JPS62298114A - 電子ビ−ム露光装置におけるマ−ク位置検出装置 - Google Patents

電子ビ−ム露光装置におけるマ−ク位置検出装置

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JPS62298114A
JPS62298114A JP61140069A JP14006986A JPS62298114A JP S62298114 A JPS62298114 A JP S62298114A JP 61140069 A JP61140069 A JP 61140069A JP 14006986 A JP14006986 A JP 14006986A JP S62298114 A JPS62298114 A JP S62298114A
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/304Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
    • H01J37/3045Object or beam position registration

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体LSI(大規模集積回路)等の製造時
の電子ビーム露光装置におけるマーク位置検出装置に係
り、特に、高精度でマーク位置を検出することができる
マーク位置検出装置に関する。
〔従来の技術〕
電子ビーム露光装置は、マスクやウェハに微細パターン
を露光するものであり、例えば直接描画の場合、ウェハ
の所定位置に正確にパターンを重ねて描画する必要があ
る。そのため、例えば第4図(a’)に示すように、位
置合わせ用のマーク2を予めウェハ面に段差状に形成し
、電子ビーム1でマーク2を含むウェハ面を走査し、こ
の走査によりマークおよびウェハ面より放出される反射
電子等の強度をマーク信号として検出し、検出したマー
ク信号からマーク位置を求め、このマーク位置を基準と
して描画を行う方法が採用されている。
高精度でマーク位置を検出する方法として、例えば特開
昭59−222930号公報に示されるように、マーク
信号の極大および極小のピーク位置を検出し、これに基
づいてマークエツジデータを取り込む区間を設定する方
法がある。以下、第4図により従来のマーク位置検出方
法を説明する。
電子ビーム1で、マーク2が形成されたウェハ面を左か
ら右方向に走査した時、ウェハ面から放出される反射電
子信号を検出器で検出すると、例えば第4図(b)に示
す波形をもつマーク信号が得られる。このマーク信号に
対し適当なしきい値Loを設定して処理すると、第4図
(C)に示す2値化信号を得る。一方、ビーム走査開始
と同時に、ビーム走査クロックパルスをカウンタで計数
し、前記の2値化信号の変化のタイミングで計数値P、
、Pつを読み取る〔第4図(d)〕。ここで、PJZ*
Pmはマークのエツジ位置データであり、(Pth−P
m)/2をマーク位置としている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記した従来方法には次のような問題点があった。すな
わち、(b)に示すマーク信号波形は常に一定であると
いう訳ではなく、実際には、プロセスを経る毎に例えば
(e)に示すようにひずみを生じたり雑音信号が混入し
たりして波形が複雑に変化するのが通常である。このよ
うな場合には、偽りのエツジ位置データが第4図(f)
に示すように数多く発生することになり、算出されたマ
ーク位置には大きな誤差が生じ、結果として描画精度が
著しく低下してしまうという問題があった。
従来多くの場合、上記のような決定的障害を避けるため
に、標準のエツジデータ数を予め設定しておき、そして
、実際に検出されたエツジデータの数が設定標準値と一
致していれば、正しいエツジデータであると判定し、こ
れに基づいて、マーク位置を算出するようにしていた。
プロセスの過程あるいは雑音の混入などの原因によって
第4図(e)に示すように、例えばマーク信号の底辺の
1部が上にもち上ってしまうと、しきい値L’Oを何度
もよぎってしまうため、多数個のエツジを検出する結果
、設定#A準値を越えてしまうことは明白である。すな
わち、従来方法では、有効なマークが限定されることに
なり、ウェハへの描画率、いわゆる歩留り、を低下させ
てしまうという問題点があった。さらにまた、マーク検
出不能または検出エラーと判断できるのは、マーク検出
動作が完了した後であるから、この分だけ無駄なマーク
検出時間が消費されることになり、実質的なスループッ
ト低下の一因となっていた。上述した問題のことごとく
は、マーク信号波形に真のエツジ情報があるにもかかわ
らず、マーク信号波形に雑音が含まれていたり、波形に
ひずみが生じていたりするためである。
本発明の目的は、従来技術での上記した問題点を解決し
、マーク信号波形の中から、真にマークエツジ部を示す
