JPS62297361A - 安定化された合成樹脂組成物 - Google Patents
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は安定化された合成樹脂組成物に関する。詳しく
は、分子内に特定基を有する有機ホスファイト化合物を
添加して成る耐熱性、耐光性、加工性等の改善された合
成樹脂組成物に関するものである。
は、分子内に特定基を有する有機ホスファイト化合物を
添加して成る耐熱性、耐光性、加工性等の改善された合
成樹脂組成物に関するものである。
ポリエチレン、ポリプロピレン、ABS 、ポリ塩化ビ
ニル等の合成樹脂は熱及び光の作用により劣化し、着色
したり、機械的強度が低下し使用に耐えなくなることが
知られている。かかる合成樹脂の劣化を防ぐ為にこれま
で多くの添加剤が単独−であるいは種々組み合わせて用
いられてきた。これらの添加剤の中でもホスファイト系
の化合物は合成樹脂に対して耐熱性、耐光性を付与し、
しかも合成樹脂の着色を抑制するという利点があり広く
用いられてきた。これらのホスファイト化合物の中でも
、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、ジフェニル
イソデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリ
トールジホスファイト、テトラアルキルビスフェノール
Aジホスファイト等は比較的その効果が大きく、合成樹
脂用安定剤として賞月されていた。
ニル等の合成樹脂は熱及び光の作用により劣化し、着色
したり、機械的強度が低下し使用に耐えなくなることが
知られている。かかる合成樹脂の劣化を防ぐ為にこれま
で多くの添加剤が単独−であるいは種々組み合わせて用
いられてきた。これらの添加剤の中でもホスファイト系
の化合物は合成樹脂に対して耐熱性、耐光性を付与し、
しかも合成樹脂の着色を抑制するという利点があり広く
用いられてきた。これらのホスファイト化合物の中でも
、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、ジフェニル
イソデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリ
トールジホスファイト、テトラアルキルビスフェノール
Aジホスファイト等は比較的その効果が大きく、合成樹
脂用安定剤として賞月されていた。
しかしながら、従来用いられていたホスファイト化合物
はその効果が比較的短時間で失われることが多く、特に
屋外あるいは湿潤雰囲気下においてはその効果が急速に
失われることが多かった。また、合成樹脂を高温で加工
する際にも、その効果が失われてしまい、実用上はまだ
まだ不満足なものであった。
はその効果が比較的短時間で失われることが多く、特に
屋外あるいは湿潤雰囲気下においてはその効果が急速に
失われることが多かった。また、合成樹脂を高温で加工
する際にも、その効果が失われてしまい、実用上はまだ
まだ不満足なものであった。
これらのホスファイト化合物のうち環状ホスファイト化
合物は比較的耐光性、耐熱性に優れることが提案されて
いる。
合物は比較的耐光性、耐熱性に優れることが提案されて
いる。
例えば、特公昭37−10927号公報にはポリアルキ
レングリコールビスアルキレンホスファイトをポリ塩化
ビニル樹脂の安定剤として用いることが提案され、特公
昭43−9904号公報にはネオペンチルフェニルホス
ファイト等をセルロース系樹脂の色安定化に用いること
が提案され、特開昭50−105741号公報にはアル
キレン又はアリーレンビス環状ホスファイトを合成樹脂
の光安定剤として用いることが提案され、特開昭53−
18544号公報には2.6−ジー第3ブチル−4−置
換フェノールの環状アルキレンホスファイトを合成樹脂
の安定剤として用いることが提案され、特開昭55−8
1893号公報にはアルキルフェニルネオペンチレンホ
スファイトを合成樹脂の安定剤として用いることが提案
され、特開昭55−136295号公報にはビスフェノ
ールA等のビスネオペンチレンホスファイトをポリカー
ボネートの安定剤として用いることが提案されている。
レングリコールビスアルキレンホスファイトをポリ塩化
ビニル樹脂の安定剤として用いることが提案され、特公
昭43−9904号公報にはネオペンチルフェニルホス
ファイト等をセルロース系樹脂の色安定化に用いること
が提案され、特開昭50−105741号公報にはアル
キレン又はアリーレンビス環状ホスファイトを合成樹脂
の光安定剤として用いることが提案され、特開昭53−
18544号公報には2.6−ジー第3ブチル−4−置
換フェノールの環状アルキレンホスファイトを合成樹脂
の安定剤として用いることが提案され、特開昭55−8
1893号公報にはアルキルフェニルネオペンチレンホ
スファイトを合成樹脂の安定剤として用いることが提案
され、特開昭55−136295号公報にはビスフェノ
ールA等のビスネオペンチレンホスファイトをポリカー
ボネートの安定剤として用いることが提案されている。
しかしながら、これらの化合物の効果はまだまだ不充分
であり、特に合成樹脂を高温で加工する際にはその効果
が急速に失われてしまい、また耐水性も不充分であり、
実用上満足出来るものではなかった。
であり、特に合成樹脂を高温で加工する際にはその効果
が急速に失われてしまい、また耐水性も不充分であり、
実用上満足出来るものではなかった。
本発明者等はかかる現状に鑑み鋭意検討を重ねた結果、
分子内に特定基を有する有機ホスファイト化合物を添加
するならば耐熱性、耐光性、加工性が著しく改善される
ことを見い出し、本発明を完成したものである。
分子内に特定基を有する有機ホスファイト化合物を添加
するならば耐熱性、耐光性、加工性が著しく改善される
ことを見い出し、本発明を完成したものである。
即ち、本発明は合成樹脂に、分子内に
cns C)13
(以下 ; P−0−ETG−0−Pぐと略する)で示
される基を有する有機ホスファイト化合物を添加して成
