JPH0643958B2 - 反射率測定方法及び装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、反射率測定方法及び装置に関する。特に本発
明は２つのチヤネルを有する反射率計を用い拡散照射さ
れた被測定サンプルの反射特性を求めることができる反
射率測定方法及び装置に関する。

本発明は、具体的には、ＩＳＯ規格（ＩＳＯ：Internat
ional Standard Organization）により紙、パルプ、及
び紙板（paper-board）等の紙製品の白色度を測定する
ための反射率測定方法及び装置に関する。

（従来技術の説明） 従来から上記反射率測定方法及び装置はエルレエフオ
（Elrepho）（電気式反射率光度計Electric Reflectanc
e Photo-meterの略称）と呼ばれている。

被測定サンプルの白色度、蛍光度、明るさ、透過性、不
透明度、清澄度及び他の反射率に関係する光学的特性を
測定する反射率測定方法が使用されている。

近年紙の白色度は一般にZeiss（ツアイス）により製造
された２−チヤンネル式の反射率測定装置を使用するこ
とにより測定されている。上記装置は内側が白色で２つ
のチヤネル、即ち測定チヤネルと基準チヤネルと、ダイ
ヤフラム付きの顕微鏡と、上記両チヤネルと列状となつ
た被測定サンプル用開口部と標準サンプル用開口部とか
らなるのが特徴となつている。

上記両チヤネルの光強度はチヤネルに位置する光度計に
より検出され、チヤネルに於ける光強度は光度計に接続
された検流計（galvanometer）を介して観測される。上
記装置は上記基準チヤネルに既知の反射率値を有する標
準のサンプルが配置されて較正され上記基準チヤネルの
測定ダイヤフラムが標準サンプルの既知の反射率値に対
応するようにセツトされる。その後、測定チヤネルのダ
イヤフラムが調整され光強度が上記両チヤネルで等しく
なる状態、即ち平衡状態にする。被測定サンプルの反射
率の値は上記測定チヤネルに被測定サンプルを配置し上
記測定用ダイヤフラムを上記両チヤネルが平衡状態にな
る位置に調整することにより求められる。上記被測定体
の反射率値は上記測定用ダイヤフラム上の目盛（scal
e）により読取り可能である。上記被測定サンプルでの
測定時、上記測定チヤネルのダイヤフラムは上記装置の
較正時に調整された位置に保持されている。

（従来技術の問題点） しかしながら、上述の従来の反射率計による測定方法及
び装置は、測定精度を上げる要求が増大するのにかかわ
らず不満足なものであつた。特に、上記測定チヤネルの
ダイヤフラムの調節（その結果両チヤネルが平衡状態に
セツトされ上記基準チヤネルの測定用ダイヤフラムの目
盛が較正工程と関連して規定される）が不正確である。
換言すれば、上記調節の精度は操作者及び操作者個人の
正確さに応じて変わることとなる。

更に、上記測定チヤネルのダイヤフラムの調節は殆ど測
定毎に新たに行わなければならない煩わしさがある。

上記基準チヤネルの測定用ダイヤフラムのスケール（目
盛）は上記装置の製造時彫刻により作られた測定目盛に
基づいている。上記スケールは標準サンプルを使用し較
正作業時所望のレベルにセツトされるのみである。この
結果、例えば上記測定装置が経年変化により、測定結果
は別の同様の装置とでバラツキが生じ又このバラツキが
大きくなつて行き、測定結果が信頼できないものとな
る。

更に、上記従来の測定装置及び方法は、上記被測定サン
プルの反射率の値が測定ダイヤフラムの位置に直線的に
依存している前提に基づいたものである。即ち、測定ダ
イヤフラムの目盛は直線となつている。しかしながら、
測定チヤネルでの減光調節作業に伴って被測定サンプル
が異なれば反射率の値が直線状態で変化しないことが詳
細な測定の結果判明した。その結果、上記測定方法及び
装置の構成上誤差を含む測定値が生じることは回避でき
ない。

