JPS6252095A - 加圧式充填装置 - Google Patents
加圧式充填装置Info
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- JPS6252095A JPS6252095A JP19197785A JP19197785A JPS6252095A JP S6252095 A JPS6252095 A JP S6252095A JP 19197785 A JP19197785 A JP 19197785A JP 19197785 A JP19197785 A JP 19197785A JP S6252095 A JPS6252095 A JP S6252095A
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- Japan
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- valve
- filling
- container
- liquid
- passage
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- Filling Of Jars Or Cans And Processes For Cleaning And Sealing Jars (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ガス入り飲料(主にビール)を対象とする加
圧式充填バルブの構造に関する。
圧式充填バルブの構造に関する。
第2図は特公昭52−10063号公報に記載されてい
る3室(i体室、戻りガス室、圧力ガス室)を有する高
圧充填装置の断面図である。
る3室(i体室、戻りガス室、圧力ガス室)を有する高
圧充填装置の断面図である。
同図において、充填装置1oは、図に詳細に示されてい
ない回転式充填機に属するリング状の液体室12の底に
ある流出口11の下方に固定されている。
ない回転式充填機に属するリング状の液体室12の底に
ある流出口11の下方に固定されている。
更に開口13を介して大気と通じている別の戻りガス室
14並びに前同様別な圧力ガス室15が上記液体室12
と結合して機械の上部を形成する構成単位となっている
。充填装置10は開口11と同芯的に位置する空間16
の中に外筐の附加物によシ形成された弁座17とばね1
9の力で該弁座に載せられている弁体18とを備えた液
体弁を有する。上記の弁17 、18の下部に続いてい
る空間16に接続した穿孔20の中には充填装置10か
ら下方に向って突出している充填管21が挿し込まれ、
該充填管は円板nを有している。容器の入口を中心線上
に移動させるため充填装置が容器に接触する端は円錐形
に開放されそして充填管21をリング状at隙23で包
囲している円板22が容器の口との気密を保つための設
けられている。
14並びに前同様別な圧力ガス室15が上記液体室12
と結合して機械の上部を形成する構成単位となっている
。充填装置10は開口11と同芯的に位置する空間16
の中に外筐の附加物によシ形成された弁座17とばね1
9の力で該弁座に載せられている弁体18とを備えた液
体弁を有する。上記の弁17 、18の下部に続いてい
る空間16に接続した穿孔20の中には充填装置10か
ら下方に向って突出している充填管21が挿し込まれ、
該充填管は円板nを有している。容器の入口を中心線上
に移動させるため充填装置が容器に接触する端は円錐形
に開放されそして充填管21をリング状at隙23で包
囲している円板22が容器の口との気密を保つための設
けられている。
充填管21には肢管の壁に沿って延長している戻りガス
暗渠24が取シ付けられている。該暗渠には側方に長孔
状(第4図)の孔25を有しそして充填管の下端から充
填装置外ff1lOの内部に位置する球自閉弁26の所
まで延長し、該弁は閉鎖弁体が重い球ηから成シ立ち、
核球は弁が開放している時弁室内の突出体28に支えら
れている(第3図)。
暗渠24が取シ付けられている。該暗渠には側方に長孔
状(第4図)の孔25を有しそして充填管の下端から充
填装置外ff1lOの内部に位置する球自閉弁26の所
まで延長し、該弁は閉鎖弁体が重い球ηから成シ立ち、
核球は弁が開放している時弁室内の突出体28に支えら
れている(第3図)。
戻りガスの流動する方向に見て弁26の活力において、
戻りガス通路羽は戻9ガス室14に接続される排気通路
