JPS62127466A - セラミツクスが被着された部材 - Google Patents
セラミツクスが被着された部材Info
- Publication number
- JPS62127466A JPS62127466A JP60267745A JP26774585A JPS62127466A JP S62127466 A JPS62127466 A JP S62127466A JP 60267745 A JP60267745 A JP 60267745A JP 26774585 A JP26774585 A JP 26774585A JP S62127466 A JPS62127466 A JP S62127466A
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- Japan
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- gas
- ceramics
- ceramic
- reaction chamber
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、高速で摺動する部材等に好適のセラミック
スが被着された部材に関する。
スが被着された部材に関する。
〔従来の技術］
例えば、コンプレッサのシャフト、エンジンのカムシャ
フト、レーザプリンタのレーザスキャナ、及びプリンタ
のガイドロッド等のように、高速で摺動を受ける部材は
、摩耗しやすく、この８速被摺動部材の摩耗が装置の寿
命及び性能に大きな影響を及ぼしている。このため、こ
のような＾速波摺動部材には、高速度鋼及び超硬合金等
の硬くて摩耗し難い材料が使用されている。しかし、こ
れらの材料は、材料費及び加工費が高いために、コスト
が高くなることを回避せざるを得ない場合には、鋳鉄又
は快削鋼等の比較的低廉な材料を使用し、その表面を硬
化させたり、潤滑性を付与する等の対策がとられている
。また、ＴｉＮ及びＴＩＣ等の高硬度のセラミックスを
被覆して切削工具の耐摩耗性を向上させた技術も提案さ
れている。
フト、レーザプリンタのレーザスキャナ、及びプリンタ
のガイドロッド等のように、高速で摺動を受ける部材は
、摩耗しやすく、この８速被摺動部材の摩耗が装置の寿
命及び性能に大きな影響を及ぼしている。このため、こ
のような＾速波摺動部材には、高速度鋼及び超硬合金等
の硬くて摩耗し難い材料が使用されている。しかし、こ
れらの材料は、材料費及び加工費が高いために、コスト
が高くなることを回避せざるを得ない場合には、鋳鉄又
は快削鋼等の比較的低廉な材料を使用し、その表面を硬
化させたり、潤滑性を付与する等の対策がとられている
。また、ＴｉＮ及びＴＩＣ等の高硬度のセラミックスを
被覆して切削工具の耐摩耗性を向上させた技術も提案さ
れている。
［発明が解決しようとする問題点］
しかしながら、表面硬化処理には焼入れがあり、１１！
ｌ１ｆｌ性付与処理にはタフトライド処理、バーコ処理
又は黒染め二硫化モリブデンの塗布処理等があるが、い
ずれの処理も、高加重が印加され、高速回転する苛酷な
条件下では、充分な耐久性を得ることができない。
ｌ１ｆｌ性付与処理にはタフトライド処理、バーコ処理
又は黒染め二硫化モリブデンの塗布処理等があるが、い
ずれの処理も、高加重が印加され、高速回転する苛酷な
条件下では、充分な耐久性を得ることができない。
また、焼き入れ及びタフトライド処理においては、処理
温度が５００℃以上と高いので、処理中に母材の変形が
生じるおそれがあり、高い寸法精度を要求される部材に
はこれらの処理を適用することができない。
温度が５００℃以上と高いので、処理中に母材の変形が
生じるおそれがあり、高い寸法精度を要求される部材に
はこれらの処理を適用することができない。
更に、ＴｉＮ又はＴＩＣを高速被摺動部材に被覆すると
、これらのセラミックスの硬度が高いために、摺動する
相手方の摺動部材を研削してしまい、この研削屑がセラ
ミックス被膜の上に凝着して焼き付くという問題点があ
る。
、これらのセラミックスの硬度が高いために、摺動する
相手方の摺動部材を研削してしまい、この研削屑がセラ
ミックス被膜の上に凝着して焼き付くという問題点があ
る。
