JPS6228931A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の技術分野］ 本発明は非磁性支持体と磁性層りあるいは非磁性支持体
とバックコート層間にアンダー］−１・層を有する磁気
記録媒体の製造方法に関し、史に詳しくはアンダーコー
ト層！ｌｌ造方法の改良に関する。

「発明の技術的背Ｈとその問題点１ 磁気テープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体は通常、ポ
リエステル等の非磁性支持体上に磁性体の微粉とバイン
ダ（結合樹脂）からなる磁性−を設けた構造となってい
る。このときテープの走行、ディスクの回転に伴ない帯
電が蓄積するため、走行性の低下、異物付着によるドロ
ップアウトの発生等、種々の好まｌノくない現象を生ず
る。

この解決法としては磁性層にカーボンブラック等の導電
性微粉末を添加し、磁性層自体に帯電防止性を付与する
ことが一般化しているが、磁性体の充填率が減少するた
め電磁変換特性を損うという問題があった。

このため非磁性支持体と磁性層間、あるいは非磁性支持
体とバツクコート（裏塗り）層間にアンダーコート（下
塗り）層を設け、これに帯電防止性を与えることτ・、
テープ全体の帯電防止を図る手法が考案されている。

しかるに従来の熱硬化／熱可塑タイプのバインダを使用
したアンダーヨー１層には、樹脂の乾燥硬化に長時間を
薮し設備が大規模化覆る欠点があることから、バインダ
に輻射線硬化性樹脂を用いると」（に、硬化手段として
放射線（γ線）硬化、電子線硬化、紫例線硬化等の輻射
線硬化法を適用しにアンダー７１−１−　庵が案出され
た。

プ「１１！ス而からこれを比較すれば、放射線（γ線）
ｌａｌ！化法、電子線硬化法は照射設備が極めて高価な
こと、放射線、Ｘ線に対する防護を要すること、オゾン
発生を防止するため照射を不活性雰囲気中で行ｌτわね
ばならないこと等、数々の短所がある。

一方紫Ａ線硬化法は照射設備が比較的安価なこと、紫外
線からの防護が容易なこと、照射部の不活性雰囲気は必
須ではないこと等、種々の長所を有するが、反面該アン
ダー］−ト層に対し各種の特性を付与するため添加する
フィラー、とりね（Ｊ帯電防止性を付与するためバイン
ダ中に添加するカーボンブラック等の導電性微粉末は、
遮光性が高く光硬化反応を著しく阻害するため、該アン
ダーコート層中の非磁性支持体に近接した部分が充分硬
化せず、結果として該アンダー７１−１一層と非磁性支
持体との付着性が著しく劣ることになり、これをアンダ
ーＴＩ　−１一層に適用することは回動であった。

本発明者等は、これ等諸問題の解決を目的として鋭意検
討した結果、特定の方向から輻射線の照口１を行なうこ
とにより製造した輻射線硬化型アンダーツー１〜層を有
する磁気記録媒体（ユ、上記諸欠点を解消し得たもので
あることを見い出し、本発明の完成に芋ったものである
。

［発明の目的コ 本発明の目的は、輻射線硬化型アンダーコート５一 層を有する磁気記録媒体の製造り払において、該アンダ
ー−１−１−庖と非磁性支持体のＷｉ着に優れた磁気記
録媒体の製造方法を提供づることにある。