このように現在使用されている反射率の測定方法及び装
置は非常に不満足なものであることが判明した。

従つて、例えば紙の反射率測定を製造業者及び購買者の
両方で行つた場合、相当に異なつた結果となる。換言す
れば、上記測定方法及び装置は再現可能であり比較し得
る測定値は生じ得ない。実際には、反射率測定に於いて
再現可能で比較可能な結果が生じ得ないことにより購買
者と取扱い業者が反射率測定に関して特定の紙の束（バ
ツチ）が必要条件を満たすことを確認したとしても相当
の紙の束が製紙工場に戻す状況となる。

本発明の第１の目的は上記従来の欠点を解消した上記反
射率測定方法及び装置を提供することである。

本発明の第２の目的は、上記従来技術よりも更に正確
で、かつ再現可能であり比較し得る測定結果を生じる反
射率測定方法及び装置を提供することである。

本発明の第３の目的は、測定作業が従来のものより迅速
に又確実に行われその結果操作者個人の正確さが最終的
に測定結果に殆ど反映してこないような上記反射率測定
方法及び装置を提供することである。

本発明の第４の目的は、現在使用されている上述のエル
レエフオ（Elrepho）測定器を主に利用することにより
実施できる新しい反射率測定方法を提供することであ
る。

上述の本発明の目的を総じて述べれば反射率の測定に適
用し従来の方法よりも更に正確であり、その測定結果は
更に良好な再現可能性と高い信頼性を有するものであ
り、従来の方法より簡単で迅速に得られる動作中は従来
の方法よりも外部環境に対して影響を受けることがない
新規な反射率測定方法を提供することである。

（問題点を解決するための手段及び作用） 上記の目的を達成するために、本発明に係る反射率測定
方法は、(a)各々ダイヤフラム部材を配設した測定チヤ
ネルと基準チヤネルとを備えた反射率計を設け、(b)前
記測定チヤネルと前記基準チヤネルとに於ける光強度を
検出し、標準サンプルを前記基準チヤネルに配置しかつ
前記測定チヤネルのダイヤフラム部材を任意の位置に設
定した状態で前記基準チヤネルの測定ダイヤフラム部材
を介して前記測定チヤネルと基準チヤネル間の検出した
光強度は平衡状態となるように前記測定ダイヤフラム部
材を介し前記基準チヤネルを減光することで前記反射率
計を較正し、(c)被測定サンプルを前記測定チヤネルに
配置した状態で前記基準チヤネルの測定ダイヤフラムを
介して前記測定チヤネルと基準チヤネルとで検出された
光強度が平衡状態になるように調節することにより被測
定サンプルの反射率を測定し、(d)前記較正工程に，於
ける前記基準チヤネルの測定ダイヤフラムの設定値に基
づき、前記標準サンプルの反射率の値から被測定サンプ
ルの反射率の値を演算する工程からなることを特徴とし
ている。

上記の目的を達成するために、本発明に係る反射率測定
装置は、(a)少なくとも１の光源とサンプル用開口部戸
を有し、前記開口部に配置されたサンプルが拡散照射さ
れるようになつた測定室と、(b)被測定サンプルから反
射された光を光度計に案内する光学系と前記光度計に向
かう光を減光するダイヤフラムと前記光度計に向かう光
をフイルタするフイルタとを備えた測定チヤネルと、
(c)前記測定チヤネルの光を別の光度計に案内する光学
系と前記別の光度計に向かう光を減光する測定ダイヤフ
ラムと前記別の光度計に向かう光をフイルタするフイル
タとを備えた基準チヤネルと、 (d)前記両光度計の光により生じた電圧を比較し前記両
チヤネルの光強度が平衡状態であれば指示する基準測定
装置部と、 (e)前記測定チヤネルのダイヤフラム及び前記基準チヤ
ネルの測定ダイヤフラムに設けられ両ダイヤフラムを調
整するモータと、 (f)較正時標準のサンプルを前記基準チヤネルに配置し
前記測定チヤネルのダイヤフラムを任意の再現可能な位
置に前記基準チヤネルの測定ダイヤフラムを前記基準測
定装置部により指示された前記両チヤネルの光強度が平
衡状態となる位置に設定し、前記被測定サンプルの測定
時前記被測定サンプルを前記測定チヤネルに配置し前記
測定部により指示される前記両チヤネルの光強度が平衡
状態となる位置に前記基準チヤネルの測定ダイヤフラム
を調整し、前記較正及び被測定サンプル測定時に前記両
ダイヤフラムの設定値を記録し、前記標準サンプルの反
射率の値から前記較正時求めた前記基準チヤネルの測定
ダイヤフラムの設定値と前記被測定サンプル測定時に得
た前記基準チヤネルの測定ダイヤフラムの設定値とに基
づき被測定サンプルの反射率の値を演算する記録及び演
算用制御ユニツトからなることを特徴としている。