る安定化された合成樹脂組成物を提供するものである。
される基を有する有機ホスファイト化合物を添加して成
る安定化された合成樹脂組成物を提供するものである。
本発明で用いられる分子内に基
\P−0−ETG−0−P りを有するホスファイト化
合物としては例えば次の一般式(1)あるいは(II)
で表わされる化合物が挙・げられる。
合物としては例えば次の一般式(1)あるいは(II)
で表わされる化合物が挙・げられる。
(式中、R,及びR2はそれぞれ水素原子、アルキル基
、アリール基、多価アルコールまたは多価フェノールの
残基で他の水素基が遊離のままかあるいはホスファイト
エステルとなっている基を示し、nは1〜10を示す、
Rはアルキレン基、アリーレン基、アルキリデンジアリ
ーレン基またはチオジアリーレン基を示す。) これらのホスファイト化合物の内特に一般式(n)で表
わされる化合物がその効果が大きく好ましい。
、アリール基、多価アルコールまたは多価フェノールの
残基で他の水素基が遊離のままかあるいはホスファイト
エステルとなっている基を示し、nは1〜10を示す、
Rはアルキレン基、アリーレン基、アルキリデンジアリ
ーレン基またはチオジアリーレン基を示す。) これらのホスファイト化合物の内特に一般式(n)で表
わされる化合物がその効果が大きく好ましい。
本発明において用いられる上記一般式(1)又は(n)
で表わされる化合物について更に詳しく説明する。
で表わされる化合物について更に詳しく説明する。
アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、第2ブチル、第3ブチル、イソブチル
、アミル、第3アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル
、イソオクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、デシル
、ウンデシル、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプ
ロピル、シクロヘキシル、ドデシル、トリデシル、テト
ラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイコシル、
トコシル、テトラデシル、トリアコンチルなどの直鎖あ
るいは分岐アルキル基及びセロソルブ、カルピトール残
基等のエーテル結合を有するアルキル基が挙げられる。
ロピル、ブチル、第2ブチル、第3ブチル、イソブチル
、アミル、第3アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル
、イソオクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、デシル
、ウンデシル、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプ
ロピル、シクロヘキシル、ドデシル、トリデシル、テト
ラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイコシル、
トコシル、テトラデシル、トリアコンチルなどの直鎖あ
るいは分岐アルキル基及びセロソルブ、カルピトール残
基等のエーテル結合を有するアルキル基が挙げられる。
アリール基としては、フェニル、メチルフェニル、ジメ
チルフェニル、第3ブチルフエニル、シー 第37’チ
ルフエニル、オクチルフェニル、ジー 第3オクチルフ
エニル、ノニルフェニル、ジノニルフェニル、シクロヘ
キシルフェニル、フェニル・フェニル、第3アミルフエ
ニル、ジ−メチルフェニルなどが挙げられる。
チルフェニル、第3ブチルフエニル、シー 第37’チ
ルフエニル、オクチルフェニル、ジー 第3オクチルフ
エニル、ノニルフェニル、ジノニルフェニル、シクロヘ
キシルフェニル、フェニル・フェニル、第3アミルフエ
ニル、ジ−メチルフェニルなどが挙げられる。
多価アルコール残基としては1.6−ヘキサンジオール
、1.10−デカンジオール、グリセリン、トリメチロ
ールプロパン、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レート”、ペンタエリスリトール、水添ビスフェノール
Aなどの多価アルコールの残基が挙げられる。
、1.10−デカンジオール、グリセリン、トリメチロ
ールプロパン、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レート”、ペンタエリスリトール、水添ビスフェノール
Aなどの多価アルコールの残基が挙げられる。
多価フェノール残基としては例えば2・2゛−メチレン
ビス(4−メチル−6−第3ブチルフエノール)、2・
2°−メチレンビス(4−エチル−6−第3ブチルフエ
ノール)、2・2゛−メチレンビス〔4−メチル−6−
(α−メチルシクロヘキシル)フェノール〕、2・2′
−n−ブチリデンビス(4・6−ラメチルフエノール)
、ビス−1・1−(2”−ヒドロキシ−3′・5゛−ジ
−メチルフェニル)−3・5・5−トリメチルヘキサン
、2・2゛−シクロへキシリデンビス(4−エチル−6
−第3ブチルフエノール)、2・2”−イソプロピルベ
ンジリデン−ビス(4−エチル−6−第3ブチルフエノ
ール)、2・2”−チオビス(4−第3ブチル−6−メ
チルフェノール)、2・2−チオビス(4−メチル−6
−第3ブチルフエノール)、2・2°−チオビス(4・
6−ジー第3ブチルフエノール)、4・4゛−メチレン
ビス(2−メチル−6−第3ブチルフエノール)、4・
4′−イソプロピリデンビス(2−フェニルエチルフェ
ノール)、4・4l−n−ブチリデンビス(3−メチル
−6−第3ブチルフエノール)、4・4”−シクロヘキ
シリデンビス(2−第3ブチルフエノール)、4・4゛
−シクロヘキシリデンビス(2−シクロヘキシルフェノ
ール)、4・4′−ベンジリデンビス(2−第3ブチル
−5−メチルフェノール)、4・4゛−オキシビス(3
−メチル−6−イツプロビルフエノール)、4・4”−
