、日本ユニカー社)2重量部
を90%エタノール20重量部で希釈した溶液をスポイ
トで滴下する。加え終ってから3分間攪拌を続けた後、
このバウタードリキッドをパットに移し、乾燥器の中で
窒素ガス雰囲気中110℃で1時間加熱し、エタノール
を除去する。得られた粉体を再び攪拌しながら、今度は
へキサメチルジシラザン4重量部をヘキサン16重量部
で希釈した溶液を上述同様の方法で分散させ、ヘキサン
を除去する。こうして得られた粉体を還流冷却器、攪拌
槽、温度計の付いた1文のフラスコに移し、150°C
で4時間加熱する。
、比表面積的200m2/g ;アエロジル社製)10
0重量部を攪拌しながら、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン(A−1100、日本ユニカー社)2重量部
を90%エタノール20重量部で希釈した溶液をスポイ
トで滴下する。加え終ってから3分間攪拌を続けた後、
このバウタードリキッドをパットに移し、乾燥器の中で
窒素ガス雰囲気中110℃で1時間加熱し、エタノール
を除去する。得られた粉体を再び攪拌しながら、今度は
へキサメチルジシラザン4重量部をヘキサン16重量部
で希釈した溶液を上述同様の方法で分散させ、ヘキサン
を除去する。こうして得られた粉体を還流冷却器、攪拌
槽、温度計の付いた1文のフラスコに移し、150°C
で4時間加熱する。
前記磁性トナー100重量部に上記アミノシランで処理
したケイ酸微粉体の4重量部と酸化チタン(IV)
(TiOz、東京化成製試薬1級)2重量部を外添混合
し磁性現像剤を得た。
したケイ酸微粉体の4重量部と酸化チタン(IV)
(TiOz、東京化成製試薬1級)2重量部を外添混合
し磁性現像剤を得た。
実施例8
酸化チタン(IV)のかわりに酸化チタン(II)(T
ie、東京化成製1級試薬)を用いることを除いては実
施例1と同様にして磁性現像剤を得た。
ie、東京化成製1級試薬)を用いることを除いては実
施例1と同様にして磁性現像剤を得た。
実施例9
さらにカーボン(三菱化成製140 ) 0.5重量部
も外添混合することを除いては実施例1と同様にして磁
性現像剤を得た。
も外添混合することを除いては実施例1と同様にして磁
性現像剤を得た。
実施例10
酸化チタン2重量部のかわりに酸化ジルコニウム(Zr
02 、東京化成製試薬1級)2重量部を外添混合する
他は実施例1と同様にして磁性現像剤を得た。
02 、東京化成製試薬1級)2重量部を外添混合する
他は実施例1と同様にして磁性現像剤を得た。
実施例11
酸化チタン2重量部のかわりに酸化ジルコニウム(Zr
02 、東京化成製試薬1級)21賃部を外添混合する
他は実施例2と同様にして磁性現像剤を得た。
02 、東京化成製試薬1級)21賃部を外添混合する
他は実施例2と同様にして磁性現像剤を得た。
実施例12
Lこ
酸化チタン2重量部のかわり1酸化ジルコニウム(Zr
02 、東京化成製試薬1級)2重量部を外添混合する
他は実施例3と同様にして磁性現像剤を得た。
02 、東京化成製試薬1級)2重量部を外添混合する
他は実施例3と同様にして磁性現像剤を得た。
実施例13
酸化チタン2重量部のかわりに酸化ジルコニウム(Zr
07 、東京化成製試薬1級)2重量部を外添混合する
他は実施例4と同様にして磁性現像剤を得た。
07 、東京化成製試薬1級)2重量部を外添混合する
他は実施例4と同様にして磁性現像剤を得た。
実施例14
酸化チタン2 重量部のかわりに酸化ジルコニウム(Z
r02 、東京化J&製試薬1級)2重量部を外添混合
する他は実施例5と同様にして磁性現像剤を得た。
r02 、東京化J&製試薬1級)2重量部を外添混合
する他は実施例5と同様にして磁性現像剤を得た。
実施例15
酸化チタン2重量部のかわりに酸化ジルコニウム(Zr
07 、東京化成製試薬1級)2重量部を外添混合する
他は実施例6と同様にして磁性現像剤を得た。
07 、東京化成製試薬1級)2重量部を外添混合する
他は実施例6と同様にして磁性現像剤を得た。
実施例18
酸化チタン2重量部のかわりに酸化ジルコニウム(Zr
02.東京化成製試薬1級)2重量部を外添混合する他
は実施例7と同様にして磁性現像剤を得た。
02.東京化成製試薬1級)2重量部を外添混合する他
は実施例7と同様にして磁性現像剤を得た。
実施例17
酸化チタン2重量部のかわりに酸化ジルコニウム(Zr
02 、東京化成製試薬1級)2重量部を外添混合する
他は実施例9と同様にして磁性現像剤を得た。
02 、東京化成製試薬1級)2重量部を外添混合する
他は実施例9と同様にして磁性現像剤を得た。
比較例1
実施例と同様の磁性トナー100重量部に負荷電性疎水
性コごイダルシリ力(アエロジルRθ72、比表面積的
120+++2/g 、アエロジル社製)0.4重量部
のみを外添混合し、磁性現像剤を得た。
性コごイダルシリ力(アエロジルRθ72、比表面積的
120+++2/g 、アエロジル社製)0.4重量部
のみを外添混合し、磁性現像剤を得た。
比較例2
酸化チタンを外添しない他は実施例1と同様にして磁性
現像剤を得た。
現像剤を得た。
比較例3
酸化チタンを外添しない他は実施例2と同様にして磁性
現像剤を得た。
現像剤を得た。
比較例4
酸化チタンを外添しない他は実施例3と同様にして磁性
現像剤を得た。
現像剤を得た。
比較例5
酸化チタンを外添しない他は実施例4と同様にして磁性
現像剤を得た。
現像剤を得た。
比較例6
酸化チタンを外添しない他は実施例5と同様にして磁性
現像剤を得た。
現像剤を得た。
比較例7
酸化チタンを外添しない他は実施例6と同様にして磁性
現像剤を得た。
現像剤を得た。
比較例8
酸化チタンを外添しない他は実施例7と同様にして磁性
現像剤を得た。
現像剤を得た。
比較例9
酸化チタンを外添しない他は実施例9と同様にして磁性
現像剤を得た。
現像剤を得た。
上記実施例および比較例の常温常湿(25℃、60%R
H) 、高温高湿(35℃、85%R)f) 、低温低
