JPS62188940A - 反射率測定方法及び装置 - Google Patents
反射率測定方法及び装置Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 35
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 title 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 160
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 7
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 69
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 8
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 235000003140 Panax quinquefolius Nutrition 0.000 description 1
- 240000005373 Panax quinquefolius Species 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 239000012491 analyte Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
- 239000011087 paperboard Substances 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 235000021018 plums Nutrition 0.000 description 1
- 239000013074 reference sample Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- -1 valve Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N21/4738—Diffuse reflection, e.g. also for testing fluids, fibrous materials
- G01N21/474—Details of optical heads therefor, e.g. using optical fibres
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
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- G01J1/10—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void
- G01J1/20—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle
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- G01J1/24—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle using a variable element in the light-path, e.g. filter, polarising means using electric radiation detectors
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- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、反射率測定方法及び装置に関する。
特に本発明は2つのチャネルを有する反射率計を用い拡
散照射された被測定サンプルの反射特性を求めることが
できる反射率測定方法及び装置に関する。
散照射された被測定サンプルの反射特性を求めることが
できる反射率測定方法及び装置に関する。
本発明は、具体的には、ISO規格(ISO:Intc
rr+ational 5tandard Organ
ization)により紙、バルブ、及び紙板(pap
er−board)等の紙製品の白色度を測定するため
の反射率測定方法及び装置に関する。
rr+ational 5tandard Organ
ization)により紙、バルブ、及び紙板(pap
er−board)等の紙製品の白色度を測定するため
の反射率測定方法及び装置に関する。
(従来技術の説明)
従来から上記反射率測定方法及び装置はエルレエフオ(
Elrepho) (電気式反射率光度計Electr
icRcrlectancc Photo −+eet
erの略称)と呼ばれている。
Elrepho) (電気式反射率光度計Electr
icRcrlectancc Photo −+eet
erの略称)と呼ばれている。
被測定サンプルの白色度、蛍光度、明るさ、透過性、不
透明度、清澄度及び他の反射率に関係する光学的特性を
測定する反射率測定方法が使用されている。
透明度、清澄度及び他の反射率に関係する光学的特性を
測定する反射率測定方法が使用されている。
近年紙の白色度は一般にZeiss (ツアイス)によ
り製造された2−ヂャンネル式の反射率測定装置を使用
することにより測定されている。上記装置は内側が白色
で2つのチャネル、即ち測定チャネルと基をチャネルと
、ダイヤフラム付きの顕微鏡と、上記両チャネルと列状
となった被測定サンプル用開口部と標準サンプル用開口
部とからなるのが特徴となっている。
り製造された2−ヂャンネル式の反射率測定装置を使用
することにより測定されている。上記装置は内側が白色
で2つのチャネル、即ち測定チャネルと基をチャネルと
、ダイヤフラム付きの顕微鏡と、上記両チャネルと列状
となった被測定サンプル用開口部と標準サンプル用開口
部とからなるのが特徴となっている。
」二記両チャネルの光強度はチャネルに位置する光度計
により検出され、チャネルに於ける光強度は光度計に接
続された検流計(galvanometer)を介して
観測される。上記装置は上記基準チャネルに既知の反射
率値をイfする標準のサンプルが配置されて較正され上
記基準チャネルの測定ダイヤフラJ1が標準サンプルの
既知の反射率値に対応するようにセットされる。その後
、測定チャネルのダイヤフラムが調整され光強度が上記
両チャネルで等しくなる状態、即し平衡状態にする。被
測定サンプルの反射率の値は上記測定チャネルに被測定
サンプルを配置し上記測定用ダイヤフラムを」二記両チ
ャネルが平衡状態になる位置に調整することにより求め
られる。上記被測定体の反射率値は」二足測定用ダイヤ
フラム上のl]盛(5cale)により読取り可能であ
る。上記被測定サンプルでの測定時、上記測定チャネル
のダイヤフラノ・は」二足装置の較正時に調整された位
置に保持されている。
により検出され、チャネルに於ける光強度は光度計に接
続された検流計(galvanometer)を介して
観測される。上記装置は上記基準チャネルに既知の反射
率値をイfする標準のサンプルが配置されて較正され上
記基準チャネルの測定ダイヤフラJ1が標準サンプルの