チオビス(2−メチル−6−第3ブチルフエノール)、
4・4゛−チオビス(3−メチル−6−第3ブチルフエ
ノール)4・4”−スルホビス(3−メチル−6−第3
ブチルフエノール)、ビス(2−メチル−4−ヒドロキ
シ−5−第3ブチルベンジル)スルフィド、1・1・3
−トリス(2゛−メチル−4”−ヒドロキシ−5゛−第
3ブチルフエニル)ブタンなどの多価フェノールの残基
が挙げられる。
ビス(4−メチル−6−第3ブチルフエノール)、2・
2°−メチレンビス(4−エチル−6−第3ブチルフエ
ノール)、2・2゛−メチレンビス〔4−メチル−6−
(α−メチルシクロヘキシル)フェノール〕、2・2′
−n−ブチリデンビス(4・6−ラメチルフエノール)
、ビス−1・1−(2”−ヒドロキシ−3′・5゛−ジ
−メチルフェニル)−3・5・5−トリメチルヘキサン
、2・2゛−シクロへキシリデンビス(4−エチル−6
−第3ブチルフエノール)、2・2”−イソプロピルベ
ンジリデン−ビス(4−エチル−6−第3ブチルフエノ
ール)、2・2”−チオビス(4−第3ブチル−6−メ
チルフェノール)、2・2−チオビス(4−メチル−6
−第3ブチルフエノール)、2・2°−チオビス(4・
6−ジー第3ブチルフエノール)、4・4゛−メチレン
ビス(2−メチル−6−第3ブチルフエノール)、4・
4′−イソプロピリデンビス(2−フェニルエチルフェ
ノール)、4・4l−n−ブチリデンビス(3−メチル
−6−第3ブチルフエノール)、4・4”−シクロヘキ
シリデンビス(2−第3ブチルフエノール)、4・4゛
−シクロヘキシリデンビス(2−シクロヘキシルフェノ
ール)、4・4′−ベンジリデンビス(2−第3ブチル
−5−メチルフェノール)、4・4゛−オキシビス(3
−メチル−6−イツプロビルフエノール)、4・4”−
チオビス(2−メチル−6−第3ブチルフエノール)、
4・4゛−チオビス(3−メチル−6−第3ブチルフエ
ノール)4・4”−スルホビス(3−メチル−6−第3
ブチルフエノール)、ビス(2−メチル−4−ヒドロキ
シ−5−第3ブチルベンジル)スルフィド、1・1・3
−トリス(2゛−メチル−4”−ヒドロキシ−5゛−第
3ブチルフエニル)ブタンなどの多価フェノールの残基
が挙げられる。
アルキレン基としてはエチレン、プロピレン、2.2−
ジメチルプロピレツなどが挙げられる。
ジメチルプロピレツなどが挙げられる。
アリーレン基、アルキリデンジアリーレン基又はチオジ
アリーレン基としては例えばカテコール、t−ブチルカ
テコール、2.2’−メチレンビス(4−メチル−6−
t−ブチルフェノール)、2.2゛−メチレンビス(4
−エチル−6−t−ブチルフェノール) 、2.2”−
メチレンビス〔4−メチル−6−(α−メチルシクロヘ
キシル)フェノール)、2.2’−n−ブチリデンビス
(4,6−ラメチルフエノール)、ビス−1,1−(2
’−ヒドロキシ−3”、 5’−ジメチルフェニル)
−3,5,5−トリスメチルヘキサン、2.2’−シク
ロへキシリデンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェ
ノール) 、2.2°−イソプロピルベンジリデン−ビ
ス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、2.2
′−チオビス(4−t−ブチル−6−メチルフェノール
) 、2.2’−チオビス(4−メチル−6−t−ブチ
ルフェノール) 、2.2’−チオビス(4,6−ジー
t−ブチルフェノール) 、2.2°−メチレンビス(
4−α−メチルベンジル−6−シクロヘキシルフェノー
ル) 、2.2’−メチレンビス(4−シクロヘキシル
−6−α−メチルベンジルフェノール) 、2.2”−
ジヒドロキシビフェニル、2.2”−ジヒドロキシ−3
,3’、 5.5”−テトラ−t−ブチルビフェニル、
2.2’−ジヒドロキシ−3,3’、 5.5’−テト
ラ−t−7ミルビフエニル、2.2”−ジヒドロキシ−
3,3’、 5.5’−テトラ−1−オクチルビフェニ
ル、ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブチルフェニル)
エーテル、ビス(2−ヒドロキシ−3−プロピルフェニ
ル)エーテルなどの二価フェノールまたはビスフェノー
ルから二個の水酸基を除去した残基が挙げられる。
アリーレン基としては例えばカテコール、t−ブチルカ
テコール、2.2’−メチレンビス(4−メチル−6−
t−ブチルフェノール)、2.2゛−メチレンビス(4
−エチル−6−t−ブチルフェノール) 、2.2”−
メチレンビス〔4−メチル−6−(α−メチルシクロヘ
キシル)フェノール)、2.2’−n−ブチリデンビス
(4,6−ラメチルフエノール)、ビス−1,1−(2
’−ヒドロキシ−3”、 5’−ジメチルフェニル)
−3,5,5−トリスメチルヘキサン、2.2’−シク
ロへキシリデンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェ
ノール) 、2.2°−イソプロピルベンジリデン−ビ
ス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、2.2
′−チオビス(4−t−ブチル−6−メチルフェノール
) 、2.2’−チオビス(4−メチル−6−t−ブチ
ルフェノール) 、2.2’−チオビス(4,6−ジー
t−ブチルフェノール) 、2.2°−メチレンビス(
4−α−メチルベンジル−6−シクロヘキシルフェノー
ル) 、2.2’−メチレンビス(4−シクロヘキシル
−6−α−メチルベンジルフェノール) 、2.2”−
ジヒドロキシビフェニル、2.2”−ジヒドロキシ−3
,3’、 5.5”−テトラ−t−ブチルビフェニル、
2.2’−ジヒドロキシ−3,3’、 5.5’−テト
ラ−t−7ミルビフエニル、2.2”−ジヒドロキシ−
3,3’、 5.5’−テトラ−1−オクチルビフェニ
ル、ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブチルフェニル)
エーテル、ビス(2−ヒドロキシ−3−プロピルフェニ