更に、本発明に係る上記方法においては、較正工程時上
記基準チャネルの測定ダイアフラムの測定目盛と測定条
件下の前記測定チャネルの被測定反射率との相互依存関
係は少なくとも２つ以上の前記標準サンプルを介して前
記測定チャネルのダイアフラムが同一位置に維持された
状態で前記基準チャネルの測定ダイアフラムの設定値を
求めることにより得られることが特徴となっている。

又、上記較正工程時上記測定チャネルのダイアフラムを
調整することによりほぼ平衡状態に上記測定及び基準チ
ャネルが設定されるようになっている。

又、上記測定及び基準チャネルの光強度は光度計の光に
より生じた電圧を更に基準測定装置部により比較するこ
とで上記光強度が比較され上記光強度の平衡状態に対応
する上記基準測定装置の零値が上記両チャネルに光遮蔽
用カバーを与えることにより暗（dark）電圧値として求
められる。

更に、上記較正及び被測定サンプル測定工程に於いては
記録及び演算用の制御ユニットにより制御される。較正
工程時得られた上記両チャネルのダイアフラムの設定値
が記録される。使用中のチャネル内フィルタも測定チャ
ネルのダイアフラムも各被測定サンプル時以前に求め記
録した位置に向かい又上記制御ユニットにより被測定サ
ンプルの反射率値が記録された較正工程での値に基づき
演算される。

次に本発明に係る反射率測定装置に於いて、上記制御ユ
ニットは現在使用中の上記標準サンプルが較正工程にて
設定された位置に来るよう上記測定チャネルのダイアフ
ラムを調整するようになっている。更に、上記基準チャ
ネルと測定チャネルに対しフィルタが設けられており、
上記制御ユニットは各々が較正時に使用されるフィルタ
に対して上記測定チャネル及び基準チャネルにフィルタ
を移動させるようになっている。

又、上記基準チャネルの測定ダイアフラムの調整モータ
はステップ式モータにより構成されている。

又、上記基準チャネルのダイアフラム用の調整モータは
サーボモータで構成されている。

本発明は以下の基本原理に基づいている。即ち、上記基
準チャネルの測定ダイアフラムにより較正及び被測定サ
ンプル測定工程時上記測定及び基準チャネルが正確に平
衡状態に設定される。

上記従来のエルレエフオ（Elrepho）測定装置に於いて
は、上記基準チャネルの測定ダイアフラムはウエッジ状
の”グレイウエッジ（gray wedge）ダイアフラムにより
大略構成された測定チャネル側のダイアフラムよりも更
に精度が高い。本発明は従前のものよりも更に精度が高
い較正工程での測定を実現している。

上記測定チャネルが上記両チャネルに於る光強度の平衡
状態に対応する位置に設定されるように望む場合、上記
チャネルのダイアフラムにより近似的におこなわれるこ
とは勿論である。その後ダイアフラムにより精度の高い
調整が行われる。

本発明は上記基準チャネルに於る全体の測定目盛付け、
即ちサンプル測定に於ける測定ダイアフラムの目盛（ス
ケール）と測定スケールの設定は較正工程に於ける測定
と関連して求められる。所望ならば、別々の標準のサン
プルを幾つか使用することができる。例えば、上記基準
チャネルの上記測定ダイアフラムの尺度（スケール）全
体に沿って０％反射率付近、５０％反射率、及び１００
％反射率付近というようにである。そして所望ならば、
他の目盛点についても使用できる。この場合、反射率と
測定ダイアフラムの目盛の依存度は例えば被測定サンプ
ルに於いてグラフにより求めることができる。

本発明に係る実施例に於いて、コンピュータの制御下で
上記測定チャネルのダイアフラム及び上記基準チャネル
のダイアフラムの位置を自動的に調整する制御ユニット
を使用している。上記記録及び演算用制御ユニットはそ
の制御下で行われた測定値に基づき被測定サンプルの反
射率を演算している。