既知の反射率値に対応するようにセットされる。その後
、測定チャネルのダイヤフラムが調整され光強度が上記
両チャネルで等しくなる状態、即し平衡状態にする。被
測定サンプルの反射率の値は上記測定チャネルに被測定
サンプルを配置し上記測定用ダイヤフラムを」二記両チ
ャネルが平衡状態になる位置に調整することにより求め
られる。上記被測定体の反射率値は」二足測定用ダイヤ
フラム上のl]盛(5cale)により読取り可能であ
る。上記被測定サンプルでの測定時、上記測定チャネル
のダイヤフラノ・は」二足装置の較正時に調整された位
置に保持されている。
(従来技術の問題点)
しかしながら、上述の従来の反射率計による測定方法及
び装置は、測定精度を1−げる要求が増大するのにかか
わらず不満足なものであった。特に、上記測定チャネル
のダイヤフラムの調節(その結果両チャネルが平衡状態
にセットされ上記基準チャネルの測定用ダイヤフラムの
目盛が較正工程と関連して規定される)が不正確である
。換言すれば、−h記調節の精度は操作者及び操作各個
人の正確さに応じて変わることとなる。
び装置は、測定精度を1−げる要求が増大するのにかか
わらず不満足なものであった。特に、上記測定チャネル
のダイヤフラムの調節(その結果両チャネルが平衡状態
にセットされ上記基準チャネルの測定用ダイヤフラムの
目盛が較正工程と関連して規定される)が不正確である
。換言すれば、−h記調節の精度は操作者及び操作各個
人の正確さに応じて変わることとなる。
更に、上記測定チャネルのダイヤフラムの調節は殆ど測
定fηに新たに行わなければならない煩わしさがある。
定fηに新たに行わなければならない煩わしさがある。
」二足基準チャネルの測定用ダイヤフラムのスケール(
目盛)は」二足装置の製造時彫刻により作られた測定1
]盛に基づいている。」二足スケールは標準サンプルを
使用し較正作業時所望のレベルにセットされるのみであ
る。この結果、例えば」−記測定装置が経年変化により
、測定結果は別の同様の装置とでバラツキが生じ又この
バラツキが大きくなって行き、測定結果が信頼できない
ものとなる。
目盛)は」二足装置の製造時彫刻により作られた測定1
]盛に基づいている。」二足スケールは標準サンプルを
使用し較正作業時所望のレベルにセットされるのみであ
る。この結果、例えば」−記測定装置が経年変化により
、測定結果は別の同様の装置とでバラツキが生じ又この
バラツキが大きくなって行き、測定結果が信頼できない
ものとなる。
更に、」二足従来の測定装置及び方法は、上記被測定サ
ンプルの反射率の値が測定ダイヤフラムの位置に直線的
に依存している前提に基づいたものである。即ち、測定
ダイヤフラムの[1盛は直線となっている。しかしなが
ら、測定チャネルでの減光調節作業に伴って被測定サン
プルが異なれば反射率の値が直線状態で変化しないこと
が詳細な測定の結果判明した。その結果、上記測定方法
及び装置の構成上誤差を含む測定値が生じることは回避
できない。
ンプルの反射率の値が測定ダイヤフラムの位置に直線的
に依存している前提に基づいたものである。即ち、測定
ダイヤフラムの[1盛は直線となっている。しかしなが
ら、測定チャネルでの減光調節作業に伴って被測定サン
プルが異なれば反射率の値が直線状態で変化しないこと
が詳細な測定の結果判明した。その結果、上記測定方法
及び装置の構成上誤差を含む測定値が生じることは回避
できない。
このように現在使用されている反射率の測定方法及び装
置は非常に不満足なものであることが判明した。
置は非常に不満足なものであることが判明した。
従って、例えば紙の反射率測定を製造業者及び購買者の
両方で行った場合、相当に異なった結果となる。換言す
れば、上記測定方法及び装置は再現可能であり比較し得
る測定値は生じ得ない。実際には、反射率測定に於いて
再現可能で比較可能な結果が生じ得ないことにより購買
者と取扱い業者が反射率測定に関して特定の紙の束(バ
ッチ)が必要条件を満たすことを確認したとしても相当
の紙の東が製紙工場に戻す状況となる。
両方で行った場合、相当に異なった結果となる。換言す
れば、上記測定方法及び装置は再現可能であり比較し得
る測定値は生じ得ない。実際には、反射率測定に於いて
再現可能で比較可能な結果が生じ得ないことにより購買
者と取扱い業者が反射率測定に関して特定の紙の束(バ
ッチ)が必要条件を満たすことを確認したとしても相当
の紙の東が製紙工場に戻す状況となる。
本発明の第1の目的は上記従来の欠点を解消した上記反
射率測定方法及び装置を提供することである。
射率測定方法及び装置を提供することである。
本発明の第2の目的は、上記従来技術よりも更に正確で
、かつ再現可能であり比較し得る測定結果を生じる反射
率測定方法及び装置を提供することである。
、かつ再現可能であり比較し得る測定結果を生じる反射
率測定方法及び装置を提供することである。
本発明の第3の目的は、測定作業が従来のものより迅速
に又確実に行われその結果操作者個人の正確さが最終的
な測定結果に殆ど反映してこないような上記反射率測定
方法及び装置を提供することである。
に又確実に行われその結果操作者個人の正確さが最終的
な測定結果に殆ど反映してこないような上記反射率測定
方法及び装置を提供することである。
本発明の第4の目的は、現在使用されている上述のエル
レエフオ(Elrepho)測定器を主に利用すること
により実施できる新しい反射率測定方法を提供すること
である。
レエフオ(Elrepho)測定器を主に利用すること
により実施できる新しい反射率測定方法を提供すること
である。
上述の本発明の目的を総じて述べれば反射率の測定に適
用し従来の方法よりも更に正確であり、その測定結果は
更に良好な再現可能性と高い信頼性を有するものであり
、従来の方法より簡単で迅速に得られ動作中は従来の方
法よりも外部環境に対して影響を受けることがない新規
な反射率測定方法を提供することである。
用し従来の方法よりも更に正確であり、その測定結果は
更に良好な再現可能性と高い信頼性を有するものであり
、従来の方法より簡単で迅速に得られ動作中は従来の方
法よりも外部環境に対して影響を受けることがない新規
な反射率測定方法を提供することである。
(問題点を解決するための1段及び作用)」二足の目的
を達成するために、本発明に係る反射率測定方法は、(
a)各々ダイヤフラム部材を配設した測定チャネルと基
準チャネルとを備えた反射率計を設け、 (b)前記
測定チャネルと前記基準チャネルとに於ける光強度を検
出し、標準サンプルを前記基準チャネルに配置しかつ前
記測定チャネルのダイヤフラム部材を任意の位置に設定
した状態で前記基準チャネルの測定ダイヤフラムを介し
て前記測定チャネルと基準チャネル間の検出した光強度
が平衡状態となるように前記測定ダイヤフラム部材を介
し前記基準チャネルを減光することで前記反射率計を較
正し、(c)被測定サンプルを前記測定チャネルに配置
した状態で前記基準チャネルの測定ダイヤフラムを介し
て前記測定チャネルと基準チャネルとで検出された光強
度が平衡状態になるように調節することにより被測定サ
ンプルの反射率を測定し、(d)前記較正工程に。
を達成するために、本発明に係る反射率測定方法は、(
a)各々ダイヤフラム部材を配設した測定チャネルと基
準チャネルとを備えた反射率計を設け、 (b)前記
測定チャネルと前記基準チャネルとに於ける光強度を検