ル)エーテルなどの二価フェノールまたはビスフェノー
ルから二個の水酸基を除去した残基が挙げられる。
以下の表−1に本発明の特性基
、l;P−0−ETG−0−P りを含有する具体的な
化合物をCH3 示す、尚、表−1において+なる基は−C−CI(3C
H。
化合物をCH3 示す、尚、表−1において+なる基は−C−CI(3C
H。
を示す。
表−1
9(C+JstO)rP−0−ETG−0−1”(OC
+tH3,、)を前記の有機ホスファイト化合物の使用
量は、合成樹脂100重量部に対して0.001〜5、
好ましくは0.01〜3重量部である。
+tH3,、)を前記の有機ホスファイト化合物の使用
量は、合成樹脂100重量部に対して0.001〜5、
好ましくは0.01〜3重量部である。
また、本発明で用いられる前記有機ホスファイト化合物
は従来から周知の方法により容易に合成することができ
る。
は従来から周知の方法により容易に合成することができ
る。
例えば、三塩化リン、本発明の特性基を有するグリコー
ル(即ち、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル
−2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピオネート)
及びフェノール類、アルコール類を逐次的にあるいは一
段で反応させることによって容易に製造できる。又、三
塩化リンに代えて、トリフェニルホスファイトあるいは
トリメチルホスファイトを用いて、エステル交換反応に
より製造することもできる。
ル(即ち、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル
−2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピオネート)
及びフェノール類、アルコール類を逐次的にあるいは一
段で反応させることによって容易に製造できる。又、三
塩化リンに代えて、トリフェニルホスファイトあるいは
トリメチルホスファイトを用いて、エステル交換反応に
より製造することもできる。
以下に具体的な合成例を示す。
合成例!1h14 (表−1)化合物の合成撹拌棒、温
度計、窒素導入管のついた4ツロフラスコに、2,2゛
−メチレンビス(4,6−ジーt−ブチルフェニル)ク
ロロホスファイト107.4g(0,22モル) 、2
.2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル−2,2−ジ
メチル−3−ヒドロキシプロピオネート20.4 (0
,1モル)及びキシレン300gを仕込み、窒素気流下
、攪拌しながら、50℃でトリエチルアミン25.3g
(0,25モル)を滴下した。次いで90℃に昇温しで
6時間反応させた。
度計、窒素導入管のついた4ツロフラスコに、2,2゛
−メチレンビス(4,6−ジーt−ブチルフェニル)ク
ロロホスファイト107.4g(0,22モル) 、2
.2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル−2,2−ジ
メチル−3−ヒドロキシプロピオネート20.4 (0
,1モル)及びキシレン300gを仕込み、窒素気流下
、攪拌しながら、50℃でトリエチルアミン25.3g
(0,25モル)を滴下した。次いで90℃に昇温しで
6時間反応させた。
熱濾過後、メタノールを加え、晶析させた。濾過、乾燥
し、融点260℃の白色固体の生成物を得た。収量は1
01.2g (収率91.4%)であった。
し、融点260℃の白色固体の生成物を得た。収量は1
01.2g (収率91.4%)であった。
赤外分光分析の結果は下記の如くであり、目的物である
ことを確認した。
ことを確認した。
ν(P−0−フェニル) ; 1225c+w−’
、 835ca+−’ν (P−0−アルキル) i
1025c+s−’ν(C= O) ; 1732
cn+−’本発明によって安定化される合成樹脂として
は、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン
、ポリ−3−メチルブテンなどのα−オレフィン重合体
またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロ
ピレン共重合体などのポリオレフィンおよびこれらの共
重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化
ヒニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩
素化ポリプロピレン、ポリフッ素化ビニリデン、臭素化
ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プ
ロピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩
化ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビ
ニリデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイ
ン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニ
トリル共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合体、塩
化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プ
ロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸
ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル
共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、
