JPS62112657A - ジスアゾ化合物 - Google Patents

ジスアゾ化合物

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JPS62112657A
JPS62112657A JP25350485A JP25350485A JPS62112657A JP S62112657 A JPS62112657 A JP S62112657A JP 25350485 A JP25350485 A JP 25350485A JP 25350485 A JP25350485 A JP 25350485A JP S62112657 A JPS62112657 A JP S62112657A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は新規なジスアゾ化合物及びその胆造法に関する
従来技術 従来からアゾ化合物が電子写真用の感光体の電荷発生物
質として有効であることが知られている。この電子写真
用感光体は光によって電荷担体を発生する電荷発生物質
と1発生した電荷担体を搬送する電荷搬送物質との双方
を感光層に用い、選択的に電荷を散逸して静電潜像を形
成するのに必要な電荷の発生と搬送とを、それぞれ別個
の物質に分担させたものである。このような機能分離型
の感光体は、電荷発生物質及び電荷搬送物質の選択の幅
が広がり高感度化が可能であり、しかも可撓性に富み耐
久性に優れたものである。
電荷発生物質としては、スチリルスチルベン骨格を有す
るジスアゾ化合物(特開昭53−133445号公報)
、あるいはカルバゾール骨格を有するジスアゾ化合物(
特開昭53−95966号公報)、トリフェニルアミン
骨格を有するトリスアゾ化合物(特開昭53−1325
47号公報)、オキサジアゾール骨格を有するジスアゾ
化合物(特開昭54−12742号公報)、ジスチリル
カルバゾール骨格を有するジスアゾ化合物(特開昭54
−14967号公報)、ビススチルベン骨格を有するジ
スアゾ化合物(特開昭54−17733号公報)、ジベ
ンゾチオフェノン骨格を有するジスアゾ化合物(特開昭
54−21728号公報)、フルオレノン骨格を有する
ジスアゾ化合物(特開昭54−22834号公報)など
が報告されている。しかしながら、これらの電荷発生物
質に一長一短が有るのも事実であり、さらに優れた電荷
発生物質の開発が待たれている。
目    」γ1 本発明は前述の従来の欠点を克服した電子写真用感光体
の電荷発生物質等として有用なジスアゾ化合物及びその
製造法を提供することを目的とする。
構成 本発明の一つは。
一般式N)、 Z               ’z’(式中、Yは
置換もしくは無置換の炭化水素環または置換もしくは無
置換の複素環を示し、Rは水素、置換もしくは無置換の
アルキル基または置換もしくは無置換のフェニル基を示
し、Zはフェニル核に縮合する置換もしくは無置換の炭
化水素環または置換もしくは無置換の複素環を示す) で表されるジスアゾ化合物である。
本発明の他の一つは。
式(II)。
で表される2、4−へキサジイニイレンー1,6−ビス
(m−アミノベンゾエート)をジアゾ化して、一般式(
IiI)、 (式中、Xはアニオン官能基を示す) で表されるテトラゾニウム塩とし、このテトラゾニウム
塩と一般式(I V )、 °“z″ (式中、Yは置換もしくは無置換の炭化水素環または置
換もしくは無置換の複素環を示し、Rは水素、置換もし
くは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のフ
ェニル基を示し、Zはフェニル核に縮合する置換もしく
は無置換の炭化水素環または置換もしくは無置換の複素
環を示す) で表されるカンプラーとを反応させることを特徴とする 一般式(I)、 (式中、Y、R及びZは前述と同じ) で表されるジスアゾ化合物の製造法である。
上記一般式におけるYの炭化水素環の具体例としてはベ
ンゼン環、ナフタレン環などが挙げられ、また複素環の
具体例としてジベンゾフラン環、カルバゾール環などが
挙げられ、また、Yの炭化水素環あるいは複素環の置換
基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
などの低級アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、ブト
キシ基などの低級アルコキシ基、 N、N−ジメチルア
ミノ1、I;、N、N−ジエチルアミノ基、N。
N−ジブチルアミノ基などの低級ジアルキルアミツノ、
(、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など
のハロゲン原子、トリフルオロメチル基などのハロメチ
ル基、シアノ基、二1・ロバ、カルボキシ基、エチルカ
ルボキシレート基などの低級アルキルカルボキシレート
基、−8○、Naなどが挙げられる。
