JPS616273A - ワ−クの反転装置 - Google Patents
ワ−クの反転装置Info
- Publication number
- JPS616273A JPS616273A JP12632884A JP12632884A JPS616273A JP S616273 A JPS616273 A JP S616273A JP 12632884 A JP12632884 A JP 12632884A JP 12632884 A JP12632884 A JP 12632884A JP S616273 A JPS616273 A JP S616273A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- works
- vacuum
- machine frame
- attached
- workpiece
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は主として真空蒸着その他の真空処理装置に適用
されるワークの反転装置に関する。
されるワークの反転装置に関する。
従来この種処理装置として、例えば真空処理室内の上方
にモータ等により回転される機枠を設け、これに半導体
基板その他のワークを複数枚取付けて各ワークに下方の
蒸発源からの蒸発物質を薄膜状に形成する処理を施づよ
うにしたものが知られているが、該ワークは蒸発源に対
向する面のみが処理されるのでワークの表裏両面の処理
が要求される場合ワークを反転する必要がある。この反
転は処理室内の真空を相持したまま行なえることが処理
時間の短縮のために好ましく、またその反転の手段は真
空室内の清浄さの維持のために簡単な構成であることが
望まれる。
にモータ等により回転される機枠を設け、これに半導体
基板その他のワークを複数枚取付けて各ワークに下方の
蒸発源からの蒸発物質を薄膜状に形成する処理を施づよ
うにしたものが知られているが、該ワークは蒸発源に対
向する面のみが処理されるのでワークの表裏両面の処理
が要求される場合ワークを反転する必要がある。この反
転は処理室内の真空を相持したまま行なえることが処理
時間の短縮のために好ましく、またその反転の手段は真
空室内の清浄さの維持のために簡単な構成であることが
望まれる。
本発明はワークの５１′ｌ即時聞を短縮すると共に構成
の簡単な反転装−を提供することをその目的とするもの
で、真空処ｌ！Ｉｌ室内に回転自在の機枠を設け、これ
にワークを取付けて該ワークに真空蒸着その他の処理を
施す式のものに於て、該機枠に、支軸により支承され目
つばねにより一方向への旋回力が付与されたワークホル
ダを設けると共に、該ワークホルダをその旋回力を保持
して停止させるス１〜ツバを設け、該真空処理室に該機
枠の一方への回転時に該スＩ・ツバに解除作動を与える
ブラケットを設けたことを特徴とする。
の簡単な反転装−を提供することをその目的とするもの
で、真空処ｌ！Ｉｌ室内に回転自在の機枠を設け、これ
にワークを取付けて該ワークに真空蒸着その他の処理を
施す式のものに於て、該機枠に、支軸により支承され目
つばねにより一方向への旋回力が付与されたワークホル
ダを設けると共に、該ワークホルダをその旋回力を保持
して停止させるス１〜ツバを設け、該真空処理室に該機
枠の一方への回転時に該スＩ・ツバに解除作動を与える
ブラケットを設けたことを特徴とする。
本発明の実施例を図面につき説明するに、第１図に於て
符号（１）は真空排気される真空処理室、（２）は該真
空処理室（１）の下方の回転軸（３）と一体のジ」イン
ｌ−（４）に取付けられた正逆回転自在の機枠、（５）
は該処理室（１）の下方に設けた蒸発源を示し、該機枠
（２）と蒸発源（５）の中間に介在させたシャッタ（０
）が側方に退去すると該蒸発源（５）からの蒸発物質が
該機枠（２）に取付けた板状のワーク（１）の蒸発源（
５）に向いた而（７ａ）に付着して薄膜形成処理が施さ
れる。
符号（１）は真空排気される真空処理室、（２）は該真
空処理室（１）の下方の回転軸（３）と一体のジ」イン
ｌ−（４）に取付けられた正逆回転自在の機枠、（５）
は該処理室（１）の下方に設けた蒸発源を示し、該機枠
（２）と蒸発源（５）の中間に介在させたシャッタ（０
）が側方に退去すると該蒸発源（５）からの蒸発物質が
該機枠（２）に取付けた板状のワーク（１）の蒸発源（
５）に向いた而（７ａ）に付着して薄膜形成処理が施さ
れる。
該機枠（２）は例えば第２図及び第３図に明示Ｊるよう
にフレーム（ロ）で形成された６ＷＡの台形枠から成る
概略傘形の枠で構成し、台枠の一辺にこれど相似形のワ
