JPS62191447A - 撥水処理方法 - Google Patents
撥水処理方法Info
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- JPS62191447A JPS62191447A JP3418386A JP3418386A JPS62191447A JP S62191447 A JPS62191447 A JP S62191447A JP 3418386 A JP3418386 A JP 3418386A JP 3418386 A JP3418386 A JP 3418386A JP S62191447 A JPS62191447 A JP S62191447A
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 25
- 239000005871 repellent Substances 0.000 title claims description 17
- 230000002940 repellent Effects 0.000 title claims description 9
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 16
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000007788 roughening Methods 0.000 claims abstract description 4
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 11
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 7
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
Landscapes
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は、自動車用バックミラー、ヘッドランプレンズ
、交通信号灯用レンズ、各種窓ガラス、眼鏡レンズ等の
表面の撥水性を高めるのに好適な撥水処理方法に関する
ものである。
、交通信号灯用レンズ、各種窓ガラス、眼鏡レンズ等の
表面の撥水性を高めるのに好適な撥水処理方法に関する
ものである。
(従来技術)
従来は、基材の表面に撥水性樹脂(シリコン樹脂、フッ
素樹脂等)を塗布して表面に樹月旨の塗膜を形成して撥
水性を持たせている。塗布方法としては、スプレー法、
浸漬法、ブレード法などを用いる。
素樹脂等)を塗布して表面に樹月旨の塗膜を形成して撥
水性を持たせている。塗布方法としては、スプレー法、
浸漬法、ブレード法などを用いる。
しかし、このように撥水性樹脂を単に塗布しただけでは
、撥水性の度合いが低かったり(接触角90〜100°
)、耐熱性・耐薬品性に劣る。また、塗膜の耐摩耗性が
低いばかりでな(、経時変化カー大きく特性の低下が著
しいため、短寿命であると(・つた欠点がある。
、撥水性の度合いが低かったり(接触角90〜100°
)、耐熱性・耐薬品性に劣る。また、塗膜の耐摩耗性が
低いばかりでな(、経時変化カー大きく特性の低下が著
しいため、短寿命であると(・つた欠点がある。
(発明の目的)
本発明の目的は、すぐれた撥水性を容易に得ることがで
きる撥水処理方法を提供することにある。
きる撥水処理方法を提供することにある。
(発明の概要)
本発明は、基材表面にプラズマ重合膜を形成しり後、そ
の表面をエツチングにより粗面化し、更にプラズマ重合
膜を形成することを特徴とするものである。
の表面をエツチングにより粗面化し、更にプラズマ重合
膜を形成することを特徴とするものである。
(実施態様)
次に、本発明方法の実施の態様について説明する。まず
、第1図に示すように基材lの表面にプラズマ重合膜2
を形成し、次いでこの重合膜20表面をエツチングによ
り粗面化する。この後、再度プラズマ重合膜3を形成す
る。重合膜2の膜厚は0.1〜2.0 /jmとし、重
合膜3の膜厚は0.1〜0.5μm とする。
、第1図に示すように基材lの表面にプラズマ重合膜2
を形成し、次いでこの重合膜20表面をエツチングによ
り粗面化する。この後、再度プラズマ重合膜3を形成す
る。重合膜2の膜厚は0.1〜2.0 /jmとし、重
合膜3の膜厚は0.1〜0.5μm とする。
上記処理には第2図に示すような容量結合型高周波プラ
ズマ(低温プラズマ)発生装置(周波数13.56 M
H2)を用い、基材1はそのカソード電極11上にセッ