器により形成され、該排気通路器には弁30とその背屈
に絞り弁31が配置されている。弁26と弁30の間で
排気通路29から別のスニフト通路32が分枝する。該
分枝は前同様絞り弁33を有しそして戻りガス室14と
絞り弁310間で排気通路器に接続される。スニフト通
路32を直接戻りガス室14に接続する形成も考慮可能
である。絞り弁31は大なる貫流直径を有している。
戻りガス通路羽は戻9ガス室14に接続される排気通路
器により形成され、該排気通路器には弁30とその背屈
に絞り弁31が配置されている。弁26と弁30の間で
排気通路29から別のスニフト通路32が分枝する。該
分枝は前同様絞り弁33を有しそして戻りガス室14と
絞り弁310間で排気通路器に接続される。スニフト通
路32を直接戻りガス室14に接続する形成も考慮可能
である。絞り弁31は大なる貫流直径を有している。
圧力ガス室15から、中間に配置された弁35を有する
導管34が導かれ、充填装置が容器に接触する端に到達
しそして充填管円板22のリング状細隙23に流入する
。制御弁37を有する別の接続導管36が圧力ガス導管
あを排気通路29に接続し、そして圧力ガス導管側では
弁部と容器側の流入口との間。
導管34が導かれ、充填装置が容器に接触する端に到達
しそして充填管円板22のリング状細隙23に流入する
。制御弁37を有する別の接続導管36が圧力ガス導管
あを排気通路29に接続し、そして圧力ガス導管側では
弁部と容器側の流入口との間。
排気通路四側ではスニフト通路32の後方で接続される
。弁30 、35および37は目的に従って相並んで配
置されそして1つの構成単位にまとめられム前述の装置
は次のように作動する: 充填過程において、例えば第2図に示されたビンの如き
容器の口が円板22に押し付けられる。それから弁30
を閉鎖した状態で弁おおよび37が開放され、かくして
圧力ガス導管羽を介してビンの中に流入する。それと同
時に圧力ガスは排気通路29、開放されている弁26お
よび暗渠24を介してビンの中に到達し、かくして戻り
ガス通路あの上記の部分に液体が残溜している状態から
残溜液体を排出する。ただし、上記の予備加圧過程では
、圧力ガスはスニフト通路32を介して戻りガス室14
に流出する。
。弁30 、35および37は目的に従って相並んで配
置されそして1つの構成単位にまとめられム前述の装置
は次のように作動する: 充填過程において、例えば第2図に示されたビンの如き
容器の口が円板22に押し付けられる。それから弁30
を閉鎖した状態で弁おおよび37が開放され、かくして
圧力ガス導管羽を介してビンの中に流入する。それと同
時に圧力ガスは排気通路29、開放されている弁26お
よび暗渠24を介してビンの中に到達し、かくして戻り
ガス通路あの上記の部分に液体が残溜している状態から
残溜液体を排出する。ただし、上記の予備加圧過程では
、圧力ガスはスニフト通路32を介して戻りガス室14
に流出する。
ビンの中の圧力ガスの圧力と液体室12の中の液体の圧
力とが等しくなったとき、弁部と37が閉鎖される。こ
の時ばね19の作用で弁体18が弁座17から持ち上げ
られそして液体は充填管2工を介してビンの中に流入を
許される。この際圧縮される圧力ガスは孔25を介して
暗渠24の中に流入しそして開放されている弁26を介
し排気通路29の開放されている部分およびスニフト通
路32を通シ戻りガス室14に到達するが、その除光づ
絞り弁33が充填の始めに当って充填速度を定めそして
その貫流直径が小さいことによシ静かで気泡が発生しな
い様な飲料の流入が保証される。以上に引続いて充填管
の端が飲料の中に浸されると、弁30が開放されそして
接続された排気通路器によシビンの充填が加速されて実
施され、その際2つの絞り弁31および33゜が充填速
度を決定する。充填過程は、充填物が充填管の孔25に
到達し、暗渠24の中を弁26まで上昇しそして附加物
28によって支えられていた閉鎖弁nで排気通路器を閉
鎖する時終了する。液体弁体18はその後閉鎖位置に戻
る。
力とが等しくなったとき、弁部と37が閉鎖される。こ
の時ばね19の作用で弁体18が弁座17から持ち上げ
られそして液体は充填管2工を介してビンの中に流入を
許される。この際圧縮される圧力ガスは孔25を介して
暗渠24の中に流入しそして開放されている弁26を介
し排気通路29の開放されている部分およびスニフト通
路32を通シ戻りガス室14に到達するが、その除光づ
絞り弁33が充填の始めに当って充填速度を定めそして
その貫流直径が小さいことによシ静かで気泡が発生しな