出し、標準サンプルを前記基準チャネルに配置しかつ前
記測定チャネルのダイヤフラム部材を任意の位置に設定
した状態で前記基準チャネルの測定ダイヤフラムを介し
て前記測定チャネルと基準チャネル間の検出した光強度
が平衡状態となるように前記測定ダイヤフラム部材を介
し前記基準チャネルを減光することで前記反射率計を較
正し、(c)被測定サンプルを前記測定チャネルに配置
した状態で前記基準チャネルの測定ダイヤフラムを介し
て前記測定チャネルと基準チャネルとで検出された光強
度が平衡状態になるように調節することにより被測定サ
ンプルの反射率を測定し、(d)前記較正工程に。
於ける前記基準チャネルの測定ダイヤフラムの設定値に
基づき、前記標準サンプルの反射率の値から被測定サン
プルの反射率の値を演算する工程からなることを特徴ど
している。
基づき、前記標準サンプルの反射率の値から被測定サン
プルの反射率の値を演算する工程からなることを特徴ど
している。
上記の目的を達成するために、本発明に係る反射率測定
装置は、(a)少なくともlの光源とサンプル用開口部
戸をaし、+’+ij記開口部に配置されたサンプルが
拡散照射されるようになった測定室と、(l〕)被測定
サンプルから反射された光を光度計に案内する光学系と
11tf記光度計に向かう光を減光するダイヤフラムと
前記光度計に向かう光をフィルタするフィルタとを備え
た測定チャネルと、(c)前記測定チャネルの光を別の
光度計に案内する光学系と前記側の光度計に向かう光を
減光する測定ダイヤフラムと前記側の光度計に向かう光
をフィルタするフィルタとを備えた基準チャネルと、 (d)前記両光変針の光により生じた電圧を比較し1i
ij記両チャネルの光強度が平衡状態であれば指示する
基準測定装置部と、 (e)前記測定チャネルのダイヤフラム及び前記基準チ
ャネルの測定ダイヤフラムに設けられ両ダイヤフラムを
調整するモータと、 (f)較正時は準のサンプルを前記基準チャネルに配置
し前記測定チャネルのダイヤフラムを任意の再現可能な
位置に前記基準チャネルの測定ダイヤフラムを1Yj記
基準基準測定装置より指示された前記両チャネルの光強
度が平衡状態となる位置に設定し、前記被測定サンプル
の測定時前記被測定ザンブルを111j記測定ヂヤネル
に配置し前記測定;1りにより指示される前記両チャネ
ルの光強度が平衡状態となる位置に1rj記基準ヂヤネ
ルの測定ダイヤフラムを調整し、前記較正及び被測定ザ
ンプル測定時に前記両ダイヤフラムの設定値を記録し、
前記標準サンプルの反射率の値から前記較正時求めた前
記基準チャネルの測定ダイヤフラムの設定値と1iij
記被測記号測定サンプル測定た前記基準チャネルの測定
ダイヤフラムの設定値とに基づき被測定サンプルの反射
率の値を111算する記録及び演算用制御ユニットから
なることを特徴としている。
装置は、(a)少なくともlの光源とサンプル用開口部
戸をaし、+’+ij記開口部に配置されたサンプルが
拡散照射されるようになった測定室と、(l〕)被測定
サンプルから反射された光を光度計に案内する光学系と
11tf記光度計に向かう光を減光するダイヤフラムと
前記光度計に向かう光をフィルタするフィルタとを備え
た測定チャネルと、(c)前記測定チャネルの光を別の
光度計に案内する光学系と前記側の光度計に向かう光を
減光する測定ダイヤフラムと前記側の光度計に向かう光
をフィルタするフィルタとを備えた基準チャネルと、 (d)前記両光変針の光により生じた電圧を比較し1i
ij記両チャネルの光強度が平衡状態であれば指示する
基準測定装置部と、 (e)前記測定チャネルのダイヤフラム及び前記基準チ
ャネルの測定ダイヤフラムに設けられ両ダイヤフラムを
調整するモータと、 (f)較正時は準のサンプルを前記基準チャネルに配置
し前記測定チャネルのダイヤフラムを任意の再現可能な
位置に前記基準チャネルの測定ダイヤフラムを1Yj記
基準基準測定装置より指示された前記両チャネルの光強
度が平衡状態となる位置に設定し、前記被測定サンプル
の測定時前記被測定ザンブルを111j記測定ヂヤネル
に配置し前記測定;1りにより指示される前記両チャネ
ルの光強度が平衡状態となる位置に1rj記基準ヂヤネ
ルの測定ダイヤフラムを調整し、前記較正及び被測定ザ
ンプル測定時に前記両ダイヤフラムの設定値を記録し、
前記標準サンプルの反射率の値から前記較正時求めた前
記基準チャネルの測定ダイヤフラムの設定値と1iij
記被測記号測定サンプル測定た前記基準チャネルの測定
ダイヤフラムの設定値とに基づき被測定サンプルの反射
率の値を111算する記録及び演算用制御ユニットから
なることを特徴としている。
更に、本発明に係る上記方法においては、較正工程時上
記基準チャネルの測定ダイアフラムの測定目盛と測定条
件下の前記測定チャネルの被測定反射率との相互依存関
係は少なくとも2つ以上の前記標準サンプルを介して前
記測定チャネルのダイアフラムが同一位置に維持された
状態で前記基準チャネルの測定ダイアフラムの設定値を
求めることにより得られることが特徴となっている。
記基準チャネルの測定ダイアフラムの測定目盛と測定条
件下の前記測定チャネルの被測定反射率との相互依存関
係は少なくとも2つ以上の前記標準サンプルを介して前
記測定チャネルのダイアフラムが同一位置に維持された
状態で前記基準チャネルの測定ダイアフラムの設定値を
求めることにより得られることが特徴となっている。
又、上記較正工程時上記測定チャネルのダイアフラムを
調整することによりほぼ平衡状態に一ヒ記測定及び基準
チャネルが設定されるようになっている。
調整することによりほぼ平衡状態に一ヒ記測定及び基準
チャネルが設定されるようになっている。
又、上記測定及び基準チャネルの光強度は光度計の光に
より生じた電圧を更に基準測定装置部により比較するこ
とで上記光強度が比較され上記光強度の平衡状態に対応
する上記基準測定装置の零値が上記両チャネルに光遮蔽
用カバーを与えることにより暗(dark)電圧値とし
て求められる。
より生じた電圧を更に基準測定装置部により比較するこ
とで上記光強度が比較され上記光強度の平衡状態に対応
する上記基準測定装置の零値が上記両チャネルに光遮蔽
用カバーを与えることにより暗(dark)電圧値とし
て求められる。
更に、上記較正及び被測定サンプル測定工程に於いては
記録及び演算用の制御ユニットにより制御される。較正
工程時得られたl−記両チャネルのダイアフラムの設定
値が記録される。使用中のチャネル内フィルタも測定チ
ャネルのダイアフラムも各被測定サンプル時以前に求め
記録した位置に向かい又上記制御ユニットにより被測定
サンプルの反射率値が記録された較正工程での値に基づ
き演算される。
記録及び演算用の制御ユニットにより制御される。較正
工程時得られたl−記両チャネルのダイアフラムの設定
値が記録される。使用中のチャネル内フィルタも測定チ
ャネルのダイアフラムも各被測定サンプル時以前に求め
記録した位置に向かい又上記制御ユニットにより被測定
サンプルの反射率値が記録された較正工程での値に基づ
き演算される。
次に本発明に係る反射率測定装置に於いて、」二足制御
ユニットは現在使用中の上記標準サンプルが較正工程に
て設定された位置に来るよう上記測定チャネルのダイア
フラムを調整するようになっている。 更に、上記基準
チャネルと測定チャネルに対しフィルタが設けられてお
