JPS6153210A - 毛髪化粧料組成物 - Google Patents
毛髪化粧料組成物Info
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- JPS6153210A JPS6153210A JP17572284A JP17572284A JPS6153210A JP S6153210 A JPS6153210 A JP S6153210A JP 17572284 A JP17572284 A JP 17572284A JP 17572284 A JP17572284 A JP 17572284A JP S6153210 A JPS6153210 A JP S6153210A
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- carbon atoms
- atoms
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、失われ毛髪の光沢をよみがえらせるだめに
用いられる毛髪化粧料組成物に関する。
用いられる毛髪化粧料組成物に関する。
近年、女性のへアメイクに対する関心がいっそう高まり
、種々のへアメイク商品が使用されるようになっている
。このため、毛髪が損傷を受ける機会が多くなった。例
えば1毛髪はヘアカラー。
、種々のへアメイク商品が使用されるようになっている
。このため、毛髪が損傷を受ける機会が多くなった。例
えば1毛髪はヘアカラー。
コールドウェーブなどの美容上の化学的処理、ブラッシ
ング、ヘアドライヤー等の物理的処理を受けることが多
くなっている。このような処理を受けると、毛表皮の剥
離、脱落等の損傷が発生しやすい。毛表皮が損傷した毛
髪では、毛髪内部(毛皮質)のタンパク質が溶出し、ま
た毛髪に含まれる天然保湿因子なども溶出するため、毛
髪が乾燥しやすくなり、パサつくとともに自然な美しい
光沢(ツヤ)も失われる。従って、失われた毛髪の光沢
をよみがえらせ、かつ、毛髪になめらかさを与えること
ができる毛髪化粧料が要求される。さらに、このような
毛髪化粧料はべたつくものであってはならない。
ング、ヘアドライヤー等の物理的処理を受けることが多
くなっている。このような処理を受けると、毛表皮の剥
離、脱落等の損傷が発生しやすい。毛表皮が損傷した毛
髪では、毛髪内部(毛皮質)のタンパク質が溶出し、ま
た毛髪に含まれる天然保湿因子なども溶出するため、毛
髪が乾燥しやすくなり、パサつくとともに自然な美しい
光沢(ツヤ)も失われる。従って、失われた毛髪の光沢
をよみがえらせ、かつ、毛髪になめらかさを与えること
ができる毛髪化粧料が要求される。さらに、このような
毛髪化粧料はべたつくものであってはならない。
毛髪に光沢をよみがえらせるための化粧料としては、そ
の使用形態上、すすぐもの(ヘアクリートメン剤等)と
すすがないもの(ツヤ出し用ブラッシング剤、ツヤ出し
剤、ヘアオイル、ヘアクリーム等)が知られている。す
すぐ形態のものを用いると、毛髪のなめらかさ及びべた
つきのなさについては満足できるが1毛髪に成分が吸着
しにくいので十分な光沢が得られにくい、一方、すすが
ない形態のものを用いると、毛髪のなめらかさと光沢は
得られるが、べたつきが著しい、しかも、得られる光沢
は濡れた感じのものであり、自然な美しい光沢を得るこ
とはできない。
の使用形態上、すすぐもの(ヘアクリートメン剤等)と
すすがないもの(ツヤ出し用ブラッシング剤、ツヤ出し
剤、ヘアオイル、ヘアクリーム等)が知られている。す
すぐ形態のものを用いると、毛髪のなめらかさ及びべた
つきのなさについては満足できるが1毛髪に成分が吸着
しにくいので十分な光沢が得られにくい、一方、すすが
ない形態のものを用いると、毛髪のなめらかさと光沢は
得られるが、べたつきが著しい、しかも、得られる光沢
は濡れた感じのものであり、自然な美しい光沢を得るこ
とはできない。
この発明は、毛髪の失われた光沢をよみがえらせる上で
優れた効果を有し、かつ使用後の毛髪のなめらかさ、べ
たつきのなさが良好な毛髪化粧料組成物を提供すること
である。
優れた効果を有し、かつ使用後の毛髪のなめらかさ、べ
たつきのなさが良好な毛髪化粧料組成物を提供すること
である。
この発明は、糖アルコールを0.05ないし8重量%、
ヒマシ油誘導体0.05ないし8重量%、及び下記一般
式CI)、(II)又は(III)で表わされるカチオ
ン界面活性剤の1種又は2種以上を0.1ないし8重量
