JPS6143165A - ジヒドロピリジン誘導体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、新規なジヒドロピリジン誘導体の製造法に関
する。更に詳しくは、本発明は一般式〔式中Ｒ１、Ｒ２
及びＲ４はそれぞれ低級アルキル基を示す。Ｒ８はニト
ロ基又は置換基としてハロゲン原子を１〜８個有するこ
とのある低級アルキル基を示す。Ｒ６は低級アルコキシ
基、ハロゲン原子、低級アルキルチオ基、水酸基、低級
アルカノイルオキシ基、テトラヒドロピラニルオキシ基
、及び低級アルコキシ低級アルコキシ基からなる群から
選ばれた置換基を１〜８個有することのあるフェニル基
を示す。Ａは不飽和鎖状炭化水素残基を示す。〕で表わ
されるジヒドロピリジン誘導体及びその塩を製造する方
法に関する。

発明の開示 本明細書において低級アルキル基としては、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔｅｒ
ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜６の
アルキル基を挙げることができる。

置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アル
キル基としては、例えば上記炭素数１〜６のアルキル基
に加えて、トリフルオロメチル、２．２−ジフルオロエ
チル、ｌ、１−ジクロロエチル、トリクロロメチル、ジ
クロロメチル、トリブロモメチル、２，２．２−）リフ
ルオロエチル、２．２．２−　）ジクロロエチル、２−
クロロエチル、１．２−ジクロロエチル、８，８．８−
　）リクロロプロビル、８−フルオロプロピル、４−ク
ロロブチル、８−クロロ−２−メチルエチル基等の置換
基としてハロゲン原子を１〜８個有することのあ菖炭素
数１〜６のアルキル基を挙げることができる。低級アル
コキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、インプロポキシ、ブトキシ、　　ｔｅｒｔ−ブト
キシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素数１
〜６のアルコキシ基を挙げることができる。ハロゲン原
子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子
を例示できる。

低級アルコキシ低級アルコキシ基としては、例えばメト
キシメトキシ、２−メトキシエトキシ、１−メトキシエ
トキシ、８−メトキシプロポキシ、４−メトキシブトキ
シ、１．１−ジメチル−２−メトキシエトキシ、５−メ
トキシペンチルオキシ、６−メトキシへキシルオキシ、
２−メチル−８−メトキシプロポキシ、エトキシメトキ
シ、８−エトキシプロポキシ、６−エトキシへキシルオ
キシ、２−プロポキシエトキシ、４−プロポキシブトキ
シ、５−ブトキシペンチルオキシ、ペンチルオキシメト
キシ、ｌ−ペンチルオキシエトキシ、１．１−ジメチル
−２−ヘキシルオキシエトキシ、８−ヘキシルオキシブ
ロポキシ基等の各々のアルコキシ部分が炭素数１〜６の
アルコキシアルコキシ基を挙げることができる。

不飽和鎖状炭化水素残基としては、ビニレン、１−プロ
ペニレン、ｌ−メチル−１−プロペニレン、２−メチル
−１−プロペニレン、２−プロペニレン、２−ブテニレ
ン、１−ブテニレン、８−ブテニレン、２−ペンテニレ
ン、１−ペンテニレン、８−ペンテニレン、４−ペンテ
ニレン、１．８−ブタジェニレン、１，８−ペンタジエ
ニレン、２−ペンテン−４−ビニレン、２−ヘキセニレ
ン、１−ヘキセニレン、５−ヘキセニレン、８−ヘキセ
ニレン、４−ヘキセニレン、８，８−ジメチル−１−プ
ロペニレン、２−エチル−１−プロペニレン、エチニレ
ン、２−プロビニレン、１−プロビニレン、ｌ、１−ジ
メチル−２−プロビニレン、８．８−ジメチル−１−フ
ロビニレン、２−プチニレン、８−ブチニレン、１−ブ
チニレン、２−ペンチニレン、ｌ−ペンチニレン、８−
ペンチニレン、４−ペンチニレン、２−ヘキシニレン、
１−ヘキシニレン、３−ヘキシニレン、４−ヘキシニレ
ン、５−ヘキシニレン、１，８−へキサジエニレン、１
．４−へキサジエニレン、１，８．５−ヘキサトリエニ
レン基等の二重結合又は／及び三重結合を１〜８個有す
る炭素数２〜６個の直鎖又は分枝鎖の不飽和炭化水素残
基を例示できる。

低級アルキルチオ基としては、例えばメチルチオ、エチ
ルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ
、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ
基等の炭素数１〜６のアルキルチオ基を挙げることがで
きる。

低級アルカノイルオキシ基としては、例えばホルミルオ
キシ薦、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブ
チリルオキシ基、インブチリルオキシ基、ペンタノイル
オキシ基、ｔｅｒｔ−ブチリルオキシ基、ヘキサノイル
オキシ基等の炭素数１〜６個のアルカノイルオキシ基を
挙げることができる。

低級アルコキシ基、ハロゲン原子、低級アルキルチオ基
、水酸基、低級アルカノイルオキシ基、テトラヒドロピ
ラニルオキシ基及び低級アルコキシ低級アルコキシ基か
らなる群から選ばれた置換基を１〜８個有することのあ
るフェニル基としては、例えばフェニル、２　＋、８−
または４−クロロフェニル、２−１８−または４−フル
オロフェニル、２−１８−　ｔ、たは４−ブロモフェニ
ル、２−１８−または４−ヨードフェニル、８．５−ジ
クロロフェニル、２．６−ジクロロフェニル、８．４−
ジクロロフェニル、８．４−’）フルオロフェニル、８
，５−ジブロモフェニル、２−１８−または４−メチル
チオフェニル、　　２−１８−または４−エチルチオフ
ェニル、４−プロピルチオフェニル、８−イソプロピル
チオフェニル、２−ブチルチオフェニル、４−へキシル
チオフェニル、８−ペンチルチオフェニル、４−ｔｅｒ
ｔ−ブチルチオフェニル、８．４−ジメチルチオフェニ
ル、２．５−ジメチルチオフェニル、２−１８−または
４−メトキシフェニル、２−１８−または４−エトキシ
フェニル、８−プロポキシフェニル、４−イソプロポキ
シフェニル、３−ブトキシフェニル、２−ペンチルオキ
シフェニル、４−　ｔｅｒｔ　−ブトキシフェニル、４
−へキシルオキシフェニル、８．４−ジメトキシフェニ
ル、８，４−ジェトキシフェニル、２，５−ジメトキシ
フェニル、２−１８−または４−（２−テトラヒドロピ
ラニルオキシフフェニル、２．４−（２−テトラヒドロ
ヒラニルオキシ）フェニル、８−メチルチオ−４−クロ
ロフェニル、２−クロロ−６−メチルチオフェニル、２
−メトキシ−８−ヒドロキシフェニル、８，４．５−ト
リメトキシフェニル、８，４．５−）ジメチルチオフェ
ニル、８，４．５−）ジクロロフェニル、２−１８−マ
たは４−ヒドロキシフェニル、３，４−ジヒドロキシフ
ェニル、２．６−ジヒドロキシフェニル、８，４．５−
）ジヒドロキシフェニル２−１８−または４−アセチル
オキシフェニル４−プロピオニルオキシフェニル、８−
イソプロピオニルオキシフェニル、２−ブチリルオキシ
フェニル、４−ヘキサノイルオキシフェニノペ　８−ペ
ンタノイルオキシフェニル、４−ｔｅｒｔ−ブチリルオ
キシフェニル、８，４−ジアセチルオキシフェニル、２
，５−ジアセチルオキシフェニル８．４．５−）リジア
セチルオキシフェニル、２−メトキシメトキシフェニル
、８−（２−メトキシエトキシ）フェニル、４−（１−
メトキシエトキシ）フェニル、’２−（８−メトキシプ
ロポキシ）フェニル、８−（４−メトキシブトキシ）フ
ェニル、４−（１，１−ジメチル−２−メトキシエトキ
シ少フェニル、２−（５−メトキシペンチルオキシ）フ
ェニル、８−（６−メトキシへキシルオキシフェニル）
、４−（２−メチル−８−メトキシプロポキシ）フェニ
ル、２−（エトキシメトキシラフエニノペ　８−（８−
エトキシプロポキシ）フェニル、４−（６−エトキシへ
キシルオキシ）フェニル、２−（２−プロポキシエトキ
シンフェニル、８−（４−プロポキシブトキシ）フェニ
ル、４−（５−ブトキシペンチルオキシ）フェニル、２
−（ペンチルオキシメトキシ）フェニル、８−（１−ペ
ンチルオキシエトキシ）フェニル、４−（１，１−ジメ
チル−２−へキシルオキシエトキシ）フェニル、２−（
８−ヘキシルオキシプロポキシ〕フェニル基等の置換基
として炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子、炭
素数１〜６のアルキルチオ基、水酸基、炭素数１〜６の
アルカノイルオキシ基、テトラヒドロピラニルオキシ基
又は各々のアルコキシ部分が炭素数１〜６のアルコキシ
アルコキシ基を１〜８個有することのあるフェニル基を
挙げることができる。

