JPS6244018B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、平均孔径が0.01〜20μｍの円形状の
孔を有する再生セルロース多孔膜に関する。さら
に詳しくは、セルロース分子の平均分子量が５×
10⁴以上で、かつ結晶領域が実質的にセルロース
あるいはセルロース―２結晶あるいは両者が
混在する結晶で構成される再生セルロース多孔膜
において、表裏面の両者のいずれにも円形状の孔
を有し、該孔の平均孔径が0.01〜20μｍ、面内空
孔率が30〜90％であるか、あるいは面内の１cm²当
りの孔の数が６×10⁵／Ｄ個以上で３×10⁷／Ｄ個
以下であることを特徴とする再生セルロース多孔
膜に関する。ここで、再生セルロース多孔膜と
は、後述するＸ線回折図が、セルロースあるい
はセルロース―２あるいはその両者が混在した
回折図で表現できるものを意味する。 物質の分離精製技術の中で、膜分離技術が注目
されつつある。蒸留と異なり分離に伴う温度変化
を必要としないこと、分離に必要なエネルギーが
少ないこと、さらに工程がコンパクトであるとい
う膜分離プロセスの特徴を生かし、広範囲の分野
で高分子膜が利用されている。たとえば、酪農、
水産畜産、食品加工、医薬品、化学工業、繊維染
色加工、鉄鋼、機械、表面処理、水処理、原子力
工業などである。将来膜分離システムが中心とな
る可能性のある分野として、低温での濃縮、精
製、回収を必要とする分野（食品、生物化学工業
分野）、無菌、無塵を必要とする分野（医薬品
および治療機関、電子工業）、微量な高価物質
の濃縮回収（原子力、重金属分野）、特殊少量
分離分野（医療分野）、エネルギー多消費分野
（蒸留代替）などが考えられる。これらの分野に
利用される膜として、孔径の大きな取扱いの容易
な親水性膜の必要性が高まつている。 親水性高分子の典型例であるセルロースで構成
される多孔膜としては、平均孔径が100Å（0.01
μｍ）以下の人工腎臓用多孔膜が知られている。
この種の膜の典型例として、銅アンモニアセルロ
ース膜がある。この膜を構成するセルロースの平
均分子量が５×10⁴で、結晶領域が実質的にセル
ロースであり、動的弾性率は５×10¹⁰dyn／cm²
程度で、力学的損失正接tanδ―温度曲線におけ
るピーク温度Tmaxは約200℃である。空孔率Pr
は約10％と低く、平均孔径は、本発明方法での評
価では、小さすぎて評価不能で、電子顕微鏡では
観察できない。また（101）面の配向度は約50％
である。また、酢酸セルロースあるいは硝酸セル
ロースなどのセルロース誘導体膜をアルカリ水溶
液でケン化することにより、再生セルロース多孔
膜が得られている。このような方法で得られた多
孔膜の平均孔径は0.01〜２μｍの範囲であり、再
生後のセルロース分子の分子量は3.5×10⁴以下で
ある。たとえば、セルロースアセテートをケン化
して得られた再生セルロース多孔膜の平均分子量
が２×10⁴である。結晶領域はセルロース型結
晶であり、（101）面の配向度は約60％、空孔率は
70％であり、動的弾性率は３×10⁶dyn／cm²と低
く、また、力学的損失正接tanδ―温度曲線にお
けるピーク温度Tmaxは約200℃である。そのた
め乾燥状態での多孔膜の力学的性質（特に強度）
は著しく低く、かつ脆い。たとえば多孔膜の体積
換算した空孔率をPrρとすれば、強度はほぼ10⁸
（１−Prρ）³dyn／cm²である。水による湿潤状態
での強度は、乾燥状態にくらべてさらに低くなる
ため、セルロース誘導体から得られた従来の再生
セルロース膜は取扱い時に破損することがある。 本発明の再生セルロース多孔膜の第１の特徴
は、該膜が平均分子量５×10⁴以上のセルロース
分子で構成されている点にある。再生セルロース
多孔膜は乾燥状態では脆い。分子量の増大に伴な
つて多孔膜の強度が上昇し、脆さが改善される。
そのため多孔膜の取扱いが容易になり、多孔膜の
破損は減少する。セルロースの平均分子量が大き