トする。カソード電極11とアノード電極12は容器1
3内に配置され、高周波電源14に接続される。容器1
3にはガス導入口15と排気口16があり、ガス導入口
15から、まずシリコン系またはフッ素系のモノマーガ
スを導入する。この状態で電極11 、12間に高周波
電圧を印加してプラズマを発生させると、基材1の表面
にプラズマ重合膜2が形成される。この膜厚は0.1〜
2.0μmで十分である。
ズマ(低温プラズマ)発生装置(周波数13.56 M
H2)を用い、基材1はそのカソード電極11上にセッ
トする。カソード電極11とアノード電極12は容器1
3内に配置され、高周波電源14に接続される。容器1
3にはガス導入口15と排気口16があり、ガス導入口
15から、まずシリコン系またはフッ素系のモノマーガ
スを導入する。この状態で電極11 、12間に高周波
電圧を印加してプラズマを発生させると、基材1の表面
にプラズマ重合膜2が形成される。この膜厚は0.1〜
2.0μmで十分である。
重合膜2の形成後、モノマーガスを止め、エツチング用
ガスに切換える。エツチングガスとしては、CH4、A
r、02またはこれらの混合ガスを用いる。このエツチ
ングは表面の粗面化が目的である。
ガスに切換える。エツチングガスとしては、CH4、A
r、02またはこれらの混合ガスを用いる。このエツチ
ングは表面の粗面化が目的である。
エツチングにより粗面化した後、エツチングガスを止め
、再びモノマーガスを導入する。そして、プラズマ重合
膜2の形成と同じ方法により0.1〜0.5μmの重合
膜3を形成する。 ・実施例を以下に示す。
、再びモノマーガスを導入する。そして、プラズマ重合
膜2の形成と同じ方法により0.1〜0.5μmの重合
膜3を形成する。 ・実施例を以下に示す。
(a)、アクリル及びガラス基板上に次の条件によりプ
ラズマ重合膜を1.0μm形成した。
ラズマ重合膜を1.0μm形成した。
(b)6次にCF4+Ar混合ガスをエツチングガスと
して10分間エツチングを行い、重合膜表面な粗面化し
た。
して10分間エツチングを行い、重合膜表面な粗面化し
た。
(C)、続いて前記(A)と同じ条件でプラズマ重合膜
を0.2μm形成した。
を0.2μm形成した。
(d)、この試料の水による接触角(第3図のθ)を測
定したところ、θ=130°であり、十分な撥水性を示
した。この撥水性は極めて安定であり、大気中に1ケ月
間放置した後でも、θ〉120°であった。また、この
重合膜をスチールウール11 Q Q Q l/で強く
擦っても全く傷が付かず、十分な耐摩耗性を有していた
。
定したところ、θ=130°であり、十分な撥水性を示
した。この撥水性は極めて安定であり、大気中に1ケ月
間放置した後でも、θ〉120°であった。また、この
重合膜をスチールウール11 Q Q Q l/で強く
擦っても全く傷が付かず、十分な耐摩耗性を有していた
。
(発明の効果)
本発明は次のような効果を有する。
(1)、基材表面を極めてすぐれた撥水性にすることが
できる。通常の材料で最も高い撥水性を示すテフロン材
でも接触角は約100°であるが、プラズマ重合膜は適
切なモノマーがス(シリコン系またはフッ素系)を選び
、適度な条件により形成すれば100〜110°の接触
角を容易に実現できる。表面を粗面化することで撥水性
が高まるが、エツチングにより表面物性が変化するため
、よりすぐれた撥水性とするには、更に重合膜を設ける
必要がある。
できる。通常の材料で最も高い撥水性を示すテフロン材
でも接触角は約100°であるが、プラズマ重合膜は適
切なモノマーがス(シリコン系またはフッ素系)を選び
、適度な条件により形成すれば100〜110°の接触
角を容易に実現できる。表面を粗面化することで撥水性
が高まるが、エツチングにより表面物性が変化するため
、よりすぐれた撥水性とするには、更に重合膜を設ける
必要がある。
(2)、撥水処理は低温での処理であり、いかなる材料
にも施すことが可能であり、効果も犬である。
にも施すことが可能であり、効果も犬である。
例えば、バックミラーを撥水処理すれば、視界が常に確
保でき、安全性が向上する。ヘッドランプレンズや交通
信号灯のレンズに適用すれば、水滴付着による光のロス
を防ぐことができる。
保でき、安全性が向上する。ヘッドランプレンズや交通
信号灯のレンズに適用すれば、水滴付着による光のロス
を防ぐことができる。
(3)、この撥水性表面は、摩擦係数が非常に小さいた
め、汚れた水滴が付着しにくく、しかもごみも付きにく
い。従って、高層ビルの窓ガラスに適用すれば、優れた
効果を発揮する。
め、汚れた水滴が付着しにくく、しかもごみも付きにく
い。従って、高層ビルの窓ガラスに適用すれば、優れた