%含む毛髪化粧料組成物をである。
ヒマシ油誘導体0.05ないし8重量%、及び下記一般
式CI)、(II)又は(III)で表わされるカチオ
ン界面活性剤の1種又は2種以上を0.1ないし8重量
%含む毛髪化粧料組成物をである。
一般式(i〕
つ又は2つは炭素数8ないし22の長鎖アルキル基又は
炭素数8ないし22の長鎖ヒドロキシアルキル基。
炭素数8ないし22の長鎖ヒドロキシアルキル基。
残りは炭素数1ないし3の低級アルキル基、炭素数1な
いし3の低級ヒドロキシアルキル基又はベンジル基、X
はハロゲン原子又はアルキル基の炭素数が1若しくは2
のアルキル硫酸基を示す)一般式(n) 3つは炭素数8ないし20の長鎖アルキル基、残りはメ
チル基、エチル基、又はとドロキシエチル基。
いし3の低級ヒドロキシアルキル基又はベンジル基、X
はハロゲン原子又はアルキル基の炭素数が1若しくは2
のアルキル硫酸基を示す)一般式(n) 3つは炭素数8ないし20の長鎖アルキル基、残りはメ
チル基、エチル基、又はとドロキシエチル基。
nは3ないし10の整数、Xはハロゲン原子又はアルキ
ル基の炭素数が1若しくは2のアルキル硫酸基を示す) 一般式(m) (ただし、式中、R8は炭素数10ないし22のアルキ
ル基、R9は炭素数2ないし22のアルキル基を示す) この発明の毛髪化粧料組成物の第1の必須成分は、糖ア
ルコールである。糖アルコールは、主に鎖状アルコール
や環状アルコールからなり、vi類分子のカルボニル基
を還元して、多価アルコールとすることによって得られ
る。!アルコールの好ましい具体例として、例えば、ト
リット、テトリット、ペンチット、キシリット、ヘキシ
ット、クエルシット、ケブラキット、コンズリット、ビ
ブルニット、ミチリット、イノジット、リビット、マン
ニット、ガラクチット、ソルビット、エリトット等を挙
げることができる。
ル基の炭素数が1若しくは2のアルキル硫酸基を示す) 一般式(m) (ただし、式中、R8は炭素数10ないし22のアルキ
ル基、R9は炭素数2ないし22のアルキル基を示す) この発明の毛髪化粧料組成物の第1の必須成分は、糖ア
ルコールである。糖アルコールは、主に鎖状アルコール
や環状アルコールからなり、vi類分子のカルボニル基
を還元して、多価アルコールとすることによって得られ
る。!アルコールの好ましい具体例として、例えば、ト
リット、テトリット、ペンチット、キシリット、ヘキシ
ット、クエルシット、ケブラキット、コンズリット、ビ
ブルニット、ミチリット、イノジット、リビット、マン
ニット、ガラクチット、ソルビット、エリトット等を挙
げることができる。
糖アルコールは5組成物全量に対し、 0.05ないし
8重量%、好ましくは、0.10ないし3重量%含まれ
る。0.05重量%未満ではこの発明の効果が得られず
、8重量%を超えると使用時ののびが低下する。
8重量%、好ましくは、0.10ないし3重量%含まれ
る。0.05重量%未満ではこの発明の効果が得られず
、8重量%を超えると使用時ののびが低下する。
この発明の第2の必須成分はヒマシ油誘導体である。ヒ
マシ油誘導体としては、硬化ヒマシ油誘導体も用いるこ
とができる。好ましいヒマシ油誘導体は、酸化エチレン
付加物が10ないし60程度のものであり、この誘導体
の持つHLBは10以上のものである。好ましいヒマシ
油誘導体の具体例として、ポリオキシエチレンヒマシ油
、ポリオキシ硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレン硬化ヒ
マシ油モノラウレート、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ
油モノイソステアレート、ポリオキシエチレン硬化ヒマ
シ油トリイソステアレート、ポリオキシエチレン硬化ヒ
マシ油ジステアレート、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ
油ジイソステアレート、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ
油ヘキサステアレート。
マシ油誘導体としては、硬化ヒマシ油誘導体も用いるこ
とができる。好ましいヒマシ油誘導体は、酸化エチレン
付加物が10ないし60程度のものであり、この誘導体
の持つHLBは10以上のものである。好ましいヒマシ
油誘導体の具体例として、ポリオキシエチレンヒマシ油
、ポリオキシ硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレン硬化ヒ
