JPH05271935A - 連続成膜用真空蒸着装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 蒸着槽内へ連続して基板を送り込み、真空蒸
着による基板両面の成膜を行う際の成膜作業能率を向上
させる。 【構成】 蒸着槽１内で支持される基板治具６の中心回
りに、各基板ホルダ１０を収める複数の開口部を放射状
に形成する。各基板ホルダ１０に、基板治具６の半径方
向に沿う回転支軸１４ａ，１４ｂを設ける。各基板ホル
ダ１０を、回転支軸１４ａ，１４ｂを中心に開口部内で
回転可能に基板治具６に対して支持する。各基板ホルダ
１０の回転支軸１４ｂと蒸着槽１の側壁１ｃとの間に、
基板治具６を回転させたとき、各基板ホルダ１０の回転
支軸１４ｂと接続してこの回転支軸１４ｂを回転させ各
基板面を蒸発源１ａの方向へ向ける回転付与手段１６を
設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、蒸着槽内へ連続的に基
板を供給し成膜した後、基板を回収する連続成膜用真空
蒸着装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の連続成膜用真空蒸着装置
としては、真空状態で基板の蒸着が行われる蒸着槽と、
この蒸着槽の両側にそれぞれこの蒸着槽と連通して配設
された入口槽および出口槽と、上記蒸着槽と入口槽との
間および蒸着槽と出口槽との間にそれぞれ設けられたゲ
ート弁と、基板治具を上記入口槽内から上記蒸着槽内を
通って上記出口槽内へ搬送する搬送手段とを備え、上記
基板治具には、それぞれ複数枚の基板が装着された複数
個の基板ホルダが支持されており、上記蒸着槽に、この
蒸着槽内で支持された上記基板治具を鉛直線回りに回転
させる回転駆動手段が設けられているものがよく知られ
ている。

【０００３】上記の真空蒸着装置は、蒸着槽と遮断され
た入口槽に、複数枚の基板を装着した基板治具をセット
した後、入口槽を真空にして蒸着槽と連通させ、蒸着槽
内へ基板治具を搬送して基板の成膜を行い、その後、基
板治具を真空状態の出口槽に搬送し、この出口槽を蒸着
層と遮断して大気に開放し、基板治具を取り出すように
なっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、光学膜など
基板の表裏両面に成膜を施す必要がある場合、上記従来
の連続成膜用真空蒸着装置では、基板治具に保持された
基板を真空槽内で反転させることができないため、一
旦、装置外に取り出して基板を裏返し、再び蒸着槽内へ
搬入して成膜を施さなければならず、非常に手間がかか
るという問題がある。

【０００５】また、基板治具を搬入および搬出する際
に、基板の成膜面は常に上方または下方を向いた状態に
なっているため、成膜面に塵や埃が付着し易く、付着し
た塵や埃が成膜時にピンホールを形成して膜質を悪化さ
せたり、成膜後の基板が汚れるという問題もある。

【０００６】本発明はこのような諸点に鑑みてなされた
もので、その目的とするところは、蒸着槽内で基板を反
転して基板の両面に成膜を施すことができ、成膜作業の
能率を向上させ得る連続成膜用真空蒸着装置を提供しよ
うとするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、請求項１記載の発明は、真空状態下で下方の蒸発源
から基板に対する蒸着を行う蒸着槽と、この蒸着槽の両
側にそれぞれこの蒸着槽と連通して配設した入口槽およ
び出口槽と、上記蒸着槽と入口槽との間および蒸着槽と
出口槽との間にそれぞれ設けたゲート弁と、基板治具を
上記入口槽内から上記蒸着槽内を通って上記出口槽内へ
搬送する搬送手段とを備え、上記基板治具に、複数枚の
基板がそれぞれ両面を露出させるよう装着された複数個
の基板ホルダを支持し、上記蒸着槽に、この蒸着槽内で
支持した上記基板治具を鉛直線回りに回転させる回転駆
動手段を設けた連続成膜用真空蒸着装置において、上記
基板治具の中心回りに、上記各基板ホルダを収める複数
の開口部を放射状に形成し、上記各基板ホルダに、上記
基板治具の半径方向に沿う回転支軸を設け、この回転支
軸を中心に上記開口部内で回転可能に上記基板治具に対
して支持し、上記回転駆動手段により上記基板治具を回
転させたとき、上記各基板ホルダの回転支軸と接続して
この回転支軸を回転させ各基板面を上記蒸発源の方向へ
向ける回転付与手段を備える構成とするものである。