この発明はかかる事情に鳳みてなされたものであって、
母材に対する接着性が轟く、耐摩耗性が優れていると共
に、摺動する相手方部材を研削してしまうことがなく、
焼付の発生が抑制されたセラミックスが被着された部材
を提供することを目的とする。
母材に対する接着性が轟く、耐摩耗性が優れていると共
に、摺動する相手方部材を研削してしまうことがなく、
焼付の発生が抑制されたセラミックスが被着された部材
を提供することを目的とする。
［問題点を解決するための手段１
この発明に係るセラミックスが被着された部材は、鉄を
主成分とする母材と、この母材の表面に炭素を＾濃度で
含有する鉄の層を形成した後母材に被着され主成分が珪
素又は硼素のセラミックス層とを有することを特徴とす
る。
主成分とする母材と、この母材の表面に炭素を＾濃度で
含有する鉄の層を形成した後母材に被着され主成分が珪
素又は硼素のセラミックス層とを有することを特徴とす
る。
［作用〕
本願発明者は、硬度が高く、耐摩耗性が優れていると共
に、相手方の摺動材を研削してしまうことがないセラミ
ックス材料を開発すべく種々検討した結果、珪素又は硼
素を主成分とするセラミックスが、このような要求を充
分満足することを見出した。また、このようなセラミッ
クス材料は、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオン
ブレーティング等により母材に被着させることができる
が、処理温度が２００乃至３００℃と比較的低いため、
処理中の母材の変形を抑制することができ、高精度を要
求される部材にもこれらのセラミックスを被着させるこ
とができる。
に、相手方の摺動材を研削してしまうことがないセラミ
ックス材料を開発すべく種々検討した結果、珪素又は硼
素を主成分とするセラミックスが、このような要求を充
分満足することを見出した。また、このようなセラミッ
クス材料は、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオン
ブレーティング等により母材に被着させることができる
が、処理温度が２００乃至３００℃と比較的低いため、
処理中の母材の変形を抑制することができ、高精度を要
求される部材にもこれらのセラミックスを被着させるこ
とができる。
しかしながら、これらのセラミックスは、母材との接着
性がＴｉＮ及びＴｉＣよりも劣るという欠点がある。特
に、母材がコンプレッサシャフト等のように鋳鉄である
場合に、これらのセラミックスを成膜することは事実上
困難である。
性がＴｉＮ及びＴｉＣよりも劣るという欠点がある。特
に、母材がコンプレッサシャフト等のように鋳鉄である
場合に、これらのセラミックスを成膜することは事実上
困難である。
本願発明者は、鉄を主成分とする母材に、これらのセラ
ミックスを安定して容易に被着させるべく種々実験研究
を繰返した結果、母材の表面に炭素濃度が高い高炭素濃
度領域を形成しておくことによって、これらのセラミッ
クスを高接着性で被着させることができることを見出し
た。本願発明は、このような研究結果に基いてなされた
ものである。
ミックスを安定して容易に被着させるべく種々実験研究
を繰返した結果、母材の表面に炭素濃度が高い高炭素濃
度領域を形成しておくことによって、これらのセラミッ
クスを高接着性で被着させることができることを見出し
た。本願発明は、このような研究結果に基いてなされた
ものである。
なお、耐摩耗性が高いと共に、相手方の摺動部材を研削
してしまうことがないセラミックスとしては、窒化珪素
（ＳｉＮ）、窒化硼素（ＢＮ）、炭化珪素（Ｓ ＋ Ｃ
） 、炭化硼素（ＢＣ） 、酸化珪素（Ｓｉｎ）、炭窒
化珪素（Ｓ ｉ ＣＸ ＮＹ ） 、炭窒化硼素（ＢＣ
Ｘ ＮＹ ） 、又は炭酸化珪素（Ｓ ｉ ＣＸ ＯＹ
）等がある。これらのセラミックスは、スパッタリン
グ、イオンブレーティング、プラズマＣｖＤ、熱ＣＶＯ
，光ＣＶＤ、等の方法により製造することができるが、
母材との接着性及び一層の低温処理が可能という点を考
慮すると、プラズマＣＶＤが好ましい。
してしまうことがないセラミックスとしては、窒化珪素
（ＳｉＮ）、窒化硼素（ＢＮ）、炭化珪素（Ｓ ＋ Ｃ
） 、炭化硼素（ＢＣ） 、酸化珪素（Ｓｉｎ）、炭窒