ーク（７）を保持するワークホルダ（９）を取付けした
。該ワークホルダ（９）はワーク（７）の両面を挟んで
保持部る保持部（９ａ）とフレーム（０）に軸着される
軸部（９ｂ）を備え、一端をフレーム（ロ）に固定した
コイルばね（ト）を巻き上げてその他端をワーク（７）
の面に係合さＵることににり該ワークホルダ（９）に一
方向即ちばね（社））の戻り右向の旋回力が与えられる
にうにした。（１１）は該機枠（２）のフレーム（８）
に軸１２１）で軸着した一方向に回転可能なストッパを
示し、該ストッパａＯの先端部（ｌｌａ）をワーク（７
）の端部に係合させるとばね＠）により与えられた旋回
力を保有した状態でワークホルダ（９）の旋回を停止さ
けることが出来る。
にフレーム（ロ）で形成された６ＷＡの台形枠から成る
概略傘形の枠で構成し、台枠の一辺にこれど相似形のワ
ーク（７）を保持するワークホルダ（９）を取付けした
。該ワークホルダ（９）はワーク（７）の両面を挟んで
保持部る保持部（９ａ）とフレーム（０）に軸着される
軸部（９ｂ）を備え、一端をフレーム（ロ）に固定した
コイルばね（ト）を巻き上げてその他端をワーク（７）
の面に係合さＵることににり該ワークホルダ（９）に一
方向即ちばね（社））の戻り右向の旋回力が与えられる
にうにした。（１１）は該機枠（２）のフレーム（８）
に軸１２１）で軸着した一方向に回転可能なストッパを
示し、該ストッパａＯの先端部（ｌｌａ）をワーク（７
）の端部に係合させるとばね＠）により与えられた旋回
力を保有した状態でワークホルダ（９）の旋回を停止さ
けることが出来る。
該ストッパＣ０の後端部（１１ｂ）は機枠（２）が回転
した時真空処理室（１）に段重」たブラケットＯ■と衝
突し得るように延長される。６３）は該ス１〜ツバ００
と一体の当り片（１１ｃ）と当接して回転をＩｔ、Ｉｔ
限するビンである。ブラケット（＋２１の詳細は第４図
乃至第６図の如くであり台座−）にＲ部ａωを有Ｊ゛る
傾動杆（＋６）を軸着し、これに必要に応じて傾動杆６
６）の起立用のばね０７）を付設して構成され、ストッ
パＯＯの後端部（１１ｂ）が矢印方向に当ると傾動打Ｑ
６）が倒れてストッパ６０に解除作動は与えず、その逆
方向から当ると傾動扛６のは倒れずストッパＯ０が倒れ
てワーク（７）及びワークホルダ（０）の旋回を許容す
る解除作動を行なう。６Ｂ）は回転軸（３）を正逆に回
転させるモータ、Ｑ９）はフレーム（８）に設置プたワ
ーク（７）の旋回防止片である。
した時真空処理室（１）に段重」たブラケットＯ■と衝
突し得るように延長される。６３）は該ス１〜ツバ００
と一体の当り片（１１ｃ）と当接して回転をＩｔ、Ｉｔ
限するビンである。ブラケット（＋２１の詳細は第４図
乃至第６図の如くであり台座−）にＲ部ａωを有Ｊ゛る
傾動杆（＋６）を軸着し、これに必要に応じて傾動杆６
６）の起立用のばね０７）を付設して構成され、ストッ
パＯＯの後端部（１１ｂ）が矢印方向に当ると傾動打Ｑ
６）が倒れてストッパ６０に解除作動は与えず、その逆
方向から当ると傾動扛６のは倒れずストッパＯ０が倒れ
てワーク（７）及びワークホルダ（０）の旋回を許容す
る解除作動を行なう。６Ｂ）は回転軸（３）を正逆に回
転させるモータ、Ｑ９）はフレーム（８）に設置プたワ
ーク（７）の旋回防止片である。
尚、図示の例では機枠（２）のワークホルダ（９）と対
向する位置にもフリー回転のホルダ■を設け、両ホルダ
（９）（イ）の共同で安定にワーク（７）を支承出来る
ようにした。
向する位置にもフリー回転のホルダ■を設け、両ホルダ
（９）（イ）の共同で安定にワーク（７）を支承出来る
ようにした。
その作動を説明するに、機枠（２）の各ワークホルダ（
０）にワーク（７）を保持させ、これらを１８０″′旋
回させるとばね（ト）が巻かれてワークホルダ（９）に
は旋回力が付与される。次でストッパ００で第３図示の
ようにワーク（７）の側部を係止するとワークホルダ（
９）はばね（ト）の旋回力を保持して停止状態となる。
０）にワーク（７）を保持させ、これらを１８０″′旋
回させるとばね（ト）が巻かれてワークホルダ（９）に
は旋回力が付与される。次でストッパ００で第３図示の
ようにワーク（７）の側部を係止するとワークホルダ（
９）はばね（ト）の旋回力を保持して停止状態となる。
こうして機枠（２）にワーク（７）のセットが終ると真
空処理室（１）内に持込まれ回転軸（３）に取付けられ
る。該処理室（１）内を真空化し機枠（２）を回転させ
乍ら蒸発１ （５）を作動するとワーク（７）の下面（
７ａ）に蒸発物質が付＠するが、この場合の機枠（２）
は第２図の矢印方向に回転されるもので、ブラケット０
