JPS6167278A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPS6167278A
JPS6167278A JP18790684A JP18790684A JPS6167278A JP S6167278 A JPS6167278 A JP S6167278A JP 18790684 A JP18790684 A JP 18790684A JP 18790684 A JP18790684 A JP 18790684A JP S6167278 A JPS6167278 A JP S6167278A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
electrode
anode electrode
cathode
cathode electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18790684A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideo Tanbara
丹原 日出夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP18790684A priority Critical patent/JPS6167278A/ja
Publication of JPS6167278A publication Critical patent/JPS6167278A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/86Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable only by variation of the electric current supplied, or only the electric potential applied, to one or more of the electrodes carrying the current to be rectified, amplified, oscillated or switched
    • H01L29/861Diodes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は半導体装置、特に、シ117)キダイオードの
如く静電破壊を起こし易い半導体装置の静電破壊の防止
に適用して効果のある技術に関するものである。
〔背景技術〕
ガリウム−砒素(GaAs)よりなるシ97トキダイオ
ードの如き半導体装置にあっては、静電気により特性破
壊を受は易い傾向がある。
そこで、この種の半導体装置においては、静電破壊の防
止のために素子を導電性金属箔で裏打ちされた袋の中に
梱包したり、導電性スポンジにリード線を差し込んで梱
包することにより梱包中の取り扱いによる静電破壊を防
止することが考えられる。
これにより、梱包中に静電破壊を起こすことはある程度
防止できるが、梱包から出した時の組立等の取り扱い中
にはこの方法で静電破壊を防止することはできず、人体
や取り扱い器具等に帯電した静電気等で素子の破壊を生
しるおそれがあることを本発明者は見い出した。特に、
超高周波用のシーs7)キ接合素子は接合面積が極めて
小さく、組み立て時等に非常に静電破壊を起こし易いこ
とが本発明者により明らかとされた。
なお、半導体装置の静電破壊の問題については、工業調
査会、1980年1月15日発行、日本マイクロエレク
トロニクス協会編、[lC化実装技術JP167に記載
されている。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、半導体装置の静電破壊を防止すること
のできる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
〔発明の概要〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、アノード電極とカソード電極とを各素子自体
で短絡させておくことにより、静電破壊を防止できるも
のである。
〔実施例1〕 第1図は本発明の一実施例である半導体装置の断面図を
示す。
本実施例の半導体装置は、SHFミキサ用GaAsショ
ットキダイオードの例であり、アノード電極lとカソー
ド電極2とを内部に半導体素子を内蔵した円筒形のセラ
ミック外囲器3の両端に隔離して取り付け、各電極1と
2の各反対面にはリボン状リード線4を接続し、またカ
ソード電極2の近くのセラミック外囲器3の外周面の一
部にカソードマーク5を設けた構造よりなる。
この半導体装置においては、アノード電極1とカソード
電極2との間が低融点半田材料よりなる半田ワイヤ6(
短絡手段)で接続さ゛れている。
したがって、本実施例の半導体装置は、アノード電極l
とカソード電極2とが半田ワイヤ6で短絡されているこ
とにより、その半導体装置を梱包から取り出して組み立
て等の処理を行う際にも静電破壊を生じることが防止さ
れる。
しかも、この半田ワイヤ6は半導体装置の組み立て時に
おける半田付けの際に半田付けの熱で溶融して切断され
、残留片は両電極1.2の方向に吸い寄せられるので、
それにより短絡が解除される。
したがって、本実施例では、静電破壊防止のための短絡
用の半田ワイヤ6の除去のために特別の作業を必要とせ
ず、極めて便利である。
(実施例2〕 第2図は本発明の他の実施例である半導体装置の断面図
を示す。
本実施例では、アノード電極lとカソード電極2との短
絡手段として導電性ペースト剤7をセラミック外囲器3
の外周に塗布したものである。
このMLTi性ペースト剤7はたとえば恨ペースト等よ
りなり、洗浄または拭き取りによって容易に除去するこ
とができる。
すなわち、この実施例の場合、梱包から製品を取り出し
た後の組み立て作業は導電性ペースト剤7を塗布したま
ま行われるので、静電破壊を防止できるが、組み立て終
了後には洗浄または拭き取り等で容易に除去され、通常
の使用が可能となる。
〔効果〕
(1)、アノード電極とカソード電極の間を各素子自体
で短絡させたことにより、両電極が等電位となるので、
組立処理や取り扱い中における静電破壊を防止できる。
(2)、短絡手段を低融点半田ワイヤとすることにより
、半導体装置の組み立て時の半田付けによる熱で該低融
点半田ワイヤが溶融して分断され、短絡を解除できるの
で、短絡手段の除去に特別な作業が不要となり、極めて
有利である。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
たとえば、短絡手段としては前記以外にも他の様々なも
のを利用することができる。
(利用分野〕 以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるSHFミキサ用Ga
As’i!I−tトキダイオードに適用した場合につい
て説明したが、それに限定されるものではなく、たとえ
ば、他の静電破壊し易い製品や、SiまたはGaAsF
ET (電界効果トランジスタ)、マイクロ波用FET
もしくはIGのゲート破壊防止等にも広く応用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例である半導体装置の一部断面
図、 第2図は本発明の他の実施例の一部断面図である。 1・・・アノード電極、2・・・カソード電極、3・・
・セラミック外囲器、4・・・リード線、5・・・カソ
ードマーク、6・・・低融点半田ワイヤ(短絡手段)、
7・・・導電性ペースト剤(短絡手段)。 第   1  図 に 第  2  図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、互いに隔離されたアノード電極とカソード電極とを
    有する半導体装置であって、アノード電極とカソード電
    極との間を各素子自体で短絡させてなる半導体装置。 2、短絡手段が低融点半田ワイヤであることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。 3、短絡手段が導電性ペースト剤であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。
JP18790684A 1984-09-10 1984-09-10 半導体装置 Pending JPS6167278A (ja)

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JP18790684A JPS6167278A (ja) 1984-09-10 1984-09-10 半導体装置

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JP18790684A JPS6167278A (ja) 1984-09-10 1984-09-10 半導体装置

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JPS6167278A true JPS6167278A (ja) 1986-04-07

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ID=16214268

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JP18790684A Pending JPS6167278A (ja) 1984-09-10 1984-09-10 半導体装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013115292A1 (ja) 2012-02-03 2013-08-08 株式会社ミクニ オイルポンプ

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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