JPS62112034A - 粒子解析装置 - Google Patents

粒子解析装置

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JPS62112034A
JPS62112034A JP60252334A JP25233485A JPS62112034A JP S62112034 A JPS62112034 A JP S62112034A JP 60252334 A JP60252334 A JP 60252334A JP 25233485 A JP25233485 A JP 25233485A JP S62112034 A JPS62112034 A JP S62112034A
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flow
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、フローサイトメータ等において、測光光学系
及びフローセルの光軸との調整を可能とした粒子解析装
置に関するものである。
[従来の技術] フローサイトメータ等に用いられる従来の粒子解析装置
では、第5図に示すように、フローセル1の中央部の例
えば200gmX200μmの微小な断面を有する流通
部2内を、シース液に包まれて高速で流れる検体粒子S
に、図示しないレーザー光源からの平行なレーザービー
ムLを、第6図に示すように集光レンズ3を介してフロ
ーセル1内の流通部2に照射する。検体粒子Sにより散
乱された前方散乱光は、対物レンズ4を介して光電検出
器5上に集光され、主に検体粒子Sの大きさに関する情
報が得られる。また、検体粒子Sからの側方散乱光及び
蛍光散乱光は、対物レンズ6を介して光電検出器7上に
集光され、主に検体粒子Sの内部の複雑性に関する重要
な情報を得ることができる。
フローサイトメータにおいて正確な測定を行うには、レ
ーザービームLの光軸とフローセル1の中心が一致して
いると共に、検体粒子Sからの散乱光が測光用対物レン
ズ4,6により正確に集光されなければならない、その
ために、レーザービームLの光軸に対して検体粒子Sの
流れの軸及び集光レンズ4.6を正確に調整しなければ
ならないが、従来装置においてはフローセル1と測光光
学系とが分離されており、フローセル1が微動した状態
で、レーザービームLの光軸に対して検体粒子Sの流れ
の袖を調整すると、側方散乱光m光学系の焦点位置がず
れるため、側方散乱光用光学系の調整も行う必要があり
、操作が繁雑になる上に十分に正確な調整を行うことが
困難である。
[発明の目的] 本発明の目的は、測光用光学系とフローセルを固定する
ことにより、レーザービームの光軸に対して検体粒子の
流れの軸の合軸調整を行うだけで容易に位置合わせが実
施でき、高精度の測定を可能とする粒子解析装置を提供
することにある。
[発明の概要] 上述の目的を達成するための本発明の要旨は、フローセ
ル内の流通部を流れる検体粒子に光ビームを照射する照
射光学系と、光ビームにより散乱された検体粒子からの
散乱光を測定する測光用光学系と、前記70−セルを該
測光用光学系と共に基台上に載置して、該基台を光ビー
ムの照射光軸に対して相対的に移動可能としたことを特
徴とする粒子解析装置である。
[発明の実施例] 本発明を第1図〜第4図に図示の実施例に基づいて詳細
に説明する。
第1図は光学系及びアライメント装置の平面図である。
フローセル1の中央部には、紙面に垂直な上下方向にサ
ンプル液を通過する流通部2が設けられており、このサ
ンプル液の流れと直交する方向にレーザー光源10が配
置され、レーザー光源1oからの照射光を流通部2に導
光するために、光軸01上にレーザービームLの結像形
状を調整する結像レンズ11が配されている。また。
レーザービームLによる検体粒子Sからの前方散乱光側
には、フローセル1側からビームスプリッタ12、対物
レンズ13及び光電検出器14が配置されている。また
、ビームスプリッタ12により分割された光束の分布状
態を検出するために、ビームスプリッタ12の反射側の
光軸02上に対物レンズ15及びアレイ状光電検出器1
6が配されている。そして、光電変換器16の出力は光
強度分布を観察するモニタ17に接続されている。また
、検体粒子Sの流れの軸及び光軸01にそれぞれ直交す
る光軸03上に フローセル1側から測光用対物レンズ
18、ハーフミラ−19、集光レンズ20、絞り21、
集光レンズ22、グイクロイックミラー23.24及び
ミラー25が順次に配置首されている。グイクロイック
ミラー23の反射方向にバリアフィルタ26と光電検出
器27が、グイクロインクミラー23の反射方向に/へ
リアフィルタ28と光電検出器29が、ミラー25の反
射方向にバリアフィルタ30と光電検出器31か配置さ
れている。これらの光電検出器27.29.31には、
微弱光を増強して検出可能にするフォトマルが用いられ
ている。そして、ハーフミラ−19の反射側には、フロ
ーセル1と側方散乱光及び蛍光測光用光学系との焦点調
整に用いるオートフォーカスユニント32が設けられて
いる。
ここで、光軸O1上のレーザー光源10〜光電検出器1
4及び光軸02上の対物レンズ15、光電検出器16は
軸:A撃抜に基板40上に固定されている・また、フロ
ーセル1及び光軸03上の対物しンズ18〜ミラー25
、バリアフィルタ26.28.30、光電検出器27.