【０００８】請求項２記載の発明は、上記請求項１記載
の発明において、回転付与手段を、基板治具の周縁部に
支持された各基板ホルダの回転支軸先端に軸着した係合
部と、蒸着槽の側壁に設け上記係合部に向かって伸長し
この係合部と係合してこの係合部を９０度回転させるロ
ッドと、このロッドの伸縮を駆動する駆動手段とを備え
たものとする構成とするものである。

【０００９】

【作用】上記の構成により、請求項１記載の発明では、
入口槽から搬送手段により搬送された基板治具は、蒸着
槽内で支持され回転駆動手段に回転操作されながら、基
板の一方の面に対して蒸着による成膜が行われる。成膜
後、回転駆動手段で基板治具を回転させると、蒸着槽内
で回転付与手段が基板ホルダの回転支軸と接続してこの
回転支軸を回転させることにより基板面が反転する。こ
の反転した基板面に対しても成膜を行い、基板両面の成
膜が終わると、基板治具を搬送手段で出口槽へ搬送し、
回収する。

【００１０】請求項２記載の発明では、基板治具は、各
基板ホルダを鉛直方向に立てた状態で搬出手段により蒸
着槽内へ搬入され、蒸着槽内で支持される。駆動手段を
操作して基板治具に対してロッドを伸長させ、回転駆動
手段を操作して基板治具を回転させると、ロッドは係合
部を９０度回転させ、基板ホルダは係合部に従動して９
０度回転し、基板面を蒸発源の方向へ向ける。基板の両
面に対して成膜が終わると、ロッドを再び伸長させ、基
板治具を回転させて基板ホルダを９０度回転させる。各
基板ホルダは、鉛直方向に立った状態になり、この状態
で基板治具は搬送手段により搬出される。

【００１１】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。

【００１２】図１および図２は、本発明の第１実施例に
係る連続成膜用真空蒸着装置Ａを示し、１は蒸着槽、１
ａは蒸着材料の入った蒸発源、１ｂは加熱ヒータであ
る。上記蒸着槽１は、真空状態下で下方の蒸発源１ａか
ら蒸発材料を飛ばし、基板Ｗに対して蒸着による成膜を
行うようになっている。２および３は、それぞれ上記蒸
着槽１を挟んで両側に配設された入口槽および出口槽で
あり、両槽２，３と上記蒸着槽１との間には、それぞれ
ゲート弁４が設けられている。このゲート弁４は、上記
入口槽２および出口槽３をそれぞれ上記蒸着槽１と遮断
するとともに、上記入口槽２および出口槽３が内部を真
空状態にしたとき、各槽２，３を上記蒸着槽１と連通さ
せるようになっている。

【００１３】上記入口槽２および出口槽３の、上記ゲー
ト弁４と反対側の開口には、上記両槽２，３をそれぞれ
閉塞するハッチ５が設けられている。上記入口槽２およ
び出口槽３は、図外の真空ポンプに接続されており、こ
の真空ポンプにより上記蒸着槽１と同じ真空状態になる
ようになっている。また、上記ゲート弁４を閉じて上記
各ハッチ５を開くことにより、内部が大気に開放される
ようになっている。

【００１４】上記入口槽２および上記出口槽３の内部
は、複数枚の基板Ｗが保持された環状の基板治具６が搬
送される空間になっており、上記基板治具６を搬送する
ため、上記蒸着槽１、上記入口槽２および出口槽３の各
槽内には、一群の駆動ローラからなる搬送手段７が設け
られている。

【００１５】上記蒸着槽１内には、この蒸着槽１内で支
持された上記基板治具６を鉛直線回りに回転させる回転
駆動手段８が設けられている。この回転駆動手段８で上
記基板治具６を回転させることにより、各基板Ｗを成膜
する際に、基板Ｗの成膜品質を安定させることができ
る。

