JPS63122913A - パタ−ン寸法測定システム - Google Patents
パタ−ン寸法測定システムInfo
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- JPS63122913A JPS63122913A JP61270653A JP27065386A JPS63122913A JP S63122913 A JPS63122913 A JP S63122913A JP 61270653 A JP61270653 A JP 61270653A JP 27065386 A JP27065386 A JP 27065386A JP S63122913 A JPS63122913 A JP S63122913A
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 63
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は試料の微細なパターンの寸法を測定するパタ
ーン寸法測定システムに関し、特にパターン寸法測定装
置と外部コンピュータとのファイル転送によるデータ通
信が可能となるパターン寸法測定システムに関するもの
である。
ーン寸法測定システムに関し、特にパターン寸法測定装
置と外部コンピュータとのファイル転送によるデータ通
信が可能となるパターン寸法測定システムに関するもの
である。
［従来の技術］
半導体集積回路などの半導体装置を製造する際に写真製
版工程は必要不可欠であり、しかも半導体集積回路の微
細パターン化は益々進んでいる。
版工程は必要不可欠であり、しかも半導体集積回路の微
細パターン化は益々進んでいる。
そして、微細パターンの形成には電子ビーム露光−装置
、ＸＩｌ露光装置などが用いられ、これにより微細パタ
ーンの寸法精度の向上が実現されつつある。
、ＸＩｌ露光装置などが用いられ、これにより微細パタ
ーンの寸法精度の向上が実現されつつある。
第３図は、レーザ干渉型のパターン寸法測定装置の構成
を示す図である。
を示す図である。
初めにこの装置の構成について説明する。図において、
半導体ウェハまたはマスクなどの基板１表面に複数個の
微細なパターン２が形成された試料３がステージ２１上
に載せられている。レーザ発生装置２３はレーザ光りを
発生する。このレーザ光りはスポット移動機能部２４、
自動焦点機能部２５を通して試料３表面に照射され、そ
こにレーザスポットＳが形成される。中央演１１９！！
１３！！装置（以下ＣＰＬＩと略記する）２７はスポッ
ト走査機１１ａｌ１２４、自動焦点ｌＪｇｉ１ａｌｓ
２５、ステージ移動機能部２２およびパターン寸法表示
部２８に接続されており、検出器２６はＣＰＵ ２７°
に接続されている。スポット走査ａＳ部２４は、ＣＰＵ
２７からの命令信号によりレーザスポットＳが試料３表
面を水平方向に走査するように制’ＩＩ？Ｓれる。自動
焦点Ｗ能ａｌ＄２５は、ＣＰＵ２７からの命令信りによ
りレーザスポットＳを試料３表面に自動焦点合わせする
ように制御される。ステージ移動機能部２２は、ＣＰＵ
２７からの命令信号によりステージ２１を水平方向に移
動するようにｉｌｌ ｔｌされる。
半導体ウェハまたはマスクなどの基板１表面に複数個の
微細なパターン２が形成された試料３がステージ２１上
に載せられている。レーザ発生装置２３はレーザ光りを
発生する。このレーザ光りはスポット移動機能部２４、
自動焦点機能部２５を通して試料３表面に照射され、そ
こにレーザスポットＳが形成される。中央演１１９！！
１３！！装置（以下ＣＰＬＩと略記する）２７はスポッ
ト走査機１１ａｌ１２４、自動焦点ｌＪｇｉ１ａｌｓ
２５、ステージ移動機能部２２およびパターン寸法表示
部２８に接続されており、検出器２６はＣＰＵ ２７°
に接続されている。スポット走査ａＳ部２４は、ＣＰＵ
２７からの命令信号によりレーザスポットＳが試料３表
面を水平方向に走査するように制’ＩＩ？Ｓれる。自動
焦点Ｗ能ａｌ＄２５は、ＣＰＵ２７からの命令信りによ
りレーザスポットＳを試料３表面に自動焦点合わせする
ように制御される。ステージ移動機能部２２は、ＣＰＵ
２７からの命令信号によりステージ２１を水平方向に移
動するようにｉｌｌ ｔｌされる。
検出器２６はレーザ光りの試料３表面での反射光を受け
てこれを電気信号に変換する。パターン寸法表示部２８