上記一般式（１）で表わされるジヒドロピリジン誘導体
は、新規４ｂ合物であり、優れたカルシウム拮抗作用（
Ｃａ　−Ａｎｔａｇｏｎｉｓｔ　）、降圧作用、血小板
凝集抑制作用及びホスホジェステラーゼ阻害作用を有し
、例えば冠血管拡張剤等の冠循環改良剤、降圧剤、血栓
症の予防乃至治療剤、ホスホジェステラーゼ阻害剤等と
して有用である。さらに一般式（１）の化合物は、過酸
化脂質低下作用及びカルモジュリン阻害作用をも有して
おり、過酸化脂質低下剤、消炎剤及び制癌剤としても有
用である。加えて一般式（１）の化合物は、副作用が少
なく、しかも上記薬効の持続時間が長いという特徴を有
している。

本発明によれば、一般式 〔式中Ｒ１、Ｒ８及びＲ４は前記に同じ。〕で表わされ
るフェニル誘導体と一般式 〔式中Ｒ２、Ｒ５及びＡは前記に同じ。〕で表わされる
エナミン誘導体とを反応させることにより一般式 〔式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６及びＡは前記に同
じ。　〕 で表わされるジヒドロピリジン誘導体が製造される。本
論明の方法に従えば、該ジヒドロピリジン誘導体を簡便
な方法にて高純度、高収率で製造し得る。

一般式（２）のフェニル誘導体と一般式（３）のエナミ
ン誘導体との反応は、適当な溶媒中塩基性化合物の存在
下又は非存在下に行なわれる。ここで使用される溶媒と
しては、反応に悪影響を与えない不活性のものがすべて
用いられ、例えばアセトン等のケトン類、クロロホルム
、ジクロロメタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類、メタノール、エタノール、プロパツール、インプロ
パツール、エチレングリコール等のアルコール類、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノ
グライム、ジグライム等のエーテル類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢
酸エチル等のエステル類、酢酸、プロピオン酸等のカル
ボン酸類、ピリジン等の有機塩基、Ｎ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、　ジメ≠ルスルホキシド、ヘキサメチルリ
ン酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられ
る。一般式（２）の化合物の使用量としては、一般式（
３）の化合物に対して進富少なくとも等モル、好ましく
は等モル−１，５倍モル試とするのがよい。該反応は、
通常−２０〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃程度
にて好適に進行し、一般に１０分〜２０時間程度で終了
する。使用される塩基性化合物としては、例えばピリジ
ン、ピペリジン、トリエチルアミン、ジエチルアミン、
１，８−ジアザビシクロ［５，４，Ｏ］ラウンセン−７
（ＤＢＵ　）　　等の有機塩基、ナトリウムエチラート
、ナトリウムメチラート等の金属アルコラード類、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機
塩基を例示できる。

該反応は、好ましくは塩基性イし金物の非存在下に行う
のが有利である。

出発原料として用いられる一般式（３）の化合物は、例
えば下記反応行程式−１及び２に示す方法に従って製造
される。

〔反応行程式−１〕 （４）　　　　　　　　　　　　　　　　　（６ａ）Ｌ
式中Ｒ５及びＡは前記に同じ。〕 上記反応行程式−１における化合物（４）と化合物（５
）との反応は、適当な溶媒中触媒の存在下に行なわれる
。触媒としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、
Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等の有機塩基、酢酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等の無機塩基等の塩基性化合物、Ｐ−
）ルエンスルホン酸等のスルホン酸、三弗化硼素等のル
イス酸等の酸性化合物等を挙げることができる。また溶
媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステ
ル類、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロ
エタン等のハロゲン化炭化水素類、エーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等
のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケト
ン類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン等の非プロトン性極性溶媒等を挙げることがで
きる。（Ｉｓ合物（４）と化合物（５）との使用割合と
しては、通常前者に対して後者を少なくとも等モル量程
度、好ましくは１〜２倍モル程度使用すればよい。また
上記触媒の使用量としては、特に限定されないが、通常
化合物（４）に対して１／ｉｏｏ〜１ｏ倍モル程度とす
るのがよい。好ましくは１／１０〜６倍モル程度使用す
ればよい。該反応は、通常−２０〜２００℃、好ましく
は一２０〜１００℃程度にて、一般にｌＯ分〜２０時間
程度で終了する。

次いで得られる化合物（６）とアンモニアガスとの反応
も亦、適当な溶媒中にて行なわれる。使用される溶媒と
しては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパツール
、インプロパツール、フタノール、エチレングリコール
等のアルコール類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類、
塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン
等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリ
アミド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸、プロピオン酸
等のカルボン酸類、ピリジン等を挙げることができる。

アンモニアガスの使用量は、一般式（６）の化合物に対
して少なくとも１当゛量、通常１〜５０当量使用するの
がよい。該反応は、通常−２０〜２００℃、好ましくは
一２０〜１５０℃程度にて好適に進行し、一般にｌＯ分
〜ｌＯ時間程度にて反応は終了する。

［反応行程式−２］ （６ｂ）　　　　　　　　　　　　　（８ｂ）［式中Ｒ
２、Ｒ４、Ｒ６、及びＡに同じ。〕化合物（４）と公知
の化合物（７ａ）との反応は、前記反応行程式−１の化
合物（４）と化合物（５）との反応と同様の条件下に行
ない得る。また化合物（６ｂ）とアンモニアガスとの反
応は、前記反応行程式−１の化合物（６ａ）とアンモニ
アガスとの反応と同様の条件下に行ない得る。

他の一方の出発原料として用いられる一般式（２）の化
合物は、例えば下記反応行程式−８に示す方法に従って
製造される。

［反応行程式−８〕 し式中Ｒ１、Ｒ８及びＲ４は前記に同じ。〕一般式（７
ｂ）の化合物と一般式（８）の化合物との反応は、適当
な溶媒中触媒の存在下又は非存在下に行なわれる。該溶
媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパツ
ール、インプロパツール、ブタノール、エチレングリコ
ール等のアルコール類、エーテル、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水Ｊ
ｌ［、塩化メチレン、クロロホルム、１．２−：／クロ
ロエタン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリ
ン酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸、プロ
ピオン酸等のカルボン酸類、ピリジン等を挙げることが
でき、また触媒としては、例えばピペリジン、トリエチ
ルアミン、ジエチルアミン、ＤＢＵ等の有機塩基、ピリ
ジン、キノリン、イソキノリン、アニリン、０−アニシ
ジン、ｐ−アニシジン、ｍ−アニシジン等の芳香族アミ
ン類、ナトリウムエチラート、ナトリウムメチラート等
の金属アルコラード類、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸カリウム、酢酸カリウム等の無機塩基、塩酸
、硫酸等の鉱酸類、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸
類、三弗化硼素等のルイス酸類等が挙げられるっこの中
で芳香族アミン類が好ましい。化合物・（７ｂ）と化合
物（８）との使用割合としては、通常前者に対して後者
を少くとも等モル量、好ましくは等モル−２倍モル程度
使用すればよい。また触媒の使用量としては、特に限定
されないが、通常化合物（７ｂ）に対してｌ／１００〜
ｌＯ倍モル程度とするのがよ（、好ましくは１７１０〜
６倍モル程度使用すればよい。該反応は、通常−２０〜
２００℃、好ましくは一２０〜１５０℃程度にて、一般
に１ｃ分〜５０時間程度で終了する。