【００１６】上記基板治具６の、環状の中心部６ａと環
状の周縁部６ｂとの間には、図３に示すように、両者６
ａ，６ｂ間を繋ぐステー６ｃが放射状に架設されてお
り、隣り合うステー６ｃ，６ｃ同士間に開口部９が形成
されている。これら各開口部９には、複数枚の基板Ｗ，
Ｗ，…がその両面を露出させるよう装着された基板ホル
ダ１０が収められており、これら基板ホルダ１０，１
０，…は、基板治具６に対して放射状に配設されてい
る。

【００１７】上記周縁部６ｂは、環状の上材１１と下材
１２とが上下に配設され、両者１１，１２間が縦ステー
１３で連結されてなっている。

【００１８】上記各基板ホルダ１０の、上記基板治具６
の中心部６ａおよび周縁部６ｂとそれぞれ対向する端面
には、上記基板治具６の半径方向に沿って（上記ステー
６ｃに沿って）回転支軸１４ａ，１４ｂが突設されてお
り、各基板ホルダ１０は、上記両回転支軸１４ａ，１４
ｂを回転中心として上記開口部９内で回転可能になって
いる。

【００１９】上記基板治具６の中心部６ａには、上記各
開口部９に対応する軸受１５が放射状に配設されてい
る。上記各軸受１５には、上記一方の回転支軸１４ａが
支持されており、上記他方の回転支軸１４ｂは、上記基
板治具６の周縁部６ｂの上材１１に回転可能に支持され
ている。

【００２０】上記各基板ホルダ１０の一方の回転支軸１
４ｂと上記蒸着槽１の側壁１ｃとの間には、上記基板ホ
ルダ１０を反転させる回転付与手段１６が設けられてい
る。この回転付与手段１６は、上記回転駆動手段８によ
り上記基板治具６を回転させたとき、上記各基板ホルダ
１０の回転支軸１４ｂと接続してこの回転支軸１４ｂを
１８０度回転させることにより、基板Ｗの上面を上記蒸
発源１ａの方向へ転向させるようになっている。

【００２１】上記回転付与手段１６は、図５に詳示する
ように、上記各基板ホルダ１０の回転支軸１１ｂ先端に
軸着された係合部１７と、上記蒸着槽１の側壁１ｃの１
か所に設けられた伸縮可能なロッド１８と、このロッド
１８の伸縮を駆動する駆動手段１９とを備えている。

【００２２】上記係合部１７の周面には、図４に示すよ
うに、伸長した上記ロッド１８を受け入れる凹部２０が
等間隔で４か所形成されており、上記隣り合う凹部２
０，２０同士間には、伸長した上記ロッド１８に当接し
て回動するアーム２１が形成されている。このアーム２
１は、伸長した上記ロッド１８に進行を阻まれ、ロッド
１８の相対的な付勢から逃れるようにして９０度回転す
ることにより、上記基板ホルダ１０を９０度回転させる
ようになっている。上記ロッド１８は、一方の面を成膜
し終えた基板Ｗを反転させてもう一方の面にも成膜させ
たいとき、上記基板治具６が上記蒸着槽１内を２回転す
る間で伸長するよう設定されている。すなわち、基板治
具６の１回転目で上記各基板ホルダ１０を９０度回転さ
せた後、基板治具６の２回転目で上記基板ホルダ６をさ
らに９０度回転させるようになっている。

【００２３】上記一方の回転支軸１４ｂには、図４に示
すように、カム２２が軸着されており、このカム２２
は、上記周縁部６ｂの上材１１に支持された軸受箱２３
内に収められている。上記カム２２の外周には、凹部２
４と凸部２５とが交互に４個づつ等間隔で形成されてお
り、このカム２２に対しては、上記基板治具６の回転方
向に沿う両側からスプリング２６で付勢されたボール２
７が押圧され、このボール２７は、上記凹部２４に嵌ま
りこむようになっている。

【００２４】上記回転駆動手段８は、図２に示すよう
に、上記蒸着槽１の上面に取り付けられた減速モータ２
８と、この減速モータ２８の駆動力を出力する駆動軸２
９と、この駆動軸２９に固定された基板治具保持部材３
０とからなっている。この基板治具保持部材３０は、上
記駆動軸２９に固定された中央部３１と、この中央部３
１から３方に放射状に延びる吊持アーム３２，３２，３
２とを備えており、各吊持アーム３２の先端には、連結
爪３３が内向きに突設されている。上記基板治具保持部
材３０は、上記搬送手段７上を送られてくる基板治具６
の搬送路より上方に設けられている。