部分と、そうでない部分とを区別することで真のマーク
エツジ部を高精度に選択することを可能とする電子ビー
ム露光におけるマーク位置検出装置を提供することにあ
る。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明では、上記目的を達成するために、マーク信号が
しきい値をよぎり、かつ、マーク信号の波高値が所定の
大きさ以上であったならば、しきい値をよぎった時点の
荷電粒子ビーム位置を求めるように構成する。望ましい
実施例においては、マーク信号に対して少なくとも3つ
のしきい値L0、 Ltt L2を大小関係がL t 
> L o > L 2となるように設定する手段と、
マーク信号がしきい値り。をよぎる毎にその時点の電子
ビーム位置データを一時保持する手段と、マーク信号が
しきい値Loを通過して引き続きしきい値L1をよぎっ
た時点およびしきい値り、を通過して引き続きしきい値
L2をよぎった時点にそれぞれ上記一時保持された電子
ビーム位置データをマーク位置データとして取り出す手
段とを備えた構成とする。
〔作用〕
本発明では、真のマークエツジ部に相当するマーク信号
波形の波高値の大きさは第4図(b)。
<e>に示したように大きいことに着目し、波高値の大
きさが所定の大きさ以上でしきい値をよぎった時の信号
を位置信号として検出する。このための具体例としては
第1図(、)に示すように、従来のマークエツジを抽出
するためのしきい値LOの他に、しきい値り、、L2を
設定する。そして、マーク信号がしきい値L1をよぎっ
たならば1例えば第一のフリップフロップ(以下FFと
略称)をセットし、次にしきい値L2をよぎった時に上
記FFをリセットする。この結果、第一のFF出力は第
1 (b)のようになる。一方、しきい値Loに基づい
て検出されるマークエツジデータ、すなわち、ビーム走
査クロック・パルスの計算値は第1図(c)に示すよう
に時刻の経過と伴にPJZIPX・・・・・・PTnの
ように変化する。
本発明においては、第1図(c)のマークエツジデータ
をレジスタに一時的に格納する〔第1図(d)は格納さ
れたエツジデータを示す〕。次に、第1図(c)におい
て、マーク信号がしきい値LOをよぎった時点に第二の
FFをセットする。
この第二のFFは、マーク信号がり、を通過した後、引
き続きしきい値り、あるいはL2をよぎつた時点にリセ
ットされる。このようにすることで、第二のFFの出力
は第1図(e)のようになる。
さて、レジスタ一時的に格納された、偽りエツジを含む
エツジデータは、前記のように、第1図(d)のとおり
である。そこで、第1図(e)に示した、第二のFFの
出力レベルが「1」から「0」に立下る時点に、レジス
タに一時保持された内容を取り出してメモリに書き込む
と、第1図(f)のようになる。すなわち、雑音や波形
ひずみによる偽りエツジデータは完全に取り除かれ、真
のエツジデータP J2 + P Tnが抽出されるこ
とになる。又、波高値が所定の大きさ以上であるか否か
を検出するためには上述のレベル検出の他に、マーク信
号を微分することによって検出することも可能である。
〔実施例〕
以下1本発明の一実施例を第2図、第3図により説明す
る。第2図は装置のブロック構成図、第3図は本発明に
おいて設定される3つのしきい値Low Lll L2
とマーク信号との関係例を示す図で、(a)はマーク信
号が上方に向って凸状のもの、(b)、(CL (d)
は下方に向って凸状のものを示している。なお、以下の
実施例では第3図(a)のマーク信号波形に対するマー
ク検出の場合を想定している。
第2図において、1 i、を電子ビーム、2は試料3の
面上に形成されたマークである。6は制御回路で、計算
機10からの描画開始指令に基づいて、ビームオン・オ
フ回路25を制御し、試料3に対し、電子ビームlを照
射すると共に、電子ビーム1を予め指定された走査開始
点と走査ピッチおよび走査距離に従って偏向を開始する
。信号検出器11はマーク2が形成されている試料面か
らの反射電子を検出し、検出さ九たマーク信号はAGC
(自動利得制御)回路4、ALC(自動レベル制2a)
回路5で、振幅・オフセットレベルが一定となるよう制
御される。一定に制御されたマーク信号はA/Dコンバ
ータ12でディジタル・コードに変換される。
A/Dコンバータ12の出力は、しきい値り。
設定回路13、しきい値し、設定回路14、しきい値L
2設定回路15にそれぞれ導入される。しきい値Ln、
L+、Lzの設定は次のように行われる。電子ビーム1
を例えばマーク2を含む部分の左端から右端に向って走
査することで得られるマーク信号波形の最大レベル値を
Epkとし、最小レベル値をEnl’lとして、(EP
b  Ens)/2を求めてこれをしきい値Lnとし、
最大レベル値Epkよりは小さく、Loより大きい任意
の直流レベルをしきい値し、とし、最小レベル値Eos
よりは大きく、Loよりは小さい任意の直流レベルをし
きい値L2として設定する。以上のLn=L+、Lzの