い様な飲料の流入が保証される。以上に引続いて充填管
の端が飲料の中に浸されると、弁30が開放されそして
接続された排気通路器によシビンの充填が加速されて実
施され、その際2つの絞り弁31および33゜が充填速
度を決定する。充填過程は、充填物が充填管の孔25に
到達し、暗渠24の中を弁26まで上昇しそして附加物
28によって支えられていた閉鎖弁nで排気通路器を閉
鎖する時終了する。液体弁体18はその後閉鎖位置に戻
る。
充填されたビン内の圧力を減少させるため弁37が開放
される。この時ビン内部の圧力は導管あ。
される。この時ビン内部の圧力は導管あ。
36 、32および絞り弁33を介して室14における
圧力に降下する。この減圧過程を通常スニフト過程と呼
ぶ。
圧力に降下する。この減圧過程を通常スニフト過程と呼
ぶ。
(1)被充填容器内の充填高さは、孔25の上端で決定
され、充填高さを変更するには、充填管21の交換、あ
るいは充填管21の追加工などによシ孔25の上端高さ
を変えることが必要であった。
され、充填高さを変更するには、充填管21の交換、あ
るいは充填管21の追加工などによシ孔25の上端高さ
を変えることが必要であった。
(2)容器予備加圧過程において、絞り弁羽より常にガ
スが逃げているため、加圧に時間がかかった。また加圧
に時間がかからぬように絞)弁33をきわめて小さな貫
流直径にすると、充填当初の流量は絞り弁羽によシ決め
られているため、流入流量が必要以上に小さくなシ、充
填管の端が飲料の中に浸されるまでの時間がかかシ、従
って充填時間がかかった。
スが逃げているため、加圧に時間がかかった。また加圧
に時間がかからぬように絞)弁33をきわめて小さな貫
流直径にすると、充填当初の流量は絞り弁羽によシ決め
られているため、流入流量が必要以上に小さくなシ、充
填管の端が飲料の中に浸されるまでの時間がかかシ、従
って充填時間がかかった。
(3)戻りガス通路38に残留している液が、容器の予
備加圧過程で容器内にまき散らされて、充填時、液の発
泡の原因になシ、大味線の不揃いを引きおこし、容器内
充填液量の不揃いとなると共に、容器内の充填液の容器
外への吹きこぼれを誘発するため好ましくない。
備加圧過程で容器内にまき散らされて、充填時、液の発
泡の原因になシ、大味線の不揃いを引きおこし、容器内
充填液量の不揃いとなると共に、容器内の充填液の容器
外への吹きこぼれを誘発するため好ましくない。
容器を予備加圧し、その後液弁が開き、排気通路から容
器内ガスを逃がすことによシ液を充填し、排気通路が液
によって塞がれることによって充填が停止し、次に液弁
を閉にし、スニフト過程によシ容器内を減圧して、充填
を完了する充填ノζルブにおいて、スニフト通路の開閉
を、「外部からの信号により開閉可能なスニフト弁(電
磁弁等)」によって行なうとともに、戻りガスの流動方
向に見て排気通路の球出閉弁の下流側と圧力ガス室の間
にカウンタ弁を設けることにより、充填高さを外部信号
によシ設定する。
器内ガスを逃がすことによシ液を充填し、排気通路が液
によって塞がれることによって充填が停止し、次に液弁
を閉にし、スニフト過程によシ容器内を減圧して、充填
を完了する充填ノζルブにおいて、スニフト通路の開閉
を、「外部からの信号により開閉可能なスニフト弁(電
磁弁等)」によって行なうとともに、戻りガスの流動方
向に見て排気通路の球出閉弁の下流側と圧力ガス室の間
にカウンタ弁を設けることにより、充填高さを外部信号
によシ設定する。
なお、液面を検出するセンサは特に必要としない。
オリフィス通路を閉じた状態で容器を予備加圧し、外部
信号によりスニト弁を開閉することによシ容器内の充填
高さを制御する。
信号によりスニト弁を開閉することによシ容器内の充填
高さを制御する。
第1図において、12は液体室、】3は戻pガス室14
の開口、15は圧力ガス室、17は弁座、18は弁体、
19はばね、21は充填管、26は球出閉弁、nは球出
閉弁26の球であシ、以上の部材は第2図で説明した部
材と実質的に同一である。
の開口、15は圧力ガス室、17は弁座、18は弁体、
19はばね、21は充填管、26は球出閉弁、nは球出
閉弁26の球であシ、以上の部材は第2図で説明した部
材と実質的に同一である。
40はびん等の容器、41はシール部材、Cはりフタで
、容器40を持上げシール部材41に押し付け、びん口
をシールする。
、容器40を持上げシール部材41に押し付け、びん口
をシールする。
拐は球出閉弁26と戻りガス室14を結ぶ排気通路であ
る。
