JPS6213731B2 - - Google Patents
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- JPS6213731B2 JPS6213731B2 JP55089995A JP8999580A JPS6213731B2 JP S6213731 B2 JPS6213731 B2 JP S6213731B2 JP 55089995 A JP55089995 A JP 55089995A JP 8999580 A JP8999580 A JP 8999580A JP S6213731 B2 JPS6213731 B2 JP S6213731B2
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- resin
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、映像信号、音響信号などの信号をレ
ーザ光により基材上の薄膜部材に記録し、その記
録した信号を再びレーザ光により再生するときに
使用する記録再生用部材の改良された製造方法に
関するものである。
ーザ光により基材上の薄膜部材に記録し、その記
録した信号を再びレーザ光により再生するときに
使用する記録再生用部材の改良された製造方法に
関するものである。
信号を光学的に高密度で記録再生する方式は大
別すると、いわゆる光学的ビデオデイスク方式と
ヒートモード記録方式との2種類である。各方式
を簡単に説明する。先ず、ビデオデイスク方式と
は、信号を基板上の凹凸として形成しておき、そ
の部分の反射率が信号と対応して異ることを利用
して再生するものである(特開昭47−37407号公
報)。この方式は主として再生専用のデイスクシ
ステムとして開発されたものであり、デイスク
は、高出力のレーザ発振器と高精度の機構系とを
用いて作られた原盤から機械的スタンプによつて
製作される。従つて同一の信号が記録された複製
盤を多数製作するのには向くが、任意の信号を即
時に記録することは不可能である。この方式に対
して、ヒートモード記録方式とは比較的低出力の
レーザを用いて任意の信号を実時間で記録し、後
処理をすることなく直ちに再生できるものであ
る。このヒートモード記録方式は、薄膜部材がレ
ーザ光を吸収して昇温しその状態が変化すること
を利用して記録を行つている。以下、図面により
ヒートモード記録方式を説明する。
別すると、いわゆる光学的ビデオデイスク方式と
ヒートモード記録方式との2種類である。各方式
を簡単に説明する。先ず、ビデオデイスク方式と
は、信号を基板上の凹凸として形成しておき、そ
の部分の反射率が信号と対応して異ることを利用
して再生するものである(特開昭47−37407号公
報)。この方式は主として再生専用のデイスクシ
ステムとして開発されたものであり、デイスク
は、高出力のレーザ発振器と高精度の機構系とを
用いて作られた原盤から機械的スタンプによつて
製作される。従つて同一の信号が記録された複製
盤を多数製作するのには向くが、任意の信号を即
時に記録することは不可能である。この方式に対
して、ヒートモード記録方式とは比較的低出力の
レーザを用いて任意の信号を実時間で記録し、後
処理をすることなく直ちに再生できるものであ
る。このヒートモード記録方式は、薄膜部材がレ
ーザ光を吸収して昇温しその状態が変化すること
を利用して記録を行つている。以下、図面により
ヒートモード記録方式を説明する。
第1図において、変調信号電流が情報処理装置
1からレーザ光源2に印加され、その変調信号電
流に応じて強度変調されたレーザ光がレーザ光源
2から出力されて、レンズ3により収束され、基
材4を通して薄膜部材5に照射される。この場
合、レーザ光は、高密度な情報記録を行うために
絞りこまれており、薄膜部材5上の直径1μm程
度の微少な面積の部分に照射される。そして、薄
膜部材5上のレーザ光が照射された部分は、レー
ザ光を吸収して昇温し、その状態がレーザ光の強
度に応じて変化する。このように、ヒートモード
記録方式においては、レーザ光を使つて薄膜部材
の温度を上げ、その薄膜部材の状態を変化させて
記録を行つているので、薄膜部材および基材の熱
伝導が記録の感度を大きく支配している。
1からレーザ光源2に印加され、その変調信号電
