JP2004354720A - マスク用ペリクル - Google Patents
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Abstract
【課題】ペリクル枠のコーナー部における不活性ガスを置換されやすくし、短時間で効率よくペリクル内を不活性ガスで置換する。
【解決手段】四角形のペリクル枠の上端面にペリクル板を接着し、ペリクル枠の四隅近傍に、それぞれ、ペリクルの内部と外部を連通する通気部が設けられている。ここで、通気部は、ペリクル枠に設けられた通気孔であることが好ましい。または、通気部は、ペリクル枠に設けられた切り欠きであることが好ましい
【選択図】 図１
【解決手段】四角形のペリクル枠の上端面にペリクル板を接着し、ペリクル枠の四隅近傍に、それぞれ、ペリクルの内部と外部を連通する通気部が設けられている。ここで、通気部は、ペリクル枠に設けられた通気孔であることが好ましい。または、通気部は、ペリクル枠に設けられた切り欠きであることが好ましい
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、四角形のペリクル枠の上端面にペリクル板を接着したマスク用ペリクルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＬＳＩなどの半導体装置の製造における露光パターンニングの際に、パターンが形成されたマスクを介して半導体基板に対してレーザ光の照射が行われる。従って、パターニングの精度は、マスクパターンの精度に依存することが多い。
【０００３】
しかし、マスクのパターン形成面にゴミなどが付着すると、半導体基板上に形成されるパターン像が所定のものから変形したものとなる。このような不都合の発生を防止するために、マスクのパターン形成面には、ペリクルが設けられる。
【０００４】
このペリクルは、フォトマスクのパターン形成面上において、パターンの周囲に配置された所望の高さのペリクル枠と、このペリクル枠の上端面にマスクパターン形成面とほぼ平行に接合されたペリクル膜を有する。
【０００５】
ところで、波長１５７ｎｍのレーザ光を用いて露光パターニングを実施した場合、大気中の酸素や水分によって光が吸収を受けるため、露光光路を窒素又はヘリウム等の不活性ガスで満たし、酸素や水分を１ｐｐｍ以下にする必要がある。そして、ペリクルとレチクル間においても、同様の雰囲気が必要であり、側面に通気孔と排気孔を設けたペリクルが提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２及び特許文献３参照）。
【０００６】
【特許文献１】
特開平９−１９７６５２号公報（第３頁、第１−３図）
【特許文献２】
特開２００１−１３３９６０号公報（第３−４頁、第１図）
【特許文献３】
特開２００１−１３３９６１号公報（第３−４頁、第１図）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来のペリクルは、コーナー部において不活性ガスの置換がされにくく、ペリクル内を不活性ガスで置換するために時間がかかり、置換の効率が悪いという問題があった。
【０００８】
この発明は、このような課題を解決するためになされたもので、その目的は、ペリクル枠のコーナー部における不活性ガスを置換されやすくし、短時間で効率よくペリクル内を不活性ガスで置換することができるペリクルを得るものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
この発明に係るマスク用ペリクルは、四角形のペリクル枠の上端面にペリクル板を接着し、ペリクル枠の四隅近傍に、それぞれ、ペリクルの内部と外部を連通する通気部が設けられている。この発明のその他の特徴は以下に明らかにする。
【００１０】
【発明の実施の形態】
実施の形態１．
図１はこの発明の実施の形態１におけるマスク用ペリクルを示す図である。図示は省略するが、平行平板からなるマスク１１の上端面には、クロム膜などにより所望のマスクパターンが形成されている。
【００１１】
そして、マスク１１の上端面には、マスクパターンを囲むように配置された四角形のペリクル枠１２の下端面が、接着剤層を介して接合されている。さらに、ペリクル枠１２の上端面に、透光性薄板であるペリクル板１３が取り付けられている。このペリクル枠１２とペリクル板１３により、マスク用ペリクルが構成される。
【００１２】
そして、ペリクル枠１２の四隅近傍に、それぞれ、ペリクルの内部と外部を連通する通気部である通気孔１４が設けられている。この通気孔１４は、排気効率とペリクル枠１２の強度を考慮し、直径０．１〜０．５ｍｍの円形の孔として設けられている。
【００１３】