化珪素（Ｓ ｉ ＣＸ ＮＹ ） 、炭窒化硼素（ＢＣ
Ｘ ＮＹ ） 、又は炭酸化珪素（Ｓ ｉ ＣＸ ＯＹ
）等がある。これらのセラミックスは、スパッタリン
グ、イオンブレーティング、プラズマＣｖＤ、熱ＣＶＯ
，光ＣＶＤ、等の方法により製造することができるが、
母材との接着性及び一層の低温処理が可能という点を考
慮すると、プラズマＣＶＤが好ましい。
［実施例］
以下、添附の図面を参照してこの発明の実施例について
説明する。この実施例に係るセラミックスが被着された
部材は、以下のようにして製造される。先ず、鋳鉄又は
快削鋼等のブロックからロータリコンプレッサのシャフ
ト又はプリンタのキャリッジガイド等の所定の形状に加
工成形して母材を得る。次いで、この母材の表面を炭化
処理して表層部に炭素を高濃度で含有する領域を形成す
る。その後、ＳｉＮ等のセラミックスをｆｆｌ材の表面
にコーティングする。このようにして製造されたシャフ
ト又はキャリッジガイドは、鉄を主成分とする母材の表
面がＳｉＮ等のセラミックスで被１されている。このた
め、このような部材に摺動部材が高速で摺動しても、摩
耗が抑制されると共に、摺動部材を研削してしまうこと
もない。
説明する。この実施例に係るセラミックスが被着された
部材は、以下のようにして製造される。先ず、鋳鉄又は
快削鋼等のブロックからロータリコンプレッサのシャフ
ト又はプリンタのキャリッジガイド等の所定の形状に加
工成形して母材を得る。次いで、この母材の表面を炭化
処理して表層部に炭素を高濃度で含有する領域を形成す
る。その後、ＳｉＮ等のセラミックスをｆｆｌ材の表面
にコーティングする。このようにして製造されたシャフ
ト又はキャリッジガイドは、鉄を主成分とする母材の表
面がＳｉＮ等のセラミックスで被１されている。このた
め、このような部材に摺動部材が高速で摺動しても、摩
耗が抑制されると共に、摺動部材を研削してしまうこと
もない。
次ぎに、第１図を参照して、この実施例に係るセラミッ
クスが被着された部材をプラズマＣＶＤ法により製造す
る方法について説明する。円筒状の反応室１は適宜の支
持台上にその軸方向を鉛直にして支持されていると共に
、絶縁体２を介して電気的に浮かせである。反応室１内
は、メカニカルブースタポンプ及び油回転ポンプ（図示
せず）等により排気され、約１０−３ トルの真空度に
保持されるようになっている。反応室１内には、ガス導
入口３を介して種々の原料ガスが導入される。
クスが被着された部材をプラズマＣＶＤ法により製造す
る方法について説明する。円筒状の反応室１は適宜の支
持台上にその軸方向を鉛直にして支持されていると共に
、絶縁体２を介して電気的に浮かせである。反応室１内
は、メカニカルブースタポンプ及び油回転ポンプ（図示
せず）等により排気され、約１０−３ トルの真空度に
保持されるようになっている。反応室１内には、ガス導
入口３を介して種々の原料ガスが導入される。
円筒状の１！１ｆＩ４が反応ｖ１内にその周壁に対して
同軸的に設置されており、この電極４と反応室１の周壁
との間に円筒状の拡散部材５が電極４に同軸的に設置さ
れている。この１１ｆｉ４及び拡散部材５には、夫々複
数個のガス通流孔６及び７が開設されており、ガス導入
口３を介して反応室１内に導入されたガスは、拡散部材
５のガス通流孔７及び電極４のガス通流孔６を通過して
反応室１の中心部に供給される。これにより、ガスは反
応室１の中心部に均一に拡散して供給される。電極４及
び拡散部材５は反応室１と同一の電位にあり、電極４等
は高周波型［８に接続されていて、電極４に高周波電力
が印加されるようになっている。
同軸的に設置されており、この電極４と反応室１の周壁
との間に円筒状の拡散部材５が電極４に同軸的に設置さ
れている。この１１ｆｉ４及び拡散部材５には、夫々複
数個のガス通流孔６及び７が開設されており、ガス導入
口３を介して反応室１内に導入されたガスは、拡散部材
５のガス通流孔７及び電極４のガス通流孔６を通過して
反応室１の中心部に供給される。これにより、ガスは反
応室１の中心部に均一に拡散して供給される。電極４及
び拡散部材５は反応室１と同一の電位にあり、電極４等
は高周波型［８に接続されていて、電極４に高周波電力
が印加されるようになっている。
