JPS6155603A - 高耐久性赤外反射鏡 - Google Patents
高耐久性赤外反射鏡Info
- Publication number
- JPS6155603A JPS6155603A JP17675684A JP17675684A JPS6155603A JP S6155603 A JPS6155603 A JP S6155603A JP 17675684 A JP17675684 A JP 17675684A JP 17675684 A JP17675684 A JP 17675684A JP S6155603 A JPS6155603 A JP S6155603A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- reflecting mirror
- thickness
- layer
- tin
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[技術分野]
本発明は赤外線波長領域における反射鏡に関する。
[従来技術]
従来、赤外線領域における反射鏡としてはガラス等の基
板上にアルミニウム、金、銀または銅等の金属のFJ
Mを付したものが用いられている。しかしながら、これ
らの金属膜反射鏡はいづれも耐摩耗性が低く、また金膜
反射鏡を除いては化学的安定性が低いという欠点がある
。
板上にアルミニウム、金、銀または銅等の金属のFJ
Mを付したものが用いられている。しかしながら、これ
らの金属膜反射鏡はいづれも耐摩耗性が低く、また金膜
反射鏡を除いては化学的安定性が低いという欠点がある
。
そこで、この欠点を補うため金属膜上に赤外線領域で透
明なMgF2やSfO等の保護膜を付与することが行な
われている。しかして、この様な保護膜の付与にあって
は、薄い膜では不十分であり、かなり厚い膜を付与しな
いと#摩耗性及び化学的安定性等のの耐久性が十分とは
ならない。このため、比較的厚い膜を付与せざるを得な
いが、保護膜の膜厚が大きくなると分光反射率の低下の
みならず膜の内部応力が大きくなり基板を変形せしめ面
精度等の光学的性能が低下するという問題があった。
明なMgF2やSfO等の保護膜を付与することが行な
われている。しかして、この様な保護膜の付与にあって
は、薄い膜では不十分であり、かなり厚い膜を付与しな
いと#摩耗性及び化学的安定性等のの耐久性が十分とは
ならない。このため、比較的厚い膜を付与せざるを得な
いが、保護膜の膜厚が大きくなると分光反射率の低下の
みならず膜の内部応力が大きくなり基板を変形せしめ面
精度等の光学的性能が低下するという問題があった。
[発明の目的]
本発明は、上記の如き従来技術に鑑み、十分な耐久性と
良好な光学的性能を有する赤外反射鏡を提供することを
目的とする。
良好な光学的性能を有する赤外反射鏡を提供することを
目的とする。
〔発明の要旨コ
本発明によれば、以上の様な目的は、基板上にCr、T
i、Co及びNiのうちの1つ又はこれらの混合体から
なる第1i目の膜が形成されており、該第2層目の膜の
上にTiNからなる第2層目の膜が形成されていること
を特徴とする、高耐久性赤外反射鏡により達成される。
i、Co及びNiのうちの1つ又はこれらの混合体から
なる第1i目の膜が形成されており、該第2層目の膜の
上にTiNからなる第2層目の膜が形成されていること
を特徴とする、高耐久性赤外反射鏡により達成される。
[発明の実施例]
以下、添付図面を参照しながら本発明の具体的実施例を
説明する。
説明する。
第1図は本発明による高耐久性赤外反射鏡の概略断面図
である1図において、lはガラス基板であり、2は第1
層目の■儲であり、3は第2層目のTiNII!f!で
ある0本実施例においては、第1層目の膜の材質として
はTiが用いられた。第1層目の膜2の膜厚は0.81
Lmであり、第2層目のnλの膜厚は0.3牌mであっ
た。
である1図において、lはガラス基板であり、2は第1
層目の■儲であり、3は第2層目のTiNII!f!で
ある0本実施例においては、第1層目の膜の材質として
はTiが用いられた。第1層目の膜2の膜厚は0.81
Lmであり、第2層目のnλの膜厚は0.3牌mであっ
た。
土肥第1層目の膜形成は通常の真空蒸着法により行なわ
れ、真空度lXl0−8Torrに排気した後、基板温
度約300″0に保った状態で電子銃蒸発源により金属
Tiを膜厚0.8ルm蒸着した3第2層目は、窒素ガス
を反応ガスとして4×10−’Torrまで導入し、プ
ラズマ放電により活性化された状態で金属Tfを電子銃
蒸発源により蒸発させイオンブレーティングすることに
よりTiN膜を膜厚0.3ルm形成した。
れ、真空度lXl0−8Torrに排気した後、基板温
度約300″0に保った状態で電子銃蒸発源により金属
Tiを膜厚0.8ルm蒸着した3第2層目は、窒素ガス
を反応ガスとして4×10−’Torrまで導入し、プ
ラズマ放電により活性化された状態で金属Tfを電子銃
蒸発源により蒸発させイオンブレーティングすることに
よりTiN膜を膜厚0.3ルm形成した。
第2図は本実施例反射鏡の分光特性のグラフである。こ
れにより、本実施例反射鏡が赤外線領域において90%
程度の良好な反射率を示し、長波長になるほど反射率が
高くなることが分る。
れにより、本実施例反射鏡が赤外線領域において90%
程度の良好な反射率を示し、長波長になるほど反射率が
高くなることが分る。
同様にして、第1層目の膜の材質としてTi以外のCr
、Co、Ni等の金属及びTiを含むこれら金属の混合
体を用い、その膜厚を0 、8 pmとし、第2層目の