り、上記制御ユニットは各々が較正時に使用されるフィ
ルタに対して上記測定チャネル及び基準チャネルにフィ
ルタを移動させるようになっている。
ユニットは現在使用中の上記標準サンプルが較正工程に
て設定された位置に来るよう上記測定チャネルのダイア
フラムを調整するようになっている。 更に、上記基準
チャネルと測定チャネルに対しフィルタが設けられてお
り、上記制御ユニットは各々が較正時に使用されるフィ
ルタに対して上記測定チャネル及び基準チャネルにフィ
ルタを移動させるようになっている。
又、上記基準チャネルの測定ダイアフラムの調整モータ
はステップ式モータにより構成されている。
はステップ式モータにより構成されている。
又、上記基準チャネルのダイアフラム用の調整モータは
サーボモータで構成されている。
サーボモータで構成されている。
本発明は以下の基本原理に基づいている。即ち、上記基
準チャネルの測定ダイアフラムにより較正及び被測定サ
ンプル測定工程時上記測定及び基準チャネルが正確に平
衡状態に設定される。
準チャネルの測定ダイアフラムにより較正及び被測定サ
ンプル測定工程時上記測定及び基準チャネルが正確に平
衡状態に設定される。
上記従来のエルレエフオ(Elrepho)測定装置に
於いては、」−記基準チャネルの測定ダイアフラムはウ
ェッジ状の”グレイウェッジ(gray wedge)
ダイアフラムにより大略構成された測定チャネル側のダ
イアフラムよりも更に粘度が高い。本発明は従前のもの
よりも更に精度が高い較正工程での測定を実現している
。
於いては、」−記基準チャネルの測定ダイアフラムはウ
ェッジ状の”グレイウェッジ(gray wedge)
ダイアフラムにより大略構成された測定チャネル側のダ
イアフラムよりも更に粘度が高い。本発明は従前のもの
よりも更に精度が高い較正工程での測定を実現している
。
上記測定チャネルが上記両チャネルに於る光強度の平衡
状態に対応する位置に設定されるように望む場合、」1
記チャネルのダイアフラムにより近似的におこなわれる
ことは勿論である。その後ダイアフラムにより精度の高
い調整が行われる。
状態に対応する位置に設定されるように望む場合、」1
記チャネルのダイアフラムにより近似的におこなわれる
ことは勿論である。その後ダイアフラムにより精度の高
い調整が行われる。
本発明は上記基準チャネルに於る全体の測定目盛付け、
即ちサンプル測定に於ける測定ダイアフラムの目盛(ス
ケール)と測定スケールの設定は較正工程に於ける測定
と関連して求められる。所望ならば、別々の標準のサン
プルを幾つか使用することができる。例えば、上記基準
チャネルの上記測定ダイアフラムの尺度(スケール)全
体に沿ってθ%反射率付近、50%反射率、及び100
%反射率付近というようにである。そして所望ならば、
他の目盛点についても使用できる。この場合、反射率と
測定ダイアフラムの目盛の依存度は例えば被測定サンプ
ルに於いてグラフにより求めることができる。
即ちサンプル測定に於ける測定ダイアフラムの目盛(ス
ケール)と測定スケールの設定は較正工程に於ける測定
と関連して求められる。所望ならば、別々の標準のサン
プルを幾つか使用することができる。例えば、上記基準
チャネルの上記測定ダイアフラムの尺度(スケール)全
体に沿ってθ%反射率付近、50%反射率、及び100
%反射率付近というようにである。そして所望ならば、
他の目盛点についても使用できる。この場合、反射率と
測定ダイアフラムの目盛の依存度は例えば被測定サンプ
ルに於いてグラフにより求めることができる。
本発明に係る実施例に於いて、コンピュータの制御下で
上記測定チャネルのダイアフラノ1及び上記基準チャネ
ルのダイアフラムの位置を自動的に調整する制御ユニッ
トを使用している。」二足記録及び演算用制御ユニット
はその制御下で行われた測定値に基づき被測定サンプル
の反射率を演算している。
上記測定チャネルのダイアフラノ1及び上記基準チャネ
ルのダイアフラムの位置を自動的に調整する制御ユニッ
トを使用している。」二足記録及び演算用制御ユニット
はその制御下で行われた測定値に基づき被測定サンプル
の反射率を演算している。
更に、上記制御ユニットは上記測定及び基準チャネルで
使用されるフィルタを制御するように配置されておりそ
のため上記測定は所望の波長で行われる。
使用されるフィルタを制御するように配置されておりそ
のため上記測定は所望の波長で行われる。
更に、上記制御ユニットは例えば上記測定チャネルのダ
イアフラムを再現可能な位置に調整することができるよ
うになっている。この再現可能な位置は上記較正工程に
関連して再現されるものである。
イアフラムを再現可能な位置に調整することができるよ
うになっている。この再現可能な位置は上記較正工程に
関連して再現されるものである。
上記基準チャネルの測定ダイアフラム及び測定チャネル
のダイアフラムの両方またはいずれかには上記ダイアフ
ラムを調整するステップ式モータを備えるとよい。例え
ば直線ステップモータを使用する場合、測定ダイアフラ
ムのスケール(尺度)全体(100%)C対応するダイ
アフラムの動作は例えばIO,000個の制御インパル
スにより達成される。従って、各インパルス、即ち目盛
の最小調整可能間隔は反射率0.01%に対応している
。
のダイアフラムの両方またはいずれかには上記ダイアフ
ラムを調整するステップ式モータを備えるとよい。例え
ば直線ステップモータを使用する場合、測定ダイアフラ
ムのスケール(尺度)全体(100%)C対応するダイ
アフラムの動作は例えばIO,000個の制御インパル
スにより達成される。従って、各インパルス、即ち目盛
の最小調整可能間隔は反射率0.01%に対応している
。
同様な事が上記基へへ及び測定チャネルの両方に適用で
きる。
きる。
[実施例の説明]
以下、本発明に係る実施例を図面を参照しつつ詳細に説
明する。
明する。
第1図は、反射率測定用につくられた本発明に係る反射
率測定装置の実施例を示す。
率測定装置の実施例を示す。
上記装置は、球型の測定室lからなる。上記測定室1は
本実施例では2つの光源2と、被測定サンプル用開口部
3と、(本実施例に於いては更に)標準サンプル用の別
の開口部13とを備えている。
本実施例では2つの光源2と、被測定サンプル用開口部
3と、(本実施例に於いては更に)標準サンプル用の別
の開口部13とを備えている。
上記測定室lの内側表面lOは白色となっており上記標
準サンプル用開口部に位置する被測定サンプルと標準サ
ンプル用開口部13とは拡散照射を受けている。
準サンプル用開口部に位置する被測定サンプルと標準サ
ンプル用開口部13とは拡散照射を受けている。
更に、上記装置は、測定チャネル4と基準チャネル4と
からなる。上記両チャネルは光学系(レンズ)5.15
を各々備え上記サンプル及び標準サンプルから反射した
光を対応する測定チャネルと基準チャネルとに関連して
各々光度計6.16に向けさせるようになっている。
からなる。上記両チャネルは光学系(レンズ)5.15
を各々備え上記サンプル及び標準サンプルから反射した
光を対応する測定チャネルと基準チャネルとに関連して
各々光度計6.16に向けさせるようになっている。
更に、上記測定チャネル4と基準チャネル14とにはダ
イアフラム7と測定ダイアフラム17とが設けられてお
り各々上記光度計6.16に向かう光を減光(ディミン
グ)している。更に、フィルタ8.18によって上記対