２は各ストッパ０１）になぎ倒され、ストッパ０９はワ
ークホルダ（０）の旋回力を解除することがない。該下
面（７ａ）の処理が終るとワーク（７）を反転し、その
背面の処理を行なうが、その場合機枠（２）を前記と逆
回転すると各ス］・ツバＯＯはブラケットＱ２の逆側か
ら当り、ブラケット０２が倒れず各ストッパ６０が順次
側れる。各ワーク（７）の端部からストッパ６０が離れ
るとワークホルダ（９）はばね（ト）の旋回力で１８０
°旋回し、ワーク（７）の他端部が旋回防止片００に当
って止るとその反転が終り、ワーク（７）の新たな面が
蒸発源（５）に面する。そのまま機枠（２）の回転を続
ければ新たな面を処理することが出来、その際ストッパ
ＯＯはブラケット０２１により倒され続けるが、ワーク
ホルダ（９）の旋回力は既に解放済みであるのでワーク
（７）は反転しない。
空処理室（１）内に持込まれ回転軸（３）に取付けられ
る。該処理室（１）内を真空化し機枠（２）を回転させ
乍ら蒸発１ （５）を作動するとワーク（７）の下面（
７ａ）に蒸発物質が付＠するが、この場合の機枠（２）
は第２図の矢印方向に回転されるもので、ブラケット０
２は各ストッパ０１）になぎ倒され、ストッパ０９はワ
ークホルダ（０）の旋回力を解除することがない。該下
面（７ａ）の処理が終るとワーク（７）を反転し、その
背面の処理を行なうが、その場合機枠（２）を前記と逆
回転すると各ス］・ツバＯＯはブラケットＱ２の逆側か
ら当り、ブラケット０２が倒れず各ストッパ６０が順次
側れる。各ワーク（７）の端部からストッパ６０が離れ
るとワークホルダ（９）はばね（ト）の旋回力で１８０
°旋回し、ワーク（７）の他端部が旋回防止片００に当
って止るとその反転が終り、ワーク（７）の新たな面が
蒸発源（５）に面する。そのまま機枠（２）の回転を続
ければ新たな面を処理することが出来、その際ストッパ
ＯＯはブラケット０２１により倒され続けるが、ワーク
ホルダ（９）の旋回力は既に解放済みであるのでワーク
（７）は反転しない。
このように本発明によるときは回転自在の機枠に旋回力
を保有したワークホルダとその旋回力を保有させてワー
クホルダを停止させるストッパを設け、該機枠一方への
回転時にブラケットがストッパを作動させてワークホル
ダの旋回を許容りるようにしたので機枠の同転方向を変
えるだけでワークホルダに取付けたワークの反転を行な
え、その反転作動は機枠の１回転で終了さｔ！得るので
反転時間が短く、負空処理室内に大気を導入することな
く真空としたまま反転を行なうのでワークの処理時間を
短縮出来、ワークホルダはばねにより自転するので特別
の動力源が不要で構成が簡単になる等の効果がある。
を保有したワークホルダとその旋回力を保有させてワー
クホルダを停止させるストッパを設け、該機枠一方への
回転時にブラケットがストッパを作動させてワークホル
ダの旋回を許容りるようにしたので機枠の同転方向を変
えるだけでワークホルダに取付けたワークの反転を行な
え、その反転作動は機枠の１回転で終了さｔ！得るので
反転時間が短く、負空処理室内に大気を導入することな
く真空としたまま反転を行なうのでワークの処理時間を
短縮出来、ワークホルダはばねにより自転するので特別
の動力源が不要で構成が簡単になる等の効果がある。
第１図は本発明の実施例の截断側面図、第２図は第１図
のＩ−ＩＩ線部分の平面図、第３図は第１図のｍ−■線
部分の拡大図、第４図は第１図のＴＶ −ＩＶ線部分の
拡大図、第５図はその平面図、第６図は傾倒杆の側面図
である。 （１）・・・真空処理室、 （２）・・・機枠、（７）
・・・ワーク、（０）・・・ワークホルダ、（至）・・
・ばね、００・・・ストッパ、 ０２１・・・ブラケ
ット特開口ａＧ１−６２７３（４）
のＩ−ＩＩ線部分の平面図、第３図は第１図のｍ−■線
部分の拡大図、第４図は第１図のＴＶ −ＩＶ線部分の
拡大図、第５図はその平面図、第６図は傾倒杆の側面図
である。 （１）・・・真空処理室、 （２）・・・機枠、（７）
・・・ワーク、（０）・・・ワークホルダ、（至）・・
・ばね、００・・・ストッパ、 ０２１・・・ブラケ
ット特開口ａＧ１−６２７３（４）
Claims (1)
- 真空処理室内に回転自在の機枠を設け、これにワークを
取付けて該ワークに真空蒸着その他の処理を施す式のも
のに於て、該機枠に、支軸により支承され且つばねによ
り一方向への旋回力が付与されたワークホルダを設ける
と共に該ワークホルダをその旋回力を保持して停止させ
るストッパを設け、該真空処理室に該機枠の一方への回
転時に該ストッパに解除作動を与えるブラケットを設け
