JPS6213731B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、映像信号、音響信号などの信号をレ
ーザ光により基材上の薄膜部材に記録し、その記
録した信号を再びレーザ光により再生するときに
使用する記録再生用部材の改良された製造方法に
関するものである。

信号を光学的に高密度で記録再生する方式は大
別すると、いわゆる光学的ビデオデイスク方式と
ヒートモード記録方式との２種類である。各方式
を簡単に説明する。先ず、ビデオデイスク方式と
は、信号を基板上の凹凸として形成しておき、そ
の部分の反射率が信号と対応して異ることを利用
して再生するものである（特開昭47−37407号公
報）。この方式は主として再生専用のデイスクシ
ステムとして開発されたものであり、デイスク
は、高出力のレーザ発振器と高精度の機構系とを
用いて作られた原盤から機械的スタンプによつて
製作される。従つて同一の信号が記録された複製
盤を多数製作するのには向くが、任意の信号を即
時に記録することは不可能である。この方式に対
して、ヒートモード記録方式とは比較的低出力の
レーザを用いて任意の信号を実時間で記録し、後
処理をすることなく直ちに再生できるものであ
る。このヒートモード記録方式は、薄膜部材がレ
ーザ光を吸収して昇温しその状態が変化すること
を利用して記録を行つている。以下、図面により
ヒートモード記録方式を説明する。

第１図において、変調信号電流が情報処理装置
１からレーザ光源２に印加され、その変調信号電
流に応じて強度変調されたレーザ光がレーザ光源
２から出力されて、レンズ３により収束され、基
材４を通して薄膜部材５に照射される。この場
合、レーザ光は、高密度な情報記録を行うために
絞りこまれており、薄膜部材５上の直径１μｍ程
度の微少な面積の部分に照射される。そして、薄
膜部材５上のレーザ光が照射された部分は、レー
ザ光を吸収して昇温し、その状態がレーザ光の強
度に応じて変化する。このように、ヒートモード
記録方式においては、レーザ光を使つて薄膜部材
の温度を上げ、その薄膜部材の状態を変化させて
記録を行つているので、薄膜部材および基材の熱
伝導が記録の感度を大きく支配している。

第２図は、従来の記録再生用部材の構成を示し
たもので、４は円盤状の光学的に透明な基材、５
は基材４上に真空蒸着法により形成された薄膜部
材である。ここで、薄膜部材５の厚さは数100Å
ないし数1000Åである。このように構成された従
来例では、薄膜部材５にレーザ光が照射され、そ
の照射された部分に熱が発生しても、その熱が薄
膜部材５の他の部分および基材４へ熱伝導により
移行してしまうために、記録感度が低いという欠
点があつた。そこで提案されたのが、第３図に示
したような構成の記録再生用部材である。第３図
において、レーザ光は薄膜部材５の凸部５ａまた
は凹部５ｂに照射される。いま、薄膜部材５の凸
部５ａを情報記録トラツクとすると、レーザ光は
凸部５ａに照射され、その凸部５ａに発生した熱
は凹部５ｂへ伝導しにくいために記録感度が著し
く高くなる。第３図に示した記録再生用部材は、
あらかじめ凹凸を設けた基材４上に薄膜部材５を
真空蒸着法により蒸着させて製作する。ここで、
薄膜部材５の凸部５ａを情報トラツクとすると、
高密度な記録を行うためには凸部５ａの幅が約１
μｍ、凹部５ｂの幅が数μｍで、凸部５ａあるい
は凹部５ｂの高さ（深さ）は数100Åないし数
1000Åにする必要がある。そこで、その凹凸に対
応して基材４上に凸部４ａおよび凹部４ｂを形成
する必要がある。基材４上にこのような凹凸を形
成する方法としては、スタンピング法、インジエ
クシヨン法などが知られている。しかしながら、
スタンピング法は再現性が悪く、製造時間がかか
るという欠点がある。またインジエクシヨン法で
は、薄くて直径の大きい円盤状の基材を作ること
が困難である。