流に応じて強度変調されたレーザ光がレーザ光源
2から出力されて、レンズ3により収束され、基
材4を通して薄膜部材5に照射される。この場
合、レーザ光は、高密度な情報記録を行うために
絞りこまれており、薄膜部材5上の直径1μm程
度の微少な面積の部分に照射される。そして、薄
膜部材5上のレーザ光が照射された部分は、レー
ザ光を吸収して昇温し、その状態がレーザ光の強
度に応じて変化する。このように、ヒートモード
記録方式においては、レーザ光を使つて薄膜部材
の温度を上げ、その薄膜部材の状態を変化させて
記録を行つているので、薄膜部材および基材の熱
伝導が記録の感度を大きく支配している。
第2図は、従来の記録再生用部材の構成を示し
たもので、4は円盤状の光学的に透明な基材、5
は基材4上に真空蒸着法により形成された薄膜部
材である。ここで、薄膜部材5の厚さは数100Å
ないし数1000Åである。このように構成された従
来例では、薄膜部材5にレーザ光が照射され、そ
の照射された部分に熱が発生しても、その熱が薄
膜部材5の他の部分および基材4へ熱伝導により
移行してしまうために、記録感度が低いという欠
点があつた。そこで提案されたのが、第3図に示
したような構成の記録再生用部材である。第3図
において、レーザ光は薄膜部材5の凸部5aまた
は凹部5bに照射される。いま、薄膜部材5の凸
部5aを情報記録トラツクとすると、レーザ光は
凸部5aに照射され、その凸部5aに発生した熱
は凹部5bへ伝導しにくいために記録感度が著し
く高くなる。第3図に示した記録再生用部材は、
あらかじめ凹凸を設けた基材4上に薄膜部材5を
真空蒸着法により蒸着させて製作する。ここで、
薄膜部材5の凸部5aを情報トラツクとすると、
高密度な記録を行うためには凸部5aの幅が約1
μm、凹部5bの幅が数μmで、凸部5aあるい
は凹部5bの高さ(深さ)は数100Åないし数
1000Åにする必要がある。そこで、その凹凸に対
応して基材4上に凸部4aおよび凹部4bを形成
する必要がある。基材4上にこのような凹凸を形
成する方法としては、スタンピング法、インジエ
クシヨン法などが知られている。しかしながら、
スタンピング法は再現性が悪く、製造時間がかか
るという欠点がある。またインジエクシヨン法で
は、薄くて直径の大きい円盤状の基材を作ること
が困難である。
たもので、4は円盤状の光学的に透明な基材、5
は基材4上に真空蒸着法により形成された薄膜部
材である。ここで、薄膜部材5の厚さは数100Å
ないし数1000Åである。このように構成された従
来例では、薄膜部材5にレーザ光が照射され、そ
の照射された部分に熱が発生しても、その熱が薄
膜部材5の他の部分および基材4へ熱伝導により
移行してしまうために、記録感度が低いという欠
点があつた。そこで提案されたのが、第3図に示
したような構成の記録再生用部材である。第3図
において、レーザ光は薄膜部材5の凸部5aまた
は凹部5bに照射される。いま、薄膜部材5の凸
部5aを情報記録トラツクとすると、レーザ光は
凸部5aに照射され、その凸部5aに発生した熱
は凹部5bへ伝導しにくいために記録感度が著し
く高くなる。第3図に示した記録再生用部材は、
あらかじめ凹凸を設けた基材4上に薄膜部材5を
真空蒸着法により蒸着させて製作する。ここで、
薄膜部材5の凸部5aを情報トラツクとすると、
高密度な記録を行うためには凸部5aの幅が約1
μm、凹部5bの幅が数μmで、凸部5aあるい
は凹部5bの高さ(深さ)は数100Åないし数
1000Åにする必要がある。そこで、その凹凸に対
応して基材4上に凸部4aおよび凹部4bを形成
する必要がある。基材4上にこのような凹凸を形
成する方法としては、スタンピング法、インジエ
クシヨン法などが知られている。しかしながら、
スタンピング法は再現性が悪く、製造時間がかか
るという欠点がある。またインジエクシヨン法で
は、薄くて直径の大きい円盤状の基材を作ること
が困難である。
本発明は、上記のような方法の欠点を解消する
ために、あらかじめ凹凸を設けた原盤と基材との
間に紫外線硬化樹脂を注入し紫外線を照射して、
その紫外線硬化性樹脂の表面に凹凸を形成するこ
とにより、均質で高品質な記録再生用部材を、高
速に再現性よく製造する方法を提供するものであ
る。
ために、あらかじめ凹凸を設けた原盤と基材との