上記で用いられる一般式（４）の化合物には新規化合物
が包含されており、該化合物〔一般式（４ａ）、（４ｂ
）、（４ｃ）、（４ｄ）及び（４ｆ）　）は下記反応行
程式−４〜８に従い製造される。

〔反応行程式−４］ 〔式中Ｒ５は前記に同じ。Ｒ６は水素原子又は低級アル
キル基を示す。Ｒは低級アルキル基を示す。

Ｒ８はカルボキシル基又は基−Ｐ（ＯＲ’）２（Ｒ９は
低級アルキル基うを示す。Ｂ及びＤは不飽和アルキレン
基を示す。ｍ及び０は０又は１を示す。］一般式（９）
の化合物と一般式叫の化合物の反応は、塩基性化合物の
存在下、溶媒中反応させることにより行なわれる。ここ
で使用される塩基性化合物としては、金属ナトリウム、
金属カリウム、水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の焦損塩基、ナト
リウムメチラート、ナトリウムエチラート等の金属アル
コラード類、ピリジン、ピペリジン、キノリン、トリエ
チルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等の有機塩基等
を例示できる。溶媒としては、反応に影響を与えないも
のであればいずれも使用できるが、例えばジエチルエー
テル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、モノグライム
、ジグライム等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、ヘプタン
、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン、Ｎ
、Ｎ−ジメチルアニリン等のアミンＭ、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げ
られる。反応温度は、通常０〜１５０℃、好ましくは室
温〜１２０°Ｃ付近とするのがよく、一般に０．６〜１
５時間程度で反応は終了する。一般式（９）の化合物に
対する一般式αＱの化合物の使用量としては、通常前者
に対して後者を少なくとも等モル凰、好ましくは等モル
−２倍モル量とするのがよい。

一般式（ロ）の化合物の還元反応は、通常水素化還元剤
を用いて行なわれる。水素化還元剤としては、例えば水
素化硼素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水
素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）　　等の
水素化ジアルキルアルミニウム、ジボラン等が挙げられ
、その使用量は、通常一般式０１）の化合物に対して通
常０．１〜８倍モル量、好ましくは０．５〜２倍モル量
とするのがよい。この還元反応は、通常適当な溶媒、例
えば水、メタノール、エタノール、インプロパツール等
の低級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、ジグライム等のエーテル類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類等を用い、通常的−
６０〜５０℃、好ましくは一り０℃〜室温にて、約１０
分〜５時間程度で行なわれる。なお、還元剤として水素
化アルミニウムリチウム、水素化ジアルキルアルミニウ
ム又はジボランを使用する場合には、ジエチルエーテル
、テトラヒドロフラン、ジグライム、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の無水溶媒を用いるのがよい。

〔反応行程式−５〕 Ｒ６−（Ｂ）ｒｎＣＥ　Ｃ−（Ｄ＋。−ＣＨ２０Ｈ（４
ｂ） ［式中Ｒ６、Ｒ７、Ｂ、Ｏｌｍ及び０は前記に同じ。

Ｘｌはハロゲン原子を示す。Ｍは銅、ナトリウム、リチ
ウム、カリウム等の金属を示す。Ｄは飽和又は不飽和ア
ルキレン基を示す。］ 一般式（６）の化合物と一般式（２）の化合物の反応は
、適当な溶媒中にて行なわれる。使用される溶媒として
は、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類、
ベンゼン、ト°レニン、キシレン等の芳香族炭化水素類
、ｎ−ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族
炭化水素類、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等の
アミン類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキサイド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非プ
ロトン性極性溶媒等が挙げられる。反応温度は通常０〜
２００°Ｃ１好ましくは室温〜１６０℃付近とするのが
よく、一般に０．５〜ＩＯ時間程度で反応は終了する。

一般式ａ葎の化合物の使用量としては、一般式＠の化合
物に対して少なくとも等モル、好ましくは等モル−１，
５倍モル量とするのがよい。

一般式α→の化合物の還元反応は、前記反応行程式−４
の一般式＜１１）の化合物の還元反応と同様の条件下に
行なうことができる。

一般式（４ａ）及び（４ｂ）の化合物は、適当な酸化剤
の存在下に該化合物を酸化すること番こより一般式 ％式％ を示す。Ｒ６、Ｒ６、Ｂ、　Ｄ、　ｍ、　ｏ　　及びＤ
′は前記に同じ。〕の化合物に変換することができる。

この化合物の一部は、前記反応行程式−４における出発
原料（一般式（９）の化合物）であり、それ故反応行程
式−４及び６の反応及び上記酸化反応を順次行うことに
より、目的とする種々の一般式（４）の化合物を得るこ
とができる。上記酸化反応で用いられる酸化剤としては
、例えばクロム酸カリウム、重クロム酸ナトリウム、三
酸化クロム、ピリジニウムクロロクロメイト、無水三酸
化クロムージピリジン錯体等のクロム化合物、二酸化マ
ンガン、過マンガン酸カリウム等のマンガン化合物、四
酢酸鉛、過ヨウ葉酸、ジメチルスルホキサド、ジメチル
アミンオキシド等のアミンオキシド類、ピリジン−ｐ−
二トロン−Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等のピリジン−ニ
トロン化合物類等を例示できる。

使用される溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水
素類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メ
タノール、エタノール、インプロパツール等の低級アル
コール類、水、酢酸、ジメチルスルホキシド等を例示で
きる。該反応には、硫酸、過塩素酸等の酸を触媒として
用いてもよい。反応温度は、通常０〜２００°Ｃ１好ま
しくは０〜１５０°Ｃ付近とするのがよく、一般に０．
５〜１５時間程度で反応は終了する０ ［反応行程式−６］ （４ｃ）　　　　　　　　　　　　　　　（４ｄ）〔式
中Ｒ５、Ｂ、６、ｍ及び０は前記に同じ。Ｒ９は水酸基
又は低級アルカノイル基を示す。］一般式（４Ｃ）の還
元反応は、公知の各種還元反応に従い行い得る。例えば
パラジウム黒、ｉ４ラジウム炭素、酸化白金、白金黒、
ラネーニッケル、リンドラ−触媒等の触媒を用いる接触
還元法、水素化硼素ナトリウム、水素化アルミニウムリ
チウム等による還元法等を適用できる。

接触還元法による還元に際しては、例えば水、メタノー
ル、エタノール、インプロパツール、酢酸、ジオキサン
、テトラヒドロフラン等の慣用の溶媒を用い、上記触媒
の存在下通常密圧〜２０気圧、好ましくは常圧〜ｌＯ気
圧の水素雰囲気中、通常−８０°Ｃ〜１００°Ｃ好まし
くは０〜５０″Ｃの温度で反応させるのが良い。触媒の
使用量は、一般式（４Ｃ）の化合物に対して通常０．１
〜４０重量％、好ましくは１〜２０重量％である。反応
時間は通常１〜１２時間である。

水素化アルミニウムリチウム等の還元剤を用６ｔで還元
を行なう場合には、還元剤を一般式（４Ｃ）の化合物に
対して等モル−２０倍モル好ましくは１．５〜３．５倍
モル量を用い、慣用の溶媒、例えばジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒中で通常−３
０〜１００°Ｃ好ましくは０°Ｃ〜７０°Ｃで８０分〜
１２時間程度反応させればよい。これらの還元反応によ
って容易に一般式（４ｄ）で表わされる化合物を得るこ
とができる。

