JPS6141255U - マスク保護装置 - Google Patents

マスク保護装置

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Publication number
JPS6141255U
JPS6141255U JP1984125270U JP12527084U JPS6141255U JP S6141255 U JPS6141255 U JP S6141255U JP 1984125270 U JP1984125270 U JP 1984125270U JP 12527084 U JP12527084 U JP 12527084U JP S6141255 U JPS6141255 U JP S6141255U
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JP
Japan
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protection device
frame member
mask
mask protection
filter
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JP1984125270U
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JPS6339703Y2 (ja
Inventor
和則 今村
Original Assignee
株式会社ニコン
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Publication date
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Publication of JPS6141255U publication Critical patent/JPS6141255U/ja
Priority to US07/136,427 priority patent/US4833051A/en
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Publication of JPS6339703Y2 publication Critical patent/JPS6339703Y2/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案にかかるペリクルの第１実施例を示す斜
視図、第２図は第１図の装置の■一■線に沿った断面図
、第３図は本考案の第２実施例を示す分解斜視図、第４
図は本考案の第３実施例を示す斜視図、第５図は第４図
の装置の■一■線に沿った断面図、第６図は第４実施例
を示す断面図であ−る。 〔主要部分の符号の説明〕、１００・・・ガラス基板、
１０２・・・パターン領域、１０４，２０４，３０４・
・・ペリクル、１０８，２０８，３０８・・・フレーム
、１１０，２１０，３１０・・・薄膜、１１６，２１６
，３１６・・・通気孔、１１８．２１８・・・拡径部、
１２０・・・段部、１２２，３２２・・・フィルタ。

Claims (4)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. （１）マスク基板のパターン領域を含むように枠部材の
    一方の縁部が該マスク基板上に当接するとともに、マス
    ク基板の表面に対して一定の間隔を有するように枠部材
    の他方の縁部に膜手段が張設されたマスク保護装置にお
    いて、 前記枠部材には少なくとも１つの通気孔が形成され、該
    通気孔には塵埃等の通過を阻止するフィルタ部材が設け
    られていることを特徴とするマスク保護装置。
  2. （２）前記フィルタ部材は、前記通気孔の断面よりも大
    きな形状を有する実用新案登録請求の範囲第１項記載の
    マスク保護装置。
  3. （３）前記フィルタ部材は、前記枠部材の外側から−
    取付けられる実用新案登録請求の範囲第１項又は第２項
    記栽のマスク保護装置。
  4. （４） 前記フィルタは、前記枠部材の中に埋設する
    ように取付けられる実用新案登録請求の範囲第１項ない
    し第３項のいずれかに記載のマスク保護装置。 ．
JP1984125270U 1984-08-20 1984-08-20 マスク保護装置 Granted JPS6141255U (ja)

Priority Applications (2)

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JP1984125270U JPS6141255U (ja) 1984-08-20 1984-08-20 マスク保護装置
US07/136,427 US4833051A (en) 1984-08-20 1987-12-17 Protective device for photographic masks

Applications Claiming Priority (1)

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JP1984125270U JPS6141255U (ja) 1984-08-20 1984-08-20 マスク保護装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6141255U true JPS6141255U (ja) 1986-03-15
JPS6339703Y2 JPS6339703Y2 (ja) 1988-10-18

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JP2004354720A (ja) * 2003-05-29 2004-12-16 Semiconductor Leading Edge Technologies Inc マスク用ペリクル
KR100746864B1 (ko) * 1999-11-08 2007-08-07 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 포토리소그래피 포토마스크의 보호용 프레임식 펠리클

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SG11201701805QA (en) 2014-09-19 2017-04-27 Mitsui Chemicals Inc Pellicle, production method thereof, exposure method
WO2016043301A1 (ja) 2014-09-19 2016-03-24 三井化学株式会社 ペリクル、ペリクルの製造方法及びペリクルを用いた露光方法

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