塩化ビニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニ
ル−アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビ
ニルなどの含ハロゲン合成樹脂、ポリスチレン、ポリ酢
酸ビニル、アクリル樹脂、スチレンと他の単量体(例え
ば無水マレイン酸、ブタジェン、アクリロニトリルなど
)との共重合体、アクリロニトリル−ブタジェン−スチ
レン共重合体、アクリル酸エステル−ブタジェン−スチ
レン共重合体、メタクリル酸エステル−ブタジェン−ス
チレン共重合体、ポリメチルメタクリレートなどのメタ
クリレート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホ
ルマール、ポリビニルブチラール、直鎖ポリエステル、
ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリ
ウレタン、ポリフェニレンオキサイド、繊維素系樹脂、
あるいはフェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、
エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹
脂などを挙げることができる。更に、イソプレンゴム、
ブタジェンゴム、アクリロニトリル−ブタジェン共重合
ゴム、スチレン−ブタジェン共重合ゴムなどのゴム類や
これらの樹脂のブレンド品であってもよい。
、 835ca+−’ν (P−0−アルキル) i
1025c+s−’ν(C= O) ; 1732
cn+−’本発明によって安定化される合成樹脂として
は、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン
、ポリ−3−メチルブテンなどのα−オレフィン重合体
またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロ
ピレン共重合体などのポリオレフィンおよびこれらの共
重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化
ヒニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩
素化ポリプロピレン、ポリフッ素化ビニリデン、臭素化
ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プ
ロピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩
化ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビ
ニリデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイ
ン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニ
トリル共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合体、塩
化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プ
ロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸
ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル
共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、
塩化ビニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニ
ル−アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビ
ニルなどの含ハロゲン合成樹脂、ポリスチレン、ポリ酢
酸ビニル、アクリル樹脂、スチレンと他の単量体(例え
ば無水マレイン酸、ブタジェン、アクリロニトリルなど
)との共重合体、アクリロニトリル−ブタジェン−スチ
レン共重合体、アクリル酸エステル−ブタジェン−スチ
レン共重合体、メタクリル酸エステル−ブタジェン−ス
チレン共重合体、ポリメチルメタクリレートなどのメタ
クリレート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホ
ルマール、ポリビニルブチラール、直鎖ポリエステル、
ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリ
ウレタン、ポリフェニレンオキサイド、繊維素系樹脂、
あるいはフェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、
エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹
脂などを挙げることができる。更に、イソプレンゴム、
ブタジェンゴム、アクリロニトリル−ブタジェン共重合
ゴム、スチレン−ブタジェン共重合ゴムなどのゴム類や
これらの樹脂のブレンド品であってもよい。
また、過酸化物あるいは放射線等によって架橋させた架
橋ポリエチレン等の架橋合成樹脂及び発泡剤によって発
泡させた発泡ポリスチレン等の発泡合成樹脂も包含され
る。
橋ポリエチレン等の架橋合成樹脂及び発泡剤によって発
泡させた発泡ポリスチレン等の発泡合成樹脂も包含され
る。
本発明の組成物にフェノール系抗酸化剤を添加し、その
酸化安定性をさらに向上させ得る。
酸化安定性をさらに向上させ得る。
フェノール系抗酸化剤としては、例えば2,6−ジー第
3ブチル−p−クレゾール、2,2°−メチレンビス(
4−メチル−6−第3ブチルフエノール) 、4.4’
−メチレンビス(2,6−ジー第3ブチルフエノール)
、2.2’−メチレンビス〔6−(1−メチルシクロ
ヘキシル)p−クレゾール〕、2.2”−メチレンビス
(4−エチル−6−第3ブチルフエノール’) 、2.