る。
排気通路48に高速充填弁荀、大オリフィス47がある
。また高速充填弁45と弁26を結ぶ通路にカウンタ弁
43からの通路が連通している。カウンタ弁43、球出
閉弁26、高速充填弁6を閉にした時、それらで囲まれ
た通路の容積は、そこ沙圧カガス室15の圧力がかかつ
ている状態で容器40を大気解放にした時、戻夛ガス通
路49内の残液を容器内にすべて押し出せるよう、十分
大きくなければならない。
。また高速充填弁45と弁26を結ぶ通路にカウンタ弁
43からの通路が連通している。カウンタ弁43、球出
閉弁26、高速充填弁6を閉にした時、それらで囲まれ
た通路の容積は、そこ沙圧カガス室15の圧力がかかつ
ている状態で容器40を大気解放にした時、戻夛ガス通
路49内の残液を容器内にすべて押し出せるよう、十分
大きくなければならない。
49は戻りガス通路で、下端の孔52と球出閉弁26と
を結ぶ通路である。
を結ぶ通路である。
50はスニフト通路であり、容器40がシール部材41
に押し付けられている状態において容器40に充填され
た液の液面上のガススペース(ヘッドスペース)と戻り
ガス室14とを結ぶ通路である。
に押し付けられている状態において容器40に充填され
た液の液面上のガススペース(ヘッドスペース)と戻り
ガス室14とを結ぶ通路である。
51は液体室12の上部を貫通するロンドで、図示しな
い手段で上下動し、弁体18を下方に押し付け、又は押
し付けを解除する。
い手段で上下動し、弁体18を下方に押し付け、又は押
し付けを解除する。
43はカウンタ弁で、圧力ガス室15と排気通路招との
間を開閉する。
間を開閉する。
封はスニフト弁で、ヘッドスペースと戻りガス室14を
結ぶ通路を外部からの信号によシ開閉する。
結ぶ通路を外部からの信号によシ開閉する。
スニフト弁44は充填過程当初の低速充填時に一定時間
(tl)の間、開となシ、また、充填過程最後の再充填
時にも別の一定時間(t2)の間だけ開となシ、さらに
スニフト過程時にも開となる。
(tl)の間、開となシ、また、充填過程最後の再充填
時にも別の一定時間(t2)の間だけ開となシ、さらに
スニフト過程時にも開となる。
なお、スニフト弁44としては例えば電磁弁を使用する
。
。
郷は高速充填弁で、排気通路48を開閉する。
46は小オリスイスで、スニフト通路(資)に設けられ
、絞り抵抗の大きいオリフィスである。
、絞り抵抗の大きいオリフィスである。
47は大オリフィスで、排気通路48に設けられ、小オ
リフィス46よシも絞り抵抗の小さいオリフィスである
。
リフィス46よシも絞り抵抗の小さいオリフィスである
。
次に本装置の動作を説明する:
(1)図示しない公知の手段で容器荀は、すフタ弦によ
υシール部材41に押し付けられシールされる。
υシール部材41に押し付けられシールされる。
(2) 弁体18を弁座17に押し付け、液の流入を
止めた状態で、カウンタ弁43を開き、圧力ガス室15
から容器40内に排気通路招、球出閉弁26、戻りガス
通路49を通ってガスが導かれ、容器4o内が予備加圧
される。この時弁44、弁45は閉となっており、加圧
ガスの逃げ道はない(予備加圧)。
止めた状態で、カウンタ弁43を開き、圧力ガス室15
から容器40内に排気通路招、球出閉弁26、戻りガス
通路49を通ってガスが導かれ、容器4o内が予備加圧
される。この時弁44、弁45は閉となっており、加圧
ガスの逃げ道はない(予備加圧)。
(3)容器40内の圧力と液体室12の中の液体の圧力
が等しくなったとき、カウンタ弁43を閉じる。
が等しくなったとき、カウンタ弁43を閉じる。
この時、スニフト弁劇を開くとともに、ロッド51を持
ち上げると、ばね19の作用で弁体18が弁座17から
持ち上げられ、液体は充填管21を介して容器40内に
流入する。この際容器40内の圧力ガスは、スニフト通
路団、スニフト弁劇を通って小オリアイス46によって
絞られながら戻りガス室14を介して、大気に排気され
る。この過程では充填速度は低く抑えられ気泡の巻き込
みを防止している(低速充填)。
ち上げると、ばね19の作用で弁体18が弁座17から
持ち上げられ、液体は充填管21を介して容器40内に
流入する。この際容器40内の圧力ガスは、スニフト通
路団、スニフト弁劇を通って小オリアイス46によって
絞られながら戻りガス室14を介して、大気に排気され
る。この過程では充填速度は低く抑えられ気泡の巻き込
みを防止している(低速充填)。
(4)スニフト弁劇は開としてから一定時間(t□)後
に閉とする。ただしスニフト弁祠が閉となるタイミング
