JPS62241959A - 高分子成形体 - Google Patents
高分子成形体Info
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- JPS62241959A JPS62241959A JP8577986A JP8577986A JPS62241959A JP S62241959 A JPS62241959 A JP S62241959A JP 8577986 A JP8577986 A JP 8577986A JP 8577986 A JP8577986 A JP 8577986A JP S62241959 A JPS62241959 A JP S62241959A
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は機械的強度のすぐれた高分子成形体に関する。
高分子成形体の機械的強度を向上させるために、ガラス
5ilai、カーボン繊維等のlI!維で補強すること
が一般に行なわれているが、繊維で補強するにはある程
度長い繊維を、30重量%程度多量に添加する必要があ
るため、成形性が悪く、得らhた成形体は表面状態が悪
く、強度に異方性があり、又フィルムや繊維に成形する
ことができないという欠点がめった。
5ilai、カーボン繊維等のlI!維で補強すること
が一般に行なわれているが、繊維で補強するにはある程
度長い繊維を、30重量%程度多量に添加する必要があ
るため、成形性が悪く、得らhた成形体は表面状態が悪
く、強度に異方性があり、又フィルムや繊維に成形する
ことができないという欠点がめった。
上記欠点を解消するために、特公昭61−5500号公
報にはナイロンにポリ(P−フェニレンテレ7タルアミ
ド)もしくはその誘導体が17gm以下の微視的領域に
お込て一様に分散8hてなる高分子複合体が提案されて
いる。
報にはナイロンにポリ(P−フェニレンテレ7タルアミ
ド)もしくはその誘導体が17gm以下の微視的領域に
お込て一様に分散8hてなる高分子複合体が提案されて
いる。
この複合体は前記欠点を解消するものではあるけれども
、ナイロンにポリ(P−フェニレンテレフタルアミド)
もしくはその誘導体を1声m以下の微視的fR域におい
て一様に分散するために、一般的には両者を溶剤に溶解
して混合する方法が採用されるが、ポリ(P−7エエレ
ンテレアクルアミド)もしくはその誘導体は溶剤に溶解
しに<<、溶解しても希薄溶液しか得られず、かつ溶解
に長時間を要するため成形が困難j6’)、又ボIJ(
P−)ニレレンテレフタルアミ゛ド)もしくはその誘導
体は高剛直性高分子なので得られた複合体は伸度が小さ
く耐衝撃性が小さいという欠点があった。
、ナイロンにポリ(P−フェニレンテレフタルアミド)
もしくはその誘導体を1声m以下の微視的fR域におい
て一様に分散するために、一般的には両者を溶剤に溶解
して混合する方法が採用されるが、ポリ(P−7エエレ
ンテレアクルアミド)もしくはその誘導体は溶剤に溶解
しに<<、溶解しても希薄溶液しか得られず、かつ溶解
に長時間を要するため成形が困難j6’)、又ボIJ(
P−)ニレレンテレフタルアミ゛ド)もしくはその誘導
体は高剛直性高分子なので得られた複合体は伸度が小さ
く耐衝撃性が小さいという欠点があった。
本発明の目的は上記欠点に鑑み、溶剤に溶解しやすく、
成形性がすぐれており、ブロック状や厚いシート状の成
形体だけでなく、フィルムや繊維をも成形でき、かつ表
面状態が良く、高強度でろって強度に異方性がなく、適
度な伸度を有しており、耐衝撃性のすぐれた高分子成形
体を提供することにある。
成形性がすぐれており、ブロック状や厚いシート状の成
形体だけでなく、フィルムや繊維をも成形でき、かつ表
面状態が良く、高強度でろって強度に異方性がなく、適
度な伸度を有しており、耐衝撃性のすぐれた高分子成形
体を提供することにある。
[問題点を解決するための手段]
本発明で使用するナイロンはポリアミドのうち線状の高
分子樹脂を意味し、たとえばナイロン6.66.610
.11.12.4.5.7.8.88.69.ジアミン