応する光度計6. 16への光をフィルタしている。
イアフラム7と測定ダイアフラム17とが設けられてお
り各々上記光度計6.16に向かう光を減光(ディミン
グ)している。更に、フィルタ8.18によって上記対
応する光度計6. 16への光をフィルタしている。
加えて、上記装置は1−記光変針の光により生じた電圧
を比較し上記両チャネルの光の強度の平衡状態を指示す
るように設けられた基準測定装置21からなる。上記基
準測定装置21は更に基準精度を向−1−するため増幅
器31からなる。
を比較し上記両チャネルの光の強度の平衡状態を指示す
るように設けられた基準測定装置21からなる。上記基
準測定装置21は更に基準精度を向−1−するため増幅
器31からなる。
本発明によれば、測定チャネルのダイアフラム7と基準
チャネルの測定ダイアフラム18とには」二足ダイアフ
ラム位置を調整するだめの電動機(モータ)22.23
を備えている。更に上記装置は記録及び演算用制御ユニ
ット24からなる。上記制御ユニット24は較正作業時
、」二足測定チャネル4のダイアフラム7を任意の再現
可能な位置に調整し」二足基準チャネル14の測定ダイ
アフラムI7を」二足基帖測定装置21で指示された位
置に調整するように組み込まれている。この指示位置は
上記両チャネルの光強度の平衡具合に準拠しており、一
方上記標準サンプルは上記基準チャネル内例えば上記標
準サンプル用開口部13に配置されている。更に1.[
−記制御ユニット24は被測定サンプルの測定時上記被
測定サンプルが上記測定チャネル、即ち上記被測定サン
プル用開口部3に配置された状態で上記両チャネルの光
強度が平衡状態となる位置に上記基準チャネルI4の測
定ダイアフラム17を調整するようになっている。
チャネルの測定ダイアフラム18とには」二足ダイアフ
ラム位置を調整するだめの電動機(モータ)22.23
を備えている。更に上記装置は記録及び演算用制御ユニ
ット24からなる。上記制御ユニット24は較正作業時
、」二足測定チャネル4のダイアフラム7を任意の再現
可能な位置に調整し」二足基準チャネル14の測定ダイ
アフラムI7を」二足基帖測定装置21で指示された位
置に調整するように組み込まれている。この指示位置は
上記両チャネルの光強度の平衡具合に準拠しており、一
方上記標準サンプルは上記基準チャネル内例えば上記標
準サンプル用開口部13に配置されている。更に1.[
−記制御ユニット24は被測定サンプルの測定時上記被
測定サンプルが上記測定チャネル、即ち上記被測定サン
プル用開口部3に配置された状態で上記両チャネルの光
強度が平衡状態となる位置に上記基準チャネルI4の測
定ダイアフラム17を調整するようになっている。
又、上記記録及び演算制御ユニット24は上記測定チャ
ネル4と基Ql(チャネル14のダイアフラム7.17
の読取値を」二記較正及び被測定サンプルに対する測定
工程に並行して記録するようにしている。又、上記制御
ユニット24は較正工程時求めた上記測定用ダイアフラ
ム17の読取値に基づき」二足標準サンプルの標準サン
プルのピ準値である反射率の値から又、被測定サンプル
の測定時得られた上記基準チャネルの測定ダイアフラム
の読取値から被測定サンプルの反射率の値を演算するよ
うになっている。
ネル4と基Ql(チャネル14のダイアフラム7.17
の読取値を」二記較正及び被測定サンプルに対する測定
工程に並行して記録するようにしている。又、上記制御
ユニット24は較正工程時求めた上記測定用ダイアフラ
ム17の読取値に基づき」二足標準サンプルの標準サン
プルのピ準値である反射率の値から又、被測定サンプル
の測定時得られた上記基準チャネルの測定ダイアフラム
の読取値から被測定サンプルの反射率の値を演算するよ
うになっている。
尚、上記制御ユニット24はキーボード25からの命令
(order)により自動的に上記標準サンプルの測定
工程を行うようになっている。又、1−記制御ユニット
24は任意の時間に、使用中である標準サンプルの較正
工程怠の準拠して上記測定チャネル4のダイアフラム7
の読取値を記録するようになっており、かつ上記基準チ
ャネル14の測定用ダイアフラム】7を上記標準サンプ
ルの測定に対応した位置に調整するようになっている。
(order)により自動的に上記標準サンプルの測定
工程を行うようになっている。又、1−記制御ユニット
24は任意の時間に、使用中である標準サンプルの較正
工程怠の準拠して上記測定チャネル4のダイアフラム7
の読取値を記録するようになっており、かつ上記基準チ
ャネル14の測定用ダイアフラム】7を上記標準サンプ
ルの測定に対応した位置に調整するようになっている。
」二記装置の較正は主に上記制御ユニット24の制御下
に即座に行うことができる。重要な点はダイアフラム用
の調整用装置を使用しその装置により上記両ダイアフラ
ムがある定まった位置に再現可能なよう調整され、例え
ば較正またはその他の工程に関連して記録されることが
できることである。
に即座に行うことができる。重要な点はダイアフラム用
の調整用装置を使用しその装置により上記両ダイアフラ
ムがある定まった位置に再現可能なよう調整され、例え
ば較正またはその他の工程に関連して記録されることが
できることである。
上記事柄に加え、」−配本発明に係る装置は上記測定チ
ャネル4と基準チャネル■4用のフィルタを含む。尚、
図においては一対の同一フィルタ8.18のみが示され
ている。
ャネル4と基準チャネル■4用のフィルタを含む。尚、
図においては一対の同一フィルタ8.18のみが示され
ている。
尚、上記制御ユニット24は較正工程時求用されるフィ
ルタに従って上記フィルタ8.18を上記測定及び基準
チャネルに各々移動させるようになっている。このこと
により、上記本発明に係る装置に於いて、上記制御ユニ
ット24には上き複数のフィルタをそれぞれ適切な場所
に案内かつ調整するようなプログラムを組み込んでいる
。従って、上記装置には多数のフィルタを備えてもよい
。
ルタに従って上記フィルタ8.18を上記測定及び基準
チャネルに各々移動させるようになっている。このこと
により、上記本発明に係る装置に於いて、上記制御ユニ
ット24には上き複数のフィルタをそれぞれ適切な場所
に案内かつ調整するようなプログラムを組み込んでいる
。従って、上記装置には多数のフィルタを備えてもよい
。
−ヒ記基をチャネル14の測定ダイアフラムの調製用モ
ータ23は従来から知られている複数のステップ式のイ
ンパルスモータから構成されている。
ータ23は従来から知られている複数のステップ式のイ
ンパルスモータから構成されている。
上記インパルスモータは制御インパルスにより制御され
ている。尚、本実施例に於ける反射率測定装置の測定[
]盛り全体は100%が例えば1000.5000、+
0.000.20,000.5o、ooo又は100,
000インパルスに対応している。
ている。尚、本実施例に於ける反射率測定装置の測定[
]盛り全体は100%が例えば1000.5000、+
0.000.20,000.5o、ooo又は100,
000インパルスに対応している。
この場合、所定の間隔で得られる精度は1710%から
l/1000%の間である。同様に、−h記測定チャネ
ル4のダイアフラム7の調整用モータ22は複数のステ
ッピング式インパルスモータから構成されている。
l/1000%の間である。同様に、−h記測定チャネ