2°−メチレンビス(4−メチル−6−ノニルフエノー
ル’) 、4.4’−イソプロピリデンビス(2,6−
ジー第3ブチルフエノール) 、4.4’−ブチリデン
ビス(2,6−ジー第3ブチルフエノール、4.4”−
ブチリデンビス(6−第3ブチル−m−クレゾール)
、1.1.3− )リス(2−メチル−4−ヒドロキシ
−5−第3ブチルフエニル)ブタン、2.6−ビス(2
−ヒドロキシ−3−ノニル−5−メチルベンジル)−4
−メチルフェノール、ビス〔2−第3ブチル−4−メチ
ル−6−(2−ヒドロキシ−3−第3ブチル−5−メチ
ルベンジル)フェニルコテレフタレ−ト、チオジグリコ
ールビス(3,5−t−7’チル−4−ヒドロキシフェ
ニルプロピオネート)、ステアリル−β−(4−ヒドロ
キシ−3,5−ジー第3ブチルフエニル)プロピオネー
ト、1.3.5− トリス((3,5−ジー第3ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシエチル
〕イソシアヌレート、ビス(4−第3ブチル−3−ヒド
ロキシ−2,6−ラメチルベンジル)ジチオールテレフ
タレート、テトラキス〔メチレン−3−(3,5−ジー
第3ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート
コメタン、1.3.5− )リス(3,5−ジー第3ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル) −2,4,6−)リ
スチルベンゼン、ジステアリル(4−ヒドロキー3−メ
チル−5−第3ブチル)ベンジルマロネート、1゜3.
5−トリス(3,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)イソシアヌレート、ステアリル(3,5−ジ
−メチル−4−ヒドロキシベンジル)チオブレコレート
、ビス〔3,3−ビス(4−ヒドロキシ−3−第3ブチ
ルフエニル)ブチリックアシドコグリコールエステル、
2−オクチルチオ−4,6−ジ(4−ヒドロキシ−3,
5−ジー第3ブチル)フェノキシ−1,3,5−)リア
ジン、4,4゛−チオビス(6−第3ブチル−m−クレ
ゾール) 、1.3.5−トリス(2,6−ジ−メチル
−3−ヒドロキシ−4−第3ブチルベンジル)イソシア
ヌレートなどが挙げられる。
3ブチル−p−クレゾール、2,2°−メチレンビス(
4−メチル−6−第3ブチルフエノール) 、4.4’
−メチレンビス(2,6−ジー第3ブチルフエノール)
、2.2’−メチレンビス〔6−(1−メチルシクロ
ヘキシル)p−クレゾール〕、2.2”−メチレンビス
(4−エチル−6−第3ブチルフエノール’) 、2.
2°−メチレンビス(4−メチル−6−ノニルフエノー
ル’) 、4.4’−イソプロピリデンビス(2,6−
ジー第3ブチルフエノール) 、4.4’−ブチリデン
ビス(2,6−ジー第3ブチルフエノール、4.4”−
ブチリデンビス(6−第3ブチル−m−クレゾール)
、1.1.3− )リス(2−メチル−4−ヒドロキシ
−5−第3ブチルフエニル)ブタン、2.6−ビス(2
−ヒドロキシ−3−ノニル−5−メチルベンジル)−4
−メチルフェノール、ビス〔2−第3ブチル−4−メチ
ル−6−(2−ヒドロキシ−3−第3ブチル−5−メチ
ルベンジル)フェニルコテレフタレ−ト、チオジグリコ
ールビス(3,5−t−7’チル−4−ヒドロキシフェ
ニルプロピオネート)、ステアリル−β−(4−ヒドロ
キシ−3,5−ジー第3ブチルフエニル)プロピオネー
ト、1.3.5− トリス((3,5−ジー第3ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシエチル
〕イソシアヌレート、ビス(4−第3ブチル−3−ヒド
ロキシ−2,6−ラメチルベンジル)ジチオールテレフ
タレート、テトラキス〔メチレン−3−(3,5−ジー
第3ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート
コメタン、1.3.5− )リス(3,5−ジー第3ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル) −2,4,6−)リ
スチルベンゼン、ジステアリル(4−ヒドロキー3−メ
チル−5−第3ブチル)ベンジルマロネート、1゜3.