と二塩基酸の少なくとも一方を2種類以上用いて共重合
した共重合ナイロン及び上記ナイロンの混合物等がらげ
゛ られる。
分子樹脂を意味し、たとえばナイロン6.66.610
.11.12.4.5.7.8.88.69.ジアミン
と二塩基酸の少なくとも一方を2種類以上用いて共重合
した共重合ナイロン及び上記ナイロンの混合物等がらげ
゛ られる。
本発明で使用する高分子物質は、一般式(式中Xは酸素
又はメチレン基)で表わされる構成単位を主成分とする
ものであって、たとえば4.4′−ジアミノジフェニル
メタン、4.4’−ジアミノジフェニルチーチル等の芳
香族ジアミンとイソフタル酸クロライドを重縮合するこ
とによって得られるポリ(P 、 P’−メチレンビス
(フェニレン)〕イソ7タルアミド、ポリ〔P 、 P
’−オキシビス(フェニレン)〕インフタルアミド等及
び該重縮合物に上記ナイロンをグラフト重合したグラフ
ト重合体、該重合物とナイロンのブロック共重合体など
があげられる。
又はメチレン基)で表わされる構成単位を主成分とする
ものであって、たとえば4.4′−ジアミノジフェニル
メタン、4.4’−ジアミノジフェニルチーチル等の芳
香族ジアミンとイソフタル酸クロライドを重縮合するこ
とによって得られるポリ(P 、 P’−メチレンビス
(フェニレン)〕イソ7タルアミド、ポリ〔P 、 P
’−オキシビス(フェニレン)〕インフタルアミド等及
び該重縮合物に上記ナイロンをグラフト重合したグラフ
ト重合体、該重合物とナイロンのブロック共重合体など
があげられる。
上記高分子物質は低分子量では強度が小さいので高分子
量が好ましく、数平均分子量は10゜000以上が好ま
しい。
量が好ましく、数平均分子量は10゜000以上が好ま
しい。
又上記高分子物質の溶解性は第1表に示す通り、ポリ(
P−フェニレンテレ7タルアミドに比較し優りており、
重合度が大きくなっても溶解性の低下は小さい。
P−フェニレンテレ7タルアミドに比較し優りており、
重合度が大きくなっても溶解性の低下は小さい。
(以下余白)
第 1 表
高分子物質の添加量は成形体の用途によって適宜決定さ
れればよいが、添加量が少なくなると機械的強度が向上
せず、多くなると伸度が小さくなり、耐衝撃性が低下す
るので、成形体中1〜30wt%添加されるのが好まし
い。
れればよいが、添加量が少なくなると機械的強度が向上
せず、多くなると伸度が小さくなり、耐衝撃性が低下す
るので、成形体中1〜30wt%添加されるのが好まし
い。
本発明の高分子成形体は上記ナイロン中に上記高分子物
質が1/1m以下の微視的領域において一様に分数され
て形成されるのであるが、1声m以下の微視的領域にお
hて一様に分数された状態とは、上記高分子物質がそれ
自体で形成する相が1声m以上の大きさの独立相として
偏光、位相差などの光学顕微鏡によって明確に判別され
ず、かつ成形体のいずれの声m次元の微視的部分におい
ても上記高分子物質の分布が等しb状態を意味する。
質が1/1m以下の微視的領域において一様に分数され
て形成されるのであるが、1声m以下の微視的領域にお
hて一様に分数された状態とは、上記高分子物質がそれ
自体で形成する相が1声m以上の大きさの独立相として
偏光、位相差などの光学顕微鏡によって明確に判別され
ず、かつ成形体のいずれの声m次元の微視的部分におい
ても上記高分子物質の分布が等しb状態を意味する。
ナイロン中に上記高分子物質を上記状態に分数させる方
法は任意の方法が採用されてよく、たとえばナイロン及
び上記高分子物質をそれぞh1ジメチルアセトアミド、
N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミF197%
硫酸等の溶媒に溶解した後両者を均一になるまで混合し
、得られた溶液を水中に攪拌しながら投入してナイロン
に上記高分子物質が分数された粒子を得る方法があけら
れる。
法は任意の方法が採用されてよく、たとえばナイロン及
び上記高分子物質をそれぞh1ジメチルアセトアミド、
N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミF197%