更に、上記制御ユニットは上記測定及び基準チャネルで
使用されるフィルタを制御するように配置されておりそ
のため上記測定は所望の波長で行われる。

更に、上記制御ユニットは例えば上記測定チャネルのダ
イアフラムを再現可能な位置に調整することができるよ
うになっている。この再現可能な位置は上記較正工程に
関連して再現されるものである。

上記基準チャネルの測定ダイアフラム及び測定チャネル
のダイアフラムの両方またはいずれかには上記ダイアフ
ラムを調整するステップ式モータを備えるとよい。例え
ば直線ステップモータを使用する場合、測定ダイアフラ
ムのスケール（尺度）全体（100%）に対応するダイアフ
ラムの動作は例えば１０，０００個の制御インパルスに
より達成される。従って、各インパルス、即ち目盛の最
小調整可能間隔は反射率０．０１％に対応している。同
様な事が上記基準及び測定チャネルの両方に適用でき
る。

［実施例の説明］ 以下、本発明に係る実施例を図面を参照しつつ詳細に説
明する。

第１図は、反射率測定用につくられた本発明に係る反射
率測定装置の実施例を示す。

上記装置は、球型の測定室１からなる。上記測定室１は
本実施例では２つの光源２と、被測定サンプル用開口部
３と、（本実施例に於いては更に）標準サンプル用の別
の開口部１３とを備えている。上記測定室１の内側表面
１０は白色となっており上記標準サンプル用開口部に位
置する被測定サンプルと標準サンプル用開口部１３とは
拡散照射を受けている。

更に、上記装置は、測定チャネル４と基準チャネル４と
からなる。上記両チャネルは光学系（レンズ）５，１５
を各々備え上記サンプル及び標準サンプルから反射した
光を対応する測定チャネルと基準チャネルとに関連して
各々光度計６，１６に向けさせるようになっている。

更に、上記測定チャネル４と基準チャネル１４とにはダ
イアフラム７と測定ダイアフラム１７とが設けられてお
り各々上記光度計６，１６に向かう光を減光（デイミン
グ）している。更に、フィルタ８，１８によって上記対
応する光度計６，１６への光をフィルタしている。

加えて、上記装置は上記光度計の光により生じた電圧を
比較し上記両チャネルの光の強度の平衡状態を指示する
ように設けられた基準測定装置２１からなる。上記基準
測定装置２１は更に基準精度を向上するため増幅器３１
からなる。

本発明によれば、測定チャネルのダイアフラム７と基準
チャネルの測定ダイアフラム１８とには上記ダイアフラ
ム位置を調整するための電動機（モータ）２２、２３を
備えている。更に上記装置は記録及び演算制御ユニット
２４からなる。上記制御ユニット２４は較正作業時、上
記測定チャネル４のダイアフラム７を任意の再現可能な
位置に調整し上記基準チャネル１４の測定ダイアフラム
１７を上記基準測定装置２１で指示された位置に調整す
るように組み込まれている。この指示位置は上記両チャ
ネルの光強度の平衡具合に準拠しており、一方上記標準
サンプルは上記基準チャネル内例えば上記標準サンプル
用開口部１３に配置されている。更に、上記制御ユニッ
ト２４は被測定サンプルの測定時上記被測定サンプルが
上記測定チャネル、即ち上記被測定サンプル用開口部３
に配置された状態で上記両チャネルの光強度が平衡状態
となる位置に上記基準チャネル１４の測定ダイアフラム
１７を調整するようになっている。

又、上記記録及び演算制御ユニット２４は上記測定チャ
ネル４と基準チャネル１４のダイアフラム７、１７の読
取値を上記較正及び被測定サンプルに対する測定工程に
並行して記録するようにしている。又、上記制御ユニッ
ト２４は較正工程時求めた上記測定用ダイアフラム１７
の読取値に基づき上記標準サンプルの標準サンプルの標
準値である反射率の値から又、被測定サンプルの測定時
得られた上記基準チャネルの測定ダイアフラムの読取値
から被測定サンプルの反射率の値を演算するようになっ
ている。