ル4のダイアフラム7の調整用モータ22は複数のステ
ッピング式インパルスモータから構成されている。
以下、本発明に係る反射率測定方法及び装置に使用した
場合の、反射率測定手順を説明する。
場合の、反射率測定手順を説明する。
」−記手順の第1段階は、1回又は数回″の較正に対す
る測定を介して測定の目盛(スケール)を規定すること
である。
る測定を介して測定の目盛(スケール)を規定すること
である。
上記較正工程に於いては、例えば図面に示していない閉
塞板により測定チャネルを先ず完全にひかりを通過させ
ないように閉塞状態に選ぶ。と同時に、」−記基準測定
装置21の零出力値が上記両チャネルの光の強度の平衡
状態に対応させておく。
塞板により測定チャネルを先ず完全にひかりを通過させ
ないように閉塞状態に選ぶ。と同時に、」−記基準測定
装置21の零出力値が上記両チャネルの光の強度の平衡
状態に対応させておく。
その後、上記チャネル4.14の両ダイアフラA ?、
+7を解放し、上記基準チャネル■4側の測定ダイアフ
ラムI7を任意の位置、例えば標準サンプルの既知であ
る反射率の値に近い推定位置に設定する。次に、上記測
定チャネル4のダイアフラム7を両チャネルが大略平衡
状態即ち上記両チャネルの光強度が等しい程度にまで閉
塞する。
+7を解放し、上記基準チャネル■4側の測定ダイアフ
ラムI7を任意の位置、例えば標準サンプルの既知であ
る反射率の値に近い推定位置に設定する。次に、上記測
定チャネル4のダイアフラム7を両チャネルが大略平衡
状態即ち上記両チャネルの光強度が等しい程度にまで閉
塞する。
この時、ダイアフラム7の位置は」;記制御ユニット2
4で記録しておく。その後、上記測定ダイアフラム17
を上記両チャネルの光強度が平衡状態に正確に対応して
いる位置即ち」―記最初の段階で定義した上記基準測定
装置21が零出力値を取る位置に調整する。
4で記録しておく。その後、上記測定ダイアフラム17
を上記両チャネルの光強度が平衡状態に正確に対応して
いる位置即ち」―記最初の段階で定義した上記基準測定
装置21が零出力値を取る位置に調整する。
上記測定ダイアフラム17の位置に準拠している設定値
は上記標準の被測定体の反射率の値に対応していること
に注意されたい。
は上記標準の被測定体の反射率の値に対応していること
に注意されたい。
同様にして、数回の標準のサンプルの測定をそれぞれ異
なった標準サンプルを用いて行うことができる。例えば
、複数の標準サンプルは反射率が0%から100%まで
の間にあるものである。上記数回の測定工程時、−ヒ記
測定チャネル4のダイヤフラム7は全体として、同一位
置に適当に維持され、そのため測定ダイアフラムイI7
の位置に反射率が関係し一連の測定終了後、例えば第3
図に示したプラムが求められる。
なった標準サンプルを用いて行うことができる。例えば
、複数の標準サンプルは反射率が0%から100%まで
の間にあるものである。上記数回の測定工程時、−ヒ記
測定チャネル4のダイヤフラム7は全体として、同一位
置に適当に維持され、そのため測定ダイアフラムイI7
の位置に反射率が関係し一連の測定終了後、例えば第3
図に示したプラムが求められる。
尚、第3図は、反射率の値と直線目盛との相互関係を示
すグラフである。
すグラフである。
その後、測定サンプルの測定が迅速に、且つ容易に上記
測定チャネルのダイヤフラムを較正工程で設定された位
置に調節し、又上記説明のように、光強度平衡状態での
基準チャネルの測定ダイヤフラムの設定値を求めること
により行うことができる。
測定チャネルのダイヤフラムを較正工程で設定された位
置に調節し、又上記説明のように、光強度平衡状態での
基準チャネルの測定ダイヤフラムの設定値を求めること
により行うことができる。
被測定サンプルの反射率の値は、上記較正に対する測定
結果に基づいて演算することができる。
結果に基づいて演算することができる。
成る波長での被測定サンプルの反射率の値を検査したい
場合、第1図に示すように上記制御ユニット24のより
、所望の同一フィルタ、例えば、フィルタ8、+8を上
記測定チャネルと基準チャネルとに、各々移動すること
が指示される。
場合、第1図に示すように上記制御ユニット24のより
、所望の同一フィルタ、例えば、フィルタ8、+8を上
記測定チャネルと基準チャネルとに、各々移動すること
が指示される。
その後、上記較正工程及び、被測定サンプルの測定は例
えば、」二連したように、フィルタを介して行うことが
できる。
えば、」二連したように、フィルタを介して行うことが
できる。
第2図は、本発明に係る反射率測定装置のブロック図で
ある。
ある。
第2図に於いて、上記キーボード25が上記記録及び演
算用制御ユニット24に接続されている。
算用制御ユニット24に接続されている。
上記測定チャネル4のダイアフラム7のアクチュエータ
22を制御し同様に上記基準チャネル14のダイアフラ
ム17のアクチュエータ23をも制御する。更に、上記
制御ユニット24は上記基準測定装置21から送られた
測定信号を受は取る。
22を制御し同様に上記基準チャネル14のダイアフラ
ム17のアクチュエータ23をも制御する。更に、上記
制御ユニット24は上記基準測定装置21から送られた
測定信号を受は取る。
上記測定信号荷基づき上記基準チャネル4の測定ダイア
フラム17が制御される。
フラム17が制御される。
ごれに加えて、本実施例では較正用サンプル即ち標準サ
ンプル用のアクチュエータ32と被測定サンプルの移動
用装置33が上記測定用室lのじようき開口部!3.3
へ上記制御対象の標準サンプル及び実被測定サンプルが
各々移動させることとなる。
ンプル用のアクチュエータ32と被測定サンプルの移動
用装置33が上記測定用室lのじようき開口部!3.3
へ上記制御対象の標準サンプル及び実被測定サンプルが
各々移動させることとなる。
第4の図は4回の測定により得られた測定結果をグラフ
に表したものである。
に表したものである。
第4図に於いて、連続した実線は通常の上記エルレエフ
オ(Elrepho)装置により行われた測定値を示し
、点線は第1図に示した既知の反射率値を有する被測定
サンプルから得た本発明に係る」二足測定装置により行
われた測定値を示す。
オ(Elrepho)装置により行われた測定値を示し
、点線は第1図に示した既知の反射率値を有する被測定
サンプルから得た本発明に係る」二足測定装置により行
われた測定値を示す。
上記2つの装置の両方とも、較正測定工程は上述の通り
行われる、同じ既知の被測定サンプルを使用して行われ
た。第4図に示す測定結果から従来の方法による最大誤
差dPは0.7%であり本発明に係る上記方法による最
大誤差dPは0.03%であったことが判明した。 上
記実施例では」二足測定チャネル4と基をチャネル14
のダイアフラム7.17に対して使用したアクチュエー
タとして各々スチップ式インパルスモータを示している
が、これに限らず例えばサーボモータ等の積替なモータ
のようなものでも使用できる。
行われる、同じ既知の被測定サンプルを使用して行われ
た。第4図に示す測定結果から従来の方法による最大誤
差dPは0.7%であり本発明に係る上記方法による最
大誤差dPは0.03%であったことが判明した。 上
記実施例では」二足測定チャネル4と基をチャネル14
のダイアフラム7.17に対して使用したアクチュエー