は、充填液面の位置が、充填管21の下端よりも高く、
孔52よりも低い時でなければならない。また、高速充
填弁45は、充填液面が充填管21の下端に到達した後
に開く。
に閉とする。ただしスニフト弁祠が閉となるタイミング
は、充填液面の位置が、充填管21の下端よりも高く、
孔52よりも低い時でなければならない。また、高速充
填弁45は、充填液面が充填管21の下端に到達した後
に開く。
この時、容器40内の圧力ガスは孔52、戻りガス通路
49.弁26、排気通路48、高速充填弁6を通って大
オリフィス47によって絞られながら、戻りガス室14
を介して大気に排気される。この過程では大オリフィス
47の径が大きいため、充填速度は高い(高速充填)。
49.弁26、排気通路48、高速充填弁6を通って大
オリフィス47によって絞られながら、戻りガス室14
を介して大気に排気される。この過程では大オリフィス
47の径が大きいため、充填速度は高い(高速充填)。
(5)充填液面が孔52に到達し、液が戻りガス通路4
9の中を弁26マで上昇し、弁26の球4が上昇し、排
気通路48を閉鎖すると、容器40内の圧力ガスは逃げ
場を失い、ガス圧縮をおこして、容器4゜への液の流入
は完全に停止する。この過程までに充填された液量は、
孔52の位置および孔52から弁261での戻りガス通
路49の容積によ)決まる(充填停止)。
9の中を弁26マで上昇し、弁26の球4が上昇し、排
気通路48を閉鎖すると、容器40内の圧力ガスは逃げ
場を失い、ガス圧縮をおこして、容器4゜への液の流入
は完全に停止する。この過程までに充填された液量は、
孔52の位置および孔52から弁261での戻りガス通
路49の容積によ)決まる(充填停止)。
(6)液の流入が完全に停止し、かつ弁体18が弁座1
7から持ち上げられている状態で、次に、一定時間(t
2)だけスニフト弁44を開にする。
7から持ち上げられている状態で、次に、一定時間(t
2)だけスニフト弁44を開にする。
この、スニフト弁劇を開にしている間は容器4゜内の圧
力ガスが、スニフト通路団、スニフト弁劇、小オリフィ
ス46を通って戻りガス室14に逃げるため、容器40
内へは液が低速で再充填される。ここで再充填される液
量は、逃げたガス量に比例し、逃げたガス量は、スニフ
ト弁躬を開にしている時間に比例する。従って、スニフ
ト弁朝を開にする時間間隔をタイマー等で外部から設定
し、その設定値を変更することによシ、再充填量即ち総
充填量を変更することができる(低速再充填)。
力ガスが、スニフト通路団、スニフト弁劇、小オリフィ
ス46を通って戻りガス室14に逃げるため、容器40
内へは液が低速で再充填される。ここで再充填される液
量は、逃げたガス量に比例し、逃げたガス量は、スニフ
ト弁躬を開にしている時間に比例する。従って、スニフ
ト弁朝を開にする時間間隔をタイマー等で外部から設定
し、その設定値を変更することによシ、再充填量即ち総
充填量を変更することができる(低速再充填)。
以上よ)、スニフト弁劇は、その開閉を時間的に制御す
る必要があるため、電磁弁のように、外部からの信号に
よシ開閉できるものを用いる必要がある。
る必要があるため、電磁弁のように、外部からの信号に
よシ開閉できるものを用いる必要がある。
(7)高速充填弁郷を閉にする。
スニフト弁44を閉としく6)の過程を終了させた後、
図示しない手段によってロッド51を押し下げ、弁体1
8を弁座17に押し付けて、液通路を閉鎖している状態
で次の過程を実施する(充填終了)。
図示しない手段によってロッド51を押し下げ、弁体1
8を弁座17に押し付けて、液通路を閉鎖している状態
で次の過程を実施する(充填終了)。
(8) カウンタ弁43を開き、排気通路拐でのガス
圧力が上昇した後、カウンタ弁43を閉じる。
圧力が上昇した後、カウンタ弁43を閉じる。
この時、容器内は、排気通路栃に導かれた圧力ガス室の
圧力とほぼ同じ圧力になっているため、戻りガス通路4
9内の液はほとんど移動しない。
圧力とほぼ同じ圧力になっているため、戻りガス通路4
9内の液はほとんど移動しない。
従って、弁43、弁45、弁26で囲まれた通路には圧
力ガスが閉じ込められたままとなる(再加圧)。
力ガスが閉じ込められたままとなる(再加圧)。
(9)次にスニフト弁44を開とすると容器40内の圧
力ガスがスニフト通路団、スニフト弁44を通シ小オリ
フィス46が絞られながら戻りガス室14に逃げ、容器
曲内の圧力は同室14の圧力まで降下する。この容器4