は、ＣＰＬＪ ２７からの命令信号により測定されたパ
ターン寸法を表示するように制御される。
てこれを電気信号に変換する。パターン寸法表示部２８
は、ＣＰＬＪ ２７からの命令信号により測定されたパ
ターン寸法を表示するように制御される。
次にこの装置の動作について説明する。パターン２の寸
法の測定時には自動焦点機能部２５は、ＣＰＵ２７から
の命令信号によりレーザスポットＳを試料３表面に自動
焦点合わせするようにし、スポット走査機能部２４は、
ＣＰＵ２７からの命令信号によりレーザスポットＳが試
料３表面を走査するようにする。そして、ステージ移動
機能部２２は、ＣＰＵ２７からの命令信号によりレーザ
スポットＳが成るパターン２を走査するようにステージ
２１を移動する。検出器２６はレーザ光りの試料３表面
での反射光を受けて検出信号２６ａを出力し、この検出
信号２６ａはＣＰＬＩ２７に与えられる。レーザスポッ
トＳがパターン２のエツジ部に来たときには検出信号２
６ａに変化が生じるが、ＣＰＵ２７は検出器＠２６ａの
変化を検出して成るパターン２の寸法を測定し、パター
ン寸法表示部２８は、ＣＰＬｊ、２７からの命令信号に
より測定されたパターン寸法をそこに表示する。次に、
ステージ移動機能部２２は、ＣＰＵ２７からの命令信号
によりレーザスポットＳが他のパターンを走査するよう
にステージ２１を移動し、上記と同様な方法で他のパタ
ーン２の寸法測定および測定されたパターン寸法の表示
を行なう。
法の測定時には自動焦点機能部２５は、ＣＰＵ２７から
の命令信号によりレーザスポットＳを試料３表面に自動
焦点合わせするようにし、スポット走査機能部２４は、
ＣＰＵ２７からの命令信号によりレーザスポットＳが試
料３表面を走査するようにする。そして、ステージ移動
機能部２２は、ＣＰＵ２７からの命令信号によりレーザ
スポットＳが成るパターン２を走査するようにステージ
２１を移動する。検出器２６はレーザ光りの試料３表面
での反射光を受けて検出信号２６ａを出力し、この検出
信号２６ａはＣＰＬＩ２７に与えられる。レーザスポッ
トＳがパターン２のエツジ部に来たときには検出信号２
６ａに変化が生じるが、ＣＰＵ２７は検出器＠２６ａの
変化を検出して成るパターン２の寸法を測定し、パター
ン寸法表示部２８は、ＣＰＬｊ、２７からの命令信号に
より測定されたパターン寸法をそこに表示する。次に、
ステージ移動機能部２２は、ＣＰＵ２７からの命令信号
によりレーザスポットＳが他のパターンを走査するよう
にステージ２１を移動し、上記と同様な方法で他のパタ
ーン２の寸法測定および測定されたパターン寸法の表示
を行なう。
［発明が解決しようとする問題点］
ところで、従来のパターン測定装置においては、測定さ
れたパターン寸法（Ｉ１１定データ）をデ゛イジタル表
示するのみで、測定データはいずれにも保存されていな
かった。また、測定データが保存されていないため、測
定データの統計的処理方法は確立されていず、微細パタ
ーン寸法の精密制御は未だ不十分であり、さらに、パタ
ーン寸法測定装置と外部計算機とのデータ通信が不可能
であった。
れたパターン寸法（Ｉ１１定データ）をデ゛イジタル表
示するのみで、測定データはいずれにも保存されていな
かった。また、測定データが保存されていないため、測
定データの統計的処理方法は確立されていず、微細パタ
ーン寸法の精密制御は未だ不十分であり、さらに、パタ
ーン寸法測定装置と外部計算機とのデータ通信が不可能
であった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、パターン寸法測定装貨により測定されたパタ
ーン寸法（ＩＩ定データ）をファイル処理し、このファ
イル処理された測定データの保存を可能とし、さらにパ
ターン寸法測定装置と外部計算機とのファイル転送によ
るデータ通信を可能とするパターン寸法測定システムを
得ることを目的とする。
たもので、パターン寸法測定装貨により測定されたパタ
ーン寸法（ＩＩ定データ）をファイル処理し、このファ
イル処理された測定データの保存を可能とし、さらにパ
ターン寸法測定装置と外部計算機とのファイル転送によ
るデータ通信を可能とするパターン寸法測定システムを
得ることを目的とする。
［問題点を解決するための手段］
この発明に係るパターン寸法測定システムは、試料のパ
ターン寸法を測定するパターン寸法測定手段と、このパ
ターン寸法測定手段からの測定データをファイル処理し