本発明は、上記のような方法の欠点を解消する
ために、あらかじめ凹凸を設けた原盤と基材との
間に紫外線硬化樹脂を注入し紫外線を照射して、
その紫外線硬化性樹脂の表面に凹凸を形成するこ
とにより、均質で高品質な記録再生用部材を、高
速に再現性よく製造する方法を提供するものであ
る。

次に本発明の実施例について説明する。まず初
めに、本発明の製造方法の構成要素である原盤の
作製から説明する。

第４図において２１はガラス製円盤、２２はフ
オトレジスト層である。先ず、ガラス円盤２１に
厚さ0.5mmの金属製のスペーサ２３をはさんで平
面度のよい厚さ５mmの石英ガラス板２４を配置
し、スペーサ２３によつて厚さの決定される空間
に、触媒によつて硬化する液状の透明シリコンゴ
ム２５を注入し硬化させる。シリコンゴム２５と
しては例えば信越化学製の二液性シリコンRTV
ゴムKE103RTVを用いる。この際石英ガラス板
２４とシリコンゴム２５との接着性をよくするた
めにあらかじめ石英ガラス板２４のシリコンゴム
２５に接する面にプライマーを塗布しておく。常
温で約１日放置しシリコンゴム２５を硬化させた
後、ガラス円盤２１およびフオトレジスト層２２
からシリコンゴム２５を剥離する。この石英ガラ
ス板２４およびシリコンゴム２５からなる原盤を
約200℃で４時間以上熱処理して、シリコンゴム
２５の重合を完了させる。ここで石英ガラス２４
およびシリコンゴム２５は紫外線を透過する。石
英ガラス板２４の厚さは、紫外線透過率および平
面度、ソリ等の条件から選ばれ、直径約30cmの原
盤を作る場合には厚さ５〜20mmが適当である。シ
リコンゴム２５の厚さも紫外線透過率、強度等か
ら選ばれるが0.3〜５mmが適当である。

以上のようにして製作された原盤を用いて基材
上に凹凸の表面をもつ樹脂層を形成する方法を説
明する。第５図において透明で光学的に均質な基
材７は表面が平坦な定盤１２上におかれている。
さらにスペーサ９上には紫外線を通す原盤８がお
かれている。スペーサ９によつて厚さの決定され
る空間に紫外線硬化性樹脂を注入し、紫外線発生
源１０より発生する紫外線１１を原盤８を通して
照射し、紫外線硬化性樹脂を重合硬化させ樹脂層
６を形成する。そして、樹脂層６を原盤８から剥
離することにより基材７上に表面に凹凸の形状が
設けられた樹脂層６を設けることができる。この
ような方法によれば、基材の紫外線透過性の有無
にかかわらず、基材上に凹凸の表面をもつ樹脂層
を形成することができる。以下、具体的に説明す
る。基材７は厚さ１mmの硬質ポリ塩化ビニル樹脂
のシートを用いる。原盤８は、前述のような厚さ
５mmの石英ガラス板上に厚さ0.5mmの透明シリコ
ンゴムによつて凹凸を形成したものを用いる。こ
の原盤の凹凸は、巾0.8μｍ、高さ700Åの凸状の
トラツクがピツチ1.6μｍの同心円状に設けられ
ている。紫外線硬化性樹脂としては、通常ポリ塩
化ビニル樹脂の塗料として用いられているアクリ
レート系の紫外線硬化性組成物、例えば日本ペイ
ント製MT−１を用いる。スペーサ９として厚さ
1.1mmの金属板を用いる。このスペーサ９を第５
図のように基材７および樹脂層６の総厚さを規制
するように配置することにより、基材７の厚みム
ラ、表面のキズ等にかかわりなく総厚さを精度よ
く規制できる。紫外線発生源１０としては単位長
当りの消費電力が80W／cm程度の高圧水銀灯を用
いる。第５図のような配置で高圧水銀灯の直下５
cmのところを４ｍ／分の速度で定盤１２を移動さ
せ紫外線を照射することにより紫外線硬化性樹脂
を重合硬化させ樹脂層６を形成することができ
る。そして、樹脂層６を原盤８から剥離する。原
盤８の紫外線硬化性樹脂に接する面はシリコンゴ
ムからなつているので剥離性は非常によい。この
ようにして作られたポリ塩化ビニルシートおよび
紫外線硬化性樹脂の総厚さのバラツキは±30μｍ
以内に納まることが確認できた。この結果、記録
再生の際に開口数の大きいレンズを用いても直径
のビームに絞ることができるため、記録密度を上
げることができる。