［発明の概要］ 本発明は、非磁性支持体と磁１４層間、あるいは非磁性
支持体とバックヨー１〜層間に輻射線硬化型のアンダー
−］−１〜層を有する磁気記録媒体の製造方法におい−
（、アンダーヨー１層の製造が、非ｔｆ！竹支持体の一
方の面上にアンダーコート層を形成する工程と、この工
程の接法アンダー］−１一層の形成面及ｒメ該アンダー
］−ト層の形成面と反対の面との両面により輻射線を照
射し硬化せしめる工程 どを経てなされたことを特徴とし、また非磁性支持体が
プラスチックフィルムであり、かつ硬化に用いられる輻
射線の種類が紫外線であることを特徴とし、さらにプラ
スチックフィルムが、下記のＡ群中から選ばれたもので
あることを特徴とし、まｌこ ［Ａ群１：セルロース誘導体 ポリオレフィン ポリ塩化ビニル ポリ塩化ビニリデン ポリエステル ポリカーボネー１〜 ポリスチレン ポリイミド ポリアミドイミド ポリエーテルサルフォン アンダーロー１〜層が、バインダ合名ｔ　１００部（重
一部、以下同じ）に対し、カーボンブラックを０．１部
以ト５０部以下の範囲で含有することを特徴とし、さら
にアンダーコー１へ層が、バインダ合４１００部に対し
、光開始剤を１部ＩＸ　ｌｘ　２　（’１部Ｊズ下の範
囲で含有することを特徴とするものである。

［発明の実施例コ 本発明の特徴は、幅ｑｉ線硬化型アンダーコート層に輻
射線を照射し硬化せしめる過程において、非磁性支持体
上で該アンダーヨー１層の形成されている而及び形成面
と反対の面の両面より輻射線の照射を行ない、換言すれ
ば通常の硬化方法で照射する輻射線に加えて、非磁性支
持体を透過した輻射線により該アンダーコート層を硬化
せしめることにより、従来該アンダーコー１〜Ｍ表面に
対しとかく不十分になｌ′）Ｐｓちであった該アンダー
コート層深部の硬化が十分性なわれ、ひいては該アンダ
ーロー１一層と非磁性支持体との密着が優れたものとな
る点にある。

本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性支持体とｑ
ｌ性層間、あるいは非磁性支持体とバックコート層間に
輻射線硬化型のアンダーコート層を有する磁気記録媒体
の製造方法において、該アンダーロー１一層の製造が、
非磁性支持体の一方の面上にアンダーコート層を形成す
る工程と、該アンダーロー１〜層の形成面及び形成面と
反対の面の両面により輻射線を照射し硬化ゼしめる■稈
とを経てなされたもので、より具体的には非磁性支持体
の一方の面上にアンダーロー１〜層を構成する塗料を塗
布し、溶剤を併用した場合は溶剤を乾燥除去後、該層の
形成面及び形成面と反対の面の両面より輻射線を照射し
、通常の輻射線に非磁性支持体を透過した輻射線を加え
て該層を硬化ゼしめて得たアンダーコート層の上層に磁
性塗料を塗布、硬化して１部性層を形成する方法であり
、…性塗料に代ってバックコート（裏塗り）塗料を使用
すればバラフコ−１−（裏塗り）層の形成に適用するこ
とも可能である。

本発明の輻射線硬化型アンダーコート層の硬化方法は、
公知の各種輻射線硬化方法が使用可能である。

例としては放射線（γ線）硬化法、電子線硬化法、紫外
線硬化法等があるが、前２したようにプロセス面から紫
外線硬化法が最も好適である。

また照射方法は非磁性支持体のアンダーコート層形成面
及び形成面と反対の面の両面より輻射線を照射しつるも
のであれば良く、照射出力、照射装置の数、照射源より
の距離、角度等は何等限定するものではない。

紫外線硬化法を適用する際の硬化設備としては公知の各
種紫外線発生装置が使用可能である。

−〇− 例としては低圧水銀ランプ、ケミカルランプ、高圧水銀
ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ア
ーク燈、キセノンランプ等があるが、一般には装置のコ
スト、保守の容易さ等から、ランプ１　ａｎ当り出力が
３０〜２００Ｗの高圧水銀ランプ又はメタルハライドラ
ンプが好適である。