硫酸等の溶媒に溶解した後両者を均一になるまで混合し
、得られた溶液を水中に攪拌しながら投入してナイロン
に上記高分子物質が分数された粒子を得る方法があけら
れる。
又上記粒子から本発明の高分子成形体を得る方法は任意
の方法が採用されてよく、たとえばプレス成形、射出成
形、ロール成形、押出成形、紡糸成形等の成形方法があ
げら−れる。
の方法が採用されてよく、たとえばプレス成形、射出成
形、ロール成形、押出成形、紡糸成形等の成形方法があ
げら−れる。
本発明の高分子成形体の構成は上述の通りでるり、ナイ
ロンに均一に分数されている高分子物質は一般式(I)
で表わされる構成単位を主成分とするものであるから、
溶剤に対し溶解しやすく、成形性が優れており、ブロッ
ク状や厚いシート状の成形体だけでなくフィルムや繊維
も容易に成形でき、かつtc杉休体表面状急が良く、高
強度であって、強度に異方性がなく、適度な伸度を有し
ており、耐衝撃性が優れている。
ロンに均一に分数されている高分子物質は一般式(I)
で表わされる構成単位を主成分とするものであるから、
溶剤に対し溶解しやすく、成形性が優れており、ブロッ
ク状や厚いシート状の成形体だけでなくフィルムや繊維
も容易に成形でき、かつtc杉休体表面状急が良く、高
強度であって、強度に異方性がなく、適度な伸度を有し
ており、耐衝撃性が優れている。
し実施例]
次に本発明の詳細な説明する。
実施例1
4.4′−ジアミノジフェニルメタン1983yをジメ
チルアセトアミド28fに溶解し、水冷下でイソフクル
酸りロクイドzo3oy添加し、3時間攪拌後炭酸すチ
クムα75y添加し、さらに3時間攪拌して、ポリ[P
、 P’−メチレンビス(フェニレン)〕イソフタル
アミド10wt%ジメチルアセトアミド溶液を得た。得
られたボ!J[P、P’−メチレンビス(フェニレン)
]インフタルアミドの数平均分子量は約30,000で
あった。
チルアセトアミド28fに溶解し、水冷下でイソフクル
酸りロクイドzo3oy添加し、3時間攪拌後炭酸すチ
クムα75y添加し、さらに3時間攪拌して、ポリ[P
、 P’−メチレンビス(フェニレン)〕イソフタル
アミド10wt%ジメチルアセトアミド溶液を得た。得
られたボ!J[P、P’−メチレンビス(フェニレン)
]インフタルアミドの数平均分子量は約30,000で
あった。
又ナイロン6・202を、塩化リチクム10yが溶解さ
れたジメチルアセトアミドx’toyに130℃で攪拌
、溶解してナイロン6・10wt%ジメチルアセトアミ
ド溶液を得た。
れたジメチルアセトアミドx’toyに130℃で攪拌
、溶解してナイロン6・10wt%ジメチルアセトアミ
ド溶液を得た。
ホ!J[f’、P’−メチレンビス(フェニレン)〕イ
ソフクルアミドの添加量がポリ[P 、 P’−メチレ
ンビス(フェニレン)〕インフタルアミドとナイロン6
0合計量の5.10及び20wt%になるように得らh
た溶液を混合して透明なドープを得、得らhたドープを
大過剰の純水に激しく攪拌しながら投入して、粒状の沈
殿物を得た。得られた沈殿物を冷水及び熱水で充分に洗
浄した後乾燥し、次に230℃、10Kf/dの条件で
プレス成形し、厚さ50(1)Lmの透明シートを得た
。
ソフクルアミドの添加量がポリ[P 、 P’−メチレ
ンビス(フェニレン)〕インフタルアミドとナイロン6
0合計量の5.10及び20wt%になるように得らh
た溶液を混合して透明なドープを得、得らhたドープを
大過剰の純水に激しく攪拌しながら投入して、粒状の沈
殿物を得た。得られた沈殿物を冷水及び熱水で充分に洗
浄した後乾燥し、次に230℃、10Kf/dの条件で
プレス成形し、厚さ50(1)Lmの透明シートを得た
。
得られたシートをJIS K 7113 (ダンペ
ル2号、引張速度5 鱈/la、 20℃)に従。て引
張試験を行り結果を!l!2表に示した。又応カー伸び
曲線を第1図に示した。
ル2号、引張速度5 鱈/la、 20℃)に従。て引
張試験を行り結果を!l!2表に示した。又応カー伸び
曲線を第1図に示した。
実施例2
4.4′−ジアミノジフェニルメタンに代、tて、4.