これにより、波長１５７ｎｍのレーザ光を用いた露光パターニングを行う前に、露光光路を窒素又はヘリウム等の不活性ガスで満たす際、ペリクル枠のコーナー部における不活性ガスを置換されやすくし、短時間で効率よくペリクル内を不活性ガスで置換することができる。
【００１４】
なお、上記の例では、通気孔１４は、ペリクル枠１２の四辺のそれぞれに一つずつ形成されている。しかし、これに限らず、ペリクル枠１２の短辺に通気孔を設けず、長辺の両端にそれぞれ一つずつ通気孔を設けてもよい。また、ペリクル枠１２の四辺のそれぞれの両端に一つずつ通気孔を設けてもよい。そして、ペリクル枠１２の四隅近傍に、それぞれ、二つ以上の通気孔を設けてもよい。
【００１５】
また、通気孔の直径や形状は上記の例に限られず、必要に応じて、適宜設定できる。そして、通気孔に、異物を捕集するフィルターを設けてもよい。
【００１６】
実施の形態２．
図２はこの発明の実施の形態２におけるマスク用ペリクルを示す図である。図１と同じ構成要素には同じ番号を付し、説明は省略する。この実施の形態２のマスク用ペリクルは、実施の形態１と同様に、四角形のペリクル枠２１の上端面にペリクル板１３を接着したマスク用ペリクルにおいて、ペリクル枠２１の四隅近傍に、それぞれ、ペリクルの内部と外部を連通する通気部が設けられている。
【００１７】
ただし、この通気部は、実施の形態１とは異なり、ペリクル枠２１に設けられた切り欠き２２である。この切り欠き２２は、ペリクル枠２１を金型でプレス加工する際に同時に形成することができる。
【００１８】
よって、実施の形態２は、実施の形態１と同様の効果を有する他、通気部を形成するための追加の製造工程を必要としないという利点もある。
【００１９】
実施の形態３．
図３はこの発明の実施の形態３におけるマスク用ペリクルを示す図である。図１と同じ構成要素には同じ番号を付し、説明は省略する。図３に示すように、実施の形態３のマスク用ペリクルは、実施の形態１と同様に、四角形のペリクル枠３１の上端面にペリクル板１３を接着したマスク用ペリクルにおいて、ペリクル枠３１の四隅近傍に、それぞれ、ペリクルの内部と外部を連通する通気部が設けられている。
【００２０】
ただし、この通気部は、実施の形態１とは異なり、ペリクル枠３１の四隅に補強の為に設けられている補強部材３２に形成された通気孔３３である。このように補強部材３２を設けたことにより、通気孔３３をペリクル枠３１の四隅に形成することができる。これにより、実施の形態３は、実施の形態１よりもペリクル枠のコーナー部における不活性ガスを置換されやすくし、更に短時間で効率よくペリクル内を不活性ガスで置換することができる。
【００２１】
実施の形態４．
図４はこの発明の実施の形態４におけるマスク用ペリクルを示す図である。図１と同じ構成要素には同じ番号を付し、説明は省略する。図４（ａ）に示すように、実施の形態４のマスク用ペリクルは、実施の形態１と同様に、四角形のペリクル枠４１の上端面にペリクル板１３を接着したマスク用ペリクルにおいて、ペリクル枠４１の四隅近傍に、それぞれ、ペリクルの内部と外部を連通する通気部が設けられている。
【００２２】
ただし、この通気部は、実施の形態１とは異なり、ペリクル枠４１の四隅に補強の為に設けられている補強部材４２に形成された通気孔４３である。
【００２３】
ここで、図４（ａ）のＡ−Ｂでの断面図を図４（ｂ）に示す。この図に示すように、マスク１１の上端面に、補強部材４２の下端面が接着剤層４４を介して接合されている。そして、通気孔４３は、補強部材４２の上端面からペリクル枠４１の内側側面へ開通している。
【００２４】
このように補強部材４２を設けたことにより、通気孔４３をペリクル枠４１の四隅に形成することができる。これにより、実施の形態４は、実施の形態３と同様の効果を有する。
【００２５】
【発明の効果】
この発明は以上説明したように、ペリクル枠のコーナー部における不活性ガスを置換されやすくし、短時間で効率よくペリクル内を不活性ガスで置換することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施の形態１におけるマスク用ペリクルを示す図である。
【図２】この発明の実施の形態２におけるマスク用ペリクルを示す図である。
【図３】この発明の実施の形態３におけるマスク用ペリクルを示す図である。
【図４】この発明の実施の形態４におけるマスク用ペリクルを示す図である。
【符号の説明】
１１ マスク
１２ ペリクル枠
１３ ペリクル板
１４ 通気孔（通気部）
２１ ペリクル枠
２２ 切り欠き（通気部）
３１ ペリクル枠
３３ 通気孔（通気部）
４１ ペリクル枠
４３ 通気孔（通気部）
【発明の属する技術分野】
この発明は、四角形のペリクル枠の上端面にペリクル板を接着したマスク用ペリクルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＬＳＩなどの半導体装置の製造における露光パターンニングの際に、パターンが形成されたマスクを介して半導体基板に対してレーザ光の照射が行われる。従って、パターニングの精度は、マスクパターンの精度に依存することが多い。