マシ油モノラウレート、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ
油モノイソステアレート、ポリオキシエチレン硬化ヒマ
シ油トリイソステアレート、ポリオキシエチレン硬化ヒ
マシ油ジステアレート、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ
油ジイソステアレート、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ
油ヘキサステアレート。
ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油テトラステアレート、
ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油テトラオレエート、ポ
リオキシエチレン硬化ヒマシ油モノパルミテート、ポリ
オキシエチレン硬化ヒマシ油ペンタステアレート、ポリ
オキシエチレン硬化ヒマシ油ヘプタステアレート、ポリ
オキシエチレン硬化ヒマシ油ジオレエート、ポリオキシ
エチレン硬化ヒマシ油ペンタオレエート、ポリオキシエ
チレン硬化ヒマシ油ヘプタオレエート、ポリオキシエチ
レン硬化ヒマシ油デカオレエート、ポリオキシエチレン
硬化ヒマシ油ペンタイソステアレート。
ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油テトラオレエート、ポ
リオキシエチレン硬化ヒマシ油モノパルミテート、ポリ
オキシエチレン硬化ヒマシ油ペンタステアレート、ポリ
オキシエチレン硬化ヒマシ油ヘプタステアレート、ポリ
オキシエチレン硬化ヒマシ油ジオレエート、ポリオキシ
エチレン硬化ヒマシ油ペンタオレエート、ポリオキシエ
チレン硬化ヒマシ油ヘプタオレエート、ポリオキシエチ
レン硬化ヒマシ油デカオレエート、ポリオキシエチレン
硬化ヒマシ油ペンタイソステアレート。
ポリオキシエチレン硬化油I\ブタイソステアレート、
ポリオキシエチレン硬化油デカイソステアレートを挙げ
ることができる。
ポリオキシエチレン硬化油デカイソステアレートを挙げ
ることができる。
ヒマシ油誘導体は組成物の全量に対し、0.05ないし
8重量%、好ましくは0.10ないし3重量%含まれる
。 O,OS未満ではこの発明の効果が得られず、8重
量%を超えると毛髪のべたつきが増加する。
8重量%、好ましくは0.10ないし3重量%含まれる
。 O,OS未満ではこの発明の効果が得られず、8重
量%を超えると毛髪のべたつきが増加する。
この発明の組成物の第3の必須成分は特定のカチオン界
面活性剤である。用いることができるカチオン界面活性
剤の1つに次の一般式CI)で表わされる第4級アンモ
ニウム塩がある。
面活性剤である。用いることができるカチオン界面活性
剤の1つに次の一般式CI)で表わされる第4級アンモ
ニウム塩がある。
一般式(I)
式中、R工、R2、R3,R4のうち1つ又は2つは炭
素数8ないし22のアルキル基又は炭素数8ないし22
のヒドロキシアルキル基である。これらの炭素数が7以
下であると、安全性に問題があり、23以上であると、
融点が高く、作業上支障がある。
素数8ないし22のアルキル基又は炭素数8ないし22
のヒドロキシアルキル基である。これらの炭素数が7以
下であると、安全性に問題があり、23以上であると、
融点が高く、作業上支障がある。
R1、R2、R3、R4のうち上記アルキル基又はヒド
ロキシアルキル基以外のものは、炭素数1ないし3のア
ルキル基、炭素数1ないし3のヒドロキシアルキル基、
又はベンジル基である。このアルキル基又はヒドロキシ
アルキル基の炭素数が4以上になると融点が高くなり系
になかなか溶解しにくく、また作業上、支障がある。X
はハロゲン原子、メチル硫酸基、又はエチル硫酸基であ
る。一般式(1)で表わされるカチオン界面活性剤の好
ましい具体例として、モノ長鎖アルキル第4級アンモニ
ウム塩ではラウリルトリメチルアンモニウムクロライド
、ミリスチルトリメチルアンモニウムクロライド、セチ
ルトリメチルアンモニウムクロライド、セチルトリメチ
ルアンモニウムメチルサルフェート、バルミチルトリメ
チルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルア
ンモニウムクロライド及びエイコシルトリメチルアンモ
ニウムクロライドを、ジ長鎖アルキル第4級アンモニウ
ム塩ではシバルミチルジメチルアンモニウムクロライド