、このファイル処理された測定データを保存するための
データ処理手段と、このデータ処理手段によって保存さ
れた、上記ファイル処理された測定データを外部コンピ
ュータにファイル転送するためのデータ転送手段とを備
える。
ターン寸法を測定するパターン寸法測定手段と、このパ
ターン寸法測定手段からの測定データをファイル処理し
、このファイル処理された測定データを保存するための
データ処理手段と、このデータ処理手段によって保存さ
れた、上記ファイル処理された測定データを外部コンピ
ュータにファイル転送するためのデータ転送手段とを備
える。
［作用］
この発明においては、パターン寸法測定手段により試料
のパターンの寸法を測定し、データ処理手段により、パ
ターン寸法測定手段からの測定データをファイル処理し
、このファイル処理された測定データを保存し、データ
転送手段により、データ処理手段によって保存された、
上記ファイル処理された測定データを外部コンピュータ
にファイル転送する。
のパターンの寸法を測定し、データ処理手段により、パ
ターン寸法測定手段からの測定データをファイル処理し
、このファイル処理された測定データを保存し、データ
転送手段により、データ処理手段によって保存された、
上記ファイル処理された測定データを外部コンピュータ
にファイル転送する。
［実施例］
以下、この発明の実施例を図について説明する。
なお、この実施例の説明において、従来の技術の説明と
重複する部分については適宜その説明を省略する。
重複する部分については適宜その説明を省略する。
第１図は、この発明の実施例であるパターン寸法測定シ
ステムの構成を示す図である。
ステムの構成を示す図である。
初めにこのシステムの構成について説明する。
図において、パターン寸法測定装＠２０は第３図のパタ
ーン寸法測定装置と同じものである。パターン寸法測定
装置２０はインターフェイス２９゜３６を介してＣＰＵ
３５に接続されている。インターフェイス３６はたとえ
ばＧＰ−ＩＢである。
ーン寸法測定装置と同じものである。パターン寸法測定
装置２０はインターフェイス２９゜３６を介してＣＰＵ
３５に接続されている。インターフェイス３６はたとえ
ばＧＰ−ＩＢである。
ＣＰＵ３５はＣＲＴ３１ 、プリンタ３２、固定ディス
ク３３およびフロッピィディスク３４に接続されており
、ＣＲＴ３１とプリンタ３２と固定ディスク３３とフロ
ッピィディスク３４とＣＰＬＩ３５とは計算機３０を構
成する。ＣＰＬＪ３５はインターフェイス３７を介して
外部ホストコンピュータ４０に接続されている。インタ
ーフェイス３７はたとえばＲ８２３２Ｃである。
ク３３およびフロッピィディスク３４に接続されており
、ＣＲＴ３１とプリンタ３２と固定ディスク３３とフロ
ッピィディスク３４とＣＰＬＩ３５とは計算機３０を構
成する。ＣＰＬＪ３５はインターフェイス３７を介して
外部ホストコンピュータ４０に接続されている。インタ
ーフェイス３７はたとえばＲ８２３２Ｃである。
パターン寸法測定装置２０は計算Ｉ！３０からの外部デ
ータにより制御され、パターン寸法測定装置１２０、イ
ンターフェイス２９．３６、計算機３０およびインター
フェイス３７において、試料３の自動位置決め、レーザ
スポットＳの自動焦点合わせ、レーザスポットＳの自動
走査、パターン２の寸法の自動測定、測定データのファ
イル処理、ファイル処理された測定データの保存、ファ
イル処理された測定データの外部ホストコンピュータ４
０へのファイル転送などが機能的になされる。
ータにより制御され、パターン寸法測定装置１２０、イ
ンターフェイス２９．３６、計算機３０およびインター
フェイス３７において、試料３の自動位置決め、レーザ
スポットＳの自動焦点合わせ、レーザスポットＳの自動
走査、パターン２の寸法の自動測定、測定データのファ
イル処理、ファイル処理された測定データの保存、ファ
イル処理された測定データの外部ホストコンピュータ４
０へのファイル転送などが機能的になされる。
そのシーケンスを第２図のフローチャートに示す。
このシーケンスについて説明すると、まず、ステップＳ
１でパターン寸法自動測定モードにセットする。次に、
ステップＳ２で試料３をステージ２１上にセットする。
１でパターン寸法自動測定モードにセットする。次に、
ステップＳ２で試料３をステージ２１上にセットする。
次に、ステップＳ３でステージ移動機能部２２は、ＣＰ
ｔＪ ２７からの命令信号によりレーザスポットＳを測