一般式（４ｄ）の化合物でＲ９が低級アルカノイルオキ
シ基の場合、加水分解してＲ９が水酸基の化合物に導く
こともできる。該加水分解反応は、通常一般的に広く行
なわれるエステルの加水分解反応と同様にして実施でき
る。例えば酸又はアルカリ触媒の存在下、不活性溶媒中
で０−１００℃の温度条件下に、１〜５時間程度を要し
て行なわれる。触媒としては例えば塩酸、硫酸、塩化ア
ルミニウム等の無機酸、酢酸、蟻酸等の有機酸、水酸化
ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム等の無機
塩基、アンモニア、トリエチルアミン等の有機塩基など
が挙げられる。不活性溶媒としては水、メチルアルコー
ル、エチルアルコール等のアルコール類、酢酸、プロピ
オン酸等のカルボン酸、エチルエーテル等のエーテル類
、ジメチルホルムアミド、アセトアミド等のアミド類が
挙げられる。

一般式（４Ｃ）の化合物の一部は以下の反応行程式−７
の方法に従い製造することができる。

〔反応行程式−７〕 （至） Ｒ’−（Ｂ狐ＣＥＣ−（Ｄｉｏ−Ｒ” （４ｅ） 〔式中Ｒ５、Ｂ、　ｍ、　Ｘ’、Ｍｌｄ及び０は前記に
同じ。ＲＩＯは低級アルカノイル基を示す。〕一般式（
２）の化合物と一般弐〇→の化合物の反応は、前記反応
行程式−５における一般式（２）の化合物と一般式（２
）の化合物の反応と同様の条件下に行うととができる。

〔反応行程式−８］ （９ａ）　　　　　　　　　（４ｆ） 〔式中Ｒ６、Ｂ及びｍは前記に同じ。〕゛　一般式（９
ａ）の化合物の還元反応は、前記反応行程式−４の一般
式ａυの化合物の還元反応と同様の条件下に行ない得る
。

斯くして得られる一般式（１）で表わされる化合物のう
ち塩基性基を有する化合物は薬理的に許容し得る酸と塩
を形成し得る。斯かる酸として具体的には硫酸、硝酸、
塩酸、臭化水素酸等の無機酸、シュウ酸、マレイン酸、
フマール酸、リンゴ酸、クエン酸、安息香酸等の有機酸
等を例示できる。

斯（して得られる本発明の化合物は通常用いられている
分離手段により容易に単離、精製される。

斯かる分離手段としては沈Ｗ！、法、抽出法、再結晶法
、カラムクロマトグラフィー、プレパラテイブ薄層クロ
マトグラフィー等を例示できる。

本発明の化合物は、光学異性体も当然に包含するもので
ある。

実施例 参考例１ ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド２０１及びモノエチル
マロネイト８２．５Ｆにピリジン６ｎＪ及びピペリジン
０．２ｍｌを加え、１００〜１１０℃にて１０時間加熱
撹拌後、冷却し、クロロホルムを加え、飽和亜硫酸水素
カリウム水、水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を濃縮後残液をイソプロピルエーテル−ｎ−ヘ
キサンより結晶化し、２６．２Ｆのエチル　４−ヒドロ
キシシンナメイトを得る。

ｍｐ７０〜７１℃、淡黄色無定形晶 参考飼２ ８−ヒドロキシベンズアルデヒド２０１及びモノエチル
マロネイト８２．５ｆを用い参考例１と同様の条件下に
反応して、２５．５Ｎのエチル　８−ヒドロキシシンナ
メイトを得る。

ｍｐ６５〜６８℃ （インプロピルエーテルより再結晶） 参考例８ ４−ヒドロキシ−８−クロロベンズアルデヒド２５．８
Ｆ及びモノエチルマロネイト８２．５ｆを用い参考例１
と同様にして、４６Ｆのエチル　４−ヒドロキシ−８−
クロロシンナメイトを得る。

ｍｐＨ８〜１１９℃（塩化メチレンより再結晶）　無色
プリズム状晶 参考例４ エチル　４−ヒドロキ゛シシンナメイト５Ｆの無水エー
テル溶液８０ｍ１に、ジヒドロピラン７．１ｍｌ１及び
ｐ−）ルエンスルホン酸５０ｍＦを加え室温で２時間撹
拌後、反応液を１％ＮａＯＨで中和し、水洗乾燥（芒硝
）後、溶媒留去して６．８１のエチル４−（２−テトラ
ヒドロピラニルオキシ）シンナメイトを得る。

ｍｐ５２〜５８℃ 無色不定形品 参考例５ エチル　４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）シン
ナメイト６．８ｇを含む無水エーテル溶液５０ｍｊ？を
、−８０″Ｃに冷却したリチウムアルミニウムハイドラ
イド０．４７Ｆを含む無水エーテル溶液に滴下する。滴
下終了後同温度で１時間撹拌し、徐々に一１０℃まで昇
温した後、飽和芒硝水を徐々に加え析出物をＦ別する。

炉液を芒硝で乾燥後、濃縮乾固し、残液をシリカゲルク
ロマトグラフィー（ｍ出Ｍｉクロロホルム）にて精製し
て、８．２ｆの無色油状物の４−（２−テトラヒドロピ
ラニルオキシ少シンナミルアルコールを得る。

ηＤ　１．５５２０ 参考例６ ４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）シンナミルア
ルコール１５ｇ、酢酸ナトリウム５．２１を懸濁した無
水塩化メチレン溶液に、水冷下１度にピリジウムクロロ
クロメイト１８Ｆを加え、同温度で１時間撹拌後室温に
もどし、更に１時間撹拌する。エーテルｔｏｏｍｎを加
えた後反応液をセライト濾過し、溶出液を濃縮し、残渣
をシリカゲルクロマトした後、エーテルより再結晶し無
色針状晶の４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）シ
ンナミルアルデヒド８．５１を得る。

ｍｐ６５〜６７℃ 参考例７ トリエチルフォスフォノアセテ−）　５．６　ｆを６０
％ナトリウムハイドライド１．０６Ｎのテトラヒドロフ
ラン溶液に室温で滴下撹拌後、４０℃で１時間撹拌する
。室温まで冷却した後４−（２−テトラヒドロピラニル
オキシ）シンナミルアルデヒド６．６ｆを含むＴＨＦ溶
液を加え、室温２時間撹拌後、水１００ｍＪにあける。

エーテルを加え、エーテル抽出した後、水、飽和食塩水
で順次洗浄後芒硝で乾燥する。インプロピルエーテルよ
り再結晶し無色針状晶のエチル　５−［４−（２−テト
ラヒドロピラニルオキシ）フェニル］　−２（Ｅ）　。

４（Ｅ）−ペンタジェノニー）　８．８　’ｌを得る。

ｍｐ６６〜６７．５℃ 参考例８ エチル　５−［４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ
）フェニル］−２（Ｅ）、４（Ｅ）−ペンタジェノエー
ト８．６　ｆの無水ベンゼン溶液８Ｇ、１ｎＡｔに水冷
下水素化ジイソブチルアルミニウム１５ｍ＃（２５％Ｗ
／Ｖ　）を滴下し室温２時間撹拌後、飽和塩化アンモニ
ア水にあけ室温２時間撹拌する。不溶物をセライト濾過
し、不溶物をエーテルで洗浄する。

有機層を水洗後芒硝で乾燥する。濃縮後残渣をクロロホ
ルム−ｎ−へキサンより再結晶し、無色針状晶の５−（
４−（２−テトラヒドロピラニル）フェニル］　−２（
Ｅ）　、　ａ（ｇ）−ペンタジエノール２．８１を得る
。

ｍｐ５４〜５８℃ 参考例９ ｐ−ヒドロキシアセトフェノン２５ｆ１ジヒドロピラン
５０ｍ１及びｐ−）ルエンスルホン酸０．２５ｆを無水
エーテル中室ｍ２時間撹拌後、ＩＮ水酸化ナトリウムで
中和、水、飽和食塩水で順次洗浄後芒硝で乾燥する。濃
縮して８４９の４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ
）アセトフェノンを得る。