、ジステアリルジメチルアンモニイムクロライド、ジー
水素添加牛脂アルキルジメチルアンモニウムブロマイド
及びジー水素添加牛脂アルキルジメチルアンモニウムメ
チルサフエートを挙げることができる。
ロキシアルキル基以外のものは、炭素数1ないし3のア
ルキル基、炭素数1ないし3のヒドロキシアルキル基、
又はベンジル基である。このアルキル基又はヒドロキシ
アルキル基の炭素数が4以上になると融点が高くなり系
になかなか溶解しにくく、また作業上、支障がある。X
はハロゲン原子、メチル硫酸基、又はエチル硫酸基であ
る。一般式(1)で表わされるカチオン界面活性剤の好
ましい具体例として、モノ長鎖アルキル第4級アンモニ
ウム塩ではラウリルトリメチルアンモニウムクロライド
、ミリスチルトリメチルアンモニウムクロライド、セチ
ルトリメチルアンモニウムクロライド、セチルトリメチ
ルアンモニウムメチルサルフェート、バルミチルトリメ
チルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルア
ンモニウムクロライド及びエイコシルトリメチルアンモ
ニウムクロライドを、ジ長鎖アルキル第4級アンモニウ
ム塩ではシバルミチルジメチルアンモニウムクロライド
、ジステアリルジメチルアンモニイムクロライド、ジー
水素添加牛脂アルキルジメチルアンモニウムブロマイド
及びジー水素添加牛脂アルキルジメチルアンモニウムメ
チルサフエートを挙げることができる。
また、この発明の組成物の第3の必須成分であるカチオ
ン界面活性剤として、次の一般式(n)で表わされる第
4級アミン塩を用いることができる。
ン界面活性剤として、次の一般式(n)で表わされる第
4級アミン塩を用いることができる。
一般式(II)
式中、R5,R6、R7のうち2つ又は3つは炭素数8
ないし20の長鎖アルキル基である。この炭素数が7以
下であると、安全性に問題があり、21以上であると、
融点が高く作業に支障をきたす。
ないし20の長鎖アルキル基である。この炭素数が7以
下であると、安全性に問題があり、21以上であると、
融点が高く作業に支障をきたす。
R5、R6、R7のうち、上記アルキル基以外のものは
メチル基、エチル基、又はヒドロキシエチル基である。
メチル基、エチル基、又はヒドロキシエチル基である。
nは3ないし10の整数である。nが11以上であると
親木性が強くなりすぎて好ましくない。
親木性が強くなりすぎて好ましくない。
nが2以下(ただし、一般式CI)で表わされるものは
除く)になると、逆に親油性が強くなりすぎる。Xはハ
ロゲン原子、メチル硫酸基、又はエチル硫酸基である。
除く)になると、逆に親油性が強くなりすぎる。Xはハ
ロゲン原子、メチル硫酸基、又はエチル硫酸基である。
一般式(n)で表わされるカチオン界面活性剤の好まし
い具体例としては、ジステアリルポリエテノキシメチル
アンモニウムクロライド、シバルミチルポリエテノキシ
エチルアンモニウムクロライド、トリステアリルポリエ
テノキシアンモニウムプロミド、ジステアリルポリエテ
ノキシエチルアンモニウムエチルサルフェートを挙げる
ことができる。
い具体例としては、ジステアリルポリエテノキシメチル
アンモニウムクロライド、シバルミチルポリエテノキシ
エチルアンモニウムクロライド、トリステアリルポリエ
テノキシアンモニウムプロミド、ジステアリルポリエテ
ノキシエチルアンモニウムエチルサルフェートを挙げる
ことができる。
さらに、この発明の組成物の第3の必須成分として用い
ることができるカチオン界面活性剤に、次の一般式(I
n)で表わされる化合物がある。
ることができるカチオン界面活性剤に、次の一般式(I
n)で表わされる化合物がある。
一般式(III)
式中、R8は炭素数10ないし22のアルキル基である
。この炭素数が9以下であると親水性が強くなり性能が
劣化する傾向にあり、また安全性上好ましくなく、23
以上であると親油性が増し、性能が劣化する一方、融点
も高くなかなか系に溶けないため好ましくない、R9は
炭素数2ないし22のアルキル基である。R9がメチル
基であると親木性が増し、性能が劣化する傾向にある。
。この炭素数が9以下であると親水性が強くなり性能が
劣化する傾向にあり、また安全性上好ましくなく、23
以上であると親油性が増し、性能が劣化する一方、融点
も高くなかなか系に溶けないため好ましくない、R9は
炭素数2ないし22のアルキル基である。R9がメチル
基であると親木性が増し、性能が劣化する傾向にある。