間に紫外線硬化樹脂を注入し紫外線を照射して、
その紫外線硬化性樹脂の表面に凹凸を形成するこ
とにより、均質で高品質な記録再生用部材を、高
速に再現性よく製造する方法を提供するものであ
る。
次に本発明の実施例について説明する。まず初
めに、本発明の製造方法の構成要素である原盤の
作製から説明する。
めに、本発明の製造方法の構成要素である原盤の
作製から説明する。
第4図において21はガラス製円盤、22はフ
オトレジスト層である。先ず、ガラス円盤21に
厚さ0.5mmの金属製のスペーサ23をはさんで平
面度のよい厚さ5mmの石英ガラス板24を配置
し、スペーサ23によつて厚さの決定される空間
に、触媒によつて硬化する液状の透明シリコンゴ
ム25を注入し硬化させる。シリコンゴム25と
しては例えば信越化学製の二液性シリコンRTV
ゴムKE103RTVを用いる。この際石英ガラス板
24とシリコンゴム25との接着性をよくするた
めにあらかじめ石英ガラス板24のシリコンゴム
25に接する面にプライマーを塗布しておく。常
温で約1日放置しシリコンゴム25を硬化させた
後、ガラス円盤21およびフオトレジスト層22
からシリコンゴム25を剥離する。この石英ガラ
ス板24およびシリコンゴム25からなる原盤を
約200℃で4時間以上熱処理して、シリコンゴム
25の重合を完了させる。ここで石英ガラス24
およびシリコンゴム25は紫外線を透過する。石
英ガラス板24の厚さは、紫外線透過率および平
面度、ソリ等の条件から選ばれ、直径約30cmの原
盤を作る場合には厚さ5〜20mmが適当である。シ
リコンゴム25の厚さも紫外線透過率、強度等か
ら選ばれるが0.3〜5mmが適当である。
オトレジスト層である。先ず、ガラス円盤21に
厚さ0.5mmの金属製のスペーサ23をはさんで平
面度のよい厚さ5mmの石英ガラス板24を配置
し、スペーサ23によつて厚さの決定される空間
に、触媒によつて硬化する液状の透明シリコンゴ
ム25を注入し硬化させる。シリコンゴム25と
しては例えば信越化学製の二液性シリコンRTV
ゴムKE103RTVを用いる。この際石英ガラス板
24とシリコンゴム25との接着性をよくするた
めにあらかじめ石英ガラス板24のシリコンゴム
25に接する面にプライマーを塗布しておく。常
温で約1日放置しシリコンゴム25を硬化させた
後、ガラス円盤21およびフオトレジスト層22
からシリコンゴム25を剥離する。この石英ガラ
ス板24およびシリコンゴム25からなる原盤を
約200℃で4時間以上熱処理して、シリコンゴム
25の重合を完了させる。ここで石英ガラス24
およびシリコンゴム25は紫外線を透過する。石
英ガラス板24の厚さは、紫外線透過率および平
面度、ソリ等の条件から選ばれ、直径約30cmの原
盤を作る場合には厚さ5〜20mmが適当である。シ
リコンゴム25の厚さも紫外線透過率、強度等か
ら選ばれるが0.3〜5mmが適当である。
以上のようにして製作された原盤を用いて基材
上に凹凸の表面をもつ樹脂層を形成する方法を説
明する。第5図において透明で光学的に均質な基
材7は表面が平坦な定盤12上におかれている。
さらにスペーサ9上には紫外線を通す原盤8がお
かれている。スペーサ9によつて厚さの決定され
る空間に紫外線硬化性樹脂を注入し、紫外線発生
源10より発生する紫外線11を原盤8を通して
照射し、紫外線硬化性樹脂を重合硬化させ樹脂層
6を形成する。そして、樹脂層6を原盤8から剥
離することにより基材7上に表面に凹凸の形状が
設けられた樹脂層6を設けることができる。この
ような方法によれば、基材の紫外線透過性の有無
にかかわらず、基材上に凹凸の表面をもつ樹脂層
を形成することができる。以下、具体的に説明す
る。基材7は厚さ1mmの硬質ポリ塩化ビニル樹脂
のシートを用いる。原盤8は、前述のような厚さ
5mmの石英ガラス板上に厚さ0.5mmの透明シリコ
ンゴムによつて凹凸を形成したものを用いる。こ
の原盤の凹凸は、巾0.8μm、高さ700Åの凸状の
トラツクがピツチ1.6μmの同心円状に設けられ
ている。紫外線硬化性樹脂としては、通常ポリ塩
化ビニル樹脂の塗料として用いられているアクリ
レート系の紫外線硬化性組成物、例えば日本ペイ
ント製MT−1を用いる。スペーサ9として厚さ
1.1mmの金属板を用いる。このスペーサ9を第5