定すべきパターン２上にセットするようにステージ２１
を移動する。
ｔＪ ２７からの命令信号によりレーザスポットＳを測
定すべきパターン２上にセットするようにステージ２１
を移動する。
次に、ステップＳ４．Ｓ５でＣＲＴ３１に試料名、パタ
ーン測定条件を入力すると、ステップＳ６でパターン寸
法測定装置２０は、ＣＰｔＪ３５からの命令信号により
パターン２の寸法の測定を自動的に開始する。次に、ス
テップＳ７からステップＳ１１で、自動焦点機能部２５
．スポット走査機能部２４．ステージ移動機能部２２は
、ＣＰＬＪ ２７から命令信号によりステージ２１の移
動、レーザスポットＳの試料３表面への自動焦点合わせ
、レーザスポットＳの試料３表面の走査を行ないながら
パターン２の寸法の測定を行ない、パターン寸法表示部
２８は、ＣＰＵ２７からの命令信号により測定されたパ
ターン寸法（８１定データ）をそこに表示する。次に、
ステップ８１２でＣＰｔＪ３５によりパターン寸法測定
が多点測定であるか否かが判別される。多点測定の場合
にはステップ８７〜ステツプ８１１までの動作が多点測
定数だけ繰返される。多点測定でない場合にはステップ
Ｓ１３でＣＰＵ３５により測定データを保存するか否か
が判別される。測定データを保存しない場合にはパター
ン寸法測定システムの一連の動作が終了する。測定デー
タを保存する場合には、ステップＳ１４で固定ディスク
３３はＣＰＵ３５からの命令信号によりそこに測定デー
タを格納する。次に、ステップ８１５でＣＰＵ３５によ
り固定ディスク３３に格納された測定データを７？イル
処理するか否かが判別される。ファイル処理される場合
には、ステップ８１６でＣＰＬＪ３５により固定ディス
ク３３に格納された測定データがファイル処理され、ス
テップ８１７でフロッピィディスク３４は、ＣＰＵ３５
からの命令信号によりそこにこのファイル処理された測
定データを１個のパターン２ごとにデータファイルとし
て保存する。フ？イル処理しない場合にはステップ８１
７へ続き、固定ディスク３３に格納された測定データは
ファイル処理されないでそのままフロッピィディスク３
４に保存される。次に、ステップＳ１８でＣＰＬＩ３５
はフロッピィディスク３４に保存された各データファイ
ルを１個のパターン２の寸法の測定が終了するごとに外
部ホストコンピュータ４０にファイル転送し、このよう
にしてパターン寸法測定システムの一連の動作が終了す
る。そして、外部ホストコンピュータ４０では、ファイ
ル転送されたデータファイルの保存やその統計処理など
のデータ処理が行なわれる。
ーン測定条件を入力すると、ステップＳ６でパターン寸
法測定装置２０は、ＣＰｔＪ３５からの命令信号により
パターン２の寸法の測定を自動的に開始する。次に、ス
テップＳ７からステップＳ１１で、自動焦点機能部２５
．スポット走査機能部２４．ステージ移動機能部２２は
、ＣＰＬＪ ２７から命令信号によりステージ２１の移
動、レーザスポットＳの試料３表面への自動焦点合わせ
、レーザスポットＳの試料３表面の走査を行ないながら
パターン２の寸法の測定を行ない、パターン寸法表示部
２８は、ＣＰＵ２７からの命令信号により測定されたパ
ターン寸法（８１定データ）をそこに表示する。次に、
ステップ８１２でＣＰｔＪ３５によりパターン寸法測定
が多点測定であるか否かが判別される。多点測定の場合
にはステップ８７〜ステツプ８１１までの動作が多点測
定数だけ繰返される。多点測定でない場合にはステップ
Ｓ１３でＣＰＵ３５により測定データを保存するか否か
が判別される。測定データを保存しない場合にはパター
ン寸法測定システムの一連の動作が終了する。測定デー
タを保存する場合には、ステップＳ１４で固定ディスク
３３はＣＰＵ３５からの命令信号によりそこに測定デー
タを格納する。次に、ステップ８１５でＣＰＵ３５によ
り固定ディスク３３に格納された測定データを７？イル
処理するか否かが判別される。ファイル処理される場合
には、ステップ８１６でＣＰＬＪ３５により固定ディス
ク３３に格納された測定データがファイル処理され、ス
テップ８１７でフロッピィディスク３４は、ＣＰＵ３５
からの命令信号によりそこにこのファイル処理された測
定データを１個のパターン２ごとにデータファイルとし
て保存する。フ？イル処理しない場合にはステップ８１
７へ続き、固定ディスク３３に格納された測定データは
ファイル処理されないでそのままフロッピィディスク３