4′−ジアミノジフェニルエーテルZOO2pを使用し
た以外は実施例1で行ったと同様にして、数平均分子量
約3へOOOのポリ[P、P’−オキシビス(フェニレ
ン)〕イソフタルアミド10wt%ジメチルアセトアミ
ド溶液を得た。
4′−ジアミノジフェニルエーテルZOO2pを使用し
た以外は実施例1で行ったと同様にして、数平均分子量
約3へOOOのポリ[P、P’−オキシビス(フェニレ
ン)〕イソフタルアミド10wt%ジメチルアセトアミ
ド溶液を得た。
該溶液と実施例1で得たナイロン6・10wt%ジメチ
ルアセトアミド溶液を使用し実施例1で行ったと同様に
して、ポリ[P 、 P’−オキシビス(フェニレン)
〕イソフクルアミドの含有量が5wt%の沈殿物を得、
厚さ500μmの透明なシートを得た。次に引張試験を
行い結果を第2表に示した。
ルアセトアミド溶液を使用し実施例1で行ったと同様に
して、ポリ[P 、 P’−オキシビス(フェニレン)
〕イソフクルアミドの含有量が5wt%の沈殿物を得、
厚さ500μmの透明なシートを得た。次に引張試験を
行い結果を第2表に示した。
実施例3
ナイロン6に代えてナイロン66を使用し九以外は実施
例1で行ったと同様にしてナイロン66・10Wt96
ジメチルアセトアミド溶液を得た。
例1で行ったと同様にしてナイロン66・10Wt96
ジメチルアセトアミド溶液を得た。
得られた溶液と実施例1で得たボIJ[P、P’−メチ
レンビス(フェニレン)]イイソフルルアミ110t%
ジメチルアセトアミド溶液を使用し、実施例1で行った
と同様にして、ポリ〔P+P’−メチレンビス(フェニ
レン)]イソ7タルアミドの含有量が5wt%の沈殿物
を得、厚さ500声mの透明なシートを得た。次にシー
トの引張試験を行り結果を4N2表に示した。
レンビス(フェニレン)]イイソフルルアミ110t%
ジメチルアセトアミド溶液を使用し、実施例1で行った
と同様にして、ポリ〔P+P’−メチレンビス(フェニ
レン)]イソ7タルアミドの含有量が5wt%の沈殿物
を得、厚さ500声mの透明なシートを得た。次にシー
トの引張試験を行り結果を4N2表に示した。
比較例1.2
実施例1で得たナイロン6・10 wt%ジメチルアセ
トアミド溶液及び実施例3で得たナイロン66・10w
t%ジメチルアセトアミド溶液を使用(以下余白) し、実施例1で行ったと同様にして沈殿物を得、厚さ5
00.l1mの透明なナイロン6のシート(比較111
1)及ヒナイロン66のシート(比較例2)を得た。次
に引張試験を行い結果を!2表に示した。又ナイロン6
シートの応カー伸び曲線を第1図に示した。
トアミド溶液及び実施例3で得たナイロン66・10w
t%ジメチルアセトアミド溶液を使用(以下余白) し、実施例1で行ったと同様にして沈殿物を得、厚さ5
00.l1mの透明なナイロン6のシート(比較111
1)及ヒナイロン66のシート(比較例2)を得た。次
に引張試験を行い結果を!2表に示した。又ナイロン6
シートの応カー伸び曲線を第1図に示した。
比較例3
粘度平均分子量約30,000のポリ(P−フェニレン
テレフタルアミド)の2wt%(97%硫酸)溶液とナ
イロン6・5wt%(97%硫酸)溶液ヲ、ポリ(P−
)ニレレンテレフタルアミト)の添加量がポリ(P−フ
ェニレンテレフタルアミド)とナイロン60合計量の5
.10及び20wt% になるように混合し透明なドー
プを得た。
テレフタルアミド)の2wt%(97%硫酸)溶液とナ
イロン6・5wt%(97%硫酸)溶液ヲ、ポリ(P−
)ニレレンテレフタルアミト)の添加量がポリ(P−フ
ェニレンテレフタルアミド)とナイロン60合計量の5
.10及び20wt% になるように混合し透明なドー
プを得た。
得られ九ドープを使用し、実施例1で行ったと同様にし
て沈殿物を得、厚さ500fimの透明シートを得た。
て沈殿物を得、厚さ500fimの透明シートを得た。
次に引張試験を行い結果を第2表に示した。
又ポリ(P−フェニレンテレ7タルアミド)の添加量が
10wt96のシートの応カー伸び曲線を第1図に示し
た。
10wt96のシートの応カー伸び曲線を第1図に示し
た。
実施例4
4.4′−ジアミノジフェニルメタン198:1をジメ
チルアセトアミド60fに溶解し、水冷下でイソフタル
酸クロライド2,132p添加し、1時間攪拌した後へ
キナメチレンジアミン1220ノを添加、溶解し次にア
ジピン酸クロライド1830Fを加え1時間攪拌し、さ
らにトリエチルアミン5.8yt−添加し、4時間攪拌