図のように基材7および樹脂層6の総厚さを規制
するように配置することにより、基材7の厚みム
ラ、表面のキズ等にかかわりなく総厚さを精度よ
く規制できる。紫外線発生源10としては単位長
当りの消費電力が80W/cm程度の高圧水銀灯を用
いる。第5図のような配置で高圧水銀灯の直下5
cmのところを4m/分の速度で定盤12を移動さ
せ紫外線を照射することにより紫外線硬化性樹脂
を重合硬化させ樹脂層6を形成することができ
る。そして、樹脂層6を原盤8から剥離する。原
盤8の紫外線硬化性樹脂に接する面はシリコンゴ
ムからなつているので剥離性は非常によい。この
ようにして作られたポリ塩化ビニルシートおよび
紫外線硬化性樹脂の総厚さのバラツキは±30μm
以内に納まることが確認できた。この結果、記録
再生の際に開口数の大きいレンズを用いても直径
のビームに絞ることができるため、記録密度を上
げることができる。
上に凹凸の表面をもつ樹脂層を形成する方法を説
明する。第5図において透明で光学的に均質な基
材7は表面が平坦な定盤12上におかれている。
さらにスペーサ9上には紫外線を通す原盤8がお
かれている。スペーサ9によつて厚さの決定され
る空間に紫外線硬化性樹脂を注入し、紫外線発生
源10より発生する紫外線11を原盤8を通して
照射し、紫外線硬化性樹脂を重合硬化させ樹脂層
6を形成する。そして、樹脂層6を原盤8から剥
離することにより基材7上に表面に凹凸の形状が
設けられた樹脂層6を設けることができる。この
ような方法によれば、基材の紫外線透過性の有無
にかかわらず、基材上に凹凸の表面をもつ樹脂層
を形成することができる。以下、具体的に説明す
る。基材7は厚さ1mmの硬質ポリ塩化ビニル樹脂
のシートを用いる。原盤8は、前述のような厚さ
5mmの石英ガラス板上に厚さ0.5mmの透明シリコ
ンゴムによつて凹凸を形成したものを用いる。こ
の原盤の凹凸は、巾0.8μm、高さ700Åの凸状の
トラツクがピツチ1.6μmの同心円状に設けられ
ている。紫外線硬化性樹脂としては、通常ポリ塩
化ビニル樹脂の塗料として用いられているアクリ
レート系の紫外線硬化性組成物、例えば日本ペイ
ント製MT−1を用いる。スペーサ9として厚さ
1.1mmの金属板を用いる。このスペーサ9を第5
図のように基材7および樹脂層6の総厚さを規制
するように配置することにより、基材7の厚みム
ラ、表面のキズ等にかかわりなく総厚さを精度よ
く規制できる。紫外線発生源10としては単位長
当りの消費電力が80W/cm程度の高圧水銀灯を用
いる。第5図のような配置で高圧水銀灯の直下5
cmのところを4m/分の速度で定盤12を移動さ
せ紫外線を照射することにより紫外線硬化性樹脂
を重合硬化させ樹脂層6を形成することができ
る。そして、樹脂層6を原盤8から剥離する。原
盤8の紫外線硬化性樹脂に接する面はシリコンゴ
ムからなつているので剥離性は非常によい。この
ようにして作られたポリ塩化ビニルシートおよび
紫外線硬化性樹脂の総厚さのバラツキは±30μm
以内に納まることが確認できた。この結果、記録
再生の際に開口数の大きいレンズを用いても直径
のビームに絞ることができるため、記録密度を上
げることができる。
以上、詳細に説明したようにして製作された樹
脂層上に、真空蒸着法により薄膜部材を形成す
る。例えば、テルルの低酸化物により薄膜部材を
形成する場合は、二酸化テルルTeO2をタングス
テンボードを用いて真空中で加熱しタングステン
による還元を行ないながら蒸発させ樹脂層に蒸着
させることによつて薄膜部材を形成することがで
きる。
脂層上に、真空蒸着法により薄膜部材を形成す
る。例えば、テルルの低酸化物により薄膜部材を
形成する場合は、二酸化テルルTeO2をタングス
テンボードを用いて真空中で加熱しタングステン
による還元を行ないながら蒸発させ樹脂層に蒸着
させることによつて薄膜部材を形成することがで
きる。
以上、説明したように、本発明によれば次のよ
うな利点がある。
うな利点がある。
(1) μオーダの微細な形状の凹凸を再現性よく形
成することができ、再生に際してノイズの少な
い情報記録再生用部材を提供できる。
成することができ、再生に際してノイズの少な
い情報記録再生用部材を提供できる。
(2) 配向の少ない光学的に均質な樹脂基材を形成