炭素数が23以上であると逆に融点が高くなかなか系に
溶解しない一方親油性も増加し、性能上好ましくない。
溶解しない一方親油性も増加し、性能上好ましくない。
一般式(1111で表すされるカチオン界面活性剤の具
体例として、N−ココイル−し−アルギニンエチルエス
テル・OL−ピロリドンカルボン酸塩、N−ココイル−
し−アルギニンエチルエステル・OL−ピロリドンカル
ボン酸塩、N−ミリストイル−L−アルギニンエチルエ
ステル・DL−ピロリドンカルボン酸塩、N−バルミト
イル−し−アルギニンエチルエステル・DL−ピロリド
ンカルボン酸塩及びN−ステアロイル−し−アルギニン
エチルエステル・OL−ピロリドンカルボン酸塩を挙げ
ることができる。
体例として、N−ココイル−し−アルギニンエチルエス
テル・OL−ピロリドンカルボン酸塩、N−ココイル−
し−アルギニンエチルエステル・OL−ピロリドンカル
ボン酸塩、N−ミリストイル−L−アルギニンエチルエ
ステル・DL−ピロリドンカルボン酸塩、N−バルミト
イル−し−アルギニンエチルエステル・DL−ピロリド
ンカルボン酸塩及びN−ステアロイル−し−アルギニン
エチルエステル・OL−ピロリドンカルボン酸塩を挙げ
ることができる。
前記一般式(11〜(III)で示されるカチオン界面
活性剤は、M酸物の全量に対し、0.1ないし8重量%
、好ましくは0.2〜3重量%含まれる。
活性剤は、M酸物の全量に対し、0.1ないし8重量%
、好ましくは0.2〜3重量%含まれる。
本発明の毛髪化粧料中には、他の任意成分を、゛本発明
の効果に影響のない範囲で配合することが可能である。
の効果に影響のない範囲で配合することが可能である。
そのような任意成分として以下の物質がある。
流動パラフィン、ワセリン、固形パラフィン、スクワラ
ン及びオレフィンオリゴマー等の炭化水素;イソプロピ
ルミリステート、イソプロピルパルミテート、ステアリ
ルステアレート、ミリスチン酸、オクチルドデシル、オ
レイン酸オクチルドデシル及び2−エチルヘキサン酸ト
リグリセライド等のエステル;グリセリルモノステアレ
ート、ソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレ
ンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリン酸エ
ステル及びポリオキシエチレンソルビタンモノラウレー
ト等の乳化剤;メチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、ヒドロキシプロピルセルロース及びカチオン
化セルロース等のセルロース誘導体;天然高分子類等の
増粘剤;エチレングリコール、プロピレングリコール、
1,3−ブチレングリコール、グリセリン等の保湿剤;
並びにその他溶剤、殺菌剤、香料等の少量成分である。
ン及びオレフィンオリゴマー等の炭化水素;イソプロピ
ルミリステート、イソプロピルパルミテート、ステアリ
ルステアレート、ミリスチン酸、オクチルドデシル、オ
レイン酸オクチルドデシル及び2−エチルヘキサン酸ト
リグリセライド等のエステル;グリセリルモノステアレ
ート、ソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレ
ンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリン酸エ
ステル及びポリオキシエチレンソルビタンモノラウレー
ト等の乳化剤;メチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、ヒドロキシプロピルセルロース及びカチオン
化セルロース等のセルロース誘導体;天然高分子類等の
増粘剤;エチレングリコール、プロピレングリコール、
1,3−ブチレングリコール、グリセリン等の保湿剤;
並びにその他溶剤、殺菌剤、香料等の少量成分である。
この発明の毛髪化粧料組成物は、「すすぐ形態」及び「
すすがない形態」のいずれの使用形態にも利用でき、商
品形態としてはヘアリンス剤、ヘアトリートメント、ス
プレー型又はディスペンサー型のヘアコンディショナー
、ヘアーローション等に利用することができる。
すすがない形態」のいずれの使用形態にも利用でき、商
品形態としてはヘアリンス剤、ヘアトリートメント、ス
プレー型又はディスペンサー型のヘアコンディショナー
、ヘアーローション等に利用することができる。
次にこの発明の実施、例と比較例を示し、この発明の効
果を具体的に説明する。各側の説明に先立つ。