尚、上記制御ユニット２４はキーボード２５からの命令
（order）により自動的に上記標準サンプルの測定工程
を行うようになっている。又、上記制御ユニット２４は
任意の時間に、使用中である標準サンプルの較正工程意
の準拠して上記測定チャネル４のダイアフラム７の読取
値を記録するようになっており、かつ上記基準チャネル
１４の測定用ダイアフラム１７を上記標準サンプルの測
定に対応した位置に調整するようになっている。上記装
置の較正は主に上記制御ユニット２４の制御下に即座に
行うことができる。重要な点はダイアフラム用の調整用
装置を使用しその装置により上記両ダイアフラムがある
定まった位置に再現可能なよう調整され、例えば較正ま
たはその他の工程に関連して記録されることができるこ
とである。

上記事柄に加え、上記本発明に係る装置は上記測定チャ
ネル４と基準チャネル１４用のフィルタを含む。尚、図
においては一対の同一フィルタ８、１８のみが示されて
いる。

尚、上記制御ユニット２４は較正工程時使用されるフィ
ルタに従って上記フィルタ８、１８を上記測定及び基準
チャネルに各々移動させるようになっている。このこと
により、上記本発明に係る装置に於いて、上記制御ユニ
ット２４には上き複数のフィルタをそれぞれ適切な場所
に案内かつ調整するようなプログラムを組み込んでい
る。従って、上記装置には多数のフィルタを備えてもよ
い。

上記基準チャネル１４の測定ダイアフラムの調製用モー
タ２３は従来から知られている複数のステップ式のイン
パルスモータから構成されている。上記インパルスモー
タは制御インパルスにより制御されている。尚、本実施
例に於ける反射率測定装置の測定目盛り全体は１００％
が例えば１０００、５０００、１０，０００、２０，０
００、５０，０００又は１００，０００インパルスに対
応している。

この場合、所定の間隔で得られる精度は1/10%から1/100
0%の間である。同様に、上記測定チャネル４のダイアフ
ラム７の調整用モータ２２は複数のステッピング式イン
パルスモータから構成されている。

以下、本発明に係る反射率測定方法及び装置に使用した
場合の、反射率測定手順を説明する。

上記手順の第１段階は、１回又は数回の較正に対する測
定を介して測定の目盛（スケール）を規定することであ
る。

上記較正工程に於いては、例えば図面に示していない閉
塞板により測定チャネルを先ず完全にひかりを通過させ
ないように閉塞状態に選ぶ。と同時に、上記基準測定装
置２１の零出力値が上記両チャネルの光の強度の平衡状
態に対応させておく。

その後、上記チャネル４、１４の両ダイアフラム７、１
７を解放し、上記基準チャネル１４側の測定ダイアフラ
ム１７を任意の位置、例えば標準サンプルの既知である
反射率の値に近い推定位置に設定する。次に、上記測定
チャネル４のダイアフラム７を両チャネルが大略平衡状
態即ち上記両チャネルの光強度が等しい程度にまで閉塞
する。この時、ダイアフラム７の位置は上記制御ユニッ
ト２４で記録しておく。その後、上記測定ダイアフラム
１７を上記両チャネルの光強度が平衡状態に正確に対応
している位置即ち上記最初の段階で定義した上記基準測
定装置２１が零出力値を取る位置に調整する。

上記測定ダイアフラム１７の位置に準拠している設定値
は上記標準の被測定体の反射率の値に対応していること
に注意されたい。

同様にして、数回の標準のサンプルの測定をそれぞれ異
なった標準サンプルを用いて行うことができる。例え
ば、複数の標準サンプルは反射率が０％から１００％ま
での間にあるものである。上記数回の測定工程時、上記
測定チヤネル４のダイヤフラム７は全体として、同一位
置に適当に維持され、そのため測定ダイヤフラム１７の
位置に反射率が関係し一連の測定終了後、例えば第３図
に示したグラムが求められる。

尚、第３図は、反射率の値と直線目盛との相互関係を示
すグラフである。

その後、測定サンプルの測定が迅速に、且つ容易に上記
測定チヤネルのダイヤフラムを較正工程で設定された位
置に調節し、又上記説明のように、光強度平衡状態での
基準チヤネルの測定ダイヤフラムの設定値を求めること
により行うことができる。