タとして各々スチップ式インパルスモータを示している
が、これに限らず例えばサーボモータ等の積替なモータ
のようなものでも使用できる。
被測定サンプルの反射率値は反射率が基準チャネルのダ
イアフラムの設定値Nに直線的に依存する場合例えば第
3図(述続する実線)に示す測定結果から求ぬる。第3
図(実線)から求める反射率Rxは以下に示す式より得
られる。
イアフラムの設定値Nに直線的に依存する場合例えば第
3図(述続する実線)に示す測定結果から求ぬる。第3
図(実線)から求める反射率Rxは以下に示す式より得
られる。
ここでR1及びR2は上記較正工程時使用した標準の被
測定サンプルの反射率値を示し、Nc、Nl及びN2は
被測定サンプル測定と較正工程とで各々得られた基準チ
ャネルの設定値を示す。 一方、反射率値が」ニ記基準
チャネルのダイアフラムの設定値に非直線的(第3図の
点線)に依存する場合、反射率値Ryは第3図に示すグ
ラフにより上記基準チャネルのダイアフラムの設定値N
nに基づき求められる。
測定サンプルの反射率値を示し、Nc、Nl及びN2は
被測定サンプル測定と較正工程とで各々得られた基準チ
ャネルの設定値を示す。 一方、反射率値が」ニ記基準
チャネルのダイアフラムの設定値に非直線的(第3図の
点線)に依存する場合、反射率値Ryは第3図に示すグ
ラフにより上記基準チャネルのダイアフラムの設定値N
nに基づき求められる。
」−記実施例では一1二記測定室Iは球状であるがそれ
以外に半球状でし他の型のものでもよい。史に上記測定
室内の光源は1つ以上の任意の数あればよく連続的に光
を発生してもパルス状に発生してもよい。又、上記測定
室のフィルタは通常の光学フィルタ又は例えばゲート又
はプリズムを備えたモノクロメータでもよい。
以外に半球状でし他の型のものでもよい。史に上記測定
室内の光源は1つ以上の任意の数あればよく連続的に光
を発生してもパルス状に発生してもよい。又、上記測定
室のフィルタは通常の光学フィルタ又は例えばゲート又
はプリズムを備えたモノクロメータでもよい。
[発明の効果]
本発明に係る反射率測定方法及び装置を用いれば、性能
に関する試験から得られた反射率精度はコンピュータに
よる制御とステップ式インパルスモータを上記基準チャ
ネルと測定チャネルとのダイアプラムの調整用に使用し
た場合0.001%にまで上昇した。これに対し、上記
従来技術を使用することで得られる精度は最高で0,3
%と問題のあるところである。
に関する試験から得られた反射率精度はコンピュータに
よる制御とステップ式インパルスモータを上記基準チャ
ネルと測定チャネルとのダイアプラムの調整用に使用し
た場合0.001%にまで上昇した。これに対し、上記
従来技術を使用することで得られる精度は最高で0,3
%と問題のあるところである。
本発明に係る反射率測定方法及び装置により、フィルタ
の選択、調整、1」盛の較正及び被測定サンプルの測定
自体は全てひじょうに短時間で行うことができる。これ
は従来の装置で測定するのに必要な時間の例えば1/l
Oである。その他、本発明に係る反射率測定方法及び対
応する装置の有する効果は従来よりも優れたものを呈す
る。
の選択、調整、1」盛の較正及び被測定サンプルの測定
自体は全てひじょうに短時間で行うことができる。これ
は従来の装置で測定するのに必要な時間の例えば1/l
Oである。その他、本発明に係る反射率測定方法及び対
応する装置の有する効果は従来よりも優れたものを呈す
る。
一如
第1図は本発明;歩中係る反射率測定装置の実施例を占
める概略図であり、 第2図は本発明に係る反射率測定方法を適用した測定装
置のブロック図であり、 第3図は、本発明に係る上記方法及び装置に因り行われ
た測定に於ける反射率と直線1」盛との相互関係を示す
グラフであり、 第4図は既知のエルレエフオ(Elrcpho)装置(
エルレエフオはF、]ecLric Reflecta
ncc Photometerの略称)により得られた
測定値と比較した本発明に係る上記方法により行われた
測定結果を示すグラフである。 (符号の説明) 1・・・測定室 5・・・光学系(レンズ)
2・・・光源 15・・・光学系(レンズ)
3・・・被測定体用開口部 6.16・・・光度計13
・・・標準被測定体用量L1部 4・・・測定チャネル 7・・・測定チャネル内のダイアフラムI4・・・基型
チャネル 17・・・基準チャネル内のダイアフラム8・・・フィ
ルタ I8・・・フィルタ 21・・・基準測定装置 22.23・・・モータ 24・・・記録及び演算用制御ユニット25・・・キー
ボード 31・・・増幅器 32・・・アクチュエータ 33・・・移動用装置 34・・・アクチュエータ 35・・・アクチュエータ Fig、1 RI R,RX R2Refl。
める概略図であり、 第2図は本発明に係る反射率測定方法を適用した測定装
置のブロック図であり、 第3図は、本発明に係る上記方法及び装置に因り行われ
た測定に於ける反射率と直線1」盛との相互関係を示す
グラフであり、 第4図は既知のエルレエフオ(Elrcpho)装置(
エルレエフオはF、]ecLric Reflecta
ncc Photometerの略称)により得られた
測定値と比較した本発明に係る上記方法により行われた
測定結果を示すグラフである。 (符号の説明) 1・・・測定室 5・・・光学系(レンズ)
2・・・光源 15・・・光学系(レンズ)
3・・・被測定体用開口部 6.16・・・光度計13
・・・標準被測定体用量L1部 4・・・測定チャネル 7・・・測定チャネル内のダイアフラムI4・・・基型
チャネル 17・・・基準チャネル内のダイアフラム8・・・フィ
ルタ I8・・・フィルタ 21・・・基準測定装置 22.23・・・モータ 24・・・記録及び演算用制御ユニット25・・・キー
ボード 31・・・増幅器 32・・・アクチュエータ 33・・・移動用装置 34・・・アクチュエータ 35・・・アクチュエータ Fig、1 RI R,RX R2Refl。
Claims (2)
- (1)(a)各々ダイヤフラム部材を配設した測定チャ
ネルと基準チャネルとを備えた反射率計を設け、(b)
前記測定チャネルと前記基準チャネルとに於ける光強度
を検出し、標準サンプルを前記基準チャネルに配置しか
つ前記測定チャネルのダイヤフラム部材を任意の位置に
設定した状態で前記基準チャネルの測定ダイヤフラム部
材を介して前記測定チャネルと基準チャネル間の検出し
た光強度が平衡状態となるように前記測定ダイヤフラム
部材を介し前記基準チャネルを減光することで前記反射
率計を較正し、 (c)被測定サンプルを前記測定チャネルに配置した状
態で前記基準チャネルの測定ダイヤフラムを介して前記
測定チャネルと基準チャネルとで検出された光強度が平
衡状態になるように調節することにより被測定サンプル
の反射率を測定し、(d)前記較正工程に於ける前記基
準チャネルの測定ダイヤフラムの設定値に基づき、前記
標準サンプルの反射率の値から被測定サンプルの反射率
の値を演算する工程からなることを特徴とする反射率測
定方法。 - (2)(a)少なくとも1の光源とサンプル用開口部戸
を有し、前記開口部に配置されたサンプルが拡散照射さ
れるようになった測定室と、 (b)被測定サンプルから反射された光を光度計に案内
する光学系と前記光度計に向かう光を減光するダイヤフ
ラムと前記光度計に向かう光をフィルタするフィルタと