また光照射に伴なう被照射物の温度上昇を適度に押さえ
るため、硬化に関与する波長（２００〜＝１５Ｏｒ＋ｎ
＋）以外の不必要な波長域はフィルタ等でカットしても
良く、被照射物を適当な方法で冷却することも可能であ
る。

本発明の輻射線硬化型アンダーコート層は、輻射線硬化
性樹脂を主成分とし、必要に応じて熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂等を加えてなるバインダ単独乃至はこれに各種
フィラー、添加剤、溶剤等を適宜配合した塗料を硬化せ
しめたものである。

本発明の輻射線硬化性樹脂は、公知の各種輻射線硬化性
樹脂が使用可能である。

例としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メ
タクリロイル基等の不飽和二重結合、■＝１０− ポキシ基等を有する樹脂が挙げられるが、硬化性の点か
ら不飽和ポリエステル系、アク１月ノー１〜系等のラジ
カル重合型、ポリ王ンーボリチオール系等のラジカル付
加型、エポキシ樹脂等からなるカチオン重合型等の樹脂
の使用が一般的であり、中でも（メタ）アクリロイル基
を有するアクリレ−１へ系の樹脂は硬１１−竹、硬化物
の物性バランスｔこ優れるため本発明の用途には最適で
ある。

このアクリレート系の樹脂は、分子内に（メタ）アクリ
ロイル基を一飼以Ｆ有する樹脂で、中でも分子量が２０
０以上５００００以下の範囲にあるオリゴマが好適であ
る。

例としては、ウレタン（メタ）アクリレ−１へ、エポキ
シ（メタ）アクリレ−］へ、ポリエステル（メタ）アク
リレート、ポリオール（メタ）アクリレート、ポリブタ
ジェン〈メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリ
レート、ポリアセタール（メタ）アクリレート、シリコ
ーン（メタ）アクリレ−１−、ポリアミド（メタ）アク
リレ−ト、複素環含有（メタ）アクリレート等があるが
、この他にも各種塗料用樹脂を変性し分子内に（メタ）
アクリ［ｌイル基を導入した樹脂等も用いることができ
、こね等を単独乃至は混合して使用する。

本発明の非磁性支持体は、公知の各種磁気記録媒体用非
ｉｔ性支持体が使用可能である。

例としては、プラスチックフィルム、紙、非磁性金属箔
乃至はこれ等の］−ティング、ラミネー］へ、ラミｔ−
７１１１１物等があるが、中でも各種のプラスチックフ
ィルｌいの使用が、硬化輻射線の透過性、支持体として
要求される物性の点から特に好適である。

例どじでは再生セルロース、エチルセルロース、セルロ
ースアセテ−１〜ブチレー１へ、セルロースジアセテー
ト、セルローストリアセテ−１〜等のセルロース誘導体
；ポリ１チレン、ポリプロピレン、ポリ１チレン等のポ
リ第１ノフイン；ポリ塩化ヒニル；ボ１１塩化ビニリデ
ン；ポリビニルアル］−ル；ポリエチレンテレフタレー
１−、ポリエチレン２，６−ナツタｌノート等のポリエ
ステル；ポリカーボネート；ポリスチレン；ポリアリ１
ノー１へ；ポリエーテル丁−テルケトン；ポリアミド；
ポリイミド；ポリアミドイミド；ポリエーテルイミド；
ポリパラバン酸；ボリエーテルサルフオン：ボリフツ化
ビニル、ポリフッ化ビニリデン等のフッ素系等の各フィ
ルムがあり、フィルムは延伸タイプ、未延伸タイプのい
ずれも使用出来、表面処理が施されていても良い。

また硬化輻射線として紫外線を用いる場合は、これの透
過性の面からセルロース誘導体、ポリオレフィン、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエステＪし、ポ
リカーボネー１へ、ポリスチレン、ポリイミド、ポリア
ミドイミド、ポリエーテルサルフォンの各フィルムを使
用することが特に好適である。