以上、詳細に説明したようにして製作された樹
脂層上に、真空蒸着法により薄膜部材を形成す
る。例えば、テルルの低酸化物により薄膜部材を
形成する場合は、二酸化テルルTeO₂をタングス
テンボードを用いて真空中で加熱しタングステン
による還元を行ないながら蒸発させ樹脂層に蒸着
させることによつて薄膜部材を形成することがで
きる。

以上、説明したように、本発明によれば次のよ
うな利点がある。

(1) μオーダの微細な形状の凹凸を再現性よく形
成することができ、再生に際してノイズの少な
い情報記録再生用部材を提供できる。

(2) 配向の少ない光学的に均質な樹脂基材を形成
することができ、再生に際してノイズの少ない
情報記録再生用部材を提供できる。

(3) 厚みムラの小さい樹脂基材を形成することが
でき、高密度な記録再生が行なえる情報記録再
生用部材を提供できる。

(4) 簡単な装置で高速に樹脂基材を作成でき、量
産性に富んだ製造法を提供できる。

(5) 無公害な製造法を提供できる。

(6) 紫外線を透過しない樹脂基材上にも幾可学的
な凹凸を形成することができ、例えばポリ塩化
ビニル樹脂のような低コストな原材料を用いる
ことができる。

(7) 加熱工程がないのでソリ、ひずみの少ない樹
脂基材を形成でき高品質な情報記録再生用部材
を提供できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は情報を記録する機構を示した図、第２
図は従来の記録再生用部材の断面図、第３図は先
に提案された記録再生用部材の断面図、第４図は
原盤の製造方法の説明図、第５図は本発明の一実
施例の光学的情報記録再生用部材の製造法の説明
図である。 ６……樹脂層、７……基材、８……原盤、９…
…スペーサ、１０……紫外線発生源、１１……紫
外線、１２……定盤。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ あらかじめ凹凸を設けた紫外線透過性の原盤
   と光学的に透明な基材との間に紫外線硬化性樹脂
   を注入し、前記原盤を通して紫外線を照射するこ
   とにより前記注入された紫外線硬化性樹脂を重合
   硬化させて前記基材上に凹凸の表面を持つ樹脂層
   を形成することを特徴とする光学的情報記録再生
   用部材の製造方法。 ２ 基材は、ポリメチルメタアクリレート樹脂シ
   ートからなることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項記載の光学的記録再生用部材の製造方法。 ３ 基材は、ポリ塩化ビニル樹脂シートからなる
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光
   学的記録再生用部材の製造方法。 ４ 定盤上に基材を置き、前記定盤に対してスペ
   ーサを介して前記原盤を配置し、スペーサにより
   厚さの決定される空間に紫外線硬化性樹脂を注入
   し、前記基材および紫外線硬化性樹脂層の総厚さ
   を決定することを特徴とする特許請求の範囲第１
   項記載の光学的情報記録再生用部材の製造方法。 ５ 前記原盤は、紫外線透過率の高い材質で構成
   され、前記紫外線硬化性樹脂に原盤を通して紫外
   線を照射することを特徴とする特許請求の範囲第
   １項記載の光学的情報記録再生用部材の製造方
   法。 ６ 前記原盤は、透明石英ガラスおよび透明シリ
   コンゴムからなることを特徴とする特許請求の範
   囲第５項記載の光学的情報記録再生用部材の製造
   方法。