TiN膜の膜厚を0.3ルmとして反射鏡を作成したと
ころ、いづれも第2図と同様な分光特性を示し、赤外線
領域において90%程度の良好な反射率を得ることがで
きた。
、Co、Ni等の金属及びTiを含むこれら金属の混合
体を用い、その膜厚を0 、8 pmとし、第2層目の
TiN膜の膜厚を0.3ルmとして反射鏡を作成したと
ころ、いづれも第2図と同様な分光特性を示し、赤外線
領域において90%程度の良好な反射率を得ることがで
きた。
vJ2層目のTiN11口3は化学的安定性及び#摩耗
性が優れているため、本発明反射鏡は過酷な条件下にお
いても使用することができる。
性が優れているため、本発明反射鏡は過酷な条件下にお
いても使用することができる。
本発明の反射鏡においては、第1層目の金属膜には真空
蒸着法により形成した場合引っ張り応力が存在し、一方
第2層目のTiN1lにはイオンブレーティングまたは
スパッタリングにより形成した場合圧縮応力が存在する
ので、第1層目の膜の膜厚と第2層目の膜のm厚とを適
宜設定することにより膜全体としての内部応力を小さく
することができ、これにより反射鏡の面精度低下を防止
する効果がある。このためには、TiN膜の内部応力が
金属膜の内部応力の数倍の大きさがあることを考慮し、
本発明の反射鏡においては、第1層目の膜の膜厚と第2
層目の膜の膜厚との間には工≦(dt /d2 )≦l
O の関係があるのが好ましい。
蒸着法により形成した場合引っ張り応力が存在し、一方
第2層目のTiN1lにはイオンブレーティングまたは
スパッタリングにより形成した場合圧縮応力が存在する
ので、第1層目の膜の膜厚と第2層目の膜のm厚とを適
宜設定することにより膜全体としての内部応力を小さく
することができ、これにより反射鏡の面精度低下を防止
する効果がある。このためには、TiN膜の内部応力が
金属膜の内部応力の数倍の大きさがあることを考慮し、
本発明の反射鏡においては、第1層目の膜の膜厚と第2
層目の膜の膜厚との間には工≦(dt /d2 )≦l
O の関係があるのが好ましい。
[発明の効果]
以上の様な本発明によれば、耐摩耗性及び化学的安定性
等の耐久性が良好で且つ光学的性能の良好な赤外反射鏡
が提供される。
等の耐久性が良好で且つ光学的性能の良好な赤外反射鏡
が提供される。
第1図は本発明の赤外反射鏡の断面図であり。
第2図はその分光特性のグラフである。
1・・・基板 2・・・第1層目の膜3・・・第2
!J目のTiN膜
!J目のTiN膜
Claims (2)
- (1)基板上にCr、Ti、Co及びNiのうちの1つ
又はこれらの混合体からなる第1層目の膜が形成されて
おり、該第2層目の膜の上にTiNからなる第2層目の
膜が形成されていることを特徴とする、高耐久性赤外反
射鏡。 - (2)第1層目の膜の膜厚d_1と第2層目の膜の膜厚
d_2との間に1≦(d_1/d_2)≦10の関係が
ある、第1項の高耐久性赤外反射鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59176756A JPH0685004B2 (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 高耐久性赤外反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59176756A JPH0685004B2 (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 高耐久性赤外反射鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6155603A true JPS6155603A (ja) | 1986-03-20 |
JPH0685004B2 JPH0685004B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=16019260
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59176756A Expired - Lifetime JPH0685004B2 (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 高耐久性赤外反射鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0685004B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62240904A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-21 | Hitachi Terekomu Technol:Kk | 集光装置 |
US5085926A (en) * | 1989-02-27 | 1992-02-04 | Central Glass Company, Limited | Neat reflecting glass with multilayer coating |
WO1992005951A1 (en) * | 1990-09-27 | 1992-04-16 | Diamonex, Incorporated | Abrasion wear resistant coated substrate product |
WO1992006843A1 (en) * | 1990-10-18 | 1992-04-30 | Diamonex, Incorporated | Abrasion wear resistant polymeric substrate product |