反応室１の中心には、母材１ｏが、その軸方向を鉛直に
して電極４の軸心に配設されている。反応室１の天板上
には、絶縁体２を介して支持部材１１が設置されており
、この支持部材１１は接地されている。母材１０はこの
、支持部材１１に懸架されて反応室１内に装入されてい
る。母材１０も支持部材１１と同様に接地されているか
ら、高周波１ａ８から電極４に高周波電力が印加される
と、１ｆｆｆｉ４と母材１０との間に、プラズマ放電が
生起される。
して電極４の軸心に配設されている。反応室１の天板上
には、絶縁体２を介して支持部材１１が設置されており
、この支持部材１１は接地されている。母材１０はこの
、支持部材１１に懸架されて反応室１内に装入されてい
る。母材１０も支持部材１１と同様に接地されているか
ら、高周波１ａ８から電極４に高周波電力が印加される
と、１ｆｆｆｉ４と母材１０との間に、プラズマ放電が
生起される。
このように構成される装置により、先ず、母材の表面を
炭化させ、表層部に炭素を高濃度で含有する領域を形成
する。つまり、反応室１内を約１０−３トルに排気した
後、ポンプによる排気を継続しつつ、ガス導入口３を介
してＣＦ４ガス又はＣＨ４ガス等の炭素を含有するガス
を反応室１内に導入し、反応室１内を、例えば、１トル
の圧力に調節する。次いで、電極４と母材１０との間に
高周波電力を印加してプラズマを生起すると、母材１０
の表面が炭化する。この場合に、炭素を含有するガスの
みでプラズマを生起すると、プラズマにより炭素が重合
して形成される膜が母材の表面に何者するおそれがある
。この膜が柔かいものであると、次順の工程で形成され
るセラミックスの層が剥離しやすくなり好ましくない。
炭化させ、表層部に炭素を高濃度で含有する領域を形成
する。つまり、反応室１内を約１０−３トルに排気した
後、ポンプによる排気を継続しつつ、ガス導入口３を介
してＣＦ４ガス又はＣＨ４ガス等の炭素を含有するガス
を反応室１内に導入し、反応室１内を、例えば、１トル
の圧力に調節する。次いで、電極４と母材１０との間に
高周波電力を印加してプラズマを生起すると、母材１０
の表面が炭化する。この場合に、炭素を含有するガスの
みでプラズマを生起すると、プラズマにより炭素が重合
して形成される膜が母材の表面に何者するおそれがある
。この膜が柔かいものであると、次順の工程で形成され
るセラミックスの層が剥離しやすくなり好ましくない。
このため、反応空白に、炭素を含有するガスの外に、Ａ
ｒガス、Ｈｅガス、又はＮ２ガス等のガスを導入し、こ
れらの混合ガスによりプラズマを生起することが好まし
い。このＡｒガス等の混合により、炭素の重合が生じ難
くなり、炭素と鉄との間の反応が進行しやすくなるから
である。この混合ガスとしては、特に、不活性であり、
イオン化エネルギが大きいという点で、Ａｒガスが好ま
しい。一般的な炭化処理条件の一例を下記に示す。
ｒガス、Ｈｅガス、又はＮ２ガス等のガスを導入し、こ
れらの混合ガスによりプラズマを生起することが好まし
い。このＡｒガス等の混合により、炭素の重合が生じ難
くなり、炭素と鉄との間の反応が進行しやすくなるから
である。この混合ガスとしては、特に、不活性であり、
イオン化エネルギが大きいという点で、Ａｒガスが好ま
しい。一般的な炭化処理条件の一例を下記に示す。
ＣＨ４ガス流量： ５０ＳＣＣＭ
Ａｒガス流量：３００ＳＣＣＭ
反応圧力（真空度）：１．Ｏトル
高周波型カニ５００Ｗ
処理笥間：３０分
なお、この炭化処理において、母材を予め加熱しておい
てもよいが、プラズマが生起されると、このプラズマに
よって母材が加熱されるので、必ずしも格別の加熱手段
を設けることは必要ない。
てもよいが、プラズマが生起されると、このプラズマに
よって母材が加熱されるので、必ずしも格別の加熱手段
を設けることは必要ない。
また、炭素の供給源としては、上述のガスに限らず、固
体を使用してもよい。この場合には、この炭素を含有す
る固体から、Ａｒのプラズマで炭素をたたき出すように
すればよい。
体を使用してもよい。この場合には、この炭素を含有す
る固体から、Ａｒのプラズマで炭素をたたき出すように
すればよい。
この炭化処理に続いて、反応室１内にコーティングすべ
きセラミックスの構成元素を含有するガスを導入し、表