5−トリス(3,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)イソシアヌレート、ステアリル(3,5−ジ
−メチル−4−ヒドロキシベンジル)チオブレコレート
、ビス〔3,3−ビス(4−ヒドロキシ−3−第3ブチ
ルフエニル)ブチリックアシドコグリコールエステル、
2−オクチルチオ−4,6−ジ(4−ヒドロキシ−3,
5−ジー第3ブチル)フェノキシ−1,3,5−)リア
ジン、4,4゛−チオビス(6−第3ブチル−m−クレ
ゾール) 、1.3.5−トリス(2,6−ジ−メチル
−3−ヒドロキシ−4−第3ブチルベンジル)イソシア
ヌレートなどが挙げられる。
本発明の組成物に光安定剤を添加するならば、光安定性
を向上させ得るので、使用目的に応じて適宜これらを選
択して使用することが可能である。これらにはベンゾフ
ェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリシレート系、置
換アクリロニトリル系、ピペリジン系、各種の金属塩又
は金属キレート、特にニッケル又はクロムの塩又はキレ
ート類、トリアジン系などが包含される。
を向上させ得るので、使用目的に応じて適宜これらを選
択して使用することが可能である。これらにはベンゾフ
ェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリシレート系、置
換アクリロニトリル系、ピペリジン系、各種の金属塩又
は金属キレート、特にニッケル又はクロムの塩又はキレ
ート類、トリアジン系などが包含される。
本発明の組成物に硫黄系抗酸化剤を含有させることもで
きる。硫黄系抗酸化剤としては、例えばジステアリルチ
オジプロピオネート、ジラウリルチオジプロピオネート
、ペンタエリスリトールテトララウリルチオプロピオネ
ートなどが挙げられる。
きる。硫黄系抗酸化剤としては、例えばジステアリルチ
オジプロピオネート、ジラウリルチオジプロピオネート
、ペンタエリスリトールテトララウリルチオプロピオネ
ートなどが挙げられる。
その他必要に応じて、例えば有機酸金属塩、エポキシ化
合物、顔料、充填剤、発泡剤、アミン系抗酸化剤、帯電
防止剤、防曇剤、プレートアウト防止剤、表面処理剤、
滑剤、難燃剤、螢光剤、防黴剤、殺菌剤、金属不活性化
剤、光劣化剤、赤外線吸収剤、加工助剤、離型剤、補強
剤などを包含させることができる。
合物、顔料、充填剤、発泡剤、アミン系抗酸化剤、帯電
防止剤、防曇剤、プレートアウト防止剤、表面処理剤、
滑剤、難燃剤、螢光剤、防黴剤、殺菌剤、金属不活性化
剤、光劣化剤、赤外線吸収剤、加工助剤、離型剤、補強
剤などを包含させることができる。
次に示す実施例は本発明による組成物の効果を示すもの
であるが、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。
であるが、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。
実施例1
次の配合物をミキサーで5分間配合したあと、押出し機
でコンパウンドを作成した(シリンダ一温度230℃及
び240℃、ヘッドダイス温度250℃、回転数2Or
、p、n+ )。
でコンパウンドを作成した(シリンダ一温度230℃及
び240℃、ヘッドダイス温度250℃、回転数2Or
、p、n+ )。
このコンパウンドを用いて95X40X 1111の試
験片を射出成型機で作成した(シリンダ一温度240℃
、ノズル温度250℃、射出圧475kg/cj)。
験片を射出成型機で作成した(シリンダ一温度240℃
、ノズル温度250℃、射出圧475kg/cj)。
得られた試験片を用いて170℃のギヤーオーブン中で
熱安定性を測定し、またハンター比色計を用いて試験片
の黄色度(%)を測定した。結果を表−2に示す。
熱安定性を測定し、またハンター比色計を用いて試験片
の黄色度(%)を測定した。結果を表−2に示す。
〈配 合〉
ステアリン酸カルシウム 0.2ホスフ
ァイト化合物(表−2) 0.2表−2 実施例2 本発明で用いられるホスファイト化合物の、高温加工時
の安定化効果をみるために、次の配合物を混合した後、
300℃で押出し加工した。
ァイト化合物(表−2) 0.2表−2 実施例2 本発明で用いられるホスファイト化合物の、高温加工時
の安定化効果をみるために、次の配合物を混合した後、
300℃で押出し加工した。
押出し回数1回、3回、5回のコンパウンドを用いその
メルトインデックスの変化を測定した。
メルトインデックスの変化を測定した。
結果を表−3に示す。
く配 合〉
ポリプロピレン樹脂(Profax 6501) 1
00重量部ステアリン酸カルシウム 0
.2ホスファイト化合物(表−3) 0.0
5表−3 実施例3 次の配合物を150℃で5分間ミキシングロールで混練
し、次いで150℃、180 kg/calの条件で5
分間圧縮成型を行い、厚さ1.011のシートを作成し
た。このシートを1OX2(bnの試験片として、アル
ミ箔上、150℃の1度でギヤーオーブン中での熱安定
性試験を行った。結果を表−4に示す。
00重量部ステアリン酸カルシウム 0
.2ホスファイト化合物(表−3) 0.0
5表−3 実施例3 次の配合物を150℃で5分間ミキシングロールで混練
し、次いで150℃、180 kg/calの条件で5
分間圧縮成型を行い、厚さ1.011のシートを作成し
た。このシートを1OX2(bnの試験片として、アル
ミ箔上、150℃の1度でギヤーオーブン中での熱安定
性試験を行った。結果を表−4に示す。
く配 合〉
ジステアリルチオジプロピオネート 0.3ホスファイ
ト化合物(表−4) 0.1表−4 実施例4 カルシウムステアレート 1.0ホスファイ
ト化合物(表−5) 0.2上記配合物を200
℃で押出し加工してペレットを作成し、このベレットを
用い230℃でインジェクション加工して試験片を作成
した。この試験片の135℃のギヤーオーブン中で30
時間加熱後の着色の度合をハンター比色計で測定した白
色度で示した。さらに試験片の20℃でのIzod衝撃
値も測定した。また、100℃の熱水に24時間浸漬し
た後、135℃で30時間加熱した試験片のIzod衝