29.31.オートフォーカスユニット32は、焦点調
整後に光軸03と平行なY方向に移動自在のステージ4
1上に配首され、基板40とステージ41の間には、更
に光軸01と平行なX方向に移動自在のステージ42が
介在されている。そして、ステージ41のY方向の移動
量はダイアルゲージ43により、ステージ42のX方向
の移動量はダイアルゲージ44により測定されるように
なっている。
第2図は第1図のA−A線に治った断面図であり、ステ
ージ42の上面にY方向に2木のレール5oが敷設され
、ステージ41の下面のレール51との嵌合により、ス
テージ41はステージ42に対してY方向に平行移動で
きるようになっている。ステージ42の右端部には軸受
53が設けられ、この軸受53にはカム軸54が回転自
在に軸着され、更にカム軸54の外側にカム軸55が嵌
合されており、このカム軸55はカム軸54に対して回
転自在な状態となっている。カム軸54及び力1、輛5
5には、それぞれ偏心カム54a、55aが周設yれて
おり、これらのカム54a、55aは基板40 、、l
−に固定されているガイド56及びステージ41に固定
されている第3図に図示のガイド57とそれぞれ常時接
触するように、ステージ41.42は図示しないばねに
より付勢された状態となっている。更に、カム軸54の
上部には抜は止め58とカム軸54を回転させる回転つ
まみ59が取り付けられ、カム軸55の上部に回転つま
み60が増り付けられている。
第3図は第1図のB方向から見た側面図であり、基板4
0上にX方向に2本のレール61が敷設され、ステージ
42の下面の2木のレール62と嵌合しており、ステー
ジ42は基板40に対してX方向に平行移動できるよう
になっている。
レーザー光源10から照射されたレーザービームLは、
結像レンズ11を介してフローセル1の流通部2に入射
し、検体粒子Sによる前方散乱光の一部はビームスプリ
ッタ12を直進して、対物レンズ13を介して光電検出
器14に集光されその光強度が測光される。また、残り
の一部はビームスプリンタ12によって反射され、対物
レンズ15を介してアレイ状光電検出器16に集光され
、光軸01に対する検体粒子Sの流れの位置関係を検出
することになる。
また、検体粒子Sによる側方散乱光は、測光用対物レン
ズ18.ハーフミラ−19,集光レンズ20、絞り21
.更に集光レンズ22を介してグイクロインクミラー2
3.24及びミラー25に入射し、これらのミラー23
.24.25による波長領域ごとの各反射光は、バリア
フィルタ26.28.30を介して、光電検出器27.
29.31上にそれぞれ集光され光強度が4III光さ
れる。
フローセル1と測光光学系をX方向、Y方向についての
調整を行うには、先ずカム軸54の回転つまみ59を廻
すと、カム54aがカイト56と回転摺動するため、カ
ム54aのこのリフト都゛だけステージ42が基板40
に対してX方向に平行移動できる。同様に、カム軸55
に固定されている回転つまみ60を廻すと、カム55 
aかカイ!パ57に回転摺動するため、カム55aのリ
フト吊だけステージ41をステージ42に対してYjj
向に平行移動することができる。
これらのX、Y方向への平行移動値は、回転角度に対す
るリフト省をカム54a、55aによって任意に設定す
ることができるため、相当に蛍!−の範囲での移動が可
能であり、これらの移動1′達は基板40上に固定され
たダイアルケージ4344iこよって読み取りが可能で
ある。
次に、この粒子解析装置の調整手順を説明すると、側方
測光用光学系を光軸03に対して軸調整した後にステー
ジ41に固定して、A11l光用光学系に対するフロー
セル1のアライメントを行う。このために、オートフォ
ーカスユニ7]・32を用いて、フローセル1をX、Y
方向へそれぞれ独ケに平行移動させながら、フローセル
1の中心にj、+3点が合った位置で、フローセルlを
ステージ41に固定する。従って、フローセルlと側方
Will光川尤学系はステージ41七で一体となって、
基板40に対してX、Y方向に平行移動できることにな
る。
ステージ41.42を動かすことによって、前述の調整
されたフローセル1を光軸01上を移動しながら、検体
粒子Sの流れと光軸01とのアライメントを行うには、
例えば検体粒子Sの代りにレーザーど−ムLの波長債域
の光を吸収する疑似サンプル液を使用する。レーザー光
源10から照射されたレーザービームLの一部は、この
疑似サンプル液で吸収され、吸収時の光強度分布はアレ
イ状光電検出器16で測定され、その出力信号はモニタ