Rのアルキル基としてはメチル基、エチル基などの低級
アルキル基が例示され、また、Rのアルキル基あるいは
フェニル基の置換基としては塩素原子などのハロゲン/
/?(子が例示できる。
またZにおける炭化水素環の具体例としてはベンゼン環
、ナフタレン環などが挙げられ、複素環としてはインド
ール環、ベンゾフラン環、カルバゾール環などが挙げら
れ、これら炭化水素環あるいは複素環の置換基としては
塩素原子などのハロゲン原子が例示できる。
次に本発明のジスアゾ化合物の具体例を下記に示す。こ
こで、簡略化のため一般式(I)をと表し、カップラー
残基Aのみで示した。
(以下余白) 表−1 顔料歯             顔料&顔料歯 −一
一一一へ一一一−−顔料&顔料匁      八 −m
−顔料歯 −A    −C)(。
顔料歯      A         顔料歯   
   、・顔料&−f□   顔料& 上記のジスアゾ化合物は2,4−へキサジイニイレンー
1.6−ビス(m−アミノベンゾニー1へ)を出発原料
とし、ジアゾ化してテトラゾニウム塩とし、ついで適当
なカンプラーとの間にカップリング反応を行なうことに
よって製造することができる。2.4−へキサジイニイ
レンー1,6−ビス(m−アミノベンゾエート)のジア
ゾ化は、これを希塩酸あるいは希硫酸のような希薄無機
酸中で亜硝酸ナトリウム水溶液を一10℃ないし10℃
にて添加することにより行なわれる。このジアゾ化反応
は、およそ30分間から3時間で完結する。さらに反応
混合物に、たとえばホウフッ化水素酸ある11はホウフ
ッ化ナトリウム水溶液などを加えてテトラゾニウム塩と
して沈殿させ、結晶を濾取してから次の反応に用いるこ
とが望ましい。次)Nで、このテトラゾニウム塩に一般
式(IV)で表されるカップラーを作用させてカップリ
ング反応を起こさせることにより行なわれる。実際には
この反応は、N、N〜ジメチルホルムアミド(DMF)
やジメチルスルホキシドなどの有機溶媒にテトラゾニウ
ム塩およびカップラーを混合溶解しておき、これに約−
10℃ないし40°Cにて酢酸ナトリウム水/8液など
のアルカリ水溶液を滴下することにより行なわれる。こ
の反応はおよそ5分間ないし3時間で完結する。反応終
了後、析出している結晶を濾取し、適切な方法により精
製(たとえば水及び/または有機溶剤による洗浄、再結
晶法など)することにより上記ジスアゾ化合物の製造は
完了する。
このようにして製造される本発明のジスアゾ化合物の製
造例を示せば次の通りである。
製造例 1  (ジスアゾ化合物No、1の製造)水1
5m Qと濃塩酸11mQより成る塩酸中へ2,4−へ
キサジイニイレンー1.6−ビス(m−アミノベンゾエ
ート)4.18gを加え、室温で2時間攪拌した後、−
7℃まで冷却し、次いで、これに亜硝酸ナトリウム2.
0gを水8+++Qに溶解した液を一5℃〜−8℃の温
度で15分間にわたり滴下した。その後、同温度で1時
間攪拌した後、微量の不溶部を除去し、この反応液中に
42%硼弗化水素酸12mQを加えた。生成した淡黄白
色の沈殿を枦別し、水及びメタノールで洗l争した後、
乾燥してテトラゾニウムジフルオロボレート6.08g
(収率92.8%>を得た。
赤外線吸収スペク1〜ル(KBr錠剤法)では、230
0c+n−’にN2″に基づく吸収帯が認められた。
このようにして得られたテトラゾニウム塩1゜09gと
カップラーとして2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸アニ
リF1.26gとを、冷却したN、N−ジメチルホルム
アミド200m Q中に78解し、これに酢酸す1−リ
ウム0.66gおよび水10m Qからなる溶液を17
〜21’Cの温度で5分間にわたって滴下した。その後
、さらに室温で3時間攪拌した。
次いで、生成した沈澱を枦取し、N、N〜ジメチルホル
ムアミド300m Qで5回洗浄し、次に水300mQ
で2回洗浄した後、80℃で2mmHgの減圧下に乾燥
して、前記化合物Nα1のジスアゾ化合物1.68g 
(収率93.7%)を得た。このジスアゾ化合物の融点
及び元素分析は下記のよってあった・ 融点  300°C以上 元素分析 (ぶ)    CHN 実d1q値    72.18 3.83 9.14計
算値    72.31 4.05 9.37また赤外
線吸収スペクトル(KBr錠剤法)を第1図に示した。
製造例 2−11 カップラーとして下記の表−2に示した化合物を用いた
以外は製造例1と全く同様に操作し。
表−2に示すジスアゾ化合物を製造した。これらのジス
アゾ化合物についての赤外線吸収スペク1−ル(KBr
錠剤法)のV  (アミドエ)のC=0 吸収、融点、元素分析値も併せて表−2に示した。
(以下余白) 本発明のジスアゾ化合物は前述の通り1機能分雛型の感
光体の電荷発生物質として有用である。この感光体には
、第2図に示すように電荷発生物質13を含む電荷発生
層15と、電荷搬送物質を含む電荷搬送層17とを積層