たことを特徴とするワークの反転装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12632884A JPS616273A (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | ワ−クの反転装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12632884A JPS616273A (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | ワ−クの反転装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS616273A true JPS616273A (ja) | 1986-01-11 |
Family
ID=14932463
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12632884A Pending JPS616273A (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | ワ−クの反転装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS616273A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2602244A1 (fr) * | 1986-07-31 | 1988-02-05 | Satis Vacuum Ag | Installation pour l'application sous vide de revetements optiques |
| JP2000303167A (ja) * | 1999-04-19 | 2000-10-31 | Hoya Corp | レンズの蒸着装置 |
| EP1050597A2 (de) * | 1999-05-04 | 2000-11-08 | Satis Vacuum Industries Vertriebs - AG | Vakuum-Beschichtungsanlage |
| CN102268652A (zh) * | 2010-06-04 | 2011-12-07 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 镀膜伞架 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58128724A (ja) * | 1982-01-27 | 1983-08-01 | Hitachi Ltd | ウエハ反転装置 |
-
1984
- 1984-06-21 JP JP12632884A patent/JPS616273A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58128724A (ja) * | 1982-01-27 | 1983-08-01 | Hitachi Ltd | ウエハ反転装置 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2602244A1 (fr) * | 1986-07-31 | 1988-02-05 | Satis Vacuum Ag | Installation pour l'application sous vide de revetements optiques |
| JP2000303167A (ja) * | 1999-04-19 | 2000-10-31 | Hoya Corp | レンズの蒸着装置 |
| EP1050597A2 (de) * | 1999-05-04 | 2000-11-08 | Satis Vacuum Industries Vertriebs - AG | Vakuum-Beschichtungsanlage |
| EP1050597A3 (de) * | 1999-05-04 | 2004-01-21 | Satis Vacuum Industries Vertriebs - AG | Vakuum-Beschichtungsanlage |
| CN102268652A (zh) * | 2010-06-04 | 2011-12-07 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 镀膜伞架 |
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