JPS622778Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS622778Y2
JPS622778Y2 JP17561682U JP17561682U JPS622778Y2 JP S622778 Y2 JPS622778 Y2 JP S622778Y2 JP 17561682 U JP17561682 U JP 17561682U JP 17561682 U JP17561682 U JP 17561682U JP S622778 Y2 JPS622778 Y2 JP S622778Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sealing layer
thermal expansion
substrate
synthetic resin
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP17561682U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5981040U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP17561682U priority Critical patent/JPS5981040U/ja
Publication of JPS5981040U publication Critical patent/JPS5981040U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPS622778Y2 publication Critical patent/JPS622778Y2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、IC、トランジスタチツプをリード
線でセラミツク基板の接続端子に接続する式の防
湿処置が施された混成集積回路に関する。
従来の混成集積回路は、第1図示のように、配
線基板a上に搭載したIC等のリード線接続部品
b及びリード線cを軟質シリコン樹脂又は硬質エ
ポキシ樹脂dで被覆して封止し、更に配線基板a
全体を別の樹脂eで被覆して形成されていた。し
かしながら、軟質シリコン樹脂は材料自体の熱膨
張係数が大きいため、急激な温度変化が連続的に
加わつた場合リード線が切断されたり、外装モー
ルド樹脂eとの接着性が弱く温度変化により外装
モールドがひび割れする等の不都合があつた。ま
た、エポキシ樹脂は、これとセラミツク基板の熱
膨張係数の差を補う弾力性が無いため、温度変化
の繰返しによりリード線cが切断する等の保都合
が存した。
本考案はかかる不都合の無い混成集積回路を提
供することをその目的としたもので、セラミツク
基板1上に配設されたリード線接続部品2及びリ
ード線3が無機質材料を含有する通気孔構造の合
成樹脂から成る第1封止層4と吸着剤粉末及び無
機質材料を含有する無気孔構造の合成樹脂から成
る第2封止層5とで順次被覆され、更に、その他
の部品6を搭載した基板全体が防湿性合成樹脂か
ら成る外装モールド7で被覆され、前記基板1、
第1封止層4、第2封止層5及び外装モールド7
各部の熱膨張係数は、前記基板1から順次増大す
るように選定され、隣接する各部の熱膨張係数の
間に大きな差がないようにされてなる。
第2図において、1はアルミナ等のセラミツク
基板で、該セラミツク基板1上には、リード線接
続部品2及びその他の部品6が搭載され、該部品
2と、該部品2の端子と基板1上の接続端子とを
接続するリード線3には第1封止層4及び第2封
止層5が順次被覆され、前記基板1全体には外装
モールド7が被覆されている。
前記第1封止層4は無機質材料を含有する通気
孔構造の合成樹脂から成り、その熱膨張係数は無
機質材料の量によりセラミツク基板のそれの1.5
以内としたものであり、樹脂としては溶剤性樹脂
が適する。
第2封止層5は吸着剤粉末及び無機質材料を含
有する無気泡構造の合成樹脂から成り、その熱膨
張係数は無機質材料の量により第1封止層4のそ
れの3倍以内とし、かつ外装モールド7のそれの
1/2以内としたものであり、樹脂として無溶剤性
樹脂が適する。この層5は熱膨張緩衝性と共に第
1封止層4を湿気から防護するものであり該層内
に浸入した湿気を吸着剤で吸収する。
前記外装モールド7は防湿性樹脂例えばエポキ
シ樹脂から成る。
前記構成によれば、第1封止層4、第2封止層
5及び外装モールド7各部の熱膨張係数はセラミ
ツク基板1に対し順次増大するように選定され、
セラミツク基板1と第1封止層4等隣接する各部
の熱膨張係数の間に大きな差がないようにしてい
る。この熱膨張係数の調整は樹脂中にシリカ等の
無機質材料の量により行なつている。
かくして温度変化の著しい雰囲気に配置された
場合においてもリード線の断線が生ずることがな
く、また湿気によりIC等の部品の特性が劣化す
ることがない。
実施例 熱膨張係数が7×10-6/℃のアルミナ基板1上
に0.3mmφのリード線3としての金線で接続され
たICチツプ2と該リード線3とを埋没するよう
にシリカを85重量%混合して熱膨張係数が1×
10-5/℃付近に調整された溶剤性フエノール樹脂
で被覆し、150℃の温度で1時間焼付け第1封止
層4を形成した。
次にアルミナ(40重量%)と活性炭(10重量
%)を混合して熱膨張係数が2〜3×10-5/℃に
調整されたエポキシ樹脂を第1封止層4上に塗布
し、100℃の温度で1.5時間焼付け、第2封止層5
を形成した。この焼付けの熱を利用して粉末エポ
キシ樹脂の中に基板を浸漬して樹脂を付着させ
150℃の温度で2時間焼付けて硬化させ3〜4×
10-5/℃の熱膨張係数の防湿モールド7を形成し
た。
以上のように形成された製品を、125℃に熱し
たシリコンオイル中に10分間保持して取り出し直
ちに−50℃に保持した低温槽に10分間保持する温
度サイクルを繰り返し100回行なつても外装モー
ルドにクラツク及びリード線の断線が生じなかつ
た。
尚、シリコン樹脂を用いた従来のものは、20サ
イクル終了時に約半数に外装クラツクが、約5%
に断線が生じた。エポキシ樹脂の場合同じく20サ
イクルで外装クラツクがなかつたが断線が約8%
生じた。
又、本考案品を2気圧、120℃の飽和蒸気中で
耐湿テストを行なつた結果、20時間のテストでは
異常がなかつた。これに対し従来のものは5時間
で絶縁劣化により半導体の電気特性に異常が発生
した。
このように本考案によるときは、セラミツク基
板1、第1封止層4、第2封止層5及び外装モー
ルド7等の各部の熱膨張係数を前記基板1から順
次増大するように選定され、隣接する各部の熱膨
張係数の間に大きな差がないようにされたので、
温度変化が連続的に加わつてもリード線が切断さ
れたり、湿気による特性の劣化などが生じない等
の混成集積回路が得られる等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のものの拡大された一部截断側面
図、第2図は本考案の1実施例の拡大された一部
截断側面図を示す。 1……セラミツク基板、2……リード線接続部
品、3……リード線、4……第1封止層、5……
第2封止層、6……その他の部品、7……外装モ
ールド。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. セラミツク基板1上に配設されたリード線接続
    部品2及びリード線3が無機質材料を含有する通
    気孔構造の合成樹脂から成る第1封止層4と吸着
    剤粉末及び無機質材料を含有する無気孔構造の合
    成樹脂から成る第2封止層5とで順次被覆され、
    更に、その他の部品6を搭載した基板全体が防湿
    性合成樹脂から成る外装モールド7で被覆され、
    前記基板1、第1封止層4、第2封止層5及び外
    装モールド7各部の熱膨張係数は、前記基板1か
    ら順次増大するように選定され、隣接する各部の
    熱膨張係数の間に大きな差がないようにされてな
    る混成集積回路。
JP17561682U 1982-11-22 1982-11-22 混成集積回路 Granted JPS5981040U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17561682U JPS5981040U (ja) 1982-11-22 1982-11-22 混成集積回路