ｍｐ７９〜８８℃ 無色プリズム状品 参考例１０ トリエチルフォスフォノアセテート４５．８１及び６０
％ナトリウムハイドライド８．７ｇの無水テトラヒドロ
フラン溶液を４０°Ｃ１時間撹拌後冷却し４−（２−テ
トラヒドロピラニルオキシ）アセトフェノン８０ｆを加
える。４時間加熱還流させた後、溶媒を留去し、残液を
エーテル抽出、水洗乾燥する。更に濃縮後残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、２７．６ｆ
のエチル８−メチル−ｐ−（２−テトラヒドロピラニル
オキシ）シンナメイトを得る。

淡黄色油状 ’　Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ　％ＣＤＣＩＢ　）　　δ
：１．２９　（８Ｈ，ｔ　、　Ｊ＝６Ｈｚ　）、１．４
〜２．１　（６Ｈ，ｍ）、２．４９　（８Ｈ，ｄ　、　
Ｊ＝ＩＨｚ　）、８．８〜８．９　（２Ｈ、ｍＪ、４．
１０　（２Ｈ，ｑ　、　Ｊ＝６Ｈｚ　）、５．８〜５．
４５（ＩＨ，ｍ）、６．０８　（ＩＨ，ｄ　、　Ｊ＝Ｉ
Ｈｚ　）、６．９〜７．４　（４Ｈ、ｍ）参考例１１ エチル　８−メチル−ｐ−（２−テトラヒドロピラニル
オキシ）シンナメイト２’１．５ｆのテトラヒドロフラ
ン溶液に水素化ジイソブチルアルミニウム（２５％ｗ／
ｖ　）　１１８ｍ１を室温で滴下する。

２時間後、氷冷した塩化アンモニア水に注ぎ、不溶物を
炉別する。Ｐ液を水洗、芒硝で乾燥後濃縮し、残液をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して１２．７
１の無色油状の８−メチル−ｐ−（２−テトラヒドロピ
ラニルオキシ）シンナミルアルコールを得る。

’Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、ＣＤＣＪ？ａ）　　δ二１
．５〜２．０　（６Ｈ，ｍ）、２．０　（８Ｈ，ｓ　）
、８．８〜４．０（２Ｈ，ｍ）、４．１〜４Ｊ（ＢＨ，
ｍ）、５．２６〜５．４　（ＩＨ，ｍ）、５．８１　（
ＬＨ，ｔ　、　Ｊ＝６Ｈｚ　）、６．８〜７．５　（４
Ｈ，ｍ） 参考例１２ ｐ−ヨードフェノール１０ｆ、　　ジヒドロピラン８ｍ
ｌ　及びｐ−）ルエンスルホン酸触媒員を無水エーテル
８０ｍ１　に溶解し、室温で２時間撹拌する。反応液を
水洗、乾燥後、溶媒を留去して黄色油状の４−（２−テ
トラヒドロピラニルオキシ）−１−ヨードベンゼン１２
．４Ｆを得る。

ｂｐ８４〜８７°Ｃ（２５ｍｍＨｆ　）参考例１８ トリエチルフォスフォノクロトネート６．２５ｆを６０
％ナトリウムハイドライド１．０６ｆのテトラヒドロフ
ラン溶液に室温で滴下撹拌後４０℃１時間撹拌する。室
温まで冷却した後ｐ−（２−テトラヒドロピラニルオキ
シ）ベンズアルデヒド６、Ｏｆを含むテトラヒドロフラ
ン溶液を加え、室温２時間撹拌後、水１００ｍ１に注ぎ
込む。エーテルで抽出後、水、飽和食塩水で順次洗浄後
、芒硝で乾燥する。溶媒を留去し、残液をシリカゲルク
ロマトグラフィー（溶出液づヘキサンークロロホルムフ
で精製し、次いでイソプロピルエーテルより再結晶して
４．０１Ｆのエチル　　５−［４−（２−テトラヒドロ
ピラニルオキシフェニル）〕−２（Ｅｌ　、　４　（Ｅ
）−ペンタジェノエートを得る。

無色針状晶、ｍｐ　６６〜６７．５°Ｃ参考例１４ ｐ−テトラヒドロピラニルオキシヨードベンゼン２０ｇ
及び８−アセチルオキシ−１−プロピン−１−イド銅（
Ｉ）　１１．８　ＩＩの無水ピリジン７０ｍ１溶液をア
ルゴン雰囲気下、６時間加熱還流する。

反応終了後反応液を水に注ぎ、クロロホルム抽出する。

水洗、乾燥後溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶出液；クロロホルム：ｎ−ヘキ
サン＝１：１）にて精製して、８ｇの４−［４−（２−
テトラヒドロピラニルオキシ）フェニル］−８−ブチニ
ルアセテートを得る。

無色油状 ’Ｈ−ＮＭＲ（６０Ｍ■ｉｚ、　ＣＤＣ４）　　δ：６
．９８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８ＨｚＪ、６．６８（２Ｈ，ｄ
、Ｊ＝８Ｈｚ）、　６．１５（ＩＨ，ｍ）、　４．０５
　（２Ｈ，ｔ　、Ｊ＝６Ｈｚ　）、８．８〜８．７　（
２Ｈ、ｍ　）、２．５８（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１
．９７（８Ｈ，ｓ）、１．５〜１．９（６Ｈ，ｍ）参考
例１５ ４−（４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）フェニ
ル〕−８−ブチニルアセテ−）　２．４　ｊｌの無水テ
トラヒドロフラン溶液に水素化アルミニウムリチウムＩ
ｆを加え１２時間加熱還流する。反応終了後、飽和芒硝
水を徐々に加え析出物を枦去し、Ｐ液を芒硝で乾燥後、
濃縮乾固する＋ＰＪられた残液をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにて精製して、無色油状の４−［（２−
テトラヒドロピラニルオキシ）フェニル］　−８（Ｅ）
−ブテニルアルコール２ｆを得る。

１Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ　、　　ＣＤＣＩＢ　　ン　
　δ　：１．６〜２．１　（６Ｈ，ｍ）、２．４８　（
２Ｈ，ｑ　、　Ｊ＝６Ｈｚ　）、８．４〜４．０　（５
Ｈ，ｍ）、５．８７（ＩＨ，ｍ）、６．０８（ＩＨ。

ｄ、ｔ、Ｊ＝１６Ｈｚ、６Ｈｚ）、６．４０（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝１６Ｈｚ）、６．９７　（２Ｈ，ｄ　、　Ｊ＝９
Ｈｚ　）、７．２５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） 参考例１６ ４−（（１−エトキシ）エトキシ］シンナミルアセトア
セテートｔｏｙをトルエン２０ｍＡに溶解し、撹拌しな
がら約８０℃で２１のアンモニアガスを通じる。生成し
た水はトルエンとの共沸によって除去する。約２時間後
、トルエンを減圧留去して１０　ｆの４−［（１−エト
キシ）エトキシ］シンナミル　８−アミノクロトネート
を油状物として得る。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ８）　　δ： １．１８　（８Ｈ，ｔ　、　Ｊ　＝７．５Ｈｚ　）、１
．４７（８Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．９０　（８Ｈ，
ｓ）、８．８５〜８．８５　（２Ｈ，ｍ　）、４．５５
（ＩＨ，ｓ）、４．８８　（２Ｈ，ｄ　、　Ｊ＝６Ｈ２
）、５．８５（ＩＨ，ｑ、Ｊ＝６Ｈｚ）、６．１５（Ｉ
Ｈ，ｄｔ、）＝６Ｈｚ　、　１５．５Ｈｚ）、６．５７
（ＩＨ，ｄ　、　Ｊ＝　１５．５Ｈｚ）、６．９０（２
Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．８０（２Ｈ。