0内の圧力の減圧にともない、弁43、弁6、弁26に
囲まれた通路に充満されていたガスは膨張することにな
シ、戻りガス通路49内に充満していた液は、容器40
内に押し戻され、完全に排出される(スニフト)。
力ガスがスニフト通路団、スニフト弁44を通シ小オリ
フィス46が絞られながら戻りガス室14に逃げ、容器
曲内の圧力は同室14の圧力まで降下する。この容器4
0内の圧力の減圧にともない、弁43、弁6、弁26に
囲まれた通路に充満されていたガスは膨張することにな
シ、戻りガス通路49内に充満していた液は、容器40
内に押し戻され、完全に排出される(スニフト)。
αe 以上の過程が終了すると、す7り心が下降する。
この時1図示しないベント通路を経て、充填管21の上
部が大気に解放され、充填管内の液が容器内に落下し、
充填過程が終了する。
部が大気に解放され、充填管内の液が容器内に落下し、
充填過程が終了する。
そして次の容器の充填過程に移る前にスニフト弁44は
閉にされる(容器下降、充填管内液溶し)。
閉にされる(容器下降、充填管内液溶し)。
′″′1°″″″″″″t、B 、: &°1“K71
: 、。
: 、。
−へ の
[発明の効果〕
(11動作の説明(6)で述べた如く、孔52の位置ま
で液の充填を完了した後、液通路、即ち弁座17間が開
いている状態で、スニフト弁劇を開とする時間t をコ
ントロールすることにょシ、外部から自由に充填高さの
設定を変更することができる。
で液の充填を完了した後、液通路、即ち弁座17間が開
いている状態で、スニフト弁劇を開とする時間t をコ
ントロールすることにょシ、外部から自由に充填高さの
設定を変更することができる。
従って、充填管の交換・追加工が不要となシ、また充填
高さを検出するセンサが不要となる。
高さを検出するセンサが不要となる。
(2)充填が終了し、かつ容器がシール部材に押し当て
られている状態のときに、動作の説明(9)で述べた如
く、戻少ガス通路四下端から弁26の間に残留している
液を、容器4o内へ押し戻すようにしたので、発泡や液
詰まりのない確実な液充填が保証され、また液の機外へ
の放出がないので作業環境の悪化防止等が可能となシ、
液ロスも減少させることができる。
られている状態のときに、動作の説明(9)で述べた如
く、戻少ガス通路四下端から弁26の間に残留している
液を、容器4o内へ押し戻すようにしたので、発泡や液
詰まりのない確実な液充填が保証され、また液の機外へ
の放出がないので作業環境の悪化防止等が可能となシ、
液ロスも減少させることができる。
(3)容器予備加圧時にスニフト弁剃、高速充填弁藝を
閉とし大気と速断した状態にしていることにより予備加
圧時間が短かい。
閉とし大気と速断した状態にしていることにより予備加
圧時間が短かい。
(4)回転式充填機中のすべての充填パルプの充填高さ
が、低速再充填過程に於いて、スニフト弁44を開とす
る時間t2を設定変更することにより変更可能となる。
が、低速再充填過程に於いて、スニフト弁44を開とす
る時間t2を設定変更することにより変更可能となる。
第1図は本発明の加圧式充填装置の概略断面図、第2図
は従来の加圧式充填装置の概略断面図、第3図は第2図
の球出閉弁の詳細断面図、第4図は第2図の充填管の詳
細正面図である。 L・・・液体室 14・・・戻りガス室、 15・・・圧力ガス室2
1・・・充填管、 26・・・球出閉弁43・
・・カウンタ弁、 祠・・・スニフト弁45・・・
高速充填弁、 46・・・小オリフィス47・・・
大オリフィス、 48・・・排気通路49・・・戻り
ガス通路、 関・・・スニフト通路復代理人 弁理士
岡 本 重 文 外2名
は従来の加圧式充填装置の概略断面図、第3図は第2図
の球出閉弁の詳細断面図、第4図は第2図の充填管の詳
細正面図である。 L・・・液体室 14・・・戻りガス室、 15・・・圧力ガス室2
1・・・充填管、 26・・・球出閉弁43・
・・カウンタ弁、 祠・・・スニフト弁45・・・
高速充填弁、 46・・・小オリフィス47・・・
大オリフィス、 48・・・排気通路49・・・戻り
ガス通路、 関・・・スニフト通路復代理人 弁理士
岡 本 重 文 外2名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 液体室と、圧力ガス室と、戻りガス室と、充填管と、球
自閉弁と、戻りガス室に持続して絞り弁を有するスニフ
ト通路と、球自閉弁と戻りガス室間を接続して開閉弁及
び絞り弁を有する排気通路と、圧力ガス室に接続した開