ければ大きいほど、同一の空孔率で比較した場合
の破損率は減少する。該平均分子量の膜物性に及
ぼす影響は、平均分子量が大きくなるにしたがつ
て飽和する傾向が認められる。したがつて、平均
分子量は５×10⁴以上であれば、実用上の取扱い
易さの点でさしつかえない。多孔膜の作製の容易
さから、平均分子量は３×10⁵以下が望ましい。 本発明の第２の特徴は、結晶領域がセルロース
あるいはセルロース―２あるいは両者が混在
する結晶で構成されている点にある。セルロース
あるいはセルロース―２結晶あるいは両者が
混在する結晶で結晶領域が構成されていること
は、結晶領域内部が実質的にセルロース分子で構
成され、セルロース誘導体などのようにセルロー
ス分子中の水酸基が他の基で置換されていないこ
とを意味する。セルロースあるいはセルロース
―２あるいは両者が混在する結晶は、化学的、
熱的にも安定である。 本発明の最大の特徴は、再生セルロース多孔膜
の表裏面のいずれにも円形状の孔を有し、平均孔
径が0.01〜20μｍで、少なくとも一つの面の面内
空孔率が30〜90％であるか、あるいは面内の１cm²
当りの孔の数が６×10⁵／Ｄ個以上で３×10⁷／Ｄ
個以下である点にある。ここで、円形状の孔と
は、第１図において、孔１の周囲に２ケ所以上外
接する外接円２の半径をrmとし、これと中心を
同一にする内接円３の半径をrnとすると、rn／
rmが0.5以上である孔を意味する。多孔膜の孔形
は必ずしも膜中で一定ではないが、rn／rm≧0.5
を満足する孔の存在確率が80％以上であるものを
円形状の孔を有する多孔膜と定義する。円形状の
孔は、逆洗（清浄液を過方向と逆方向から過
することにより多孔膜面を洗浄すること）による
過性能が優れている。また円形状を有する面内
の空孔率が30％以上となると、該膜を用いた過
速度は大幅に増加し、また過容量も増大する。
理論的には、過速度は体積換算した空孔率（以
下この空孔率を単に空孔率と表示する）に比例
し、、過容量もほぼ空孔率に比例する。円形状
の孔を有する膜では、面内空孔率が30％以上にな
ると、面内空孔率の増大に伴う過速度および
過容量は共に増大し、面内空孔率が30％以上であ
れば、大きければ大きいほどよい。ただし、多孔
膜の取扱い易さ、多孔膜の力学的性質から、空孔
率として90％以下が望ましい。被過液体は、多
孔膜の表面から裏面へ向つて過される。表面の
平均孔径が同一で、かつ空孔率が同一の種々の膜
の組合せで過速度を比較した場合、裏面の孔径
は表面の孔径より大きい方が、過速度および
過容量も大きい。 本発明物の他の特徴として、表裏面の孔径比が
1/3以下で1/10以上である点にある。被過流体
に直接触れる面を表面とした際、過速度は表面
の平均孔径および面内空孔率のみでなく、裏面の
孔径の影響を受ける。表面の孔径が大きくなるに
したがつて、過速度は大きくなる。また、過
後の膜の逆洗性は、表裏面の孔径比を減少させる
と増大していく。しかし、孔径比が1/3以下で
は、さらに孔径比を下げても逆洗性の増大はほと
んど認められない。したがつて、孔径比は1/3以
下で1/10以上であればよい。1/10以下であれば膜
表面の孔数が著しく減少し、同一孔径で比較した
ときの過速度は低下する。 多孔膜の外形の形状としては、平面膜、チユー
ブ状、中空糸状物すべてを含む。また平均孔半径
とは、(1)式によつて定義される。_３を意味す
る。故に本発明でいう平均孔径とは、２_３で定
義される。多孔膜１cm²当りの孔半径がｒ〜ｒ＋dr
に存在する孔の数をＮ（ｒ）drと表示すると（Ｎ
（ｒ）は孔径分布関数）、平均孔半径_３は(1)式で
与えられる。 本発明物の孔は、実質的に円形孔であることに
よつて、本発明多孔膜にスクリーン型フイルター
の性質が付与される。すなわち、孔に接する外接
円の直径以上の粒子は、孔を絶対通過することが
できない。繊維状物質あるいは微粉末状物質の積
層物を過材として利用できるが、これらの従来