本発明のアンダーロー８層の硬化輻射線として紫外線を
使用する場合は、公知の各種光開始剤を添加する必要が
ある。

例としては、アセトフェノン、アセトフェノンジエチル
ケタール、ジアセチル、ベンジル、ベンジルジメチルケ
タール、１−ヒドロキシシクロヘギシルフェニルケ１〜
ン、２−ヒト１］キシ−２−メチルフェニルプロパノン
等のフェニルケトン類；ベンゾフェノン、ビス−４，４
′　　−ジアルキルアミノベンゾフェノン、３，３′　
　−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾ
フェノン類；ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル
等のベンゾイン類；クロルナオキ１Ｊントン、ジメチル
チオキサントン、ジエチルチオキサントン等のキサン１
−ン類；その他としてアンＩ−ラキノン類、スルフィド
類、フェニルオキシム類等があり、これ等を単独乃至複
数を混合して使用する。

バインダに対する添加量は、少ないと硬化速度が遅く硬
化不十分どなり、反面多すぎると硬化後塗膜からのブリ
ード等積々の問題を生ずるため、光開始剤はバインダ１
００部に対し１部以−ト２０部Ｊス下の節回と（ること
が特に好適である。

本発明のアンダーロー８層の硬化を、大気乃至は酸素を
含む雰囲気中で行なう場合は、酸素に基因する硬化用害
を防１にするために、公知の各種硬化促進剤を光開始剤
に併用することが好適である。

例としては、Ｎ　−メヂルジ王タノールアミン、Ｎ、Ｎ
　　−ジメチルエタノールアミン等の脂肪族アミン；ビ
ス−４，４′　　−ジアルキルアミノベンゾフェノン、
Ｎ、Ｎ　　−ジメチルアミノ安息香酸アルキル等の芳香
族アミン；その他としてこれ等の高分子化物であるポリ
アミン化合物等があり、これ等を単独乃至複数を混合し
て使用する。

バインダに対する添加量は、光開始剤と同様にバインダ
１００部に対し１部以上２０部以下の範囲とすることが
好適である。

本発明のアンダーコート層は、該アンダーコート層に各
種特性の付与、即ち帯電防１ト性の発現、遮光性の向上
、体質顔料として塗膜ｖｌＪ１４改善等の目的で、必要
に応じ公知の各種フィシを含有することも可能である。

例としてはカーボンブラック、グラフアイｌ−１炭酸カ
ルシウム、けい酸アルミニウム、けい酸マグネシウム、
硫酸バリウム、シリカ、酸化アルミニウム、酸化チタン
、酸化１ｔｌｉｌｌ、カオリン、クレー、各種無機顔料
等の無機物；ポリｌ’Ｅチレンテレフタレー１〜、フェ
ノール樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、各種有機顔料等の
有機物があり、これ等を単独乃至複数を混合して使用す
る。

就中、帯電防１トを目的として添加される導電性微粉末
、特にカーボンブラックは遮光性が高く、従来の方法で
は非ｆＪｉ性支持体との密着低下が著しいため、本弁明
を適用することが特に好適であり、この場合のバインダ
に対する添加量は、少ないと帯電防１Ｆ性が不十分とな
り、反面釜すぎると硬化性を損うため、カーボンブラッ
クはバインダ１００部に対し０．１部以ト５０部以トの
範囲とすることが特に好適である。

本発明のアンダーツー１〜層を構成する塗料は、必要に
応じ公知の各種溶剤を含有することも可能である。

例とｌノでは、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪
族炭化水素類；トルエン、キシレン、ツルベン１〜ナフ
サ等の芳香族炭化水素類；塩化メチレン、１．１．１−
１−ジクロルエタン、クロルベンゼン、０−ジクロルベ
ンゼン等の塩素化炭化水素類；メタノール、エタノール
、イソプロパツール、ブタノール、ペンシルアルコール
等のアルコール類；ジメチルエーテル、メチルイソエチ
ルエーテル、テ１〜ラヒドロフラン、ジオキサン等のＴ
−チル類；アセ］〜ン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ギ酸
エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；その
他としてグリコールエーテル類、Ｎ　−メチルピロリド
ン、ジメチルホルムアミド、ジアセトンアルコール、イ
ソホロン等があり、これ等を単独乃至複数を混合して使
用する。