果を具体的に説明する。各側の説明に先立つ。
で、各側で採用した試験方法について説4明する。
なお、各表の組成は重量%で示されてい・る。
市販の女性の毛束(10g、20cm)をシャンプー処
理した後、ソックスレー抽出器を用いてエタノールで5
時間抽出した光沢のない毛髪を用意したにれに次の処理
を行なって評価すべき試料毛束を得た。
理した後、ソックスレー抽出器を用いてエタノールで5
時間抽出した光沢のない毛髪を用意したにれに次の処理
を行なって評価すべき試料毛束を得た。
(A)試料組成物がすすがない形態の場合毛束をシャン
プー処理した後風乾し、毛束重量の0.5%の試料組成
物を塗布し、25℃、65%RHの空気中で1日放置す
る。
プー処理した後風乾し、毛束重量の0.5%の試料組成
物を塗布し、25℃、65%RHの空気中で1日放置す
る。
(B)試料組成物がすすぐ形態の場合
シャンプー処理した後、毛束重量の10%の試料組成物
を塗布し、25倍の浴比で2回すすぎ、20℃、65%
RHの空気中の1日放置する。
を塗布し、25倍の浴比で2回すすぎ、20℃、65%
RHの空気中の1日放置する。
このようにして得た毛束を、ゴニオフォトメーター(村
上色採技術研究所製)で入射角を60°(一定)に設定
し、受光角を変化させたときの最大正反射量S(mV)
を測定した。最大正反射量が6 、5mV以上であ、る
と、毛束の光沢が良好であると言える。
上色採技術研究所製)で入射角を60°(一定)に設定
し、受光角を変化させたときの最大正反射量S(mV)
を測定した。最大正反射量が6 、5mV以上であ、る
と、毛束の光沢が良好であると言える。
また、上記シャンプー処理の後、試料組成物を塗布しな
かった毛束を対照にし、試料毛束の光沢を肉眼により官
能評価した。wf!は次の5段階評価である。
かった毛束を対照にし、試料毛束の光沢を肉眼により官
能評価した。wf!は次の5段階評価である。
5:対照と比較して非常に優れている。
4:対照と比較して優れている。
3:対照と比較してやや優れている。
2:対照と同等。
1:対照と比較しと劣る。
〔仕上り時のなめらかさとべたつきのなさ〕20名の女
性パネラ−による実使用テストを行い、ドライヤー乾燥
後における仕上り時点でのなめらかとさべたつきのなさ
を次の3段階評価で官能評価した。
性パネラ−による実使用テストを行い、ドライヤー乾燥
後における仕上り時点でのなめらかとさべたつきのなさ
を次の3段階評価で官能評価した。
1)なめらかさ
0:なめらかである
Δ:なめらかさが若干劣る
×:なめらかでない
2)べたつきのなさ
O:べたつきがない
Δ:ややべたつく
X:べたつく
試験例1
表−1ないし表−3に示す組成を有する。すすぐタイプ
のヘアコンディショナー組成物を調製し、光沢性及び仕
上り時のなめらかさとべたつきのなさを評価した。結果
を同表に示す。
のヘアコンディショナー組成物を調製し、光沢性及び仕
上り時のなめらかさとべたつきのなさを評価した。結果
を同表に示す。
表−1なしい表−3より、この発明の組成物の3つの必
須成分のうち1つを欠くものでは十分な光沢が得られな
いが、この発明の組成物では光沢が優れ、仕上り時のな
めらかさも良好でしかもべときがないことがわかる。
須成分のうち1つを欠くものでは十分な光沢が得られな
いが、この発明の組成物では光沢が優れ、仕上り時のな
めらかさも良好でしかもべときがないことがわかる。
試験例2
表−4に示すように、ヒマシ油誘導体と糖アルコールと
の配合量を変えたすすぐ形態のヘアトリートメント組成
物を調製し、性能を評価した。トリートメント剤の基本
組成として、低温安定化のためにプロピレングリコール
5.0%、使用感向上のためセトステアリルアルコール
7.0%を含む、しかし、これらは上記3成分の性能を
粗害するものではない。結果を表−4に示す。
の配合量を変えたすすぐ形態のヘアトリートメント組成
物を調製し、性能を評価した。トリートメント剤の基本
組成として、低温安定化のためにプロピレングリコール
5.0%、使用感向上のためセトステアリルアルコール
7.0%を含む、しかし、これらは上記3成分の性能を
粗害するものではない。結果を表−4に示す。
実施例19
表−5に示す組成を有する、すすがない形態のブラッシ
ング剤組成物を調製し、評価した。
ング剤組成物を調製し、評価した。
表−5
成 分 配合量ステアリ
ルトリメチルアンモニラ 0.1クロライド マビット 0.3ポリオ
キシ工チレン50モル硬化 0.3モノイソス
テアレート 香 料 0.