【００２５】上記基板治具保持部材３０の中央部３１の
下面には、上記基板治具６が取り付けられる際に、基板
治具６を下方に押圧するストッパ３４が設けられてい
る。このストッパ３４は、上記基板治具保持部材３０の
中央部３１内に出没自在の軸体３５と、この軸体３５を
下方へ付勢するばね３６と、上記軸体３５の下端に設け
られた押接体３７とを備えている。

【００２６】上記基板治具６の周囲には、搬送時のキャ
リヤとなる搬送枠３８が固定されている。この搬送枠３
８の周面には、上記吊持アーム３２の連結爪３３に係止
される係止爪３９が、上記吊持アーム３２の連結爪３３
に対応する３箇所に設けられている。

【００２７】上記蒸着槽１内には、上記搬送手段７上の
基板治具６（図２に一点鎖線で図示）を上記吊持アーム
３２，３２，３２に対して昇降させる昇降手段４０，４
０が設けられている。上記基板治具６は、上記昇降手段
４０，４０により、上記各吊持アーム３２の連結爪３３
の回転平面より上方の高さまで持ち上げられる。この状
態で上記回転駆動手段８を起動させて吊持アーム３２，
３２，３２を所定量だけ回転操作し、上記各連結爪３３
を上記搬送枠３８の各係止爪３９の下方に配置させた
後、上記昇降手段４０，４０，４０を操作すると、上記
各連結爪３３と上記各係止爪３９とが係合し、上記基板
治具６は、上記吊持アーム３２，３２，３２に吊持され
るようになっている。この時、上記ストッパ３４は、上
記軸体３５が、上記基板治具６により押され、上記ばね
３６の付勢に抗して上記基板治具保持部材３０内へ押し
込まれるとき、上記押接体３７がばね３６の反発力で基
板治具６に押し付けられることを利用して、上記基板治
具６の自由な回転を防ぐようになっている。

【００２８】次に、本実施例の動作について説明する。
入口槽２から搬送手段７により搬送された基板治具６
は、蒸着槽１内で支持され回転駆動手段８に回転操作さ
れながら、基板Ｗ，Ｗ，…の一方の面に対して蒸着によ
る成膜が行われる。成膜後、回転駆動手段８で基板治具
６を回転させると、蒸着槽１内で回転付与手段１６によ
り基板ホルダ１０の回転支軸１４ｂが回転させられ基板
面が反転する。この反転した基板面に対しても成膜を行
い、基板Ｗ両面の成膜が終わると、基板治具６を搬送手
段７で出口槽３へ搬送し、回収する。

【００２９】このように、基板Ｗ，Ｗ，…の一方の面に
対して成膜が終わると、蒸着槽１内で基板Ｗ，Ｗ，…を
反転させ、続いて基板Ｗ，Ｗ，…のもう一方の面に成膜
を行うことができるので、基板Ｗ，Ｗ，…の両面に対す
る成膜処理の能率を大幅に向上させることができる。

【００３０】また、駆動手段１９を操作して、蒸着槽１
内で支持された基板治具６に対してロッド１８を伸長さ
せ、回転駆動手段８を操作して基板治具６を回転させる
と、ロッド１８は係合部１７を９０度回転させ、基板ホ
ルダ１０は係合部１７に従動して９０度回転する。その
ため、蒸着槽１内へ基板治具６を搬入する際、および蒸
着槽１内から基板治具６を搬出する際に、各基板ホルダ
１０を鉛直方向に立てた状態にして基板Ｗの成膜面を横
方向に向けることができる。この結果、基板Ｗの成膜面
に塵や埃が付着するのを抑え、成膜品質を向上できると
ともに、成膜後の基板Ｗの汚れを防止できる。

【００３１】図６は、本発明の第２実施例に係る連続成
膜用真空蒸着装置Ｂを示す。なお、この真空蒸着装置Ｂ
において、上記第１実施例と同じ構成部分については同
じ符号を付し、その説明を省略する。