本発明のアンダーコート層を構成する塗料は、必要に応
じ公知の各種添加剤を含有することも可能である。

例としては、分散剤、レベリング剤、消泡剤、界面活性
剤、塗膜改質剤、密着向上剤、濡れ向ト剤、沈降防止剤
、粘度調整剤、安定剤等がある。

本発明のアンダーコート層を構成する塗料の製造方法は
、バインダ各成分の混合物に必要に応じて各種のフィラ
ー、添加剤（光開始剤、硬化促進剤等）を配合してなる
ものであるが、溶剤を併用する場合はバインダ各成分を
適当な溶剤で溶解しバインダ溶液とした後、同様の配合
を行なうことも出来、また無溶剤下で各成分を配合した
ものを溶剤で希釈し、粘度調整をしても良く、各種添加
剤についても適当な溶剤により溶液としてから配合する
ことが可能である。

本発明のアンダーヨー８層／磁性層の塗布方法は、公知
の各種塗布方法が使用可能である。

例としては、カーテンコート、グラビアオフセットコー
ト、グラビアコート、スピンコート、スプレーコート、
ディップコート、（エア）ドクターヨー１−１１−ラン
スファーロールコート、（エア）ナイフコート、ブレー
ドコート、リバースロールコート等があり、塗布時のア
ングーローｌ−囮厚さは乾燥硬化後の値で０．１μ…以
−ト５．０μｍ以下の範囲が、磁性層厚さは同様に０．
１μ■以ト１５μｍ以下の範囲が各々好適である。

本発明の磁性塗料の組成は、公知の各種組成が使用可能
である。

磁性塗料中の磁性粉の例としては、 Ｔ−Ｆｅ２０：ｌ　、Ｆｆ３３０４　、Ｃｏ含含有−Ｆ
ｅ２０３．ＣＯＯ有Ｆｅ　：ｌ　０４　、　Ｃｒ　ｏ２
　。

ｃｏ　、　Ｆｅ−Ｇｏ　、　Ｇｏ−Ｎ　ｌ　、　Ｆｅ−
Ｇｏ−Ｎ　ｉ、ハＩＪウムフエライト等の粉末があり、
磁性１１３１中のバインダの例としては塩化ビニル系共
重合樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、１＝
ルロース系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、エポキ
シ系樹脂等があり、また公知の各種フィラ、溶剤、添加
剤等を含有しても良い。

以下本発明を具体的実施例により説明する。

実施例１゜ ユビサン＃８９３　（ウレタンアクリレートオリゴマ、
米国チオコール社製）４０部、ペンタＴリスリトールト
リアクリレート６０部、カーホンブラック２５部をトル
エン２００部、メチルエチルケトン２００部に溶解し、
サンドグラインダを使用して２時間分散を行ない塗料化
した。

これに光開始剤としてベンゾフェノン５部、硬化促進剤
として４．４′　　−ジエチルアミノベンゾフェノ２３
部を添加し、１３ＩＩＩｌｌ厚ポリエステルフイルムに
グラビアコート法で塗布し、塗膜を乾燥して溶剤を除去
後、８０　Ｗ　／　ｃｒｎの高圧水銀ランプを用い、該
塗膜面子より　１．ＯＪ／ｃｍのエネルギ量で、該塗膜
と反対の面よりポリエステルフィルムを透過して２．２
Ｊ／ｃｔｌのエネルギ量で各々紫外線を照射、塗膜を硬
化して、厚さ０．５μｍのアンダーコート層を得た。こ
れを試料Ａとした。