４に保存される。次に、ステップＳ１８でＣＰＬＩ３５
はフロッピィディスク３４に保存された各データファイ
ルを１個のパターン２の寸法の測定が終了するごとに外
部ホストコンピュータ４０にファイル転送し、このよう
にしてパターン寸法測定システムの一連の動作が終了す
る。そして、外部ホストコンピュータ４０では、ファイ
ル転送されたデータファイルの保存やその統計処理など
のデータ処理が行なわれる。
このように、パターン寸法の測定データをファイル処理
しこれをデータファイルとして保存するようにしている
ので、パターン寸法測定装置と外部ホストコンピュータ
とのファイル転送によるデータ通信が可能となる。この
ため、大容量の測定データを外部ホストコンピュータに
長時間保存して測定データの照会を容易に行なうことが
でき、また、大容量の測定データを外部ホストコンピュ
ータにより統計処理して各試料ごとのパターン寸法の品
質管理や統計的管理手法に基づいたパターン寸法の精密
制御を行なうことができる。
しこれをデータファイルとして保存するようにしている
ので、パターン寸法測定装置と外部ホストコンピュータ
とのファイル転送によるデータ通信が可能となる。この
ため、大容量の測定データを外部ホストコンピュータに
長時間保存して測定データの照会を容易に行なうことが
でき、また、大容量の測定データを外部ホストコンピュ
ータにより統計処理して各試料ごとのパターン寸法の品
質管理や統計的管理手法に基づいたパターン寸法の精密
制御を行なうことができる。
なお、上記実施例では、ファイル処理されたパターン寸
法の測定データを１個のパターンごとにデータファイル
として保存し、１個のパターンの寸法の測定終了ごとに
データファイルを外部ホストコンピュータへファイル転
送する場合について示したが、所定複数個のパターンの
寸法の測定終了ごとにデータファイルを外部ホストコン
ピュータへファイル転送するようにしてもよい。また、
ファイル処理された測定データを所定複数個のパターン
ごとにデータファイルとして保存し、所定複数個のパタ
ーンの寸法測定終了ごとにデータファイルを外部ホスト
コンピュータへファイル転送するようにしてもよい。
法の測定データを１個のパターンごとにデータファイル
として保存し、１個のパターンの寸法の測定終了ごとに
データファイルを外部ホストコンピュータへファイル転
送する場合について示したが、所定複数個のパターンの
寸法の測定終了ごとにデータファイルを外部ホストコン
ピュータへファイル転送するようにしてもよい。また、
ファイル処理された測定データを所定複数個のパターン
ごとにデータファイルとして保存し、所定複数個のパタ
ーンの寸法測定終了ごとにデータファイルを外部ホスト
コンピュータへファイル転送するようにしてもよい。
また、上記実施例では、レーザスポット走査によりパタ
ーンエツジを検出してパターン寸法を測定する方法を使
用するパターン寸法測定装置について示したが、この代
わりに他のパターン寸法測定方法を使用するパターン寸
法測定装置を用いるようにしてもよい。
ーンエツジを検出してパターン寸法を測定する方法を使
用するパターン寸法測定装置について示したが、この代
わりに他のパターン寸法測定方法を使用するパターン寸
法測定装置を用いるようにしてもよい。
［発明の効果］
以上のようにこの発明によれば、試料のパターンの寸法
を測定するパターン寸法測定手段と、このパターン寸法
測定手段からの測定データをファイル処理し、このファ
イル処理された測定データを保存するためのデータ処理
手段と、データ処理手段によって保存された、上記ファ
イル処理された測定データを外部コンピュータへファイ
ル転送するためのデータ転送手段とを備えるので、パタ
ーン寸法測定手段と外部ホストコンピュータとのデータ
通信が可能となる。このため、大容量の測定データを外
部ホストコンピュータに長時間保存して測定データの照
会を容易に行なうことができ、また、大容量の測定デー
タを外部ホストコンピュータにより統計処理して各試料
ごとのパターン寸法の品質管理や統計的！！理理法法基
づいたパターン寸法の精密制御を行なうことができる。
を測定するパターン寸法測定手段と、このパターン寸法
測定手段からの測定データをファイル処理し、このファ
イル処理された測定データを保存するためのデータ処理
手段と、データ処理手段によって保存された、上記ファ
イル処理された測定データを外部コンピュータへファイ