面が炭化した母材にセラミックスをコーティングする。
きセラミックスの構成元素を含有するガスを導入し、表
面が炭化した母材にセラミックスをコーティングする。
コーティングすべきセラミックスがＳｉを主成分とする
場合には、Ｓ ｉ Ｈ４ガス又は５ｉ２Ｈｓガス等の３
ｉを含有するガスに、窒化物であるときはＮ２ガス又は
ＮＨ３ガス等のＮを含有するガスを混合し、炭化物であ
るときはＣＨ４ガス又はＣ２Ｈ６ガス等のＣを含有する
ガスを混合し、酸化物であるときは０２ガス又はＮ２０
ガス等のＯを含有するガスを混合する。
場合には、Ｓ ｉ Ｈ４ガス又は５ｉ２Ｈｓガス等の３
ｉを含有するガスに、窒化物であるときはＮ２ガス又は
ＮＨ３ガス等のＮを含有するガスを混合し、炭化物であ
るときはＣＨ４ガス又はＣ２Ｈ６ガス等のＣを含有する
ガスを混合し、酸化物であるときは０２ガス又はＮ２０
ガス等のＯを含有するガスを混合する。
コーティングすべきセラミックスが８を主成分とする場
合には、Ｓｌを含有するガスの替りに、ＢＦ３ガス又は
８２ Ｈ６ガス等の８を含有するガスを使用すればよい
。５ｉＣｘＮｙを成膜するためには、Ｓ ｉ Ｈ４ガス
とＮ２ガスの外に、ＣＨ４ガスを適量加える。また、Ｓ
ｉ ＣＸ ＯＹを成膜するためには、ＳｉＨ４ガスと
０２ガス又はＮ２０ガスとの混合ガスにＣＨ４ガスを加
えればよい。
合には、Ｓｌを含有するガスの替りに、ＢＦ３ガス又は
８２ Ｈ６ガス等の８を含有するガスを使用すればよい
。５ｉＣｘＮｙを成膜するためには、Ｓ ｉ Ｈ４ガス
とＮ２ガスの外に、ＣＨ４ガスを適量加える。また、Ｓ
ｉ ＣＸ ＯＹを成膜するためには、ＳｉＨ４ガスと
０２ガス又はＮ２０ガスとの混合ガスにＣＨ４ガスを加
えればよい。
次ぎに、このセラミックスのコーティング条件及び成膜
されたセラミックスの層厚の代表例について説明する。
されたセラミックスの層厚の代表例について説明する。
（ａ）ＳｉＮの場合
Ｓ ｉ Ｈ４ガス８ｍ： １００ＳＣＣＭＮ２ガス流量
：３００ＳＣＣＭ 反応圧カニｉ、ｏトル 高周波筒カニ ５００Ｗ 成膜時間：３０分 層厚：約３μｍ （ｂ） Ｓ ｉ Ｃの場合 ＳｉＨ＋ガス流量： １００ＳＣＣＭ ＣＨ４ガス流量：３００ＳＣＣＭ 反応圧カニｉ、ｏトル 高周波筒カニ５００Ｗ 成膜時間：３０分 層厚：約３μｍ （Ｃ）ＢＮの場合 ８Ｆ３ガス流量： １００ＳＣＣＭ Ｎ２ガス流鳳： ３００ＳＣＣＭ 反応圧カニ１．Ｏトル 高周波筒カニ５００Ｗ 成膜時ＩＩＩ：３０分 層厚：約３μｍ （ｄ）ＳｉＯの場合 Ｓ＋Ｈ４ガス流１：１００１００５ ｃｃガス流１３００ｓｃｃＭ 反応圧カニ１．Ｏトル 高周波筒カニ５００Ｗ 成膜時間：３０分 層厚：約３μｍ 上述の如くして製造されたセラミックスが被着された部
材は、セラミックスが高強度で被着されており、耐摩耗
性が＾い。上述の各成膜条件で、ロータリコンプレッサ
用のシャフトを製造し、このシャフトに対し、１０００
０Ｒ，Ｐ、Ｍの回転数で３０分間連続運転し、次いで１
０分間停止した後、再度３０分間運転するというモード
で１０００時間の耐久試験を実施した。上記（ａ）乃至
（ｄ）に示す各セラミックスをコーティングしたシャフ
トは、いずれも、摩耗による焼付を発生させず、層が剥
離することもなく、極めて耐久性が高いことが実証され
た。
：３００ＳＣＣＭ 反応圧カニｉ、ｏトル 高周波筒カニ ５００Ｗ 成膜時間：３０分 層厚：約３μｍ （ｂ） Ｓ ｉ Ｃの場合 ＳｉＨ＋ガス流量： １００ＳＣＣＭ ＣＨ４ガス流量：３００ＳＣＣＭ 反応圧カニｉ、ｏトル 高周波筒カニ５００Ｗ 成膜時間：３０分 層厚：約３μｍ （Ｃ）ＢＮの場合 ８Ｆ３ガス流量： １００ＳＣＣＭ Ｎ２ガス流鳳： ３００ＳＣＣＭ 反応圧カニ１．Ｏトル 高周波筒カニ５００Ｗ 成膜時ＩＩＩ：３０分 層厚：約３μｍ （ｄ）ＳｉＯの場合 Ｓ＋Ｈ４ガス流１：１００１００５ ｃｃガス流１３００ｓｃｃＭ 反応圧カニ１．Ｏトル 高周波筒カニ５００Ｗ 成膜時間：３０分 層厚：約３μｍ 上述の如くして製造されたセラミックスが被着された部
材は、セラミックスが高強度で被着されており、耐摩耗
性が＾い。上述の各成膜条件で、ロータリコンプレッサ
用のシャフトを製造し、このシャフトに対し、１０００
０Ｒ，Ｐ、Ｍの回転数で３０分間連続運転し、次いで１
０分間停止した後、再度３０分間運転するというモード
で１０００時間の耐久試験を実施した。上記（ａ）乃至
（ｄ）に示す各セラミックスをコーティングしたシャフ
トは、いずれも、摩耗による焼付を発生させず、層が剥
離することもなく、極めて耐久性が高いことが実証され
た。
なお、この実施例は、母材表面の炭化及びセラミックス
のコーティングをプラズマＣＶＤにより実施しているが
、これに限らず、前述の如く、スパッタリング又はイオ
ンブレーティング等の他の手段を使用してもよい。
のコーティングをプラズマＣＶＤにより実施しているが
、これに限らず、前述の如く、スパッタリング又はイオ
ンブレーティング等の他の手段を使用してもよい。
［発明の効果］
この発明によれば、鉄を主成分とする母材に対してもセ
ラミックス層が高接着性で接着されており、耐摩耗性が
優れた部材を得ることができる。
ラミックス層が高接着性で接着されており、耐摩耗性が
優れた部材を得ることができる。
この部材は、摺動する相手部材を研削してしまうことが
なく、焼付の発生が防止される。
なく、焼付の発生が防止される。
第１図はこの発明の実施例に係るセラミックスが被着さ
れた部材の製造装置を示す断面口である。 １；反応室、２：絶縁体、４；電極、８；高周波電源、
１０；母材
れた部材の製造装置を示す断面口である。 １；反応室、２：絶縁体、４；電極、８；高周波電源、
１０；母材
Claims (5)
- （１）鉄を主成分とする母材と、この母材の表面に炭素
を高濃度で含有する鉄の層を形成した後母材に被着され
主成分が珪素又は硼素のセラミックス層とを有すること
を特徴とするセラミックスが被着された部材。 - （２）前記炭素を高濃度に含有する鉄の層は、グロー放
電により形成することを特徴とする特許請求の範囲第１
項に記載のセラミックスが被着された部材。 - （３）前記セラミックス層は、グロー放電により形成す
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のセラ
ミックスが被着された部材。 - （４）前記セラミックスは、窒化珪素、窒化硼素、炭化
珪素、炭化硼素、酸化珪素、炭窒化珪素、炭窒化硼素、
又は炭酸化珪素から選択されたものであることを特徴と
する特許請求の範囲第１項に記載のセラミックスが被着
された部材。 - （５）前記セラミックスは、水素又はハロゲン元素の少
なくとも一方を含有することを特徴とする特許請求の範
囲第１項に記載のセラミックスが被着された部材。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60267745A JPS62127466A (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | セラミツクスが被着された部材 |
| KR1019860009820A KR890002162B1 (ko) | 1985-11-28 | 1986-11-20 | 세라믹스가 코팅된 슬라이딩 부재와 그의 제조 방법 |
| FR8616558A FR2590594B1 (fr) | 1985-11-28 | 1986-11-27 | Element mecanique portant un revetement ceramique anti-usure et sa fabrication. |
| DE19863640430 DE3640430A1 (de) | 1985-11-28 | 1986-11-27 | Mit einem keramischen material beschichtetes werkstueck und verfahren zu seiner herstellung |
| US08/064,749 US5300951A (en) | 1985-11-28 | 1993-05-18 | Member coated with ceramic material and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60267745A JPS62127466A (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | セラミツクスが被着された部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62127466A true JPS62127466A (ja) | 1987-06-09 |
Family
ID=17448982
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60267745A Pending JPS62127466A (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | セラミツクスが被着された部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62127466A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997049600A1 (de) * | 1996-06-21 | 1997-12-31 | Walter Hunger | Kupplungsvorrichtung zum verbinden eines zugfahrzeuges mit einem auflieger-anhänger und verfahren zum umbauen von kupplungsvorrichtungen |
| JP2009084579A (ja) * | 2001-09-27 | 2009-04-23 | Toyota Central R&D Labs Inc | 高摩擦摺動部材 |
| JP5091667B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2012-12-05 | 国立大学法人九州工業大学 | 表面処理金属製品 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5179644A (ja) * | 1974-12-16 | 1976-07-12 | Suwa Seikosha Kk | Tokeiyogaisobuhin |
| JPS558584A (en) * | 1978-05-09 | 1980-01-22 | Foster Wheeler Corp | Gas permissible screen construction for steamer |
-
1985
- 1985-11-28 JP JP60267745A patent/JPS62127466A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5179644A (ja) * | 1974-12-16 | 1976-07-12 | Suwa Seikosha Kk | Tokeiyogaisobuhin |
| JPS558584A (en) * | 1978-05-09 | 1980-01-22 | Foster Wheeler Corp | Gas permissible screen construction for steamer |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997049600A1 (de) * | 1996-06-21 | 1997-12-31 | Walter Hunger | Kupplungsvorrichtung zum verbinden eines zugfahrzeuges mit einem auflieger-anhänger und verfahren zum umbauen von kupplungsvorrichtungen |
| JP2009084579A (ja) * | 2001-09-27 | 2009-04-23 | Toyota Central R&D Labs Inc | 高摩擦摺動部材 |
| JP5091667B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2012-12-05 | 国立大学法人九州工業大学 | 表面処理金属製品 |
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