の過材では、孔の形状が一定せず、そのため
過条件（圧力、過速度）によつて、ある粒子が
出したり、そうでない場合が起こる。すなわ
ち、ある注目した粒子が100％、孔によつて捕捉
される保証はこれらの積層物では得られない。ま
た、(1)式による平均孔半径（_３）も求まらな
い。したがつて、本発明多孔膜は、完全にスクリ
ーン型フイルターの性能をもつ有孔性膜である。 孔一個当りの限外過速度は、ほぼ_３の４乗
に比例し、また空孔率に比例する。したがつて、
過速度のみを大きくするには、_３は大きけれ
ば大きいほどよい。しかし、目的とする分離対象
の粒子径との関連から、当然最大孔径が決定され
る。親水性のスクリーン型フイルターとしての特
性が十分発揮される領域は、平均孔径（すなわち
２_３）として20μｍ以下である。また、平均孔
径が0.01μｍ以下の場合、該膜による分離可能な
粒子は、一般に球状でないものが増大し、本発明
の円形状の孔の特徴が生かされない。後述するよ
うに、本発明多孔膜を用いた分離対象物として、
水を含む液体または気体混合物中の目的とする成
分の分離除去にあり、しかも、高速度で過する
ことを目的とする。当然平均孔径が小さくなる
と、過速度の低下は著しい。また、多孔膜の厚
さは通常薄ければ薄いほどよいが、取扱いの容易
さおよびピンホールの混在をさけるため、５μｍ
以上の厚さを持つのが一般的である。平均孔径が
0.01μｍ以下の孔の場合には、貫通孔でないもの
（非貫通孔）の存在確率が増大し、いわゆる過
膜としての性能は、貫通孔で予測される性能以下
となる。非貫通孔の混在をさけるため、平均孔径
は0.01μｍ以上でなければならない。平均孔径が
大きくなるにしたがい多孔膜の膜厚を厚くするこ
とにより、ピンホールの混入を防ぐことができ
る。しかし、過速度は膜厚に反比例するので、
膜としては薄い方が望ましい。両者の相反する傾
向のため、膜厚の最適範囲は多孔膜の製法と密接
に関連する。空孔率は大きければ大きいほど望ま
しいが、あまり空孔率が大きくなると多孔膜の機
械的性質が低下する。面内空孔率が30％以上にな
ると貫通孔の存在確率が急激に大きくなり、70％
以上ではほとんど貫通孔のみである。 同一の平均孔径および空孔率を持つ多くの再生
セルロース多孔膜の過特性を検討した。その結
果、たとえば圧力差100mmHg以下の圧力で限外
過する場合には、セルロース結晶における
（101）面が多孔膜面に対して平均的にみた場合、
平行に配向している方が水の選択過性がよい。
しかし、水に浸漬した際の膜厚の変化量は、上記
のように配向した場合には、そうでない場合より
大きい。これらの原因は不明であるが、水酸基が
膜面上に直立する方が〔すなわち（101）面が多
孔膜面に平行に配列する方が〕水を選択的に吸着
し、膜の無定形領域内部に水を保有し易いためと
考えられる。このような水の選択透過性は、
（101）面の多孔膜上での配向度が60％以上の場合
に顕著に出現する。従来公知の再生セルロース膜
では、（101）面の法線方向は膜面に垂直にある。
この法線が膜面と垂直な方向に配向する程度を表
現するには、膜面に平行にＸ線を入射させて得ら
れるＸ線回折強度を利用することができる。 さらに測定周波数110Hzにおける力学的損失正
接tanδ―温度曲線において、ピーク温度Tmax
が200℃以上、250℃以下であれば、多孔膜の熱的
安定性が増大し、また多孔膜に実施される後処理
（樹脂加工、溶剤処理）後の物性低下が少ない。
Tmaxが200℃以下では熱的に不安定となり、熱
水処理により過速度が大幅に減少するTmaxが
250℃以上では、水の選択過性が低下するばか
りでなく、多孔膜の後処理後の物性低下が著し
く、特に樹脂加工により脆くなる。本発明物の熱
的安定性および寸法安定性を高めるには、（101）
面の微結晶の大きさが25Å以上で、結晶完全度が
0.15以下である必要がある。ただし、水湿潤時の
多孔膜の膨潤は不可避であり、この膨潤を低める