FR2679064A1 (fr) * | 1991-07-10 | 1993-01-15 | Philips Electronique Lab | Dispositif a neutrons incluant un miroir multicouches. |
US5527596A (en) * | 1990-09-27 | 1996-06-18 | Diamonex, Incorporated | Abrasion wear resistant coated substrate product |
US5637353A (en) * | 1990-09-27 | 1997-06-10 | Monsanto Company | Abrasion wear resistant coated substrate product |
US6707610B1 (en) * | 2002-09-20 | 2004-03-16 | Huper Optik International Pte Ltd | Reducing the susceptibility of titanium nitride optical layers to crack |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54123043A (en) * | 1978-01-18 | 1979-09-25 | Heat Mirror Ass | Longgwave infrared ray reflector |
-
1984
- 1984-08-27 JP JP59176756A patent/JPH0685004B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54123043A (en) * | 1978-01-18 | 1979-09-25 | Heat Mirror Ass | Longgwave infrared ray reflector |
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JPS62240904A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-21 | Hitachi Terekomu Technol:Kk | 集光装置 |
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US5190807A (en) * | 1990-10-18 | 1993-03-02 | Diamonex, Incorporated | Abrasion wear resistant polymeric substrate product |
WO1992006843A1 (en) * | 1990-10-18 | 1992-04-30 | Diamonex, Incorporated | Abrasion wear resistant polymeric substrate product |
FR2679064A1 (fr) * | 1991-07-10 | 1993-01-15 | Philips Electronique Lab | Dispositif a neutrons incluant un miroir multicouches. |
US6707610B1 (en) * | 2002-09-20 | 2004-03-16 | Huper Optik International Pte Ltd | Reducing the susceptibility of titanium nitride optical layers to crack |
WO2004027465A1 (en) | 2002-09-20 | 2004-04-01 | Southwall Technologies, Inc. | Reducing the susceptibility of titanium nitride optical layers to crack |
EP1546771A1 (en) * | 2002-09-20 | 2005-06-29 | Huper Optik International Pte. Ltd. | Reducing the susceptibility of titanium nitride optical layers to crack |
JP2006500624A (ja) * | 2002-09-20 | 2006-01-05 | サウスウォール・テクノロジーズ・インコーポレイテッド | 割れに対する窒化チタンの脆弱性の低減 |
EP1546771A4 (en) * | 2002-09-20 | 2009-11-11 | Huper Optik Internat Pte Ltd | REDUCTION OF THE CHARACTERISTICS OF OPTICAL TITANIOTRIDE LAYERS F R BR CHE |
JP4794857B2 (ja) * | 2002-09-20 | 2011-10-19 | ヒューパー オプティク インターナショナル プライベート リミテッド | 割れに対する窒化チタンの脆弱性の低減 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0685004B2 (ja) | 1994-10-26 |
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