JPS62195833A - 陰極線管 - Google Patents

陰極線管

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Publication number
JPS62195833A
JPS62195833A JP3737886A JP3737886A JPS62195833A JP S62195833 A JPS62195833 A JP S62195833A JP 3737886 A JP3737886 A JP 3737886A JP 3737886 A JP3737886 A JP 3737886A JP S62195833 A JPS62195833 A JP S62195833A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
grid
electric field
ceramic layer
ray tube
electron gun
Prior art date
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Pending
Application number
JP3737886A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeo Takenaka
滋男 竹中
Takeo Ito
武夫 伊藤
Shuzo Matsuda
秀三 松田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPS62195833A publication Critical patent/JPS62195833A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は耐電圧特性の優れた電子銃分備えた陰極線管に
関するものである。
〔発明の技術的背景〕
カラー受像管などの陰極線管の電子銃は陰極、制御電極
及び加速電極からなる低電圧部と、高電圧が印加される
最終加速電極により構成されるがこれらの電極りに突起
が存在していたり汚染微粒子が付着しているとその部分
で電界放出をおこし、不要な電子が放射される。これら
の電子は、蛍光面一にに到達し不要発光によるコントラ
ス1〜の低下をまねく場合があるだけではなく電極間y
はネック内壁、電極間のスパークを引き起こす原因とな
これらの現象は製造]−程のクリーニング化を徹底し電
子銃部品などの高品質化を図れば、ある程度までは防止
することができるが、実際l・皆無とすることは難しく
 +1つ経費的にも実用的でない。
このため、陰極線管の製造]−程では、耐電圧処理をす
ることにより電界放出の要因となるVM、極表面1−の
突起及び汚染微粒子の除去を行なっている。
しかし、耐電圧処理では低電圧部の電極間の処理を十分
に行なうことができない。又耐電圧処理後の]−程にお
いて汚染微粒子が再び付着してしまうこともあり、最終
的に耐電圧特性の良好な陰極線管を得るのは困雛である
〔発明の目的〕
本発明の目的は前記耐電圧処理を施すことにより汚染微
粒子が付着しても電界放電しにくく、さらに仮に電界放
電が生じても被覆層の抵抗により、電界放出電流を低減
させることが可能な電子銃を備えた陰極線管髪提供する
ことにある。
〔発明の概要〕 本発明は卜述した点に鑑み少なくとも陰極及び複数個の
電極をもつ電子銃を備λた陰極線管において、複数の電
極のうち少なくとも1個以上の電極の表面の一部あるい
は全部分に被覆層差形成することにより、電界集中を生
じに< < 1. +tつ財界放出電流髪低減するもの
である。
〔発明の実施例1 以下図面を参照しつつ本発明髪特開昭511−7266
7号・公報に示される陰極線管用電子銃に適;11シた
実施例について勝1明する。第1図は本発明の第1の実
施例を示す、陰極線管用電子銃の概略断面図である。第
1図において電子銃(1)はヒータ■で加熱されること
によって蛍光体層什射突する電子ビームを発生する陰極
C,3)と、この陰極(賜に対向し順次配置された第1
グリツド0)、第2グリツド0、第:3グリツド0、第
4グリツド■、第5グリツド(8)及びコンバーゼンス
電極O)の電極で構成される。
ここで前記第2グリツド0及び第5グリツド(8)の電
極表面には5i(1,を主成分とするセラミック層(+
 (+ )が形成されている。
記第2グリッド0及び第5グリツド(8)をき浸し。
  j − 乾燥後700℃で焼成することによって得られる。
この時のセラミック層の厚さは約0.1μmであった通
常、各電極には、第1グリツド0)でOV第2グリッド
0及び第4グリツド■に600v〜700V、第3グリ
ツド(へ)及び第5グリツド(8)に7000V〜80
00V、コンバーゼンス電極0)で25KV程度の電圧
が印加されるが、特に問題となるのは、第2グリツド0
、第3グリッド0間と、第5グリツドC0、コンバーゼ
ンス電極(9)間の電位差が大きいことによる第2グリ
ツド0及び第5グリツド(8)からの電界放出である。
ここで第2グリツド0に0■、コンバーゼンス電極に3
0にV電圧を印加し、第3グリツド0に徐々に電圧を印
加していくと、第3グリツド0に印加した電圧がある値
を越えた場合に第2グリツド0から重塁放出により電子
が放射され蛍光面に衝突し不要発光を発生する。この不
要発光を防止するためのセラミック層は電子銃部品の表
面」二の突起及び汚染及び汚染微粒子をセラミック層内
部に埋没させてしまうか又は、突起及び汚染微粒子の鋭
利な尖端部をセラミック層により鈍化させて=4− しまうことによって電界集中を生じに<<シ、電界放出
機会を低減させている。さらに金属よりも大幅に導電性
の小さいセラミック層を電子銃電極表面上に形成すると
、セラミック層中の伝導電子の量が金属に比べ大幅に小