には、液安処理あるいは樹脂加工等がある。目的
に応じて本発明多孔膜を、これらの方法で後処理
することはなんらさしつかえない。 本発明多孔膜が利用できる分離対象として、水
を含む液体または気体混合物中の目的とする成分
の分離除去、たとえば人工腎臓用あるいは人工肝
臓、人工膵臓用膜などである。その他限外過膜
として利用できるほとんどすべての分野で利用で
きるが、親水性で力学的性質に優れる本多孔膜
は、生体関連分野（医学、生物化学工業）あるい
は食品発酵分野が特に適する。 本発明物は、たとえば10％（重量）のセルロー
ス銅安溶液中にケイ酸ソーダの水溶液（ケイ酸ソ
ーダ濃度30％）を７％（重量）混入した溶液を、
厚さ50μｍで通常の方法で流延し、空気中に16時
間放置後、得られた膜を20℃の２％（重量）硫酸
水溶液に浸漬後水洗し、しかる後、該膜を20℃の
アセトン中に浸漬することにより、該膜中の水分
をアセトンで置換し、乾燥することによつて得る
ことができる。 実施例に先立ち、発明の詳細な説明中で用いら
れた各種物性値の測定方法を以下に示す。 ＜平均分子量＞ 銅アンモニア溶液中（20℃）で測定された極限
粘度数〔η〕ml／ｇを(2)式に代入することによ
り、平均分子量（粘度平均分子量）Mvを算出す
る。 Mv＝〔η〕×3.2×10³ (2) ＜セルロースおよびセルロース―２結晶の同
定、微結晶の大きさ、結晶完全度、結晶配向度＞ 理学電機社製Ｘ線発生装置（RU―200PL）と
ゴニオメータ（SG―9R）、計数管にはシンチレ
ーシヨンカウンター、計数部には波高分析器を用
い、30KV、80mAでＸ線発生装置を運転し、ニ
ツケルフイルターで単色化したCu―Ｋα線（波
長λ＝1.5418Å）でＸ線回折強度を測定する。 結晶構造の同定、微結晶の大きさ、結晶完全度
の測定の場合には、フイルム面に垂直方向、また
は中空糸の場合には、繊維軸に垂直方向からＸ線
を入射する。スキヤニング速度１℃／分、チヤー
ト速度10mm／分、タイムコンスタント１秒、ダイ
バージエンススリツト1/2゜、レシービングスリ
ツト0.3mm、スキヤツタリングスリツト1/2゜にお
いて、回折角２φが４゜〜35゜の範囲でＸ線回折
強度を測定する。 セルロース結晶は２θ＝12゜｛（101）面から
の反射｝、20.2゜｛（10１）面からの反射｝、21゜
｛（002）面からの反射｝の３種の回折で特徴づけ
られる。セルロース―２の結晶は、２θが約12
゜と20゜の２個の回折で特徴づけられる。微結晶
の大きさを求めるには、たとえばL.E.アレキサ
ンダー著「高分子Ｘ線回折」化学同人出版、第７
章のシエラー（Scherrer）の式を用いる。 ２θ＝７゜と35゜の間を直線で結び基線とす
る。回折ピークの頂点から基線に垂線を下し、ピ
ークと基線間の中点を求め、中点を通る水平線を
回折強度曲線の間に引き、ピークの肩からの距離
を求め、それを２倍し、この値をラジアン表示に
換算してライン幅とする。さらにライン幅を次式
で補正する。 β＝√²−² Ｂは測定したライン幅、ｂはシリコン単結晶を
用いて測定されたライン幅である。微結晶の大き
さACS（Å）は(3)式で与えられる。 ACS（Å）＝λ／β・cosθ (3) λはＸ線の波長1.5418Åである。 セルロース結晶の結晶完全度は(4)式で定義さ
れる。 結晶完全度＝１−２Ｈ_１／Ｈ_２＋Ｈ_３ (4) ここで、H₁とは（10１）面からの反射と
（002）面反射の間のＸ線回折強度の最小値であ
り、H₂とは（10１）面反射の最大回折強度、H₃
とは（002）面反射の最大回折強度である。結晶
完全度の値が１のとき最も結晶の完全性が高く、
０のとき最も低い。 （101）面の結晶配向度の測定は、試料が平面
膜の場合には、Ｘ線を膜面に対して平行に入射さ
せる。中空糸の場合には、中空糸を平面状に圧縮
し、中空の空隙部をなくし、見掛上２枚の積層膜
の状態に変形する。該積層膜平面に対して平行に
Ｘ線を入射させる。２θ＝12゜にゴニオメータを
