JPH0254495B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0254495B2 JPH0254495B2 JP9384081A JP9384081A JPH0254495B2 JP H0254495 B2 JPH0254495 B2 JP H0254495B2 JP 9384081 A JP9384081 A JP 9384081A JP 9384081 A JP9384081 A JP 9384081A JP H0254495 B2 JPH0254495 B2 JP H0254495B2
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- JP
- Japan
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- data
- deviation
- axis
- axis direction
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- Prior art date
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- Expired
Links
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、マスク・ウエハなどの微細パターン
の2チツプ比較欠陥検査装置において、被検査物
のX,Y位置ズレを自動的に検出する方法に関す
るものである。
の2チツプ比較欠陥検査装置において、被検査物
のX,Y位置ズレを自動的に検出する方法に関す
るものである。
従来、微細パターンの欠陥検査における被検査
物のX,Y位置ズレは、顕微鏡などを使用して目
視検査により位置ズレを検出し、その補正として
検出器、X,Yテーブルの微調整を行つていた。
しかしながら目視検査であり、その精度はメカ的
に限度があり、調整にも時間がかかつた。そのた
め、従来の目視検査に代つて高精度で自動的に位
置決めする検出方式の要求が高かつた。
物のX,Y位置ズレは、顕微鏡などを使用して目
視検査により位置ズレを検出し、その補正として
検出器、X,Yテーブルの微調整を行つていた。
しかしながら目視検査であり、その精度はメカ的
に限度があり、調整にも時間がかかつた。そのた
め、従来の目視検査に代つて高精度で自動的に位
置決めする検出方式の要求が高かつた。
本発明は、前記要求に鑑みて発明されたもの
で、短時間、高精度でパターン位置ズレを検出
し、自動補正するための検出方法を提供すること
を目的とする。
で、短時間、高精度でパターン位置ズレを検出
し、自動補正するための検出方法を提供すること
を目的とする。
本発明は2つのパターン画像をそれぞれ2値化
してメモリ内に収め、そのメモリ内の2進データ
を両者それぞれX軸及びY軸方向に積算射影して
一次元データとし、この2つの一次元データから
互いのズレ量を検出するようになしたことを特徴
とする。
してメモリ内に収め、そのメモリ内の2進データ
を両者それぞれX軸及びY軸方向に積算射影して
一次元データとし、この2つの一次元データから
互いのズレ量を検出するようになしたことを特徴
とする。
以下本発明を図面に示した実施例にもとづいて
説明する。第1図は本発明によるパターン位置ズ
レ検出方式及び駆動機構のブロツク図であり、被
検査物2のチツプ3及び4をそれぞれ顕微鏡5で
拡大し、それぞれを検出器6及び7で検出し、2
値化回路8及び9で2値化し、メモリ10及び1
1にたくわえる。
説明する。第1図は本発明によるパターン位置ズ
レ検出方式及び駆動機構のブロツク図であり、被
検査物2のチツプ3及び4をそれぞれ顕微鏡5で
拡大し、それぞれを検出器6及び7で検出し、2
値化回路8及び9で2値化し、メモリ10及び1
1にたくわえる。
メモリ10,11内にたくわえられた2進デー
タ10a,11aは演算処理部12にて次の如き
演算がなされる。まず、第2図のようにX軸,Y
軸それぞれ“1”信号17を加算し、X,Y軸加
算データ18,19,20,21を求める。さら
に第3図のように、一方のチツプ3から得られた
Y軸加算データ18の中から任意抽出データ22
をぬきとり、このデータ22と他方のチツプ4か
ら得られたY軸加算データ20とを逐次比較演算
し、最小誤差ポイントを求める。
タ10a,11aは演算処理部12にて次の如き
演算がなされる。まず、第2図のようにX軸,Y
軸それぞれ“1”信号17を加算し、X,Y軸加
算データ18,19,20,21を求める。さら
に第3図のように、一方のチツプ3から得られた
Y軸加算データ18の中から任意抽出データ22
をぬきとり、このデータ22と他方のチツプ4か
ら得られたY軸加算データ20とを逐次比較演算
し、最小誤差ポイントを求める。
すなわち
P(1)=〔Xa(q)−Xb(1)〕2+〔Xa(q+1)−Xb
(2)〕2 +〔Xa(q+2)−Xb(3)〕2+〔Xa(q+3)−
Xb(4)〕2 +〔Xa(q+4)−Xb(5)〕2 ……(1) P(2)=〔Xa(q)−Xb(2)〕2+〔Xa(q+1)−Xb
(3)〕2 +〔Xa(q+2)−Xb(4)〕2+〔Xa(q+3)−
Xb(5)〕2 +〔Xa(q+4)−Xb(6)〕2 ……(2) P(n−1)=〔Xa(q)−Xb(n−5)〕2+〔Xa
(q+1)−Xb(n−4)〕2 +〔Xa(q+2)−Xb(n−3)〕2+〔Xa(q+
3)−Xb(n−2)〕2 +〔Xa(q+4)−Xb(n−1)〕2
……(n−1) P(n)=〔Xa(q)−Xb(n−4)〕2+〔Xa(q
+
1)−Xb(n−3)〕2 +〔Xa(q+2)−Xb(n−2)〕2+〔Xa(q+
3)−Xb(n−1)〕2 +〔Xa(q+4)−Xb(n)〕2 ……(n) を演算処理し、最小となるP(x)を求め、任意
抽出データ22とのビツト差をパターン位置ズレ
として検出する。以上のような位置ズレ検出は、
Y軸方向もX軸加算データ19及び21を用いて
同様に行なわれる。
(2)〕2 +〔Xa(q+2)−Xb(3)〕2+〔Xa(q+3)−
Xb(4)〕2 +〔Xa(q+4)−Xb(5)〕2 ……(1) P(2)=〔Xa(q)−Xb(2)〕2+〔Xa(q+1)−Xb
(3)〕2 +〔Xa(q+2)−Xb(4)〕2+〔Xa(q+3)−
Xb(5)〕2 +〔Xa(q+4)−Xb(6)〕2 ……(2) P(n−1)=〔Xa(q)−Xb(n−5)〕2+〔Xa