ル転送するためのデータ転送手段とを備えるので、パタ
ーン寸法測定手段と外部ホストコンピュータとのデータ
通信が可能となる。このため、大容量の測定データを外
部ホストコンピュータに長時間保存して測定データの照
会を容易に行なうことができ、また、大容量の測定デー
タを外部ホストコンピュータにより統計処理して各試料
ごとのパターン寸法の品質管理や統計的！！理理法法基
づいたパターン寸法の精密制御を行なうことができる。
第１図は、この発明の実施例であるパターン寸法測定シ
ステムの構成を示す図である。 第２図は、第１図のパターン寸法測定システムの動作を
説明するためのフローチャートである。 第３図は、レーザ干渉型のパターン寸法測定装置の構成
を示す図である。 図において、１は基板、２はパターン、３は試料、Ｌは
レーザ光、Ｓはレーザスポット、２０はパターン寸法測
定装置、２１はステージ、２２はステージ移動機能部、
２３はレーザ発生装置、２４はスポット走査機能部、２
５は自動焦点機能部、２６は検出器、２７．３５はＣＰ
ＬＪ、２８はパターン寸法表示部、２９．３６．３７は
インターフェイス、３０は計算機、３１はＣＲＴ、３２
はプリンタ、３３は固定ディスク、３４はフロッピィデ
ィスク、４０は外部ホストコンピュータである。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
ステムの構成を示す図である。 第２図は、第１図のパターン寸法測定システムの動作を
説明するためのフローチャートである。 第３図は、レーザ干渉型のパターン寸法測定装置の構成
を示す図である。 図において、１は基板、２はパターン、３は試料、Ｌは
レーザ光、Ｓはレーザスポット、２０はパターン寸法測
定装置、２１はステージ、２２はステージ移動機能部、
２３はレーザ発生装置、２４はスポット走査機能部、２
５は自動焦点機能部、２６は検出器、２７．３５はＣＰ
ＬＪ、２８はパターン寸法表示部、２９．３６．３７は
インターフェイス、３０は計算機、３１はＣＲＴ、３２
はプリンタ、３３は固定ディスク、３４はフロッピィデ
ィスク、４０は外部ホストコンピュータである。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (4)
- （１）試料のパターンの寸法を測定するパターン寸法測
定手段と、 前記パターン寸法測定手段からの測定データをファイル
処理し、該ファイル処理された測定データを保存するた
めのデータ処理手段と、 前記データ処理手段によつて保存された、前記ファイル
処理された測定データを外部コンピユータへフアイル転
送するためのデータ転送手段とを備えたパターン寸法測
定システム。 - （２）前記データ処理手段は、前記ファイル処理された
測定データを１個の前記パターンごとに保存する特許請
求の範囲第１項記載のパターン寸法測定システム。 - （３）前記データ転送手段は、１個の前記パターンの寸
法の測定が終了するごとに前記ファイル処理された測定
データを前記ファイル転送する特許請求の範囲第２項記
載のパターン寸法測定システム。 - （４）前記データ転送手段は、複数個の前記パターンの
寸法の測定が終了するごとに前記ファイル処理された測
定データを前記ファイル転送する特許請求の範囲第２項
記載のパターン寸法測定システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61270653A JP2549847B2 (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 半導体装置の製造方法とこれに使用するパタ−ンパタ−ン寸法測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP61270653A JP2549847B2 (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 半導体装置の製造方法とこれに使用するパタ−ンパタ−ン寸法測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63122913A true JPS63122913A (ja) | 1988-05-26 |
| JP2549847B2 JP2549847B2 (ja) | 1996-10-30 |