セツトする。対称透過法を用いて方位角方向を−
30゜〜＋30゜走査し、方位角方向の回折強度を記
録する。さらに−180゜と＋180゜の方位角方向の
回折強度を記録する。このときのスキヤニング速
度は４゜／分、チヤート速度は10mm／分、タイム
コンスタントは１秒、コリメーターは２mmφ、レ
シービングスリツトは縦幅1.9mm、横幅3.5mmであ
る。得られた方位角方向の回折強度曲線から配向
度COを求める。まず±180゜で得られた回折強度
の平均値を取り、水平線を引きベースラインとす
る。ピークの頂点からベースラインに垂線を下
し、その高さの中点を求める。中点を通る水平線
を引き、これと回折強度曲線との二つの交点間の
距離を測定し、この値を角度（゜）に換算した値
を配向角Ｈ（゜）とする。結晶配向度COは(5)式
で与えられる。 CO（％）＝｛（180−Ｈ）／180｝×100 (5) 結晶が無配向の場合には、Ｈは180゜となりCO
は０である。 ＜空孔率Prρ＞ 平面状の多孔膜を47mmφの円形に切り出し、該
膜を真空中で乾燥し、水分率を0.5％以下とす
る。乾燥後の多孔膜の厚さをｄ（cm）、重量をＷ
（ｇ）とすると、空孔率Prρ（％表示）は(6)式で
与えられる。 Prρ（％）＝（１−Ｗ／１．５０×１７．３４×ｄ）×
100(6) 中空糸の場合、中空糸の内径をD₂（cm）、外径
をD₁（cm）とし、中空糸の長さをｌ（cm）、重量
をＷ（ｇ）とすると、Prρは(7)式で与えられ
る。 Prρ（％） ＝｛１−Ｗ／６．０×π（Ｄ_１ ^２−Ｄ_２ ^２）ｌ｝×10
0(7) ＜平均孔半径_３、面内空孔率Prおよび孔数＞ 走査型電子顕微鏡を用いて、表裏面の電子顕微
鏡写真を撮影する。該写真から公知の方法で孔径
分布関数Ｎ（ｒ）を算出し、これを本文中の(1)式
に代入する。また、１cm²当りの孔数Ｎは(8)式で与
えられる。 Ｎ＝∫^∞ _０Ｎ（ｒ）dr (8) 孔径分布を求めたい部分の走査型電子顕微鏡写
真を適当な大きさ（たとえば20cm×20cm）に拡大
焼付けし、得られた写真上に等間隔にテストライ
ン（直線）を20本描く。おのおのの直線は多数の
孔を横切る。孔を横切つた際の孔内に存在する直
線の長さを測定し、この頻度分布関数を求める。
もし、膜表面上（裏面上）の孔かどうかの判定が
困難な場合は、写真上で観察される孔をすべて膜
表面上の孔とみなし、この際、(8)式で算出される
Ｎの1/3が本発明における孔数と定義する。ま
た、この際の面内空孔率は、(9)式で算出される
Prの２倍が面内空孔率であると定義する。この
頻度分布関数を用いて、たとえば、ステレオロジ
（たとえば、諏訪紀夫著、定量形態学、岩波書
店）の方法でＮ（ｒ）を定める。面内空孔率Pr
はＮ（ｒ）を用いて(9)式で算出される。 Pr（％）＝π∫r²N（ｒ）dr×100 (9) ＜tanδ―温度曲線＞ 幅１mm、長さ５cmの短冊状の試料を多孔膜から
切り出し、東洋ボールドウイン社製Rheovibron
DDV―ｃ型を使用し、測定周波数110Hz、乾燥
空気下で平均昇温速度10℃／minで測定する。測
定されたtanδ―温度曲線からtanδのピーク温度
Tmax（℃）を読み取る。 実施例 １ セルロースリンター（平均分子量2.3×10⁵）を
公知の方法で調製した銅アンモニア溶液中に、８
％，９％，10％（重量）の濃度で溶解後、該溶液
にケイ酸ソーダの水溶液（ケイ酸ソーダ濃度30
％）を７％（重量）混入し、撹拌後、ガラス板上
に厚さ50μｍに流延する。20℃の空気中に16時間
放置後、得られた膜を20℃の２％（重量）硫酸水
溶液中に20分間浸漬し、その後水洗する。水洗後
20℃のアセトン中に浸漬し、膜中の水分をアセト
ンで置換し、紙にはさんで乾燥し、厚さ10μｍ
の多孔膜を得た。その微細構造上の特徴と各種物
性値の関係を第１表に示す。 第１表の膜を用いて限外過実験を行なつた。
水の透過係数は0.07ml／sec・cm・mmHgであり、
ほぼ同一の面内空孔率を持つ再生セルロース多孔