効果を発揮する。
(4)、撥水処理を施した表面は、一度重合膜を形成し
た後、エツチングにより粗面化し、その上に再度重合膜
を形成した二重の重合膜としたことにより、安定性が向
上し半永久的な特性となる。
た後、エツチングにより粗面化し、その上に再度重合膜
を形成した二重の重合膜としたことにより、安定性が向
上し半永久的な特性となる。
(5)、この撥水性表面は、耐摩耗性に優れている。
これは、プラズマ重合を行う場合、基材をカソード電極
上にセットしたため、重合と同時にス/?ツタリングが
生じ、弱い結合分子は取り除かれ、強い結合のみにより
膜が形成されるからである。
上にセットしたため、重合と同時にス/?ツタリングが
生じ、弱い結合分子は取り除かれ、強い結合のみにより
膜が形成されるからである。
(6)、この撥水性表面は、耐熱性、耐薬品性に優れて
いる。これは、プラズマ重合膜が三次元クロスリンク構
造から成り立っているためと考えられる。
いる。これは、プラズマ重合膜が三次元クロスリンク構
造から成り立っているためと考えられる。
第1図は本発明に係る撥水処理方法の一実施例を示す処
理工程説明図、第2図は撥水処理に用いる装置の構成図
、第3図は撥水性の度合い(水による接触角)を示す図
である。 1・・・・・・基材、 2及び3・・・・・・プラズマ重合膜、11・・・・・
・容量結合型高周波プラズマ発生装置のカソード電極、 12・・・・・・アノード電極、 13・・・・・・容
器、14・・・・・・高周波電源、 15・・・・・
・ガス導入口、16・・・・・・排気口。 特許出願人 スタンレー電気株式会社、−、)−Q 第1図 第3図
理工程説明図、第2図は撥水処理に用いる装置の構成図
、第3図は撥水性の度合い(水による接触角)を示す図
である。 1・・・・・・基材、 2及び3・・・・・・プラズマ重合膜、11・・・・・
・容量結合型高周波プラズマ発生装置のカソード電極、 12・・・・・・アノード電極、 13・・・・・・容
器、14・・・・・・高周波電源、 15・・・・・
・ガス導入口、16・・・・・・排気口。 特許出願人 スタンレー電気株式会社、−、)−Q 第1図 第3図
Claims (3)
- (1)、基材表面にプラズマ重合膜を形成した後、その
表面をエッチングにより粗面化し、更にプラズマ重合膜
を形成することを特徴とする撥水処理方法。 - (2)、プラズマ重合膜としてシリコン系またはフッ素
系重合膜を用いる特許請求の範囲第1項記載の撥水処理
方法。 - (3)、エッチング時にCF_4、Ar、O_2または
これらの混合ガスを用いる特許請求の範囲第1項または
第2項記載の撥水処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3418386A JPS62191447A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 撥水処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3418386A JPS62191447A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 撥水処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62191447A true JPS62191447A (ja) | 1987-08-21 |
JPH0415179B2 JPH0415179B2 (ja) | 1992-03-17 |
Family
ID=12407081
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3418386A Granted JPS62191447A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 撥水処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62191447A (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1986
- 1986-02-19 JP JP3418386A patent/JPS62191447A/ja active Granted
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0415179B2 (ja) | 1992-03-17 |
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