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ID=17489083
Family Applications (1)
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| JP61270653A Expired - Fee Related JP2549847B2 (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 半導体装置の製造方法とこれに使用するパタ−ンパタ−ン寸法測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2549847B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03217039A (ja) * | 1990-01-22 | 1991-09-24 | Marine Instr Co Ltd | ワイヤボンディングの検査方法並びにワイヤボンディング装置 |
| US5057956A (en) * | 1988-09-19 | 1991-10-15 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Magnetic head having gap depth sighing aperture |
| US5497331A (en) * | 1993-06-21 | 1996-03-05 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device fabrication method and its fabrication apparatus |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5285841A (en) * | 1976-01-09 | 1977-07-16 | Nec Corp | Pattern position determining apparatus |
| JPS60178309A (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-12 | Mitsutoyo Mfg Co Ltd | デジタル表示型測長システム |
-
1986
- 1986-11-12 JP JP61270653A patent/JP2549847B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5285841A (en) * | 1976-01-09 | 1977-07-16 | Nec Corp | Pattern position determining apparatus |
| JPS60178309A (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-12 | Mitsutoyo Mfg Co Ltd | デジタル表示型測長システム |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5057956A (en) * | 1988-09-19 | 1991-10-15 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Magnetic head having gap depth sighing aperture |
| JPH03217039A (ja) * | 1990-01-22 | 1991-09-24 | Marine Instr Co Ltd | ワイヤボンディングの検査方法並びにワイヤボンディング装置 |
| US5497331A (en) * | 1993-06-21 | 1996-03-05 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device fabrication method and its fabrication apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2549847B2 (ja) | 1996-10-30 |
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