湿(15℃、10%RH)の各種環境条件下における画
像の評価結果を第1表(常温常湿)、第2表(高温高湿
、低温低湿)に示す。表中、Oは良好、Δはやや不良、
×は不良を示す。
H) 、高温高湿(35℃、85%R)f) 、低温低
湿(15℃、10%RH)の各種環境条件下における画
像の評価結果を第1表(常温常湿)、第2表(高温高湿
、低温低湿)に示す。表中、Oは良好、Δはやや不良、
×は不良を示す。
なお、現像方法は、実施例9,17、比較例9について
は磁気ブラシ法により粉体現像してトナー画像を作り、
普通紙に転写し加熱定着させた。それ以外の実施例、比
較例についてはジャンピング法による複写@ (MP−
1502,キャノン林製)を使用して画出しした。
は磁気ブラシ法により粉体現像してトナー画像を作り、
普通紙に転写し加熱定着させた。それ以外の実施例、比
較例についてはジャンピング法による複写@ (MP−
1502,キャノン林製)を使用して画出しした。
各実施例では、得られた転写画像はいずれも最初の1枚
11から充分濃く、かぶりも全くなく、画像周辺のトナ
ー飛び1攻りがなく解像力の高い良好な画像が得られた
。また、連続して転写画像を作成し、耐久性を調べたが
、30,000枚後の転写画像も初期の画像と比較して
全く遜色のない画像であった。そのとき、感光体表面に
トナーが付着し、潜像形成に悪影響を笑えるといった。
11から充分濃く、かぶりも全くなく、画像周辺のトナ
ー飛び1攻りがなく解像力の高い良好な画像が得られた
。また、連続して転写画像を作成し、耐久性を調べたが
、30,000枚後の転写画像も初期の画像と比較して
全く遜色のない画像であった。そのとき、感光体表面に
トナーが付着し、潜像形成に悪影響を笑えるといった。
いわゆるフィルミング現像も全くみられず、クリーニン
グに程での問題は何ら見い出せなかった。
グに程での問題は何ら見い出せなかった。
また、環境条件を高温高湿(35℃、85%RH)、低
温低湿(15℃、10%RH)にしても、常温常湿のと
きとほぼ同様な鮮明な画像が得られ、満足のいく結果が
得られた。
温低湿(15℃、10%RH)にしても、常温常湿のと
きとほぼ同様な鮮明な画像が得られ、満足のいく結果が
得られた。
比較例1では常温常湿ではカブリは少ないが画像濃度が
0.42と低く、線画も飛び散り、ベタ黒はガサツキが
目立った。耐久性については30,000枚時に濃度が
0.20と低下した。また、10,000枚前後から感
光体表面にトナー材料がうすくスジ状に被I模をつくり
画像りに線となってあられれだした(フィルミング〕。
0.42と低く、線画も飛び散り、ベタ黒はガサツキが
目立った。耐久性については30,000枚時に濃度が
0.20と低下した。また、10,000枚前後から感
光体表面にトナー材料がうすくスジ状に被I模をつくり
画像りに線となってあられれだした(フィルミング〕。
高温高湿、低温低湿の条件rでも画像濃度が低く、カブ
リ、飛び散り、ガサツキが[1立った。
リ、飛び散り、ガサツキが[1立った。
比較例2〜9では、比較例1に比べ画像濃度は比較的高
かったが、ケ上りが不安定で一定の濃度に飽和するのに
約100枚を要した。また、高温高湿の条件下や、耐久
性試験での30,000枚時では濃度がやや低下する傾
向があった。また、10,000枚前後からフィルミン
グがあられれだした。
かったが、ケ上りが不安定で一定の濃度に飽和するのに
約100枚を要した。また、高温高湿の条件下や、耐久
性試験での30,000枚時では濃度がやや低下する傾
向があった。また、10,000枚前後からフィルミン
グがあられれだした。
[発明の効果]
以1−説明したように、本発明の磁性現像剤は、安定で
均一・な正帯電性を有し、潜像に忠実な現像及び転写を
行なわしめる。即ち、現像時のバックグランド領域にお
けるトナーの付着、即ちカブリや潜像のエツジ周辺への
トナーの飛びちりがなく、高い画像濃度が得られ、ハー
フトーンの再現性も良い。また画像濃度の立ち上りがな
く初期から画像濃度が高い。
均一・な正帯電性を有し、潜像に忠実な現像及び転写を
行なわしめる。即ち、現像時のバックグランド領域にお
けるトナーの付着、即ちカブリや潜像のエツジ周辺への
トナーの飛びちりがなく、高い画像濃度が得られ、ハー
フトーンの再現性も良い。また画像濃度の立ち上りがな
く初期から画像濃度が高い。
また、本発明の磁性現像剤は、長期にわたる連続あるい
は繰り返しの使用及び長期保存でも初期の特性を維持し
、フィルミング現象を起こさず、クリーニング性が良好
である。また、温度、湿度の変化に影がを受けない安定
した画像を再現し、高湿時、低湿時にも飛び散りゃ転写
ぬけなどがない磁性現像剤である。
は繰り返しの使用及び長期保存でも初期の特性を維持し
、フィルミング現象を起こさず、クリーニング性が良好
である。また、温度、湿度の変化に影がを受けない安定
した画像を再現し、高湿時、低湿時にも飛び散りゃ転写
ぬけなどがない磁性現像剤である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)磁性トナーと正荷電性ケイ酸微粉体と周期律表のI
Va族に属する元素の酸化物粉末を少なくとも含有する
正荷電性磁性現像剤。 2)上記正荷電性ケイ酸微粉体の混合比が磁性トナー1
00重量部に対して0.01〜20重量部である特許請
求の範囲第1項記載の現像剤。 3)上記酸化物の混合比が磁性トナー100重量部に対
して0.1〜20重量部である特許請求の範囲第1項記
載の現像剤。 4)上記酸化物の平均粒径が0.01〜5μである特許
請求の範囲第1項記載の現像剤。 5)上記磁性トナーの平均粒径が5〜30μである特許