した感光層19を導電性支持体1上上に設けた積層型の
感光体;電荷搬送物質を含む電荷搬送媒体中に電荷発生
物質を含有せしめて感光層とした分散型の感光体などが
ある。本発明のジスアゾ化合物は特に積層型の感光体に
おける電荷発生物質として有用であり、この点をさらに
明らかにするために以下に用途例を示した。
用途例 ジスアゾ化合物NQ71を76重1(部、ポリエステル
樹脂(東洋紡績社製バイロン200)のテトラヒドロフ
ラン溶液(固形分n度2%) 1260重量部。
およびテトタビト0フ523フ00重景部をボールミル
中で粉砕混合し、得られた分散液をアルミニウム蒸着し
たポリエステルベース(導電性支持体)のアルミ面上に
1−フタ−ブレードを用いて塗布し、自然乾燥して、厚
さ約1μmの電荷発生層を形成した。
この電荷発生層上に、電荷搬送物質として9−ニチル力
ルバゾール−3−アルデヒド1−メチル−1−フェニル
ヒドラゾン2重量部、ポリカーホネート樹脂(帝人社製
パンライトに−1300) 2重量部およびテトラヒド
ロフラン16重量部を混合溶解した溶液をドクターブレ
ードを用いて塗布し、80℃で2分間、ついで105℃
で5分間乾燥して厚さ約22μmの′電荷搬送層を形成
して第2図に示した積層型の感光体を作成した。
この感光体について、静電複写紙試験装置C銖用口電機
製作所製、5P428型)を用いて、−6KVのコロナ
放電を20秒間行なって負に帯電せしめた後、20秒間
暗所に放置し、その時の表面電位Vpo(V)を測定し
、次いで、タングステンランプによってその表面が照度
4.5ルツクスになるようにして光を照射しその表面電
位がVpoの1/2になるまでの時間(秒)を求め、露
光ff1E1/2(ルックス・秒)を算出した。
その結果、 Vpo =  −1078V El/2 = 2.6ルツクス一秒 であった。
さらに1本発明の感光体を(株)リコー製複写機マイリ
コピーM−5型に装着して画像出しをto、ooo回繰
返したが、その結果、この感光体は複写プロセスの繰返
しにより変化することなく、鮮明な画像が?:)られだ
。これにより、本発明の感光体か耐久性においても優れ
たものであることが理解できるであろう。
効   果 以上、述べたように本発明のジスアゾ化合物は特に積層
型の感光体の電荷発生物質として有用であり、耐久性の
優れた感光体を提供する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に用いるジスアゾ顔料Na 1の赤外線
吸収スペクトル(KBrBr法)である。 第2図は本発明のジスアゾ化合物を用いた!感光体の構
成例を示す拡大断面図である。 11・44d性支持体  13・・ジスアゾ化合物15
・電荷発生層   17・・′、゛「荷搬送層19・・
感光層

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式( I )、 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Yは置換もしくは無置換の炭化水素環または置
    換もしくは無置換の複素環を示し、Rは水素、置換もし
    くは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のフ
    ェニル基を示し、Zはフェニル核に縮合する置換もしく
    は無置換の炭化水素環または置換もしくは無置換の複素
    環を示す) で表されるジスアゾ化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される2,4−ヘキサジイニイレン−1,6−ビス
    (m−アミノベンゾエート)をジアゾ化して、一般式(
    III)、 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Xはアニオン官能基を示す) で表されるテトラゾニウム塩とし、このテトラゾニウム
    塩と一般式(IV)、 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Yは置換もしくは無置換の炭化水素環または置
    換もしくは無置換の複素環を示し、Rは水素、置換もし
    くは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のフ
    ェニル基を示し、Zはフェニル核に縮合する置換もしく
    は無置換の炭化水素環または置換もしくは無置換の複素
    環を示す) で表されるカップラーとを反応させることを特徴とする
    一般式( I )、 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Y、R及びZは前述と同じ) で表されるジスアゾ化合物の製造法。
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