撃値も測定した。結果を表−5に示す。
ト化合物(表−4) 0.1表−4 実施例4 カルシウムステアレート 1.0ホスファイ
ト化合物(表−5) 0.2上記配合物を200
℃で押出し加工してペレットを作成し、このベレットを
用い230℃でインジェクション加工して試験片を作成
した。この試験片の135℃のギヤーオーブン中で30
時間加熱後の着色の度合をハンター比色計で測定した白
色度で示した。さらに試験片の20℃でのIzod衝撃
値も測定した。また、100℃の熱水に24時間浸漬し
た後、135℃で30時間加熱した試験片のIzod衝
撃値も測定した。結果を表−5に示す。
表−5
実施例5
固有粘度0.56dl/g (クロロホルム中25℃)
のポリ(2,6−シメチルー1.4−フェニレンオキサ
イド)50重量部、ポリスチレン47.5重量部、ポリ
カーボネート2.5重量部、酸化チタン3.0重量部、
及びホスファイト化合物0.3重量部を加え、ヘンシェ
ルミキサーにて十分混合し押出し機でペレット化、次い
で射出成型により試験片を作成した。この試験片をギヤ
ーオーブン中で125℃、100時間加熱し、伸び及び
アイゾツト衝撃値保持率を測定した。結果を表−6に示
す。
のポリ(2,6−シメチルー1.4−フェニレンオキサ
イド)50重量部、ポリスチレン47.5重量部、ポリ
カーボネート2.5重量部、酸化チタン3.0重量部、
及びホスファイト化合物0.3重量部を加え、ヘンシェ
ルミキサーにて十分混合し押出し機でペレット化、次い
で射出成型により試験片を作成した。この試験片をギヤ
ーオーブン中で125℃、100時間加熱し、伸び及び
アイゾツト衝撃値保持率を測定した。結果を表−6に示
す。
表−6
実施例6
次の配合物を、混練ロールで加工し、厚さ1鶴のシート
を作成した。このシートを用い、190℃における熱安
定性、初期着色性の試験を行った。またウエザロメータ
ーによる耐候性の試験を行った。その結果を表−7に示
す。
を作成した。このシートを用い、190℃における熱安
定性、初期着色性の試験を行った。またウエザロメータ
ーによる耐候性の試験を行った。その結果を表−7に示
す。
く配 合〉
ポリ塩化ビニル(ビニ力37H) 100重量部
ジー2−エチルへキシルフタ 45レート トリクレジルホスフェート 3.0ビスフエノ
ールA・ジグリシジル 2.0エーテル ステアリン酸亜鉛 0.8ステアリン
酸バリウム 0.4バリウムノニルフエネ
ート 0.5ソルビタンモノパルミテート3.
0 メチレンビスステアリルアミド 0.3ホスファイ
ト化合物(表−7) 0.2表−7
ジー2−エチルへキシルフタ 45レート トリクレジルホスフェート 3.0ビスフエノ
ールA・ジグリシジル 2.0エーテル ステアリン酸亜鉛 0.8ステアリン
酸バリウム 0.4バリウムノニルフエネ
ート 0.5ソルビタンモノパルミテート3.
0 メチレンビスステアリルアミド 0.3ホスファイ
ト化合物(表−7) 0.2表−7
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 合成樹脂に、分子内に ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基を有する有機ホスファイト化合物を添加し
て成る安定化された合成樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14203486A JPH064764B2 (ja) | 1986-06-18 | 1986-06-18 | 安定化された合成樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14203486A JPH064764B2 (ja) | 1986-06-18 | 1986-06-18 | 安定化された合成樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62297361A true JPS62297361A (ja) | 1987-12-24 |
JPH064764B2 JPH064764B2 (ja) | 1994-01-19 |
Family
ID=15305826
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14203486A Expired - Lifetime JPH064764B2 (ja) | 1986-06-18 | 1986-06-18 | 安定化された合成樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH064764B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0224304A (ja) * | 1988-07-13 | 1990-01-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 塩化ビニル系樹脂の製造方法 |
JP2002294089A (ja) * | 2001-04-02 | 2002-10-09 | Asahi Denka Kogyo Kk | 硬質塩素含有樹脂組成物 |
-
1986
- 1986-06-18 JP JP14203486A patent/JPH064764B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0224304A (ja) * | 1988-07-13 | 1990-01-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 塩化ビニル系樹脂の製造方法 |
JP2002294089A (ja) * | 2001-04-02 | 2002-10-09 | Asahi Denka Kogyo Kk | 硬質塩素含有樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH064764B2 (ja) | 1994-01-19 |
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