JPS618969A - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置Info
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- JPS618969A JPS618969A JP59130460A JP13046084A JPS618969A JP S618969 A JPS618969 A JP S618969A JP 59130460 A JP59130460 A JP 59130460A JP 13046084 A JP13046084 A JP 13046084A JP S618969 A JPS618969 A JP S618969A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/10—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions with semiconductor regions connected to an electrode not carrying current to be rectified, amplified or switched and such electrode being part of a semiconductor device which comprises three or more electrodes
- H01L29/107—Substrate region of field-effect devices
- H01L29/1075—Substrate region of field-effect devices of field-effect transistors
- H01L29/1079—Substrate region of field-effect devices of field-effect transistors with insulated gate
- H01L29/1087—Substrate region of field-effect devices of field-effect transistors with insulated gate characterised by the contact structure of the substrate region, e.g. for controlling or preventing bipolar effect
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
- H01L27/085—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
- H01L27/088—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
- H01L27/092—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors
- H01L27/0921—Means for preventing a bipolar, e.g. thyristor, action between the different transistor regions, e.g. Latchup prevention
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- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は0MOS(相補fiMetal 0xide
Se−m 1conduCtor以下CMOSと記す)
によシ構成された半導体集積回路装置に関するものであ
る。
Se−m 1conduCtor以下CMOSと記す)
によシ構成された半導体集積回路装置に関するものであ
る。
半導体集積回路装置を0MOSにより構成する際には、
基板にウェルと呼ばれる基板と反対導電型を示す深い接
合領域を形成し、このウェル中にウェルと反対導電現金
示すトランジスタを、ウェル以外の基板領域内に基板と
反対導電型を示すトランジスタを形成している。この基
板、ウェルの電位を電源に固定するために従来はウェル
内及びウェル以外の基板領域中に、それぞれウェル及び
基板と同導電型を有す高不純物濃度の拡散層領域を形成
しこの拡散層領域を電源線に接続して基板及びウェルの
電位をとっている。このために拡散層領域、コンタクト
、配線が必要となり、回路の高集積化に不利であるとい
う欠点があった。
基板にウェルと呼ばれる基板と反対導電型を示す深い接
合領域を形成し、このウェル中にウェルと反対導電現金
示すトランジスタを、ウェル以外の基板領域内に基板と
反対導電型を示すトランジスタを形成している。この基
板、ウェルの電位を電源に固定するために従来はウェル
内及びウェル以外の基板領域中に、それぞれウェル及び
基板と同導電型を有す高不純物濃度の拡散層領域を形成
しこの拡散層領域を電源線に接続して基板及びウェルの
電位をとっている。このために拡散層領域、コンタクト
、配線が必要となり、回路の高集積化に不利であるとい
う欠点があった。
本発明はトランジスタのソースと電源配線とのコンタク
トをソースの接合を突きぬけて基板及びウェル領域に達
するまで深く開孔して、基板及びウェルの電位をとるた
めのコンタクトと、トランジスタのソースに電位を与え
るコンタクトを共通とすることにより上記欠点を解消し
高集積化することのできるCMOS半導体集積回路装置
を提供するものである。
トをソースの接合を突きぬけて基板及びウェル領域に達
するまで深く開孔して、基板及びウェルの電位をとるた
めのコンタクトと、トランジスタのソースに電位を与え
るコンタクトを共通とすることにより上記欠点を解消し
高集積化することのできるCMOS半導体集積回路装置
を提供するものである。
以下本発明の一実施例を説明する。
まず従来技術の第1図(5)、@ではN型単結晶基板1
上にPウェル2%フィールドシリコン酸化膜3、ゲート
電極4、N+拡散層5、P拡散層6、層間絶縁膜7、を
通常の相補型MOSの製造方法により形成した後、コン
タクト孔8aをフォトエツチングにより形成し、アルミ
ニウム配線を形成する。
上にPウェル2%フィールドシリコン酸化膜3、ゲート
電極4、N+拡散層5、P拡散層6、層間絶縁膜7、を
通常の相補型MOSの製造方法により形成した後、コン
タクト孔8aをフォトエツチングにより形成し、アルミ
ニウム配線を形成する。
これに対して本発明の実施例を示す第2図(5)。
(至)では、第2図(5)、(Blに示すようにトラン
ジスタのソースに開けたコンタクト孔8bをフォトリン
グラフィによシ露出させ、ソース接合を突きぬけてPウ
ェル及び基板領域に達するまで、シリコンをエツチング
する。しかる後アルミニウムを被着し、フォトエツチン
グによりパターニングを行い。
ジスタのソースに開けたコンタクト孔8bをフォトリン
グラフィによシ露出させ、ソース接合を突きぬけてPウ
ェル及び基板領域に達するまで、シリコンをエツチング
する。しかる後アルミニウムを被着し、フォトエツチン
グによりパターニングを行い。
アルミニウム配線11を形成し、カバー用バッジj
ベーション膜を形成して装置を完成・、させ
る。尚、第2図において第1図と同じ機能のところは同
一の符号で示している。このようにすればウェル及び基
板の電位をとるためのコンタクトをトランジスタのソー
スのコンタクトと共用することができ、これまで使用し
ていた基板、ウェルの電位をとるための拡散層、コンタ
クト、アルミニウム配線が不用となり、回路の大幅な高
集化を計ることかできる。さらに、ウェル及び基板に電