3エタノール 残部このブラ
ッシング剤で処理した毛髪の光沢性は、官能評価が5点
であり、仕上り時のなめらかさ、べたつきのなさも良好
であった。又、適度なしっとり感も有する。
ルトリメチルアンモニラ 0.1クロライド マビット 0.3ポリオ
キシ工チレン50モル硬化 0.3モノイソス
テアレート 香 料 0.
3エタノール 残部このブラ
ッシング剤で処理した毛髪の光沢性は、官能評価が5点
であり、仕上り時のなめらかさ、べたつきのなさも良好
であった。又、適度なしっとり感も有する。
実施例20
表−6に示す組成を有する。すすぐ形態のヘアリンス組
成物を調製し、評価した。
成物を調製し、評価した。
表−6
配量瓜
塩化ステアリルトリメチル 1.0アンモ
ニウム リビット 0.3ポリオ
キシ工チレン60モル 0.4硬化ヒマシ
油 セタノール 2.0ポリ
オキシエチレン硬化ヒマシ油 0.3プロピレン
グリコール 3.0香 料
0・4精製氷
残部 このヘアリンス剤組成物で処理した毛髪の光沢性は、官
能評価が5点であり、仕上り時のなめらかさ及びべたつ
きのなさも良好であった。又、適度なしっとり感も有す
る。
ニウム リビット 0.3ポリオ
キシ工チレン60モル 0.4硬化ヒマシ
油 セタノール 2.0ポリ
オキシエチレン硬化ヒマシ油 0.3プロピレン
グリコール 3.0香 料
0・4精製氷
残部 このヘアリンス剤組成物で処理した毛髪の光沢性は、官
能評価が5点であり、仕上り時のなめらかさ及びべたつ
きのなさも良好であった。又、適度なしっとり感も有す
る。
実施例21
表−7に示す組成物を有する。すすがない形態のへアブ
ロートリートメント組成物を調製し、評価した。
ロートリートメント組成物を調製し、評価した。
表−7
配量]
ステアリルトリメチルアンモニウム 0.3クロラ
イド ペシチット 0・1ポリオキ
シ工チレン40モル硬化ヒマシ 0.1油トリイソス
テアレート プロピレングリコール 3.0エタノ
ール 30.0精製水
残部 このブロードリートメン剤組成物で処理した毛髪の光沢
性は官能評価が4点で仕上り時のなめらかさ及びべたつ
きのなさも良好であった。又、適度なしっとり感も有す
る。
イド ペシチット 0・1ポリオキ
シ工チレン40モル硬化ヒマシ 0.1油トリイソス
テアレート プロピレングリコール 3.0エタノ
ール 30.0精製水
残部 このブロードリートメン剤組成物で処理した毛髪の光沢
性は官能評価が4点で仕上り時のなめらかさ及びべたつ
きのなさも良好であった。又、適度なしっとり感も有す
る。
実施例22
表−8に示す組成を有するすすがない形態のフオーム状
ヘアトリートメント組成物を調製し評価した。
ヘアトリートメント組成物を調製し評価した。
第8表
塩化ジステアリルジメチル 0,4アンモニウ
ム イジツト 0.3ポリオキシ
工チレン40モル硬化 0.3ヒマシ油テトラオレ
エート ジメチルシリコン 0・21.3−ブ
チレングリコール 2.0エタノール
3.0精 製 水
バランスこの油状ヘアートリートメント剤組成物
で処理した毛髪の光沢性は官能評価が4点で仕上り時の
なめらかさ及びべたつきのなさも良好であった。
ム イジツト 0.3ポリオキシ
工チレン40モル硬化 0.3ヒマシ油テトラオレ
エート ジメチルシリコン 0・21.3−ブ
チレングリコール 2.0エタノール
3.0精 製 水
バランスこの油状ヘアートリートメント剤組成物
で処理した毛髪の光沢性は官能評価が4点で仕上り時の
なめらかさ及びべたつきのなさも良好であった。
又、適度なしっとり感も有する。
実施例23
表−9に示す組成を有するすすがない形態のトリートメ
ントへアトニック組成物を調製し、評価した。
ントへアトニック組成物を調製し、評価した。
表−9
適イL飲
塩化ステアリルジメチルベンジル 0.05アン
モニウム ソルビット 0.3ポリオ
キシエチレン(40)硬化ヒマシ油 0.05へキシ
ルデカノール 0.4プロピレング
リコール 3.0Ω−メントール
0.1エタノール
65.0精 製 水
バランスこのトリートメントへアトニック剤
組成物で処理した毛髪の光沢性は官能評価が4点で仕上
り時のなめらかさ及びべたつきのなさも良好であった。
モニウム ソルビット 0.3ポリオ
キシエチレン(40)硬化ヒマシ油 0.05へキシ
ルデカノール 0.4プロピレング
リコール 3.0Ω−メントール
0.1エタノール
65.0精 製 水
バランスこのトリートメントへアトニック剤
組成物で処理した毛髪の光沢性は官能評価が4点で仕上
り時のなめらかさ及びべたつきのなさも良好であった。
又、適度なしっとり感も有する。
以上示した実施例及び比較例の実験結果かられかるよう