することができ、再生に際してノイズの少ない
情報記録再生用部材を提供できる。
することができ、再生に際してノイズの少ない
情報記録再生用部材を提供できる。
(3) 厚みムラの小さい樹脂基材を形成することが
でき、高密度な記録再生が行なえる情報記録再
生用部材を提供できる。
でき、高密度な記録再生が行なえる情報記録再
生用部材を提供できる。
(4) 簡単な装置で高速に樹脂基材を作成でき、量
産性に富んだ製造法を提供できる。
産性に富んだ製造法を提供できる。
(5) 無公害な製造法を提供できる。
(6) 紫外線を透過しない樹脂基材上にも幾可学的
な凹凸を形成することができ、例えばポリ塩化
ビニル樹脂のような低コストな原材料を用いる
ことができる。
な凹凸を形成することができ、例えばポリ塩化
ビニル樹脂のような低コストな原材料を用いる
ことができる。
(7) 加熱工程がないのでソリ、ひずみの少ない樹
脂基材を形成でき高品質な情報記録再生用部材
を提供できる。
脂基材を形成でき高品質な情報記録再生用部材
を提供できる。
第1図は情報を記録する機構を示した図、第2
図は従来の記録再生用部材の断面図、第3図は先
に提案された記録再生用部材の断面図、第4図は
原盤の製造方法の説明図、第5図は本発明の一実
施例の光学的情報記録再生用部材の製造法の説明
図である。 6……樹脂層、7……基材、8……原盤、9…
…スペーサ、10……紫外線発生源、11……紫
外線、12……定盤。
図は従来の記録再生用部材の断面図、第3図は先
に提案された記録再生用部材の断面図、第4図は
原盤の製造方法の説明図、第5図は本発明の一実
施例の光学的情報記録再生用部材の製造法の説明
図である。 6……樹脂層、7……基材、8……原盤、9…
…スペーサ、10……紫外線発生源、11……紫
外線、12……定盤。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 あらかじめ凹凸を設けた紫外線透過性の原盤
と光学的に透明な基材との間に紫外線硬化性樹脂
を注入し、前記原盤を通して紫外線を照射するこ
とにより前記注入された紫外線硬化性樹脂を重合
硬化させて前記基材上に凹凸の表面を持つ樹脂層
を形成することを特徴とする光学的情報記録再生
用部材の製造方法。 2 基材は、ポリメチルメタアクリレート樹脂シ
ートからなることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の光学的記録再生用部材の製造方法。 3 基材は、ポリ塩化ビニル樹脂シートからなる
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光
学的記録再生用部材の製造方法。 4 定盤上に基材を置き、前記定盤に対してスペ
ーサを介して前記原盤を配置し、スペーサにより
厚さの決定される空間に紫外線硬化性樹脂を注入
し、前記基材および紫外線硬化性樹脂層の総厚さ
を決定することを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の光学的情報記録再生用部材の製造方法。 5 前記原盤は、紫外線透過率の高い材質で構成
され、前記紫外線硬化性樹脂に原盤を通して紫外
線を照射することを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の光学的情報記録再生用部材の製造方
法。 6 前記原盤は、透明石英ガラスおよび透明シリ
コンゴムからなることを特徴とする特許請求の範
囲第5項記載の光学的情報記録再生用部材の製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8999580A JPS5715235A (en) | 1980-07-03 | 1980-07-03 | Manufacture of member for optical information recording and reproduction |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8999580A JPS5715235A (en) | 1980-07-03 | 1980-07-03 | Manufacture of member for optical information recording and reproduction |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5715235A JPS5715235A (en) | 1982-01-26 |