(q+1)−Xb(n−4)〕2 +〔Xa(q+2)−Xb(n−3)〕2+〔Xa(q+
3)−Xb(n−2)〕2 +〔Xa(q+4)−Xb(n−1)〕2
……(n−1) P(n)=〔Xa(q)−Xb(n−4)〕2+〔Xa(q
+
1)−Xb(n−3)〕2 +〔Xa(q+2)−Xb(n−2)〕2+〔Xa(q+
3)−Xb(n−1)〕2 +〔Xa(q+4)−Xb(n)〕2 ……(n) を演算処理し、最小となるP(x)を求め、任意
抽出データ22とのビツト差をパターン位置ズレ
として検出する。以上のような位置ズレ検出は、
Y軸方向もX軸加算データ19及び21を用いて
同様に行なわれる。
検出されたX,Y軸のズレ量は、メカ駆動部1
3に供給され、X軸方向ズレに対しては、検出器
間隔移動機構14により、またY軸方向ズレに対
してはθ調整機構15により微調整を行い、X,
Y位置ズレをなくし、2チツプ比較欠陥検査の初
期設定を行う。
3に供給され、X軸方向ズレに対しては、検出器
間隔移動機構14により、またY軸方向ズレに対
してはθ調整機構15により微調整を行い、X,
Y位置ズレをなくし、2チツプ比較欠陥検査の初
期設定を行う。
以上説明したように、本発明によれば、微細パ
ターンの2チツプ比較欠陥検査におけるパターン
位置ズレを一次元演算処理だけにより検出し、検
出器間隔及びステージθ方向をメカ駆動部により
自動的に調整することで、短時間で高精度に位置
ズレ補正することが可能となるものである。
ターンの2チツプ比較欠陥検査におけるパターン
位置ズレを一次元演算処理だけにより検出し、検
出器間隔及びステージθ方向をメカ駆動部により
自動的に調整することで、短時間で高精度に位置
ズレ補正することが可能となるものである。
第1図は、本発明によるパターン位置ズレ検出
方法及び駆動制御機構のブロツク図、第2図a,
bは、メモリ内2進データの構成図及びそのX
軸,Y軸方向の加算データ図、第3図a,bは、
メモリ内2進データのY軸加算データの構成図で
ある。 1:XYステージ、2:被検査物、3,4:チ
ツプ、5:顕微鏡、6,7:検出器、8,9,:
2値化回路、10,11:メモリ、12:演算処
理部、10a,11a:2値化データ、16:
“0”信号、17:“1”信号、18,20:Y軸
加算データ、19,21:X軸加算データ。
方法及び駆動制御機構のブロツク図、第2図a,
bは、メモリ内2進データの構成図及びそのX
軸,Y軸方向の加算データ図、第3図a,bは、
メモリ内2進データのY軸加算データの構成図で
ある。 1:XYステージ、2:被検査物、3,4:チ
ツプ、5:顕微鏡、6,7:検出器、8,9,:
2値化回路、10,11:メモリ、12:演算処
理部、10a,11a:2値化データ、16:
“0”信号、17:“1”信号、18,20:Y軸
加算データ、19,21:X軸加算データ。
Claims (1)
- 1 2つのパターンの位置ズレを検出する方法に
おいて、上記2つのパターン画像をそれぞれ2値
化してメモリ内に収め、そのメモリ内の2進デー
タを両者それぞれX軸及びY軸方向に積算射影し
て一次元データとし、該X軸方向に積算射影され
た一次元データの一方についてデータを任意に抽
出し、他方の一次元データを該一方の抽出したデ
ータに対してズラして逐次比較をして演算を行
い、その演算結果により両者のデータが最も一致
したときのズレ量をY軸方向のズレ量として検出
するとともに、Y軸方向に積算射影された一次元
データについても一方についてデータを任意に抽
出し、他方の一次元データを該一方の抽出したデ
ータに対してズラして逐次比較をして演算を行
い、その演算結果により両者のデータが最も一致
したときのズレ量をX軸方向のズレ量として検出
することを特徴とするパターン位置ズレ検出方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9384081A JPS57208441A (en) | 1981-06-19 | 1981-06-19 | Detection system of deviation in pattern position by 2-chip comparison |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9384081A JPS57208441A (en) | 1981-06-19 | 1981-06-19 | Detection system of deviation in pattern position by 2-chip comparison |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57208441A JPS57208441A (en) | 1982-12-21 |
JPH0254495B2 true JPH0254495B2 (ja) | 1990-11-21 |
Family
ID=14093585
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9384081A Granted JPS57208441A (en) | 1981-06-19 | 1981-06-19 | Detection system of deviation in pattern position by 2-chip comparison |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS57208441A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0670619B2 (ja) * | 1989-07-01 | 1994-09-07 | 日本碍子株式会社 | 空燃比センサ評価法および装置 |
JP3135063B2 (ja) * | 1989-09-22 | 2001-02-13 | 株式会社日立製作所 | 比較検査方法および装置 |
JPH0731134B2 (ja) * | 1989-12-25 | 1995-04-10 | 株式会社コムシステム | 画像検査装置 |
-
1981
- 1981-06-19 JP JP9384081A patent/JPS57208441A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57208441A (en) | 1982-12-21 |
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