ｄ　、　Ｊ＝８．４　Ｈｚ　） ＩＲ（フィルム）　ν：　　８４６０，８８５０゜１６
１０ｃｍ−’ Ｍａｓｓ、　　（ｍ／ｅ）　　Ｍ”’ＦＯ５。

参考例１７ ４−ヒドロキシシンナミルアルデヒド１ｆのテトラヒド
ロフラン５．０ｍｌ溶液中に、エチルビニルエーテル０
．５ｇ及びｐ−）ルエンスルホン酸１０ｍｆを加え、１
時間室温放置する。その後水素化ホウ素ナトリウム０．
８ｆの８ｍｌ水溶液を加え、８０分間室温で放置する。

その後反応液をｎ−ヘキサンで抽出し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後溶媒を留去して１．８　Ｆの４−［（１
−エトキシ）エトキシ］シンナミルアルコールを油状物
として得る。

参考例１８ ４−［（１−エトキシ）エトキシ〕シンナミルアルコー
ル１２１にジクロロメタン８６ｍｌ１を加え、次いで無
水酢酸ナトリウム６０ｍＮを加える。加熱還流下にジケ
テン５ｆを滴下し、２時間後さらにジケカン０．４２ｆ
を滴下し、その後１．５時間加熱還流する。反応終了後
ジクロロメタンを減圧留去し、残液にヘキサン２’１ｍ
（ｌと活性炭１．２　ｆを加え、８０分間撹拌する。活
性炭を濾過、Ｆ液を濃縮し、１５Ｆの４−［（１−エト
キシ）エトキシ］シンナミルアセトアセテートを油状物
として得る。

ＮＭＲ（ＣＤＣｎ８）　δ： １．１５　（８Ｈ，ｔ　、　Ｊ＝７Ｈｚ　）、１．４４
（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝５．４Ｈｚ、）、２．２０（８Ｈ，ｓ
）、８．８１〜８．９５　（２Ｈ。

ｍ）、８．４５（２Ｈ，ｓ）、４．７１　（２Ｈ，ｄ　
、　Ｊ＝６Ｈｚ入５．８５　（ＩＨ，ｑ　、　Ｊ＝５．
２Ｈｚ　）、６．１０（ｌＨ，ｄｔ。

Ｊ＝６．１．Ｈｚ、　１５．８Ｈｚ　）、６．５９（Ｌ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝１５．８　Ｈｚ　）、６．９１　（２Ｈ，
ｄ　、　Ｊ＝９Ｈｚ　）、７．２９（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９
Ｈｚ） ＩＲ（フィルム）　　ν：　　１６５０，１７８０ｃｔ
ｎ。

参考例１９ ｍ−ニトロベンズアルデヒド１５１ｆの７５０ｍＡ’の
メタノール溶液にアセト酢酸メチル１１６ｆ及び０−ア
ニシジン２４．１Ｎを加え、室温で１９時間放置する。

析出晶を炉底し、アセトンより再結晶して、ｍ−ニトロ
ベンジリデンアセトアセテート２１８　Ｆを得る。

ｍｐ１５７〜１５８℃ 参考例２０ ５−アセチル−２，２−ジメチル−１，８−ジオキサン
−４，６−ジオン１８．６Ｎ及び４−（ｌ−エトキシエ
トキシ）シンナミルアルコール２２．２９のテトラヒド
ロフラン５０ｍＡ１の溶液を６時間加熱還流する。反応
終了後、溶媒を留去する。得られた残液をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル：ｎ−ヘ
キサン＝１：４）で精製して、５，８ｆの４−［（１−
エトキシ）エトキシ］シンナミルアセトアセテートを油
状物として得る。

ＮＭＲ（ＣＤＣ１Ｂ）　　δ： １．１５　（８Ｂ、　ｔ　、　Ｊ＝７Ｈｚ）、１．４４
（８Ｈ，ｄ、Ｊ＝５．４　Ｈｚ　）、２．２０（８Ｈ，
ｓ）、８．８１〜８．９５（２Ｈ。

ｍ）、８．４５（２Ｈ，ｓ）、４．７１（２Ｈ，ｄ、Ｊ
＝６Ｈｚ）、５．８５（ＩＨ，ｑ、Ｊ＝５．２Ｈｚ）、
６．１０　（ＩＨ，ｄｔ　。

Ｊ＝６．ＩＨ２、１５，８Ｈｚ　）、６．５９（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝１５．８Ｈｚ）、６．９１　（２Ｈ，ｄ　、　
Ｊ＝９Ｈｚ　）、７．２９（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ＩＲ（フィルム）ｖ：　　１６５０．１７８０ｃｍ実施
例１ ４−（（１−エトキシ）エトキシ］シンナミル８−アミ
ノクロトネート８．８９Ｓｍ−ニトロベンジリデンアセ
トアセテ−１−２，６ｆ及びインプロパツール２６ｍｊ
？の混合物を窒素気流撹拌下、約８時間加熱還流する。

溶媒を減圧留去し、５．９Ｆのメチル　４−［（１−エ
トキシ）エトキシ］シンナミル　１．４−ジヒドロ−２
，６−シメチルー４−（８−ニトロフェニル）ピリジン
−８，５−ジカルボキシレートを得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）：　８Ｂ７０．１６８０，１６５０゜１
６１０ｃｍ’ ＮＭＲ（ＣＤＣ１８）δ： １．１７（８Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 １．４７（８Ｈ，ｄ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、　２．８４（
６Ｈ，ｓ）、８．８５〜８．９５（２Ｈ，ｍ）、８．６
０（８Ｈ，ｓ）、４．６５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、
５．１０（ＩＨ，ｓ）、５．８５（ＩＨ，ｑ、Ｊ＝５．
５Ｈｚ）、　６．０５（ＩＨ，ｄｔ。

Ｊ＝６Ｈｚ　、　１５．５　Ｈｚ　）、６．４６　（Ｉ
Ｈ，ｄ　、　Ｊ＝１５．５Ｈｚ）、　６．８９（２Ｈ，
ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、　７．１８〜８．０９（６Ｈ，ｍ） 適当な出発原料を用い、実施例１と同様にして以下第１
表に示す化合物を得る。

ＮＭＲ１）（９０ＭＨｚ％ＣＤＣＩ　Ｂ　）　’２゜２
８（３Ｈ，ｓ）、２．３５（６Ｈ，ｓ　）、３．６４（
３８，ｓ）、４．６７（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、５．
１２（ＩＨ，ｓ）、６．０６（ＩＨ，ｂｒｏａｄ、ｓ）
、６．１５　（ＩＨｇ　ｄ、ｔ＋　　Ｊ　ａ＝７ＨＺ。

Ｊｂ＝１６Ｈｚ）、６．５０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ
）、？、０３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３０（２
Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、７゜３２（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、７．６３（ＩＨ，ｄｔ、Ｊａ＝２Ｈｚ。

Ｊｂ＝８Ｈｚ）、７．９７（ＩＨ，ｄ、ｔ、Ｊａ＝２Ｈ
ｚ、Ｊｂ＝８Ｈｚ）、８．１２（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝２Ｈｚ
） ＮＭＲ”　（９０ＭＨｚ、　ＣＤＣｌ！ｇ　）　’１．
４５〜２．１０　（６Ｈ，ｍ　）、２．３０（６Ｈ，ｔ
）、３．４０〜４．００（２Ｈ，ｍ）、３．５６　（３
Ｈ，ｓ　）、４．６３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、５．
１０（ＬＨ，８）、５．３７（ＬＨ，ｔ、Ｊ＝３Ｈｚ）
、６．１７（ＩＨ＊　４　　Ｌ　　Ｊａ＝６Ｈｚｔ　　
Ｊｂ＝１６Ｈｚ）、６．４５　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝１６Ｈｚ）、６．６５〜７．２０　（４Ｈ，ｍ　）
、７．３０（ＩＨ，ｔ。

Ｊ＝７Ｈｚ）、７．６２（ＩＨ，ｄ、ｔ、Ｊａ＝２Ｈｚ
、Ｊｂ＝７Ｈｚ）、？−９５（ＩＨ＋　４　　ｔｅ　　
Ｊ　ａ＝２Ｈｚ、Ｊ　ｂ＝７Ｈｚ　）、８．１３（ＩＨ
Ｉｔ、Ｊ＝２Ｈｚ） ＮＭＲ８）（９０ＭＨｚ％ＣＤＣｌ　Ｂ　）　’２．３
０（３Ｈ，ｓ）、２．３２（３Ｈ，ｓ　）、３．３８（
、’３Ｈ，ｓ　）、３．５３（３Ｂ、Ｓ）、４．６５（
２Ｈ，ｄｌ　Ｊ＝７Ｈｚ）、５．１０（１８，８）、５
．１３（２Ｈ，ｓ）、６．２０（１Ｂ、ｄｔ、）ａ＝６
Ｈｚ、Ｊｂ＝１６Ｈｚ）、６−４７　（ｌ　Ｌ　ｓ　）
、６．８７（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝１６Ｈｚ）、６．８７〜７：４８　（５Ｈ，ｍ　）
、７．６２（ＩＨ，ｄｔ。

Ｉａ＝２Ｈｚ、Ｊｂ＝７Ｈｚ）、７．９３（ＩＨ，ｄｔ
、Ｊａ＝２Ｈｚ。

Ｊｂ＝７Ｈｚ）、８．１２（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝２Ｈｚ）Ｎ
ＭＲ４）（９０ＭＨｚ−ＣＤＣｌ　Ｂ　）　’１．５０
〜１．９５　（６Ｈ，ｍ　）、１．９７　（３Ｈ１８）
、２．３２　（６Ｈ。

Ｓ）、３．３４〜３．９０　（Ｉ　Ｈ，Ｉｎ　）、３．
５３（３Ｈ，Ｓ）、４．６５（２Ｈｙ　ｄｔ　Ｊ＝７Ｈ
ｚ　）、５．０３（ＩＨ，Ｓ）、５．３３（ＩＨ，ｔ。

Ｊ＝３Ｈｚ）、５．７０（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、５
．９５（ＩＨ。

ｂｒｏａｄ、　ｓ）、６．９７（２Ｈ，ｄ、Ｊ”９Ｈｚ
）、７．２３（２Ｈ。

ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．２８（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝７Ｈ２）
、７．５８（ＬＨ。

ｄ、ｔ、Ｊａ＝２Ｈｚ、Ｊｂ＝７Ｈｚ）、７．９３（Ｉ
Ｈ，ｄｔ、Ｊａ＝２Ｈｚ、Ｊｂ＝７Ｈｚ）、８．０８（
１８１ｔ、Ｊ＝２Ｈｚ）ＮＭＲ”　（９０ＭＨｚ、　Ｃ
ＤＣＩＢ　）　’１．３０〜２．０　（６Ｈ＋　ｍ　）
　２．３２　（６Ｈ，ｓ　）、３．５３（３Ｈ。

Ｓ）、３．３〜３．９５　（２Ｈ，ｍ　）、４．７９（
２Ｈ，Ｓ）、５．０７（ｌＨ＋ｓ）、５．３３（１Ｂ、
ｔ、Ｊ＝３Ｈ２）、６．０２（ＩＨ。

Ｓ）、６．９３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ）、７．２８
（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝１σＨｚ）、７−２７　（Ｉ　Ｈｖ　
ｔ＋　Ｊ＝８Ｈｚ　）、７．６６（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ）、７．９３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、８
．１０（］Ｆｆ、　Ｓ）ＮＭＲ”　（９０ＭＨ２，ＣＤ
Ｃｌ　Ｂ　）　’１−４０〜２．１０　（６Ｈｒ　ｍ　
）、２．３２（６Ｈ，ｓ）、３．４３　（３Ｈｒ８）、
３．２０〜３．８５　（２Ｈ，ｍ　）、４．４３（２Ｈ
，ｄ、Ｊ＝７Ｈ２）、４．９５　（ｌＨ，８）、５．２
３（ＩＨ９ｔ＋　　１＝３Ｈｚ）、５．４０〜５．８０
（ＩＨ，ｍ）、５．９３〜６．５３　（３Ｈ，ｍ　）、
６．６０（ＩＨ。

Ｓ）、６．８７（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ）、７．２０
（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ　）、７．２３（ＩＨ，ｔ、
Ｊ＝８Ｈｚ）、７．５３（ＩＨ，ｄ。

ｔ、Ｊａ＝２Ｈｚ、Ｊｂ＝８Ｈｚ）、７．８８（ＩＨ，
ｄ、ｔ、Ｊａ＝２Ｈｚ、Ｊｂ＝８Ｈｚ） ＮＭＲ７）（６０ＭＨｚ、　ＣＤＣｌ　Ｂ　）　’１．
４０〜２．０　（６Ｈ，ｍ　）、２．３０（３Ｈ，ｓ）
、２．３３（３Ｈ。

Ｓ）、３．２０〜３．９０　（２，Ｈ，ｍ　）、３．．
６０　（３Ｈ，ｓ　）、４．６３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈ
ｚ）、５．３７（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝３Ｈｚ）、５．８０　
（Ｉ　Ｈｅ　　ｓ　）、６．ｏ３（ＬＨ，ｄ、ｔ、Ｊａ
＝６Ｈｚ、Ｊｂ＝１６Ｈｚ　）、６．８０（ＩＨ，ｓ　
）、６．３８（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ）、６．９０（
２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ　）、７．２０Ｃ２Ｈ，ｄ、Ｊ＝
９Ｈｚ）、６．７５〜７．８０　（４Ｈ，ｍ　） ＮＭＲ８）（９０ＭＨｚ、　ＣＤＣ７り　：１．４３〜
２．１５（６Ｈ，ｍ）、２．３０（６Ｈ，ｓ）、３．３
８　（３Ｈ。

Ｓ）、３．２０〜３．８０　（２Ｈ，ｍ　）、４−４７
　（２Ｈｒ　　ｄ　ｄ、Ｊ　ａ＝３Ｈｚ、Ｊｂ＝７Ｈｚ
＞、５．２３（１）（、ｔ、Ｊ＝３Ｈ２）、５．４３（
ＩＨ，ｓ）、６．８３（ＩＨ，ｂｒｏａｄ　　ｓ）、５
．９４（ＬＨ，ｄｔ。

Ｊａ＝６Ｈｚ、Ｊｂ＝１６Ｈｚ）、６．２３（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝１６Ｈｚ）、６．８７（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）
、７．１３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、６．７５〜７．
６０（４Ｈ，ｍ） ＮＭＲ９）（９０ＭＨｚ、　ＣＤＣｌ　Ｂ　）　：１．
５〜２．１　（６Ｈ，ｍ　）、２．２８（３Ｈ，ｓ）、
３．５３（３Ｈ，ｓ　）、３．７６（３Ｈ，ｓ）、３．
４〜４．１　（ＩＨ，ｍ　）、４．５７　（２Ｈ，ｄ。

Ｊ＝６）、５−２７　（Ｉ　Ｈｅ　　ｔＩＪ　＝３　Ｈ
ｚ　）、５．９９（ＩＨ，ｄｔ。

Ｊａ＝＝６Ｈｚ、Ｊｂ”１６Ｈ２）、６．０７（ＩＨ，
８）、６．３６（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１６）、６．７３　（
ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈ２）、６．７８（ＩＨ，ｓ）、６
．９３　（Ｌ　Ｈｒ　　ｄ、Ｊ−７Ｈｚ　）、７．１８
（ＩＨ，ｔ。

Ｊ＝７Ｈｚ）、７．５０　（Ｉ　Ｈ９’ｄ　ｔ＋　Ｊ　
ａ＝２Ｈｚｔ　Ｊ　ｂ＝７Ｈｚ　）、７．８３（ＩＨ，
ｄｔ、Ｊａ＝２Ｈｚ、Ｊｂ＝７Ｈｚ）、７．９９（ＩＨ
。

ｔ、Ｊ＝２Ｈｚ） ＮＭＲ”）（６０ＭＨｚ、　ＣＤＣｌ　ａ　）　’１．
２４（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、２．３７（３Ｈ，Ｓ）
、３，６６（３Ｈ，ｓ）、３．７９（２Ｈ，Ｑ、Ｊ＝７
Ｈｚ）、４．７０　（２Ｈ。

ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、５．１６（ＩＨ，ｓ　）、５．３０
（２Ｈ，ｓ　）、５．９１　（ｌＨ％　ｂｒｏａｄ　　
ｓ　）、６．１０（ＩＨ，ｄｔ、Ｊａ＝６Ｈｚ。

Ｊｂ＝１６Ｈｚ）、　６．４０（ＩＨ，ｄ、　　　Ｊ＝
１６Ｈｚ）、　　７．００〜７．４７　（４Ｈｒ　ｍ　
）、７．６４（ＬＨ，ｄｔ、Ｊａ＝２Ｈｚ、Ｊｂ＝７Ｈ
ｚ　）、７．９７　（ＩＨ＋　　ｄ　ｔｙ　　Ｊ　ａ＝
＝２Ｈｚ、　　Ｊ　ｂ；７Ｈｚ　）、８．１４（ＩＨ，
ｔ、Ｊ＝２Ｈｚ） ＮｈｉＲ１１）（９０ＭＨｚ、　ＣＤＣｌ　ｇ　）　：
１．４０〜２．１０　（６Ｈ，ｍ　）、２．２６（６Ｈ
，ｍ）、３．５３　（３Ｈ。

Ｓ）、３．４０〜４．０　（２Ｈ，ｍ　）、４．５８（
２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６）、５．０３（ＩＨ，８）、　　５．
３０（ＩＨ，ｔ、　　Ｊ＝３Ｈｚ）、　５．９７（ＬＨ
＋　ｄｔｓ　　Ｊａ＝＝６Ｈｚ、Ｊｂ＝１６Ｈｚ）、６
．３０（ＩＨ。

ｂｒｏａｄ　　ｓ）、６．３７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１６Ｈ
２）、６．８８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈ２）、７．１４（
２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ　）、７．２０（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝
６Ｈｚ）、７．５０（ＩＨ，ｄｔ、Ｊａ＝２Ｈｚ、Ｊｂ
＝６ｆ（ｚ）、７．８２（ＩＨ，ｄｔ、Ｊａ＝２Ｈｚ。

Ｊｂ＝６Ｈｚ）、８−００　（Ｉ　Ｈ１ｔ＋　　Ｊ　＝
２　ｆ（ｚ　）ＮＭＲ１２）（９０ＭＨｚ−、ＣＤＣＩ
　Ｂ　）　’１．５〜２．１　（６Ｈ，ｍ　）、２．３
３（６Ｈ，ｓ）、２．４８（２Ｈ。

ｑ、Ｊ＝６Ｈｚ）、３．５８（３Ｈ，ｓ）、３．５〜４
．０（２Ｈ，ｍ）、４．１５（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）
、５．０９（ＬＨ，ｓ　）、５．４０（ＩＨ，ｍ）、５
．９３　（ＩＨ＋　ｄ、ｔ＋　　Ｊ＝１５Ｈｚ＋６Ｈｚ
）、６．３０（１，）（、Ｓ　）、６．３２（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝１５Ｈｚ）、６．９６（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈ２）
、？、１９（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．１〜７．３
　（Ｉ　Ｈｒ　ｍ　）、７．５〜７．７　（ＬＨ，ｄ、
　ｍ、　　Ｊ　＝６Ｈｚ　）、７．８〜８．０　（１Ｂ
、　　ｄ、　ｍ、　　Ｊ＝６Ｈｚ　）、８．１０（ＩＨ
，ｍ）（ＩＨ，ｄｔ、　Ｊａ＝６Ｈｚ、　Ｊｂ＝１６Ｈ
ｚ）、６．３０（ＩＨ。

ｂｒｏａｄ　ｓ）、６．３７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ
）、６．８８（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ）、７．１４（
２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ　）、７．２０（ＩＨ，ｔ、Ｊ
＝６Ｈ２）、７．５０（ＩＨ，ｄｔ、Ｊａ＝２Ｈｚ、　
Ｊｂ＝６Ｈｚ）、７．８２（ＩＨ，ｄｔ、　Ｊａ　＝２
Ｈｚ。

Ｊｂ＝６Ｈｚ）、８．００（１１’（Ｉｔ＋　Ｊ＝２１
（ｚ　）ＮＭＲ１２）（９０Ａ（Ｈｚ−ＣＤＣＩ　Ｂ　
）　’１．５〜２．１　（６Ｈ，ｍ　）、２．３３　（
６Ｈ，ｓ　）、２．４８（２Ｈ。

Ｑ＊　Ｊ＝６Ｈｚ）、３−５８　（３Ｈｒ　ｓ　）、３
．５〜４．０　（２Ｈ，ｍ　）、４．１５（２ｉ（、ｔ
、　Ｊ＝６Ｈｚ　）、５．０９（１）（、Ｓ）、５．４
０　（Ｉ　Ｈｒ　ｍ　）、５．９３（１Ｂ、　ｄ、　ｔ
、　Ｊ：１５Ｈ２゜６Ｈｚ）、６．３０　（１，Ｈ，ｓ
　）、６．３２（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１５Ｈｚ）、６．９
６（２Ｈ，ｄ、　Ｊ”９Ｈｚ　＞、７．１９（２Ｈ，ｄ
、　Ｊ＝９Ｈ２）、７．１〜７．３　（Ｉ　Ｈｒ　ｍ　
）、７．５〜７．７（ＬＨ，ｄ、　ｍ、　Ｊ＝６Ｈｚ　
）、７．８〜８．０（ＩＨ，ｄ、　ｍ、　Ｊ＝６Ｈｚ）
、８．１０（ＩＨ，ｍ）補　　正　　の　　内　　容 ｌ　明細書第２１頁第７行「ＷＩ−アニシジン等の」と
あるを「ｍ−アニシジン、ｍ−トルイジン、戸−トルイ
ジン、戸−り０ルアニリン、アニリン、Ｏ−フェネチジ
ン等の」と訂正する。

２　明細書第４９頁第９行ｒ１７３０ｔｘＪ　とあるを
下記の通り訂正する＠ ｒ１７３０α″″１ 参考例２１ ｍ−ニドｏベシズアルデヒド３．Ｏｆ、アセト自ｉｉ＠
メチル２，３１及びｍ−）ルイジシ０．４ｆをメタノー
ル１５は中に溶解し、室温にて４５時間放置する。反応
終了後、析出晶を炉取し、メタノールにて洗浄する。ア
七トンより再結晶して４．１１のｍ−二トｏベンジリゾ
ジアセテートを得る。

ｍ戸　＋５７−１５８℃ 上記と同様の条件下、前−トルイジンの代りに下記に示
す触媒を用いて、下記収量にてｍ−ニド０ベンジリデン
アセテートを得る＠戸−り０ルアニリン　　　０．５９
　　　３．９ｆアニリン　　　　　　　０．３１　　　
３．９ｆ戸−トルイジン　　　　　０．４ｆ　　　　２
．７Ｆ０−フェネチジン　　　　０．５ｆ　　　　４．
：Ｓｆ　　　Ｊ（以　上）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１及びＲ＾４はそれぞれ低級アルキル基を示
   す。Ｒ＾３はニトロ基又は置換基としてハロゲン原子を
   １〜３個有することのある低級アルキル基を示す。〕で
   表わされるフェニル誘導体と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾２は低級アルキル基を示す。Ｒ＾５は低級ア
   ルコキシ基、ハロゲン原子、低級アルキルチオ基、水酸
   基、低級アルカノイルオキシ基、テトラヒドロピラニル
   オキシ基及び低級アルコキシ低級アルコキシ基なる群か
   ら選ばれた置換基を１〜３個有することのあるフェニル
   基を示す。Ａは不飽和鎖状炭化水素残基を示す。〕で表
   わされるエナミン誘導体とを反応させて一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５及びＡ
   は前記に同じ。〕 で表わされるジヒドロピリジン誘導体及びその塩を得る
   ことを特徴とするジヒドロピリジン誘導体の製造法。