被測定サンプルの反射率の値は、上記較正に対する測定
結果に基づいて演算することができる。

或る波長での被測定サンプルの反射率の値を検査したい
場合、第１図に示すように上記制御ユニット２４のよ
り、所望の同一フィルタ、例えば、フィルタ８、１８を
上記測定チヤネルと基準チヤネルとに、各々移動するこ
とが指示される。

その後、上記較正工程及び、被測定サンプルの測定は例
えば、上述したように、フィルタを介して行うことがで
きる。

第２図は、本発明に係る反射率測定装置のブロック図で
ある。

第２図に於いて、上記キーボード２５が上記記録及び演
算用制御ユニット２４に接続されている。上記測定チャ
ネル４のダイアフラム７のアクチュエータ２２を制御し
同様に上記基準チャネル１４のダイアフラム１７のアク
チュエータ２３をも制御する。更に、上記制御ユニット
２４は上記基準測定装置２１から送られた測定信号を受
け取る。上記測定信号荷基づき上記基準チャネル４の測
定ダイアフラム１７が制御される。

これに加えて、本実施例では較正用サンプル即ち標準サ
ンプル用のアクチュエータ３２と被測定サンプルの移動
用装置３３が上記測定用室１のじょうき開口部１３、３
へ上記制御対象の標準サンプル及び実被測定サンプルが
各々移動させることとなる。

第４の図は４回の測定により得られた測定結果をグラフ
に表したものである。

第４図に於いて、連続した実線は通常の上記エルレエフ
オ（Elrepho）装置により行われた測定値を示し、点線
は第１図に示した既知の反射率値を有する被測定サンプ
ルから得た本発明に係る上記測定装置により行われた測
定値を示す。

上記２つの装置の両方とも、較正測定工程は上述の通り
行われる、同じ既知の被測定サンプルを使用して行われ
た。第４図に示す測定結果から従来の方法による最大誤
差ｄＰは0.7%であり本発明に係る上記方法による最大誤
差ｄＰは0.03%であったことが判明した。上記実施例で
は上記測定チャネル４と基準チャネル１４のダイアフラ
ム７、１７に対して使用したアクチュエータとして各々
ステップ式インパルスモータを示しているが、これに限
らず例えばサーボモータ等の精密なモータのようなもの
でも使用できる。

被測定サンプルの反射率値は反射率が基準チャネルのダ
イアフラムの設定値Ｎに直線的に依存する場合例えば第
３図（連続する実線）に示す測定結果から求める。第３
図（実線）から求める反射率Ｒｘは以下に示す式より得
られる。

ここでR1及びR2は上記較正工程時使用した標準の被測定
サンプルの反射率値を示し、Nm，N1及びN2は被測定サン
プル測定と較正工程とで各々得られた基準チャネルの設
定値を示す。一方、反射率値が上記基準チャネルのダイ
アフラムの設定値に非直線的（第３図の点線）に依存す
る場合、反射率値Ryは第３図に示すグラフにより上記基
準チャネルのダイアフラムの設定値Nnに基づき求められ
る。

上記実施例では上記測定室１は球状であるがそれ以外に
半球状でも他の型のものでもよい。更に上記測定室内の
光源は１つ以上の任意の数あればよく連続的に光を発生
してもパルス状に発生してもよい。又、上記測定室のフ
ィルタは通常の光学フィルタ又は例えばゲート又はプリ
ズムを備えたモノクロメータでもよい。

［発明の効果］ 本発明に係る反射率測定方法及び装置を用いれば、性能
に関する試験から得られた反射率精度はコンピュータに
よる制御とステップ式インパルスモータを上記基準チャ
ネルと測定チャネルとのダイアフラムの調整用に使用し
た場合0.001%にまで上昇した。これに対し、上記従来技
術を使用することで得られる精度は最高で0.3%と問題の
あるところである。