位を与えるコンタクトを回路上のいたるところでとるこ
とかできるため、0MOSに特有の2ツチアツプ現象に
対しても充分な強度を得ることができる。
ベーション膜を形成して装置を完成・、させ
る。尚、第2図において第1図と同じ機能のところは同
一の符号で示している。このようにすればウェル及び基
板の電位をとるためのコンタクトをトランジスタのソー
スのコンタクトと共用することができ、これまで使用し
ていた基板、ウェルの電位をとるための拡散層、コンタ
クト、アルミニウム配線が不用となり、回路の大幅な高
集化を計ることかできる。さらに、ウェル及び基板に電
位を与えるコンタクトを回路上のいたるところでとるこ
とかできるため、0MOSに特有の2ツチアツプ現象に
対しても充分な強度を得ることができる。
第1図(5)は従来法による平面図であり、第1図(ロ
)は第1図(6)のA−A’断面の断面図である。第2
図(5)は本発明の実施例を示す平面図であり、第2図
(ロ)は第2図(5)におけるB−B’断面の断面図で
ある。 尚、図において、1・・・・・・単結晶シリコン基板、
2・・・・・・Pウェル、3・・・・・・フィールドシ
リコン酸化 =膜、4・・・・・・ゲート
電極、5・・・・・・N+拡散層、7・・・・・層間絶
縁膜、ga、gb・・・・・・コンタクト孔、9・・・
・・・チャネルストッパー、lo・・・・・・ゲート酸
化膜、11・・・・・・アルミニウム配線層である。 第1図(A) 第1図(8)
)は第1図(6)のA−A’断面の断面図である。第2
図(5)は本発明の実施例を示す平面図であり、第2図
(ロ)は第2図(5)におけるB−B’断面の断面図で
ある。 尚、図において、1・・・・・・単結晶シリコン基板、
2・・・・・・Pウェル、3・・・・・・フィールドシ
リコン酸化 =膜、4・・・・・・ゲート
電極、5・・・・・・N+拡散層、7・・・・・層間絶
縁膜、ga、gb・・・・・・コンタクト孔、9・・・
・・・チャネルストッパー、lo・・・・・・ゲート酸
化膜、11・・・・・・アルミニウム配線層である。 第1図(A) 第1図(8)
Claims (1)
- 相補型MOS構造のMIS型半導体集積回路装置におい
て、トランジスタのソースに開孔したコンタクトをソー
スの接合と突きぬけて一導電型を有する半導体シリコン
基板及び前記半導体シリコン基板と反対導電型を有する
ウェル領域に達するまで深く開孔することによりソース
に電位を与えるコンタクトと半導体シリコン基板及びウ
ェル領域に電位を与えるコンタクトとを共通としたこと
を特徴とする半導体集積回路装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59130460A JPS618969A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59130460A JPS618969A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 半導体集積回路装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS618969A true JPS618969A (ja) | 1986-01-16 |
Family
ID=15034767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59130460A Pending JPS618969A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 半導体集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS618969A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01186676A (ja) * | 1988-01-14 | 1989-07-26 | Pioneer Electron Corp | 電界効果トランジスタ |
JPH0236540A (ja) * | 1988-07-27 | 1990-02-06 | Sony Corp | Mis型トランジスタとmis型トランジスタの製法 |
JPH031545A (ja) * | 1989-05-29 | 1991-01-08 | Sony Corp | Mis型トランジスタとmis型トランジスタの製造方法 |
JPH03171098A (ja) * | 1989-11-30 | 1991-07-24 | Yamaha Corp | 波形発生装置 |
EP0459771A2 (en) * | 1990-05-31 | 1991-12-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrode for semiconductor device and method for producing the same |
EP1139427A3 (en) * | 2000-03-27 | 2007-06-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor integrated circuit making use of standard cells |
-
1984
- 1984-06-25 JP JP59130460A patent/JPS618969A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01186676A (ja) * | 1988-01-14 | 1989-07-26 | Pioneer Electron Corp | 電界効果トランジスタ |
JPH0236540A (ja) * | 1988-07-27 | 1990-02-06 | Sony Corp | Mis型トランジスタとmis型トランジスタの製法 |
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JP2576647B2 (ja) * | 1989-11-30 | 1997-01-29 | ヤマハ株式会社 | 波形発生装置 |
US5583075A (en) * | 1990-05-13 | 1996-12-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for producing a semiconductor device with a particular source/drain and gate structure |
EP0459771A2 (en) * | 1990-05-31 | 1991-12-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrode for semiconductor device and method for producing the same |
US5378914A (en) * | 1990-05-31 | 1995-01-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Semiconductor device with a particular source/drain and gate structure |
EP1139427A3 (en) * | 2000-03-27 | 2007-06-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor integrated circuit making use of standard cells |
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