請求の範囲第1項記載の現像剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60200460A JPS6261067A (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 磁性現像剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60200460A JPS6261067A (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 磁性現像剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6261067A true JPS6261067A (ja) | 1987-03-17 |
JPH0578831B2 JPH0578831B2 (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=16424671
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60200460A Granted JPS6261067A (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 磁性現像剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6261067A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5405909A (en) * | 1990-10-12 | 1995-04-11 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Thermoplastic elastomer composition |
US5457150A (en) * | 1989-05-23 | 1995-10-10 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing thermoplastic elastomer composition |
US6017999A (en) * | 1990-10-12 | 2000-01-25 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing impact-resistant polyester resin compositions |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57125943A (en) * | 1981-01-30 | 1982-08-05 | Canon Inc | Method for developing electrostatic latent image |
JPS58185405A (ja) * | 1982-04-26 | 1983-10-29 | Nippon Aerojiru Kk | 表面改質金属酸化物微粉末 |
JPS60142354A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-27 | Mita Ind Co Ltd | 磁性現像剤 |
JPS628164A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-16 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | トナ− |
-
1985
- 1985-09-12 JP JP60200460A patent/JPS6261067A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57125943A (en) * | 1981-01-30 | 1982-08-05 | Canon Inc | Method for developing electrostatic latent image |
JPS58185405A (ja) * | 1982-04-26 | 1983-10-29 | Nippon Aerojiru Kk | 表面改質金属酸化物微粉末 |
JPS60142354A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-27 | Mita Ind Co Ltd | 磁性現像剤 |
JPS628164A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-16 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | トナ− |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5457150A (en) * | 1989-05-23 | 1995-10-10 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing thermoplastic elastomer composition |
US5405909A (en) * | 1990-10-12 | 1995-04-11 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Thermoplastic elastomer composition |
US6017999A (en) * | 1990-10-12 | 2000-01-25 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing impact-resistant polyester resin compositions |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0578831B2 (ja) | 1993-10-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |