JPS62205507A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPS62205507A JPS62205507A JP4783786A JP4783786A JPS62205507A JP S62205507 A JPS62205507 A JP S62205507A JP 4783786 A JP4783786 A JP 4783786A JP 4783786 A JP4783786 A JP 4783786A JP S62205507 A JPS62205507 A JP S62205507A
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- Japan
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- magnetic
- thin films
- ferrite
- insulating layer
- interlayer insulating
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- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 30
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 229910018605 Ni—Zn Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 14
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 abstract description 10
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 abstract description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229920003217 poly(methylsilsesquioxane) Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高密度磁気記録が可能な磁気記録装置、特に
高周波信号と記録／再生するための磁気記録装置に用い
られる磁気ヘッドに関する。
高周波信号と記録／再生するための磁気記録装置に用い
られる磁気ヘッドに関する。
従来の技術
高密度記録を行うためには高抗磁力媒体が必要で、それ
に４ＷＪ号を記録しようとすると、従来の単結晶フェラ
イトなどの磁気ヘッドでは限界があった。すなわち単結
晶フェライトの飽和磁束密度ＢＳはたかだか５５００
Ｇ程度であり、抗磁力１１ａが【０００〜１５０００ｅ
の金属媒体を記録する場合に磁気ヘッドの磁気飽和が発
生し、充分な書き込みができなかった。磁気ヘッド材質
にセンダストあるいはアモルファスなどの磁性体を用い
ると、Ｂ ｓ カ８０００〜１００ＯＯＧと著しく向上
するため上記の問題点は解決できるが、金属コアである
ため高周波領域では渦電流損失が発生する。
に４ＷＪ号を記録しようとすると、従来の単結晶フェラ
イトなどの磁気ヘッドでは限界があった。すなわち単結
晶フェライトの飽和磁束密度ＢＳはたかだか５５００
Ｇ程度であり、抗磁力１１ａが【０００〜１５０００ｅ
の金属媒体を記録する場合に磁気ヘッドの磁気飽和が発
生し、充分な書き込みができなかった。磁気ヘッド材質
にセンダストあるいはアモルファスなどの磁性体を用い
ると、Ｂ ｓ カ８０００〜１００ＯＯＧと著しく向上
するため上記の問題点は解決できるが、金属コアである
ため高周波領域では渦電流損失が発生する。
このため従来は、第２図に示すように、磁芯１を図の例
では３枚の積層体２，３．４として７１＾電流損失を少
くシ、高周波領域での等測的な透磁率を高め、ヘッド効
率を高くすることがなされている。従来、この積層体２
，３．４を電気的に絶縁するためには、ガラス樹脂ある
いは５ｉ０２などの薄膜といった非磁性絶縁体が層間絶
縁層として用いられている。
では３枚の積層体２，３．４として７１＾電流損失を少
くシ、高周波領域での等測的な透磁率を高め、ヘッド効
率を高くすることがなされている。従来、この積層体２
，３．４を電気的に絶縁するためには、ガラス樹脂ある
いは５ｉ０２などの薄膜といった非磁性絶縁体が層間絶
縁層として用いられている。
発明が解決しようとする問題点
ところが、このような場合は、第３図に示すように、層
間のＪＳみ（δ１）（δ２）の部分が実効的に有効なト
ラットとして働かない。このため実効的なトラック幅は
、トラック全幅（Ｔｗ）に対し、Ｔｗ−（δ１＋６２）
に減少し、その効き方は、（Ｔｗ ）が狭くなるほど顕
著になる。この結果、記録時に明らかにその部分が磁化
されにくい状態になっていることがビッタ−法などでａ
察される。
間のＪＳみ（δ１）（δ２）の部分が実効的に有効なト
ラットとして働かない。このため実効的なトラック幅は
、トラック全幅（Ｔｗ）に対し、Ｔｗ−（δ１＋６２）
に減少し、その効き方は、（Ｔｗ ）が狭くなるほど顕
著になる。この結果、記録時に明らかにその部分が磁化
されにくい状態になっていることがビッタ−法などでａ
察される。
そこで本発明はこのような問題点を解決し、渦電流損失
も少くできるうえに層間絶縁層による実効的なトラック
幅の減少を軽減できる磁気ヘッドを提供することを目的
とする。
も少くできるうえに層間絶縁層による実効的なトラック
幅の減少を軽減できる磁気ヘッドを提供することを目的
とする。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するため本発明は、磁芯を構成する複
数の金属磁性薄膜の膜間に、軟磁性フェライト簿膜を積
層したものである。
数の金属磁性薄膜の膜間に、軟磁性フェライト簿膜を積
層したものである。
作用
このようなものであると、フェライト薄膜は電気比抵抗
が数Ω・ａ１１〜１０４Ω・ａｎ程度であるため層間絶
縁層としての役目を果し、金属磁性薄膜での渦電流損失
を少くする。しかも抗磁力はたかだか数Ｏｅ以下と良好
な軟磁性を示し、層間絶縁層自身も磁気的動作をするた
め実効的１〜ラツクとして作用する。
が数Ω・ａ１１〜１０４Ω・ａｎ程度であるため層間絶
縁層としての役目を果し、金属磁性薄膜での渦電流損失
を少くする。しかも抗磁力はたかだか数Ｏｅ以下と良好
な軟磁性を示し、層間絶縁層自身も磁気的動作をするた
め実効的１〜ラツクとして作用する。
実施例
第１図に本発明にもとづく磁気ヘッドの一実施例を示す
。このような磁気ヘッドの製造に際しては、まずガラス
あるいはセラミックなどの基板５上に、センダストある
いはＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒアモルファス合金のような金属磁
性薄膜６，７，８．りをスパッタリング法により順次積
層する。そのとき金属磁性薄膜６を所定の厚さくたとえ
ば５μｍ）に形成したのち、Ｎ１−Ｚｎフェライト薄膜
１０を同様にスパッタリングで形成する。その厚さは、
たとえば３０００人とする。同様に金属磁性薄膜７と８
の間、８と９の間にＮｉ−Ｚｎフェライト薄膜１１゜１
２を積層する。ついで、基板５と同じ材質の保護板１３
を接着する。この接着時に金属磁性薄膜９が変質しない
ように、ＳｉＯ２などの非磁性絶縁層（図、示せず）を
薄膜９上に形成する場合もある。
。このような磁気ヘッドの製造に際しては、まずガラス
あるいはセラミックなどの基板５上に、センダストある
いはＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒアモルファス合金のような金属磁
性薄膜６，７，８．りをスパッタリング法により順次積
層する。そのとき金属磁性薄膜６を所定の厚さくたとえ
ば５μｍ）に形成したのち、Ｎ１−Ｚｎフェライト薄膜
１０を同様にスパッタリングで形成する。その厚さは、
たとえば３０００人とする。同様に金属磁性薄膜７と８
の間、８と９の間にＮｉ−Ｚｎフェライト薄膜１１゜１
２を積層する。ついで、基板５と同じ材質の保護板１３
を接着する。この接着時に金属磁性薄膜９が変質しない
ように、ＳｉＯ２などの非磁性絶縁層（図、示せず）を
薄膜９上に形成する場合もある。
このようにして出来あがったブロックに機械加工を施し
、たとえば巻線用の溝１４を設け、ヘッドギャップ部形
成面１５を研磨する。ヘッドギャップ１６は、形成面１
５にＳｉｏ、などの非磁性体をスパッタリングをしたも
のを突き合せて、ガラス接着１７することにより、形成
される。以上により、金属磁性薄膜６，７，８．９が、
磁気ヘッドの主要な機能部である磁芯を構成する。
、たとえば巻線用の溝１４を設け、ヘッドギャップ部形
成面１５を研磨する。ヘッドギャップ１６は、形成面１
５にＳｉｏ、などの非磁性体をスパッタリングをしたも
のを突き合せて、ガラス接着１７することにより、形成
される。以上により、金属磁性薄膜６，７，８．９が、
磁気ヘッドの主要な機能部である磁芯を構成する。
層間絶縁層を構成するフェライト薄膜ｔｏ、 １１゜１
２としては、Ｎｉ−Ｚｎフェライトの代りに、 Ｍｎ−
Ｚｎフェライトを用いてもよく、また他のフェライ１〜
薄１１侍でも軟磁性を示すものは使用可能である。ただ
し、それら軟磁性フェライト薄膜の形成方法によっては
、電気比抵抗が小さくなって動作が良好でない場合が生
じるが、その場合は、軟磁性フェライト薄膜の表面のた
とえば数１００人に酸化処理を施し、比抵抗を高くする
などの処理を行うと効果的である。
２としては、Ｎｉ−Ｚｎフェライトの代りに、 Ｍｎ−
Ｚｎフェライトを用いてもよく、また他のフェライ１〜
薄１１侍でも軟磁性を示すものは使用可能である。ただ
し、それら軟磁性フェライト薄膜の形成方法によっては
、電気比抵抗が小さくなって動作が良好でない場合が生
じるが、その場合は、軟磁性フェライト薄膜の表面のた
とえば数１００人に酸化処理を施し、比抵抗を高くする
などの処理を行うと効果的である。
発明の効果
以上述べたように本発明によると、層間絶縁層として軟
磁性を示すフェライト薄膜を用いるため、金属磁性薄膜
に生じる高周波での渦電流損失を少くでき、磁芯として
の透磁率向上が図れると同時に、実効的な１−ラック幅
減少をなくすことができるので、特に高周波領域で高効
率な磁気ヘッドを実現できる。
磁性を示すフェライト薄膜を用いるため、金属磁性薄膜
に生じる高周波での渦電流損失を少くでき、磁芯として
の透磁率向上が図れると同時に、実効的な１−ラック幅
減少をなくすことができるので、特に高周波領域で高効
率な磁気ヘッドを実現できる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例の斜視図、第２図は従来例の
斜視図、第３図は従来例における積層磁芯の拡大図であ
る。 ６．７，８．９・・・金属磁性薄膜、 １０．１１．１
２・・・軟磁性フェライト薄膜 代理人 森 本 義 弘 第〆図 ４．７，１１．ｆ−−一小爲濾慝傅膿 ／ｌ）、 ／／、 ／２ −−山車に不改！・虹フＬラ
イト増１１唄（第２図 第３図
斜視図、第３図は従来例における積層磁芯の拡大図であ
る。 ６．７，８．９・・・金属磁性薄膜、 １０．１１．１
２・・・軟磁性フェライト薄膜 代理人 森 本 義 弘 第〆図 ４．７，１１．ｆ−−一小爲濾慝傅膿 ／ｌ）、 ／／、 ／２ −−山車に不改！・虹フＬラ
イト増１１唄（第２図 第３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、複数の金属磁性薄膜が積層されてなる磁芯がその積
層方向に少くとも一ヶ所の空隙部を挟んで突き合わされ
てなる磁気ヘッドであって、前記金属磁性薄膜の膜間に
軟磁性フェライト薄膜を積層したことを特徴とする磁気
ヘッド。 ２、軟磁性フェライト薄膜がＭｎ−Ｚｎフェライトある
いはＮｉ−Ｚｎフェライトであることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド。 ３、軟磁性フェライト薄膜の少くとも片側の面が、この
軟磁性フェライト薄膜の電気比抵抗より高化抵抗になる
ように処理されていることを特徴とする特許請求の範囲
第２項記載の磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4783786A JPS62205507A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4783786A JPS62205507A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62205507A true JPS62205507A (ja) | 1987-09-10 |
Family
ID=12786477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4783786A Pending JPS62205507A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62205507A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2640070A1 (fr) * | 1988-12-06 | 1990-06-08 | Thomson Csf | Tete magnetique planaire d'enregistrement ´ lecture et procede de realisation |
| EP0462385A2 (en) * | 1990-06-21 | 1991-12-27 | International Business Machines Corporation | Thin film magnetic head |
| US6424490B1 (en) * | 1999-11-12 | 2002-07-23 | Sony Corporation | Magnetic head |
-
1986
- 1986-03-05 JP JP4783786A patent/JPS62205507A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2640070A1 (fr) * | 1988-12-06 | 1990-06-08 | Thomson Csf | Tete magnetique planaire d'enregistrement ´ lecture et procede de realisation |
| EP0462385A2 (en) * | 1990-06-21 | 1991-12-27 | International Business Machines Corporation | Thin film magnetic head |
| JPH04252411A (ja) * | 1990-06-21 | 1992-09-08 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 薄膜磁気ヘッド |
| US6424490B1 (en) * | 1999-11-12 | 2002-07-23 | Sony Corporation | Magnetic head |
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