本発明に係る反射率測定方法及び装置により、フィルタ
の選択、調整、目盛の較正及び被測定サンプルの測定自
体は全てひじょうに短時間で行うことができる。これは
従来の装置で測定するのに必要な時間の例えば1/10であ
る。その他、本発明に係る反射率測定方法及び対応する
装置の有する効果は従来よりも優れたものを呈する。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明に係る反射率測定装置の実施例を占める
概略図であり、 第２図は本発明に係る反射率測定方法を適用した測定装
置のブロック図であり、 第３図は、本発明に係る上記方法及び装置に因り行われ
た測定に於ける反射率と直線目盛との相互関係を示すグ
ラフであり、 第４図は既知のエルレエフオ（Elrepho）装置（エルレ
エフオはElectric Reflectance Photometerの略称）に
より得られた測定値と比較した本発明に係る上記方法に
より行われた測定結果を示すグラフである。 （符号の説明） １…測定室、５…光学系（レンズ） ２…光源、１５…光学系（レンズ） ３…被測定体用開口部、６，１６…光度計 １３…標準被測定体用開口部 ４…測定チャネル ７…測定チャネル内のダイアフラム １４…基準チャネル １７…基準チャネル内のダイアフラム ８…フィルタ １８…フィルタ ２１…基準測定装置 ２２、２３…モータ ２４…記録及び演算用制御ユニット ２５…キーボード ３１…増幅器 ３２…アクチュエータ ３３…移動用装置 ３４…アクチュエータ ３５…アクチュエータ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】(a)各々ダイヤフラム部材を配設した測定
   チヤネルと基準チヤネルとを備えた反射率計を設け、 (b)前記測定チヤネルと前記基準チヤネルとに於ける光
   強度を検出し、標準サンプルを前記基準チヤネルに配置
   しかつ前記測定チヤネルのダイヤフラム部材を任意の位
   置に設定した状態で前記基準チヤネルの測定ダイヤフラ
   ム部材を介して前記測定チヤネルと基準チヤネル間の検
   出した光強度が平衡状態となるように前記測定ダイヤフ
   ラム部材を介し前記基準チヤネルを減光することで前記
   反射率計を較正し、 (c)被測定サンプルを前記測定チヤネルに配置した状態
   で前記基準チヤネルの測定ダイヤフラムを介して前記測
   定チヤネルと基準チヤネルとで検出された光強度が平衡
   状態になるように調節することにより被測定サンプルの
   反射率を測定し、 (d)前記較正工程に於ける前記基準チヤネルの測定ダイ
   ヤフラムの設定値に基づき、前記標準サンプルの反射率
   の値から被測定サンプルの反射率の値を演算する工程か
   らなることを特徴とする反射率測定方法。
2. 【請求項２】(a)少なくとも１の光源とサンプル用開口
   部戸を有し、前記開口部に配置されたサンプルが拡散照
   射されるようになつた測定室と、 (b)被測定サンプルから反射された光を光度計に案内す
   る光学系と前記光度計に向かう光を減光するダイヤフラ
   ムと前記光度計に向かう光をフイルタするフイルタとを
   備えた測定チヤネルと、 (c)前記測定チヤネルの光を別の光度計に案内する光学
   系と前記別の光度計に向かう光を減光する測定ダイヤフ
   ラムと前記別の光度計に向かう光をフイルタするフイル
   タとを備えた基準チヤネルと、 (d)前記両光度計の光により生じた電圧を比較し前記両
   チヤネルの光強度が平衡状態であれば指示する基準測定
   装置部と、 (e)前記測定チヤネルのダイヤフラム及び前記基準チヤ
   ネルの測定ダイヤフラムに設けられ両ダイヤフラムを調
   整するモータと、 (f)較正時、標準のサンプルを前記基準チヤネルに配置
   し前記測定チヤネルのダイヤフラムを任意の再現可能な
   位置に前記基準チヤネルの測定ダイヤフラムを前記基準
   測定部により指示された前記両チヤネルの光強度が平衡
   状態となる位置に設定し、前記被測定サンプルの測定時
   前記被測定サンプルを前記測定チヤネルに配置し前記基
   準測定装置部により指示される前記両チヤネルの光強度
   が平衡状態となる位置に前記基準チヤネルの測定ダイヤ
   フラムを調整し、前記較正及び被測定サンプル測定時に
   前記両ダイヤフラムの設定値を記録し、前記標準サンプ
   ルの反射率の値から前記較正時求めた前記基準チヤネル
   の測定ダイヤフラムの設定値と前記被測定サンプル測定
   時に得た前記基準チヤネルの測定ダイヤフラムの設定値
   とに基づき被測定サンプルの反射率の値を演算する記録
   及び演算用制御ユニツトからなることを特徴とする反射
   率測定装置。