を備えた測定チャネルと、(c)前記測定チャネルの光
を別の光度計に案内する光学系と前記別の光度計に向か
う光を減光する測定ダイヤフラムと前記別の光度計に向
かう光をフィルタするフィルタとを備えた基準チャネル
と、 (d)前記両光度計の光により生じた電圧を比較し前記
両チャネルの光強度が平衡状態であれば指示する基準測
定装置部と、 (e)前記測定チャネルのダイヤフラム及び前記基準チ
ャネルの測定ダイヤフラムに設けられ両ダイヤフラムを
調整するモータと、 (f)較正時、標準のサンプルを前記基準チャネルに配
置し前記測定チャネルのダイヤフラムを任意の再現可能
な位置に前記基準チャネルの測定ダイヤフラムを前記基
準測定部により指示された前記両チャネルの光強度が平
衡状態となる位置に設定し、前記被測定サンプルの測定
時前記被測定サンプルを前記測定チャネルに配置し前記
基準測定装置部により指示される前記両チャネルの光強
度が平衡状態となる位置に前記基準チャネルの測定ダイ
ヤフラムを調整し、前記較正及び被測定サンプル測定時
に前記両ダイヤフラムの設定値を記録し、前記標準サン
プルの反射率の値から前記較正時求めた前記基準チャネ
ルの測定ダイヤフラムの設定値と前記被測定サンプル測
定時に得た前記基準チャネルの測定ダイヤフラムの設定
値とに基づき被測定サンプルの反射率の値を演算する記
録及び演算用制御ユニットからなることを特徴とする反
射率測定装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI854700 | 1985-11-27 | ||
FI854700A FI78563C (fi) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | Reflektometriskt maetningsfoerfarande och maetningsanordning foer genomfoerande av foerfarandet. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62188940A true JPS62188940A (ja) | 1987-08-18 |
JPH0643958B2 JPH0643958B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=8521753
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61283020A Expired - Lifetime JPH0643958B2 (ja) | 1985-11-27 | 1986-11-27 | 反射率測定方法及び装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0229602B1 (ja) |
JP (1) | JPH0643958B2 (ja) |
AT (1) | ATE60442T1 (ja) |
CA (1) | CA1299386C (ja) |
DE (1) | DE3677176D1 (ja) |
FI (1) | FI78563C (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5825945A (en) * | 1992-05-15 | 1998-10-20 | Unisys Corp | Document imaging with illumination from lambertian surfaces |
FI98761C (fi) * | 1994-01-28 | 1997-08-11 | Conrex Automation Oy | Mittauslaite reflektometrisiä mittauksia varten |
US7663757B2 (en) * | 2006-09-27 | 2010-02-16 | Alberta Research Council Inc. | Apparatus and method for obtaining a reflectance property indication of a sample |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT351295B (de) * | 1977-12-09 | 1979-07-10 | Vianova Kunstharz Ag | Anordnung zur messung des glanzvermoegens von oberflaechen, insbesondere organischer ueberzuege |
JPS591977B2 (ja) * | 1978-01-25 | 1984-01-14 | 株式会社京都第一科学 | 呈色試験紙を用いた分析方法 |
HU190892B (en) * | 1983-04-13 | 1986-12-28 | Mta Mueszaki Fizikai Kutato Intezete,Hu | Aparatus for measuring reflection of the planar surfaces, in particular fluckering meter |
-
1985
- 1985-11-27 FI FI854700A patent/FI78563C/fi not_active IP Right Cessation
-
1986
- 1986-11-26 DE DE8686850409T patent/DE3677176D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-11-26 CA CA000523862A patent/CA1299386C/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-11-26 AT AT86850409T patent/ATE60442T1/de not_active IP Right Cessation
- 1986-11-26 EP EP86850409A patent/EP0229602B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-11-27 JP JP61283020A patent/JPH0643958B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0229602A1 (en) | 1987-07-22 |
FI854700A0 (fi) | 1985-11-27 |
FI854700A (fi) | 1987-05-28 |
EP0229602B1 (en) | 1991-01-23 |
CA1299386C (en) | 1992-04-28 |
FI78563C (fi) | 1989-08-10 |
DE3677176D1 (de) | 1991-02-28 |
JPH0643958B2 (ja) | 1994-06-08 |
ATE60442T1 (de) | 1991-02-15 |
FI78563B (fi) | 1989-04-28 |
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