閉弁とを具えた加圧式充填装置に於いて、 戻りガスの流動方向に見て前記排気通路の球自閉弁の下
流側と圧力ガス室の間に設けたカウンタ弁と、 ヘッドスペース部と戻りガス室の間に形成されたスニフ
ト通路に絞り弁及び自動開閉可能なスニフト弁を設けた
ことを特徴とする加圧式充填装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19197785A JPS6252095A (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 加圧式充填装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19197785A JPS6252095A (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 加圧式充填装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6252095A true JPS6252095A (ja) | 1987-03-06 |
Family
ID=16283582
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19197785A Pending JPS6252095A (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 加圧式充填装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6252095A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0384797U (ja) * | 1989-12-14 | 1991-08-28 | ||
JP2009143618A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-02 | Hitachi Zosen Corp | 加圧式液面規制充填方法および装置 |
WO2012137317A1 (ja) * | 2011-04-06 | 2012-10-11 | 三菱重工食品包装機械株式会社 | 回転式充填機及び回転式充填機の充填量演算方法 |
JP2015113140A (ja) * | 2013-12-10 | 2015-06-22 | 三菱重工食品包装機械株式会社 | 液体充填装置 |
-
1985
- 1985-09-02 JP JP19197785A patent/JPS6252095A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0384797U (ja) * | 1989-12-14 | 1991-08-28 | ||
JP2009143618A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-02 | Hitachi Zosen Corp | 加圧式液面規制充填方法および装置 |
WO2012137317A1 (ja) * | 2011-04-06 | 2012-10-11 | 三菱重工食品包装機械株式会社 | 回転式充填機及び回転式充填機の充填量演算方法 |
CN103429524A (zh) * | 2011-04-06 | 2013-12-04 | 三菱重工食品包装机械株式会社 | 旋转式填充机及旋转式填充机的填充量运算方法 |
JP5373223B2 (ja) * | 2011-04-06 | 2013-12-18 | 三菱重工食品包装機械株式会社 | 回転式充填機及び回転式充填機の充填量演算方法 |
US9428373B2 (en) | 2011-04-06 | 2016-08-30 | Mitsubishi Heavy Industries Food & Packaging Machine Co., Ltd. | Rotary-type filling machine and method for calculating filling quantity for rotary-type filling machine |
JP2015113140A (ja) * | 2013-12-10 | 2015-06-22 | 三菱重工食品包装機械株式会社 | 液体充填装置 |
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