【００３２】図６において、４１は基板治具６を保持し
て回転させる回転駆動手段である。この回転駆動手段４
１は、蒸着槽１の上面に取り付けられた減速モータ４２
と、この減速モータ４２の駆動力を出力する駆動軸４３
と、この駆動軸４３に固定された基板治具保持部材４４
とからなっている。この基板治具保持部材４４は、上記
駆動軸４３に固定された中央部４５と、この中央部４５
から３方に放射状に延びる吊持アーム４６，４６，４６
とを備えており、各吊持アーム４６の先端には、連結爪
４７が外向きに突設されている。上記基板治具保持部材
４４は、搬送手段７上を送られてくる基板治具６の搬送
路より上方に設けられている。

【００３３】上記基板治具保持部材４４の中央部４５の
下面には、上記基板治具６が取り付けられる際に、基板
治具６の位置決めを行う位置決め軸４８が設けられてい
る。

【００３４】上記基板治具６の周囲には、搬送時のキャ
リヤとなる搬送枠５０が固定されている。この搬送枠５
０の周縁には、上記吊持アーム４６の連結爪４７に係止
されるフック５１が、上記吊持アーム４６の連結爪４７
に対応する３箇所に設けられている。

【００３５】上記フック５１と上記連結爪４７との互い
に対向する面には、両者を係合する係合手段５２が設け
られている。この係合手段５２は、上記フック５１に形
成された溝５３と、上記連結爪４７の上面に突設された
リブ５４とからなり、上記回転駆動手段４１の起動時あ
るいは回転停止時に基板治具６が吊持アーム４６，４
６，４６から脱落するのを防止するようになっている。

【００３６】上記基板治具６を上記吊持アーム４６，４
６，４６に吊持させる際には、上記基板治具６は、上記
蒸着槽１内に設けられた昇降手段４０，４０により、上
記各吊持アーム４６の連結爪４７の上面より少し上方の
高さまで持ち上げられるようになっている。この状態で
上記回転駆動手段４１を起動させて吊持アーム４６，４
６，４６を所定量だけ回転操作し、上記各連結爪４７を
上記搬送枠５０の各フック５１の下方に入り込ませた
後、上記昇降手段４０，４０を下降操作すると、上記各
連結爪４７と上記各係止爪５１とが係合し、上記基板治
具６は、上記吊持アーム４６，４６，４６に吊持される
ようになっている。

【００３７】上記基板治具６は、上記吊持アーム４６，
４６，４６への吊持方法とは逆の手順により、上記吊持
アーム４６，４６，４６から取り外すことができる。

【００３８】上記第２実施例において、基板治具６の搬
入搬出時および基板Ｗ，Ｗ，…に対する成膜時の動作に
ついては、上記第１実施例と同様であるため、詳述を避
けるが、上記第１実施例と同じ効果が得られるのは言う
までもない。

【００３９】なお、上記第２実施例では、係合手段５２
を、フック５１に形成された溝５３と、連結爪４７の上
面に突設されたリブ５４とから構成していたが、フック
側にリブを設け、連結爪側に溝を設けるよう構成しても
良い。また、上記第２実施例において、フック５１を、
一方向からのみ連結爪４７の進入を許す構造としても良
い。

【００４０】また、上記第１および第２実施例では、基
板治具６の周面に搬送枠３９または５０を固定していた
が、この搬送枠は、基板治具と別体にしても良い。

【００４１】さらに、上記実施例では、基板ホルダ１０
を放射状に配設した基板治具６を用いて基板Ｗに対する
成膜を行っていたが、回転駆動手段８または４１の構造
は従来と同じであるため、従来の基板治具、例えば、基
板をドーム型の内面に配設した公転ドーム型のものや、
公転する治具の下面で基板を配した自転板を自転させる
プラネタリ型のもの等を使用して、成膜を行うこともで
きる。また、これら各種の基板治具を、成膜する基板の
種類に応じて選定し、基板治具毎に使い分けることもで
きる。

【００４２】また、上記第１および第２実施例では、蒸
着槽１の両側に入口槽２と出口槽３とを設ける単純な真
空槽配置であったが、入口槽や出口槽と蒸着槽との間に
加熱槽や別の蒸着槽を設けても良い。

【００４３】さらに、上記第１および第２実施例では、
回転付与手段１６のロッド１８を、蒸着槽側壁１ｃの１
か所に設け、係合部１７をロッド１８と係合して９０度
回転するよう構成したが、ロッド１８の設置数に特に制
限はなく、例えば、蒸着槽側壁１ｃの同一円周上の２か
所に設け、基板治具６が１回転する間に、係合部１７を
１８０度回転させるよう構成しても良い。

【００４４】また、上記第１および第２実施例では、基
板治具６の各ステー６ｃの両側に、基板ホルダ１０との
間で隙間が生じているが、この隙間の少し上方に基板治
具６から遮蔽部材を延設し、隙間を覆うようにしても良
い。これにより、隙間から蒸着材料が飛び散って蒸着槽
１の上面に付着し、冷えた後に落下して基板面を汚すこ
とを防止できる。

【００４５】

【発明の効果】以上のように、請求項１記載の連続成膜
用真空蒸着装置によれば、基板の一方の面に対して成膜
が終わると、蒸着槽内で基板を反転させ、続いて基板の
もう一方の面に成膜を行うことができるので、基板の両
面に対する成膜処理の能率を大幅に向上させることがで
きる。

【００４６】特に、請求項２記載の連続成膜用真空蒸着
装置によれば、蒸着槽内で回転付与手段により基板の向
きを９０度回転させることができるので、蒸着槽内へ基
板を搬入する際、および蒸着槽内から基板を搬出する際
に基板の成膜面を鉛直方向に向けることができ、基板の
成膜面に塵や埃が付着するのを抑え、成膜品質を向上で
きるとともに、成膜後の基板の汚れを防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例に係る連続成膜用真空蒸着
装置の断面図である。

【図２】同別方向から見た一部の断面図である。

【図３】基板治具の平面図である。

【図４】回転付与手段の正面図である。

【図５】同側面図である。

【図６】本発明の第２実施例に係る連続成膜用真空蒸着
装置の一部の断面図である。

【図７】係合手段の斜視図である。

【符号の説明】

１ 蒸着槽 １ａ 蒸発源 １ｃ 蒸着槽の側壁 ２ 入口槽 ３ 出口槽 ６ 基板治具 ６ａ 基板治具の中心部 ６ｂ 基板治具の周縁部 ７ 搬送手段 ８ 回転駆動手段 ９ 基板治具の開口部 １０ 基板ホルダ １４ａ，１４ｂ 回転支軸 １６ 回転付与手段 １７ 係合部 １８ ロッド １９ 駆動手段 Ａ，Ｂ 連続成膜用基板蒸着装置

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 真空状態下で下方の蒸発源から基板に対
   する蒸着を行う蒸着槽と、この蒸着槽の両側にそれぞれ
   この蒸着槽と連通して配設された入口槽および出口槽
   と、上記蒸着槽と入口槽との間および蒸着槽と出口槽と
   の間にそれぞれ設けられたゲート弁と、基板治具を上記
   入口槽内から上記蒸着槽内を通って上記出口槽内へ搬送
   する搬送手段とを備え、上記基板治具には、複数枚の基
   板がそれぞれ両面を露出させるよう装着された複数個の
   基板ホルダが支持されており、上記蒸着槽には、この蒸
   着槽内で支持された上記基板治具を鉛直線回りに回転さ
   せる回転駆動手段が設けられている連続成膜用真空蒸着
   装置において、 上記基板治具の中心回りには、上記各基板ホルダを収め
   る複数の開口部が放射状に形成されており、 上記各基板ホルダは、上記基板治具の半径方向に沿う回
   転支軸を備え、この回転支軸を中心に上記開口部内で回
   転可能に上記基板治具に対して支持されており、 上記
   回転駆動手段により上記基板治具を回転させたとき、上
   記各基板ホルダの回転支軸と接続してこの回転支軸を回
   転させ各基板面を上記蒸発源の方向へ向ける回転付与手
   段を備えたことを特徴とする連続成膜用真空蒸着装置。
2. 【請求項２】 回転付与手段は、基板治具の周縁部に支
   持された各基板ホルダの回転支軸先端に軸着された係合
   部と、蒸着槽の側壁に設けられ上記係合部に向かって伸
   長しこの係合部と係合してこの係合部を９０度回転させ
   るロッドと、このロッドの伸縮を駆動する駆動手段とを
   備えている請求項１記載の連続成膜用真空蒸着装置。