して反応してグラフト重合体溶液を得た。
チルアセトアミド60fに溶解し、水冷下でイソフタル
酸クロライド2,132p添加し、1時間攪拌した後へ
キナメチレンジアミン1220ノを添加、溶解し次にア
ジピン酸クロライド1830Fを加え1時間攪拌し、さ
らにトリエチルアミン5.8yt−添加し、4時間攪拌
して反応してグラフト重合体溶液を得た。
得られた溶液を大過剰の純水に激しく攪拌しながら投入
して、粒状の沈殿物を得た。得られた沈殿物を冷水及び
熱水で充分に洗浄した後乾燥し、次にナイロン66・1
0wt%ジメチルアセトアミド溶液502に1ym加し
溶解して透明なドープを得た。
して、粒状の沈殿物を得た。得られた沈殿物を冷水及び
熱水で充分に洗浄した後乾燥し、次にナイロン66・1
0wt%ジメチルアセトアミド溶液502に1ym加し
溶解して透明なドープを得た。
得られたドープを実施例1で行ったと同様に処理して沈
殿物を得、次に厚さ500声の透明シートを得た。得ら
れたシートを用いて実施例1で行ったと同様にして引張
試験を行い、結果を第2表に示した。
図第2表 ■ (資) 而の簡単な説明 第1図は応カー伸び曲線を示すグラブである。
殿物を得、次に厚さ500声の透明シートを得た。得ら
れたシートを用いて実施例1で行ったと同様にして引張
試験を行い、結果を第2表に示した。
図第2表 ■ (資) 而の簡単な説明 第1図は応カー伸び曲線を示すグラブである。
1・・・実施例1■ 、 2・・・実施例1■3・・・
実施例1■ 、 4・・・比較例15・・・比較例3■
実施例1■ 、 4・・・比較例15・・・比較例3■
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ナイロン中に、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) (式中Xは酸素又はメチレン基)で表わされる構成単位
を主成分とする高分子物質が、1μm以下の微視的領域
において一様に分散されていることを特徴とする高分子
成形体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8577986A JPS62241959A (ja) | 1986-04-14 | 1986-04-14 | 高分子成形体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8577986A JPS62241959A (ja) | 1986-04-14 | 1986-04-14 | 高分子成形体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62241959A true JPS62241959A (ja) | 1987-10-22 |
Family
ID=13868368
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8577986A Pending JPS62241959A (ja) | 1986-04-14 | 1986-04-14 | 高分子成形体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62241959A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6069029A (en) * | 1988-09-20 | 2000-05-30 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device chip on lead and lead on chip manufacturing |
-
1986
- 1986-04-14 JP JP8577986A patent/JPS62241959A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6069029A (en) * | 1988-09-20 | 2000-05-30 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device chip on lead and lead on chip manufacturing |
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