設定は、第3図(a)のマーク信号波形を想定してその
しきい値設定の実施例を示したが、第3図(c)、(d
)のようにマーク信号波形が下方に向って凸状で、しか
も波形ひずみを生じているものに対しては、しきい値し
。。
L、の設定を、前記電子ビームを左端から右端まで走査
して得られるマーク信号の最小値よりは大きく、Loよ
りは小さい任意の直流レベルをL2とし、上記マーク信
号のオフセットレベルより大きい任意の直流レベルをL
lとして設定すればよい。
さて、しきい値Lo設定回路13で設定されたしきい値
Loは次段のコンパレータ16の片方の入力側に入力さ
れ、コンパレータ16の他方の入力画にはA/Dコンバ
ータ12の出力が入力されている。これにより、A/D
コンバータ12の出力は、すなわちマーク信号は、しき
い値Loでもって2値化される。この2値化さ九た信号
は微分回路21で微分される。すなわち、マーク信号が
しきい値し。をよぎる毎に、微分回路21の出力線30
にはパルス信号が出現する。ところで、制御回路6は、
電子ビーム1を1ステツプ偏向する毎にカウンタ7にク
ロックパルスを与えており、このカウンタ7の出力はレ
ジスタ8のデータ入力端子に加えられている。一方、微
分回路21の出力線30の一部はレジスタ8のライトス
トローブ入力端子に接続されている。従って、出力線3
゜にパルス信号が発生すると、カウンタ7の内容がレジ
スタ8にラッチさ九ることになる。すなわち。
第3図(a)に示したP2であり、マークのエツジ部デ
ータに対応する。
一方、しきい値L1.L2は、それぞれの設定回路14
.15の出力線31.32を経て、それぞ九片方の入力
側にA/Dコンバータ12の出力が接続されているコン
パレータ17,18に入力され、これらの各コンパレー
タ出力はフリップ・フロップ(以下FFと記す)19の
セット、リセット端子に接続されている。従って、いま
、A/Dコンバータ12の出力レベルが出力線31のレ
ベルL1よりも大きくなるとコンパレータ17は反転し
、FF19をセットする。FF19の出力に変化が生じ
たことにより、微分器24が動作し。
出力線33にパルス信号が生じる。さて、前述したエツ
ジ部を見つけたことを示す、つまり、マーク信号がしき
い値Loをよぎったことを示す、出力!30のパルス信
号はFF22をセットするように作用し、従って、FF
22の出力線34は” 1 ”レベルとなっている。こ
のため、ANDゲート26の間入力端は共に″11nレ
ベルとなり、この結果、出力線35上に、メモリ9に対
し、レジスタ8のデータを書き込む指令信号となるライ
トパルスが生じる。これにより、第4図(、)のP2が
メモリ9に書き込まれる。
また、出力線33上のパルス信号は遅延回路23で遅延
され、メモリ9がデータを書き込むのに要する時間だけ
持った後、FF22をリセットする。
このようにして電子ビーム1の走査が進行し、マーク信
号の大きさが出力線31のレベルL、よりも小さくなる
と、コンパレータ17の出力は反転し、II 014 
レベルになるが、FF19はエツジトリガータイプであ
るためFF19の出力は“″1″レベルのままであり、
微分回路24の出力線33にはパルス信号の発生がなく
、従って、メモリ9へのライトストローブは発生せず、
この結果、例えば雑音によってコンパレータ16が動作
してレジスタ8に偽りのマークエツジデータが保持され
たとしても、このマークデータがメモリ9に取り込まれ
ることはない。
さらに電子ビームの走査が進行し、マーク信号の大きさ
が小さくなると、しきい値り、をよぎる時点にコンパレ
ータ16の出力が反転し、微分回路21の出力線30に
パルス信号が発生し、第3図(、)のPmに対応するマ
ークエツジデータを見い出し、これがレジスタ8に保持
されるが、このとき、出力線33は″゛0″0″レベル
であるので、メモリ9には書き込まれない。走査の進行
により、マーク信号の大きさがさらに小さくなり、やが
てしきい値し2設定回路15の出力線32のレベルL2
よりも小さくなると、コンパレータ18が動作し、FF
19がリセットする。このFF19の出力の変化に伴い
、微分器24は出力線33上にパルス信号を生じさせる
。この時、FF22はセット状態にあって、出力線34
のレベルは1117Hになっているから、ANDゲート
26の出力線35にライトパルスが生じ、レジスタ8に
一時保持されているマークエツジデータ〔第3図(a)
のP□〕がメモリ9に書き込まれる。なお、゛メモリ9
のアドレスは、出力線35のライトパルスによってイン
クリメントされるアドレスカウンタ27によって設定さ
れる。
このようにして、電子ビームの走査が進行し、やがて、
マーク右端部までの走査が終了すると、制御回路6は、
その出力線36にリセットパルスを生じさせ゛る。この
結果、カウンタ7、FF22゜FF19は、それぞれリ
セットされ、イニシャライズされる。その後、制御回路
6は、電子ビーム1を再び走査開始点に移動し、上記操
作を必要な回数だけ繰返す。