17により観察される。光軸01と疑似サンプル液流の
中心か合致している場合には、第4図に示すように光強
度分布状態はガウス分布状の波形の中心部が凹状になっ
た左右対称の波形が観察される。しかし合致していない
場合には、中央の凹状部分が左右何れかにずれて対称の
波形を示さなくなる。この場合には、回転つまみ60を
廻してフローセル1をY方向に平行移動しながら、モニ
タ上の波形が左右対称を示すまで調整を行う。
また、レーザー光源10からのレーザービームLの焦点
位置と疑似サンプル液流の流れの中心の合致を確認する
には、回転つまみ59を廻してフローセル1をX方向に
平行移動させながら、モニタ上のガウス分布の凹状の谷
の部分が、最も低レベルにかつ幅が最も狭くなるように
調整すればよい、このような調整方法を用いて、光軸O
1に対して疑似サンプル液流の流れの軸との合軸調整を
行うことができる。
本実施例では、照射光の検体粒子Sによる光軸03」二
の側方散乱光及び蛍光測光用光学系を、ブローセル1を
固定したステージ41.42 上i、: 載置し、これ
らのステージ41.42をY方向又はX方向に平行移動
させることによって、レーザービームLの光軸01との
合軸調整を行ったが、逆にレーザー光源10と前方散乱
光測光用光学系とを載置する基板40にフローセル1を
固定して、この基板40を側方散乱光及び蛍光測光用光
学系に対して移動することにより、合軸調整を行っても
同様の効果か得られる。更には、前方散乱光用光学系の
みをステージ41.42上に載置することもある。なお
実施例では、ステージ41.42の微動調整にカム軸5
4.55を用いる方法を使用したが、他の駆動機構を用
いて光軸調整を行うことも勿論可能である。
[発明の効果コ 以−F説明したように本発明に係る粒子解析装置は、一
方の測光用光学系と共にフローセルを共通の)1(台に
固定し、他方の直交する方向のat(I先光学系の光軸
に対して平行及び垂直に相対的に移動させることによっ
て、レーザービームの光軸と検体粒子の流れの軸との合
@調整及び焦点調整を正確にしかも容易に行うことがで
き、精度の高い測定結果を得ることが可能である。
【図面の簡単な説明】
図面第1図〜第4図は本発明に係る粒子解析袋aの一実
施例を示し、第1図は光学系と7ライメント装首の構成
図、第2図は第1図のA−A線に沿った断面図、第3図
は第1図のB方向から見た側面図、第4図は合軸状態に
おける光強度分布図であり、第5図はフローセルの斜視
図、第6図は従来の光学系の配置図である。 符号1はフローセル、2は流通部、10はレーザー光源
、11は結像レンズ、12はビームスプリンタ、13.
15.18は対物レンズ、14.16は光電検出器、1
7はモニタ、23.24はグイクロイックミラー、25
はミラー、26.28.30はバリアフィルタ、27.
29.31は光’771検出器、32はオートフォーカ
スユニント、40は基板、41.42はステージ、43
.44はダイアルゲージ、50.51.61.62はレ
ール、54.55はカム軸、54a、55aはカム、5
9.60は回転つまみである。 #許出願人   キャノン株式会社 図面 第1図 第2図 第3図 第4図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、フローセル内の流通部を流れる検体粒子に光ビーム
    を照射する照射光学系と、光ビームにより散乱された検
    体粒子からの散乱光を測定する測光用光学系と、前記フ
    ローセルを該測光用光学系と共に基台上に載置して、該
    基台を光ビームの照射光軸に対して相対的に移動可能と
    したことを特徴とする粒子解析装置。 2、前記測光用光学系は側方散乱光を測光するものとし
    た特許請求の範囲第1項に記載の粒子解析装置。 3、前記基台は光ビーム照射光軸を含む同一平面内にお
    いて、照射光軸に平行及び垂直方向に移動可能とした特
    許請求の範囲第1項に記載の粒子解析装置。 4、前記基台の移動手段にはカム軸を用い、該カム軸の
    回転角とそのリフト量を利用して移動を行う特許請求の
    範囲第1項に記載の粒子解析装置。 5、前記基台の移動量検出手段としてダイアルゲージを
    用いた特許請求の範囲第1項に記載の粒子解析装置。 6、前記検体粒子による散乱光の光強度分布をモニタで
    観察するようにした特許請求の範囲第1項に記載の粒子
    解析装置。
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