さく電界放出表面への電荷移動速度の限界に達しやすく
なるために電界放出電流を小さくすることが可能となる
ここで不要発光発生電圧を本実施例による陰極線管の電
子銃と通常品で比較すると通常品の第3グリッド不要発
光発生電圧がl0KV〜IIKVであったのに比べ本発
明品では同じ<15にV−17KVであり数KVの耐電
圧特性の改善が認められた。又第5グリツド(8)にO
■の電圧を印加し、コンバーゼンス電極0)に徐々に電
圧を印加したときに第5グリツド(ハ)からの電界放出
による不要発光発生電圧を比較した場合、通常品の第5
グリッド不要発光発生電圧が30KV〜33KVであっ
たのに比べ本発明品では同じ<35に■〜40KVであ
り数KVの耐電圧特性の改善が詔められた。さらに耐電
圧処理工程における放電回数は通常品の約2/3に減少
した。
尚、この実施例に適用したセラミック層の厚さは実験に
よれば(1、Ol )zm〜201−+mの範囲で好ま
しくは[+、(’+57+m −1071111の範囲
が有効であり、0 、 (l ] 7Jm以Fでは放電
制御効果が顕著ではなくゾ1.2071111を越える
と電界に異常をきたしフォーカス特性佇劣化させる。
次に第2の実施例を説明する。
in記第1の実施例のシリコンを主成分とするアルキシ
ド液に代えて、SiO□の有機金属化合物液を用いて、
第2グリツド0及び第5クリツトσ3)を含浸し、50
 (1”Cの焼成によってセラミック層(厚さ約1pm
)を形成し前記不要発光発生電圧を比較したところ前記
実施例と同様の効果を得た。さら[こエミッションライ
フの向]−がR忍ぬられた。
前記両実施例は、5i02をベースとしたアルコキシド
又は有機金属化合物液を用いたが、SHE、以外に他の
金属酸化物、例えばA Q 2(1,、Tin7. Z
r(lz rTa、0. 、Fe2(1,、NiO,Z
r(1,CoO,5n02.Tn2D、 、C(103
,MgO。
Y20J、naO,RaT−i03.Bal、a、04
.Sinなど登用いてもよく又、これらの2種以上の混
合物を用いても本発明の効果は、認められる。
又塗布の方法は、浸漬、スプレー、スクリーン印刷、は
け塗り等いずれも用いることかできる。
1−記以外、いねり〕るスパッタリングd(や、Cν1
〕法によって得られるセラミック層であっても本発明の
効果が得られるのはトiうまでもない。
〔発明の効果〕
本発明によれは、陰極V&管の電子銃電極表面の突起及
び汚染微粒子を被覆層内部に埋没させてしまうか又は鈍
化させてしまうことによって電界集中を生じに<<シ、
電界放電を低減することができ、耐電圧処理の対象物と
なる突起及び汚染微粒子の絶対数も減少させることが可
能となり耐電圧処理m工程も容易となる。又金属よjl
も大幅に導電性の小さい被覆層を陰極線管の電子銃1f
t極の表面に形成すると被覆層の抵抗により被覆層中の
伝導電子の敏が導電体である金属に比べ大幅に小さく電
界放出表面への電荷移動速度の限界に到達しやすくなる
たるに電界放出電流が小さくなる。
又、エミッションライフの向−1−も認められる。
4.1ソ1面の簡貼な説明 第1図は本発明の一実施例を示す陰極線管の電子銃の概
略断面図である。
(1)・・・電子銃      0・・・陰極(ハ)・
・・第2グリツF    (8)・第5グリツド(10
)・・・セラミック層 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同  大胡典夫 〆D 第1図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)少なくとも陰極及び複数個の電極を有する電子銃を
    備えた陰極線管において、前記複数の電極のうち少なく
    とも1個以上の電極の表面の少なくとも一部に電界放電
    を抑制する被覆層を設けることを特徴とする陰極線管。 2)前記被覆層をセラミック層とすることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の陰極線管。 3)前記セラミック層が、少なくとも1種類の金属から
    なる金属アルコキシドから得られるセラミック層である
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項及び第2項記載
    の陰極線管。 4)前記セラミック層が少なくとも1種類の金属からな
    る有機金属化合物から得られるセラミック層であること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第3項記載の陰
    極線管。 5)前記セラミック層の厚さを0.01μm以上20μ
    m以下とすることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃
    至第4項記載の陰極線管。
JP3737886A 1986-02-24 1986-02-24 陰極線管 Pending JPS62195833A (ja)

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5345963A (en) * 1976-10-06 1978-04-25 Mitsubishi Electric Corp Cathode-ray tube
JPS59213660A (ja) * 1983-05-13 1984-12-03 鐘淵化学工業株式会社 多孔性セラミツクス薄膜およびその製造法
JPS60239353A (ja) * 1984-05-14 1985-11-28 日立化成工業株式会社 セラミツク焼結体の製造法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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