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17561682U JPS5981040U (ja) 1982-11-22 1982-11-22 混成集積回路

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5981040U JPS5981040U (ja) 1984-05-31
JPS622778Y2 true JPS622778Y2 (ja) 1987-01-22

Family

ID=30382024

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17561682U Granted JPS5981040U (ja) 1982-11-22 1982-11-22 混成集積回路

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5981040U (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2796043B2 (ja) * 1993-07-30 1998-09-10 京セラ株式会社 電子部品
JP2014116409A (ja) * 2012-12-07 2014-06-26 Denso Corp 電子装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5981040U (ja) 1984-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5165956A (en) Method of encapsulating an electronic device with a silicone encapsulant
CN108604589A (zh) 半导体装置及其制造方法
JPS622778Y2 (ja)
US6265768B1 (en) Chip scale package
JPS6077446A (ja) 封止半導体装置
JPS60154543A (ja) 合成樹脂基板を用いた半導体装置
JPS59154054A (ja) ワイヤおよびそれを用いた半導体装置
JPH0337308B2 (ja)
JPH0142356Y2 (ja)
EP0893823B1 (en) Semiconductor bonding and sealing structure
JPS61230344A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP3147157B2 (ja) 半導体素子を含む電子回路装置
JP2555519Y2 (ja) 表面実装樹脂封止型半導体装置
JPH0590448A (ja) 混成集積回路
JPS6167247A (ja) 混成集積回路
JPH0210858A (ja) 樹脂封止型半導体装置
EP0412608A1 (en) Semiconductor device
JPS63143850A (ja) 半導体装置
JPS5855673Y2 (ja) 電子部品の取付装置
JPS59763Y2 (ja) 混成集積回路
JPH04252041A (ja) 混成集積回路の製造方法
JPS6269538A (ja) 樹脂封止半導体装置
JPH0493052A (ja) 半導体集積回路装置
JPS63316462A (ja) 半導体モジュ−ル
JPS62108554A (ja) 混成集積回路装置及びその製造方法