この−Ｌ層に磁性塗料（ビニライトＶＡＧＨ（塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合樹脂、米国Ｕ
ＣＣ社製）３０部、ＣＯ含含有−Ｆｅ２０＋粉末７０部
、ジオクチルフタレート５部、レシチン１部をトルエン
８０部、メチルエチルケトン８０部、シクロへキサノン
８０部に溶解し、サンドグラインダを使用して２時間分
散、塗料化して得たもの）をリバースロールコート法で
塗布し、塗膜を乾燥後、スーパーカレンダ装置により表
面の平滑処理を行ない、１部２インチ幅にスリン１〜し
て厚さ６．０μｍの磁性層を有する磁気記録媒体を得た
。これを試１１Ｂとした。

比較例１゜ アンダーコート塗膜に対する紫外線前側を該塗膜と同一
の面より行なったこと以外は、実施例１と同様の条件で
試作を行なった。アンダーコート層として試ｎｃ、ｍ気
記録媒体として試ｌ！ｌｒ）を得た。

比較例２゜ ポリエステルフィルム上にアンダーロー８層を施さない
点１ス外は、実施例１と同様の条件で試作を行なった。

磁気記録媒体として試料Ｆを得た。

これ等について以下の評価を行ない、以下の結果を得た
。

第　　１　　表 第　　２　　表 以上のように実施例１のアンダーヨー１一層は、非磁性
支持体との密着が良好であると共に、このアンダーコー
ト層を有する磁気記録媒体は、５０００パス走行後のド
ロップアウトの増加が抑制されていることがわかる。

（注）評価方法は以下の通り 密　着　性　　：非磁性支持体に対するテープ密着性に
チバン（株）ｇａセ ロテープ使用） ドロップアラ１〜ニトロツブアウトカウンタによる（　
１５μｓｅｃ、　−１６ｄＢ。

シバツクＶＨＯ１ＢＺ型使用） ビデオＳ／Ｎ　　：比較例２に対する相対値［発明の効
果１ 以上述べたように本発明によれば、輻射線硬化型アンダ
ーヨー１層を有する磁気記録媒体の製造方法において、
支持体との密着性に優れ、かつ磁性層の表面平滑性も良
好で、電磁変換特性に優れた高品質の磁気記録媒体を高
い生産性で容易に得ることが可能となる。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性支持体と磁性層間、あるいは非磁性支持体
   とバックコート層間に輻射線硬化型のアンダーコート層
   を有する磁気記録媒体の製造方法において、アンダーコ
   ート層の製造が、 非磁性支持体の一方の面上にアンダーコート層を形成す
   る工程と、この工程の後該アンダーコート層の形成面及
   び該アンダーコート層の形成面と反対の面との両面によ
   り輻射線を照射し硬化せしめる工程 とを経てなされたことを特徴とする磁気記録媒体の製造
   方法。
2. （２）非磁性支持体がプラスチックフィルムであり、か
   つ硬化に用いられる輻射線の種類が紫外線であることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体の
   製造方法。
3. （３）プラスチックフィルムが、下記のＡ群中から選ば
   れたものであることを特徴とする特許請求の範囲第２項
   記載の磁気記録媒体の製造方法。 ［Ａ群］：セルロース誘導体 ポリオレフィン ポリ塩化ビニル ポリ塩化ビニリデン ポリエステル ポリカーボネート ポリスチレン ポリイミド ポリアミドイミド ポリエーテルサルフォン
4. （４）アンダーコート層が、バインダ合計１００部（重
   量部、以下同じ）に対し、カーボンブラックを０．１部
   以上５０部以下の範囲で含有することを特徴とする特許
   請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体の製造方法。
5. （５）アンダーコート層が、バインダ合計１００部に対
   し、光開始剤を１部以上２０部以下の範囲で含有するこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の磁気記録媒
   体の製造方法。