JPS6213731B2 true JPS6213731B2 (ja) | 1987-03-28 |
Family
ID=13986183
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8999580A Granted JPS5715235A (en) | 1980-07-03 | 1980-07-03 | Manufacture of member for optical information recording and reproduction |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5715235A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58150147A (ja) * | 1982-03-03 | 1983-09-06 | Toyobo Co Ltd | 光学デイスク |
JPH0610886B2 (ja) * | 1984-11-01 | 1994-02-09 | 株式会社リコー | 光情報記録媒体 |
JPS61175946A (ja) * | 1985-01-29 | 1986-08-07 | Victor Co Of Japan Ltd | 情報記録媒体製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5386756A (en) * | 1976-10-15 | 1978-07-31 | Philips Nv | Plastic information carrier duplicating process and plastic record carrier and molding resin |
JPS54130102A (en) * | 1978-03-16 | 1979-10-09 | Philips Nv | Method of writing information* recording carrier* recorded record carrier* and information writing and reading device |
JPS54138406A (en) * | 1978-04-17 | 1979-10-26 | Philips Nv | Information disk and method of fabricating same |
-
1980
- 1980-07-03 JP JP8999580A patent/JPS5715235A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5386756A (en) * | 1976-10-15 | 1978-07-31 | Philips Nv | Plastic information carrier duplicating process and plastic record carrier and molding resin |
JPS54130102A (en) * | 1978-03-16 | 1979-10-09 | Philips Nv | Method of writing information* recording carrier* recorded record carrier* and information writing and reading device |
JPS54138406A (en) * | 1978-04-17 | 1979-10-26 | Philips Nv | Information disk and method of fabricating same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5715235A (en) | 1982-01-26 |
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