なお、第2図実施例回路の動作説明では、説明を簡単に
するため、マーク信号波形としては第3図(a)の波形
を想定し設定される3つのしきい値L0、L1+L2の
大小関係はL o > L 1 >L2であるとして説
明してきたが、マーク信号波形は第3図(b)、(c)
、(d)に示すような下方に凸状に変化する場合にも、
実施例の場合と同様に真のマークエツジデータP’J’
、tPmだけを抽出可能である。
また、本発明の実施例では、ハードウェアで構成した場
合を例にとって説明したが、ソフトウェア処理によって
も同様に動作させ、同様効果を生じさせることができる
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、例えば第3図(
a)〜(d)に示した、ことととくのマーク波形信号に
対して、正確にマークエツジ部(第3図のO印を付した
部分)のみを検出することが可能となり、これは、従来
方式によるマーク位置検出に比べて、(1)マーク位置
検出の精度が向上する、 (2)マーク検出エラーが生
じないことにより描画の歩留りが向上し、さらには実質
的なスルーブツトが向上する、等の顕著な効果を発揮す
る。
なお、本発明は、電子ビーム露光装置におけるマーク検
出に限られるものではなく、集積回路パターンの線幅を
電子ビームで;同定する、いわゆる、測長装置にも適用
可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の検出原理を説明する図、第2図は本発
明の一実施例のブロック構成図、第3図は本発明の詳細
な説明する図、第4図は従来のマーク検出方法とその問
題点を説明する図である。 13.14.15・・・しきい値設定回路、16゜17
.18・・・コンパレータ、19,22・・・フリップ
フロップ、21.24・・・微分回路、23・・・遅延
回2各。 茅1目 (子)   111丁上イ■)戸[]。 ¥4目 f’l    f’−Pn−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、マークを電子ビームで走査することによって、該マ
    ークから発生する反射電子もしくは二次電子信号等を検
    出する手段と、該マーク検出手段により検出されたマー
    ク信号を所定のレベルのしきい値と比較して、該マーク
    信号が該しきい値をよぎった時点の電子ビーム位置を求
    める処理手段とを具備して、前記マークの位置検出を行
    なうようにしたマーク位置検出装置において、前記マー
    ク信号が上記しきい値をよぎりかつ、マーク信号の波高
    値が所定の大きさ以上であったならば、しきい値をよぎ
    った時点の荷電粒子ビーム位置を求めるように構成した
    ことを特徴とする電子ビーム露光装置におけるマーク位
    置検出装置。 2、前記マーク信号に対して少なくとも3つのしきい値
    L_0、L_1、L_2を大小関係がL_1>L_0>
    L_2となるように設定する手段と、マーク信号がしき
    い値L_0をよぎる毎にその時点の電子ビーム位置デー
    タを一時保持する手段と、マーク信号がしきい値L_0
    を通過して引き続きしきい値L_1をよぎった時点およ
    びしきい値L_0を通過して引き続きしきい値L_2を
    よぎった時点にそれぞれ上記一時保持された電子ビーム
    位置データをマーク位置データとして取り出す手段とを
    備えたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の電
    子ビーム露光装置におけるマーク位置検出装置。 3、前記しきい値L_0、L_1、L_2が、初回の電
    子ビーム走査で得られるマーク信号波形の最大レベル値
    をE_p_k、最小レベル値をE_o_sとして(E_
    p_k−E_o_s)/2をしきい値L_0とし、最大
    レベル値E_p_kより小さい任意の直流レベルをしき
    い値L_1とし、最小レベル値E_o_sよりは大きい
    任意の直流レベルをしきい値L_2として設定したこと
    を特徴とする特許請求の範囲第2項記載の電子ビーム露
    光装置におけるマーク位置検出装置。
JP61140069A 1986-06-18 1986-06-18 電子ビ−ム露光装置におけるマ−ク位置検出装置 Expired - Lifetime JP2585223B2 (ja)

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US07/063,018 US4808829A (en) 1986-06-18 1987-06-17 Mark position detection system for use in charged particle beam apparatus

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