に、本発明の組成物は、光沢の失われた毛髪に対し、再
び良好な光沢をよみがえらせると共に、なめらかでかつ
べたつきのない仕上り感を与え、また適度のしっとり感
も与える。
に、本発明の組成物は、光沢の失われた毛髪に対し、再
び良好な光沢をよみがえらせると共に、なめらかでかつ
べたつきのない仕上り感を与え、また適度のしっとり感
も与える。
Claims (1)
- (1)糖アルコールを0.05ないし8重量%、ヒマシ
油誘導体を0.05ないし8重量%、及び下記一般式〔
I 〕、〔II〕又は〔III〕で表わされるカチオン界面活
性剤の1種又は2種以上を0.1ないし8重量%含む毛
髪化粧料組成物。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、式中、R_1、R_2、R_3及びR_4の
うち1つ又は2つは炭素数8ないし22の長鎖アルキル
基又は炭素数8ないし22の長鎖ヒドロキシアルキル基
、残りは炭素数1ないし3の低級アルキル基、炭素数1
ないし3の低級ヒドロキシアルキル基又はベンジル基、
Xはハロゲン原子又はアルキル基の炭素数が1若しくは
2のアルキル硫酸基を示す) 一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、式中、R_5、R_6及びR_7のうち2つ
又は3つは炭素数8ないし20の長鎖アルキル基、残り
はメチル基、エチル基、又はヒドロキシエチル基、nは
3ないし10の整数、Xはハロゲン原子又はアルキル基
の炭素数が1若しくは2のアルキル硫酸基を示す) 一般式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、式中、R_8は炭素数10ないし22のアル
キル基、R_9は炭素数2ないし22のアルキル基を示
す)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17572284A JPS6153210A (ja) | 1984-08-23 | 1984-08-23 | 毛髪化粧料組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17572284A JPS6153210A (ja) | 1984-08-23 | 1984-08-23 | 毛髪化粧料組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6153210A true JPS6153210A (ja) | 1986-03-17 |
JPH0544443B2 JPH0544443B2 (ja) | 1993-07-06 |
Family
ID=16001091
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17572284A Granted JPS6153210A (ja) | 1984-08-23 | 1984-08-23 | 毛髪化粧料組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6153210A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01313415A (ja) * | 1988-06-10 | 1989-12-18 | Hoyu Co Ltd | 毛髪処理剤 |
JP2008169185A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Hoyu Co Ltd | 毛髪処理剤組成物及び毛髪処理方法 |
-
1984
- 1984-08-23 JP JP17572284A patent/JPS6153210A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01313415A (ja) * | 1988-06-10 | 1989-12-18 | Hoyu Co Ltd | 毛髪処理剤 |
JPH0460565B2 (ja) * | 1988-06-10 | 1992-09-28 | Hoyu Kk | |
JP2008169185A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Hoyu Co Ltd | 毛髪処理剤組成物及び毛髪処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0544443B2 (ja) | 1993-07-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |