JPS62196367A - 真空処理槽のクリ−ニング装置 - Google Patents
真空処理槽のクリ−ニング装置Info
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- JPS62196367A JPS62196367A JP3819686A JP3819686A JPS62196367A JP S62196367 A JPS62196367 A JP S62196367A JP 3819686 A JP3819686 A JP 3819686A JP 3819686 A JP3819686 A JP 3819686A JP S62196367 A JPS62196367 A JP S62196367A
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- JP
- Japan
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- gas
- blower
- air
- vacuum
- processing tank
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- Pending
Links
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- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 title claims abstract 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 16
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- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 23
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- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 1
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は主として真空蒸着、スパッタリングその他の真
空処理装置における真空処理槽内がらダスト粒子を除去
して該室内を清浄化するクリーニング装置に関する。
空処理装置における真空処理槽内がらダスト粒子を除去
して該室内を清浄化するクリーニング装置に関する。
(従来の技術)
従来この種処理槽内のクリーニング手段としては、該処
理槽内に連なる真空ポンプその他の真空排気系を間歇的
に作動させて、排気とベントとのくり返しから成る所謂
サイクル排気を数回乃至数10回行なわせる式のものが
知られる。
理槽内に連なる真空ポンプその他の真空排気系を間歇的
に作動させて、排気とベントとのくり返しから成る所謂
サイクル排気を数回乃至数10回行なわせる式のものが
知られる。
(発明が解決しようとする問題点)
然し乍ら、か)るサイクル排気によるクリーニングでは
、該槽内に多少ともダスト粒子が残存し、かくて引続く
真空処理作動に備えて該槽内を排気する場合、更にはそ
の作動後にベントする場合、該槽内の該ダスト粒子が舞
い上って該槽内のウェハ等を汚染しないように、該1ノ
ド気と該ベントとを比較的緩徐に行なわせるを要し、こ
れを換言すればスロー1Jl気と、スローベントとを必
要とし、かくてその作業が比較的艮時間となり作業能事
を損い勝ちである不都合を伴う。
、該槽内に多少ともダスト粒子が残存し、かくて引続く
真空処理作動に備えて該槽内を排気する場合、更にはそ
の作動後にベントする場合、該槽内の該ダスト粒子が舞
い上って該槽内のウェハ等を汚染しないように、該1ノ
ド気と該ベントとを比較的緩徐に行なわせるを要し、こ
れを換言すればスロー1Jl気と、スローベントとを必
要とし、かくてその作業が比較的艮時間となり作業能事
を損い勝ちである不都合を伴う。
(問題点を解決づるための手段)
本発明ばか箋る不都合のない装置、即ちスロー ’i)
’r気及びスローベントを不及とする装置を1すること
をその目的としたもので、真空ポンプその他の真空排気
系に連なる真空処理槽に、ブロアとフィルタとを有する
一側の給気通路と、その他側の排気通路とを接続させ、
該ブロアの作動によれば、空気その他の気体が、該給気
通路から該処理槽内を介して該排気通路に導かれて、該
7内のダスト粒子がこれに伴われるようにして成る。
’r気及びスローベントを不及とする装置を1すること
をその目的としたもので、真空ポンプその他の真空排気
系に連なる真空処理槽に、ブロアとフィルタとを有する
一側の給気通路と、その他側の排気通路とを接続させ、
該ブロアの作動によれば、空気その他の気体が、該給気
通路から該処理槽内を介して該排気通路に導かれて、該
7内のダスト粒子がこれに伴われるようにして成る。
(実施例)
木ざt明の実施例を別紙図面に付説明する。
第1図はその1例を示すもので、(1)は真空蒸着その
他の真空処理装置を構成すべき真空処理槽を示し、該処
理!eJ(1)はこれに連なる真空ポンプその他の真空
排気系(2)と、開閉自在のリークバルブ(3)とを備
えると共に図示しないが適宜の手段により処理すべきウ
ェハその他のワークを出入自在に収容するしので、この
点は従来のものと特に異ならない。
他の真空処理装置を構成すべき真空処理槽を示し、該処
理!eJ(1)はこれに連なる真空ポンプその他の真空
排気系(2)と、開閉自在のリークバルブ(3)とを備
えると共に図示しないが適宜の手段により処理すべきウ
ェハその他のワークを出入自在に収容するしので、この
点は従来のものと特に異ならない。
本発明によれば、該処理槽(1)に、フィルタ(4)と
、ブロア(5)とをイ1する一側の給気通路(6)と、
その他側の排気通路(7)とを接続させ、かくて、該ブ
]コア(5)の作動によれば、空気その曲の気体が、該
給気通路(6)から、該処理W1ci>内を介して該排
気通路(7)に導かれてこれに該W!(1)内のダスト
粒子が伴われるようにした。更に詳細には、該フィルタ
(4〉は高性能或は超高性能のフィルタから成り、これ
を該ブロア(5)の下流側に設けると共に、必要に応じ
その上流側にら略同様の高性能のフィルタ(8)を備え
るようにし、更に各通路(第3) (7)にはこれを開
閉する各バルブ(9) (IGが介入されるようにした
。
、ブロア(5)とをイ1する一側の給気通路(6)と、
その他側の排気通路(7)とを接続させ、かくて、該ブ
]コア(5)の作動によれば、空気その曲の気体が、該
給気通路(6)から、該処理W1ci>内を介して該排
気通路(7)に導かれてこれに該W!(1)内のダスト
粒子が伴われるようにした。更に詳細には、該フィルタ
(4〉は高性能或は超高性能のフィルタから成り、これ
を該ブロア(5)の下流側に設けると共に、必要に応じ
その上流側にら略同様の高性能のフィルタ(8)を備え
るようにし、更に各通路(第3) (7)にはこれを開
閉する各バルブ(9) (IGが介入されるようにした
。
かくて、各バルブ(9) l’IOを聞いた状態から、
該ブロア(5)を作動させれば、外部の空気は該ブロア
(5)により該フィルタ(4)を介して、即ち該給気通
路(6)を介して該処理槽(1)内に比較的高速で導か
れて、該槽(1)内の壁面等に付着づるダスト粒子に舞
い上りを生じ、次いで該粒子を伴いつ)該lJF気通路
(7)から外部に排出されるもので、これを要約すれば
該槽(1)内には所謂エアブ]コ一式のクリーニングが
与えられて、次の作動に備えられる。
該ブロア(5)を作動させれば、外部の空気は該ブロア
(5)により該フィルタ(4)を介して、即ち該給気通
路(6)を介して該処理槽(1)内に比較的高速で導か
れて、該槽(1)内の壁面等に付着づるダスト粒子に舞
い上りを生じ、次いで該粒子を伴いつ)該lJF気通路
(7)から外部に排出されるもので、これを要約すれば
該槽(1)内には所謂エアブ]コ一式のクリーニングが
与えられて、次の作動に備えられる。
この場合、該気体としては空気に代えて例えばドライN
2ガス等の不活性ガスを使用することが考えられるが、
例えばN2ガスの場合、比較的高価でありこれをそのま
)排出することは不経流であり、かくて例えば第2図示
のように構成する。即ち、この場合、該排気通路(7)
のF流喘を該粘気通路(6)の上流端に接続して全体と
して循環路に構成させるようにし、更にこれに該ガスの
供給源(11)を開閉自在のバルブ0を介して接続しC
該循環路に該ガスの所定量が与え得られるようにした。
2ガス等の不活性ガスを使用することが考えられるが、
例えばN2ガスの場合、比較的高価でありこれをそのま
)排出することは不経流であり、かくて例えば第2図示
のように構成する。即ち、この場合、該排気通路(7)
のF流喘を該粘気通路(6)の上流端に接続して全体と
して循環路に構成させるようにし、更にこれに該ガスの
供給源(11)を開閉自在のバルブ0を介して接続しC
該循環路に該ガスの所定量が与え得られるようにした。
図面でl′leは圧カム!を示す。
その作動は、該ガスが循環して使用される点を除いて先
のものと特に異ならない。
のものと特に異ならない。
(作 用)
次いでその作用を説明するに、前記の通りであり、即ら
該ブロア(5)の作動によれば、空気その他の気体が該
吸気路(6)から該処理槽(1)内に導かれて、該WI
(1)内に存するダスト粒子に舞い−Fりを生じ、次い
で該粒子を伴いつ1該排気通路(7)に導かれるもので
、かくて該槽(1)内は所謂エアブ[1一式のクリーニ
ング作用が与えられて、次の作動に備えられる。
該ブロア(5)の作動によれば、空気その他の気体が該
吸気路(6)から該処理槽(1)内に導かれて、該WI
(1)内に存するダスト粒子に舞い−Fりを生じ、次い
で該粒子を伴いつ1該排気通路(7)に導かれるもので
、かくて該槽(1)内は所謂エアブ[1一式のクリーニ
ング作用が与えられて、次の作動に備えられる。
尚、発明者はそのクリーニング効果を確認するため、次
の実験を行なった。
の実験を行なった。
(実験例1)
真空処理槽(1)内にウェハを収容し、通常ではダスト
粒子の舞い上りを生ずる速度で排気とベントを繰り返す
ナイクル排気を50回行なったところ、該ウェハ上には
直径0.5ミクロン以上のダスト粒子が30個/ci付
着した状態にlrFられた。
粒子の舞い上りを生ずる速度で排気とベントを繰り返す
ナイクル排気を50回行なったところ、該ウェハ上には
直径0.5ミクロン以上のダスト粒子が30個/ci付
着した状態にlrFられた。
(実験例2)
該真空処理槽(1)内にウェハを入れない状態で該ブロ
ア(5)を作動させて本発明による所謂ブロ一式のクリ
ーニングを施した後、次いで該槽(1)内にウェハを収
容しIWf記実施例1と同様にサイクル排気を50回行
なったところ、該ウェハ上に付着する直径0.5ミクロ
ン以上のダスト粒子は2個/ ciであった。
ア(5)を作動させて本発明による所謂ブロ一式のクリ
ーニングを施した後、次いで該槽(1)内にウェハを収
容しIWf記実施例1と同様にサイクル排気を50回行
なったところ、該ウェハ上に付着する直径0.5ミクロ
ン以上のダスト粒子は2個/ ciであった。
以上により本発明装置によるクリーニングの効果が確認
された。
された。
、(光用の効果)
このように本発明によるとぎは、真空処し!I!槽に一
側の給気通路と、他側の排気通路とを備えて、空気その
他の気体を該給気通路から該処理槽内に、次いで該排気
通路とに強制的に導かせて、これに該槽内のダスト粒子
を伴わせるもので、所謂エアブロ一式のクリーニングを
簡単に行なわせることが出来、かくて真空蒸着その他に
備える引続く排気或は平復のベントを比較的高速となし
得て作業能率を向上することが出来その構成は簡単で廉
価に得られると共に操作は簡単且容易である等の効果を
有する。
側の給気通路と、他側の排気通路とを備えて、空気その
他の気体を該給気通路から該処理槽内に、次いで該排気
通路とに強制的に導かせて、これに該槽内のダスト粒子
を伴わせるもので、所謂エアブロ一式のクリーニングを
簡単に行なわせることが出来、かくて真空蒸着その他に
備える引続く排気或は平復のベントを比較的高速となし
得て作業能率を向上することが出来その構成は簡単で廉
価に得られると共に操作は簡単且容易である等の効果を
有する。
第1図は本発明装置の1例の説明線図、第2図はその変
形例の説明線図である。 (1)・・・真空処理槽 (2)・・・真空排気系 (4)・・・フィルタ (5)・・・ブロア (6)・・・給気通路 (7)・・・排気通路 外2名
形例の説明線図である。 (1)・・・真空処理槽 (2)・・・真空排気系 (4)・・・フィルタ (5)・・・ブロア (6)・・・給気通路 (7)・・・排気通路 外2名
Claims (2)
- 1. 真空ポンプその他の真空排気系に連なる真空処理
槽に、ブロアとフィルタとを有する一側の給気通路と、
その他側の排気通路とを接続させ、該ブロアの作動によ
れば、空気その他の気体が、該給気通路から該処理槽内
を介して該排気通路に導かれて、該室内のダスト粒子が
これに伴われるようにして成る真空処理槽のクリーニン
グ装置。 - 2. 該排気通路の下流端を、該給気通路の上流端に接
続して両通路と該処理槽内とで該気体の循環路を形成さ
せると共に、これに該気体を構成するN_2ガスその他
の不活性ガスの供給源を接続して成る特許請求の範囲第
1項所載の真空処理槽のクリーニング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3819686A JPS62196367A (ja) | 1986-02-25 | 1986-02-25 | 真空処理槽のクリ−ニング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3819686A JPS62196367A (ja) | 1986-02-25 | 1986-02-25 | 真空処理槽のクリ−ニング装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62196367A true JPS62196367A (ja) | 1987-08-29 |
Family
ID=12518599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3819686A Pending JPS62196367A (ja) | 1986-02-25 | 1986-02-25 | 真空処理槽のクリ−ニング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62196367A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008121040A (ja) * | 2006-11-09 | 2008-05-29 | Shimadzu Corp | 真空成膜装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5754269A (en) * | 1980-09-17 | 1982-03-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Apparatus for forming film in vacuum |
JPS6055611A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-03-30 | Ulvac Corp | 真空室内クリ−ニング装置 |
-
1986
- 1986-02-25 JP JP3819686A patent/JPS62196367A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5754269A (en) * | 1980-09-17 | 1982-03-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Apparatus for forming film in vacuum |
JPS6055611A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-03-30 | Ulvac Corp | 真空室内クリ−ニング装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008121040A (ja) * | 2006-11-09 | 2008-05-29 | Shimadzu Corp | 真空成膜装置 |
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