膜の３倍以上である。また、従来の再生セルロー
ス膜（分子量3.5×10⁴）にくらべて、本多孔膜の
強度は100倍以上であつた。また、粒径0.038μｍ
のポリスチレンラテツクス（ダウケミカル社製）
の0.1％水分散液100mlを圧力200mmHgで過し
た。その後、水を0.45μｍの膜で過した精製水
を膜の裏面か表面に圧力200mmHgで10分間流し逆
洗した。その後、再び粒径0.038μｍのポリスチ
レンラテツクスの0.1％水分散液100mlを圧力200
mmHgで過した。それらの操作を３回繰り返し
た結果、１回目から２回目の過速度の回復率は
90％、２回目から３回目の回復率は88％であつ
た。比較として、0.1μｍのポリスチレンラテツ
クス多孔膜を上記と同様の実験を行つた結果、１
回目から２回目の過速度の回復率は80％、２回
目から３回目のそれは65％であつた。したがつ
て、本発明の物の膜は従来の非円形状孔の膜に比
べて、２回目以降の回復率が特に優れている。な
お、本膜の表面の電子顕微鏡写真を第２図に、同
裏面の電子顕微鏡写真を第３図に示す。

【表】

【表】 なお、試料番号１―１〜１―３で得られた多孔
膜を構成するセルロース分子の平均分子量は、す
べて5.5〜6.0×10⁴の範囲内である。 実施例 ２ セルロースリンター（平均分子量2.5×10⁵）を
公知の方法で調製した銅アンモニア溶液中に９％
（重量）の濃度で溶解後、該溶液中にケイ酸ソー
ダの水溶液（ケイ酸濃度30％）を３，５，８，15
％（重量）混入し、その４種の溶液それぞれにポ
リエチレングリコール、イソプロピルアルコール
を10％（重量）混入し、撹拌後、実施例１と同様
に流延し、凝固再生、水洗、乾燥して第２表に示
す多孔膜を得た。試料No.２―１、２―２、２―３
および２―10、２―11、２―12では、膜表面の孔
径が0.01μｍ以下で、電子顕微鏡ではほとんで孔
は観察されない。そのため透過係数は著しく低
く、実施例１と同一条件下での水の透過係数は、
いずれも１×10^-3ml／sec・cm・mmHg以下であ
る。試料No.２―６では孔径比が1/10以下であり、
水の透過係数は２×10^-2ml／sec・cm・mmHgであ
り、ほぼ同一の面内空孔率と平均孔径を持つ試料
No.２―５にくらべて、透過係数は約1/2である。
試料No.２―９は試料No.２―８と比較して、引張り
破壊強度（強度）は約1/3であり、また、逆洗に
よる過速度の上昇率も59％で、試料No.２―８の
77％にくらべて著しく低い。

【表】 【図面の簡単な説明】

第１図は円形孔を示す模式図、第２図は本発明
膜の表面の走査型電子顕微鏡写真、第３図は同裏
面の走査型電子顕微鏡写真である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ セルロース分子の平均分子量が５×10⁴以上
   で、かつ結晶領域が実質的にセルロースあるい
   はセルロース―２あるいは両者が混在する結晶
   で構成される再生セルロース多孔膜において、該
   膜の表裏面の両者いずれも円形状の孔を有し、平
   均孔径（Ｄμｍ）が0.01〜20μｍ、表裏面の孔径
   比が1/3〜1/10で、かつ少なくとも一つの面の面
   内空孔率が30〜90％であるか、あるいは面内の１
   cm²当りの孔の数が６×10⁵／Ｄ個以上で３×10⁷／
   Ｄ個以下で、（101）面の微結晶の大きさが25Å以
   上で結晶完全度が0.15以下であることを特徴とす
   る再生セルロース多孔膜。 ２ セルロース結晶のみで構成される再生セル
   ロース多孔膜において、（101）面の多孔膜面に対
   する配向度が60％以上である特許請求の範囲第１
   項記載の再生セルロース多孔膜。 ３ 測定周波数110Hzにおける力学的損失正接tan
   δのピーク温度Tmaxが200〜250℃下である特許
   請求の範囲第１項または第２項記載の再生セルロ
   ース多孔膜。