【０００３】
しかし、マスクのパターン形成面にゴミなどが付着すると、半導体基板上に形成されるパターン像が所定のものから変形したものとなる。このような不都合の発生を防止するために、マスクのパターン形成面には、ペリクルが設けられる。
【０００４】
このペリクルは、フォトマスクのパターン形成面上において、パターンの周囲に配置された所望の高さのペリクル枠と、このペリクル枠の上端面にマスクパターン形成面とほぼ平行に接合されたペリクル膜を有する。
【０００５】
ところで、波長１５７ｎｍのレーザ光を用いて露光パターニングを実施した場合、大気中の酸素や水分によって光が吸収を受けるため、露光光路を窒素又はヘリウム等の不活性ガスで満たし、酸素や水分を１ｐｐｍ以下にする必要がある。そして、ペリクルとレチクル間においても、同様の雰囲気が必要であり、側面に通気孔と排気孔を設けたペリクルが提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２及び特許文献３参照）。
【０００６】
【特許文献１】
特開平９−１９７６５２号公報（第３頁、第１−３図）
【特許文献２】
特開２００１−１３３９６０号公報（第３−４頁、第１図）
【特許文献３】
特開２００１−１３３９６１号公報（第３−４頁、第１図）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来のペリクルは、コーナー部において不活性ガスの置換がされにくく、ペリクル内を不活性ガスで置換するために時間がかかり、置換の効率が悪いという問題があった。
【０００８】
この発明は、このような課題を解決するためになされたもので、その目的は、ペリクル枠のコーナー部における不活性ガスを置換されやすくし、短時間で効率よくペリクル内を不活性ガスで置換することができるペリクルを得るものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
この発明に係るマスク用ペリクルは、四角形のペリクル枠の上端面にペリクル板を接着し、ペリクル枠の四隅近傍に、それぞれ、ペリクルの内部と外部を連通する通気部が設けられている。この発明のその他の特徴は以下に明らかにする。
【００１０】
【発明の実施の形態】
実施の形態１．
図１はこの発明の実施の形態１におけるマスク用ペリクルを示す図である。図示は省略するが、平行平板からなるマスク１１の上端面には、クロム膜などにより所望のマスクパターンが形成されている。
【００１１】
そして、マスク１１の上端面には、マスクパターンを囲むように配置された四角形のペリクル枠１２の下端面が、接着剤層を介して接合されている。さらに、ペリクル枠１２の上端面に、透光性薄板であるペリクル板１３が取り付けられている。このペリクル枠１２とペリクル板１３により、マスク用ペリクルが構成される。
【００１２】
そして、ペリクル枠１２の四隅近傍に、それぞれ、ペリクルの内部と外部を連通する通気部である通気孔１４が設けられている。この通気孔１４は、排気効率とペリクル枠１２の強度を考慮し、直径０．１〜０．５ｍｍの円形の孔として設けられている。
【００１３】
これにより、波長１５７ｎｍのレーザ光を用いた露光パターニングを行う前に、露光光路を窒素又はヘリウム等の不活性ガスで満たす際、ペリクル枠のコーナー部における不活性ガスを置換されやすくし、短時間で効率よくペリクル内を不活性ガスで置換することができる。
【００１４】
なお、上記の例では、通気孔１４は、ペリクル枠１２の四辺のそれぞれに一つずつ形成されている。しかし、これに限らず、ペリクル枠１２の短辺に通気孔を設けず、長辺の両端にそれぞれ一つずつ通気孔を設けてもよい。また、ペリクル枠１２の四辺のそれぞれの両端に一つずつ通気孔を設けてもよい。そして、ペリクル枠１２の四隅近傍に、それぞれ、二つ以上の通気孔を設けてもよい。
【００１５】
また、通気孔の直径や形状は上記の例に限られず、必要に応じて、適宜設定できる。そして、通気孔に、異物を捕集するフィルターを設けてもよい。
【００１６】
実施の形態２．
図２はこの発明の実施の形態２におけるマスク用ペリクルを示す図である。図１と同じ構成要素には同じ番号を付し、説明は省略する。この実施の形態２のマスク用ペリクルは、実施の形態１と同様に、四角形のペリクル枠２１の上端面にペリクル板１３を接着したマスク用ペリクルにおいて、ペリクル枠２１の四隅近傍に、それぞれ、ペリクルの内部と外部を連通する通気部が設けられている。
【００１７】
ただし、この通気部は、実施の形態１とは異なり、ペリクル枠２１に設けられた切り欠き２２である。この切り欠き２２は、ペリクル枠２１を金型でプレス加工する際に同時に形成することができる。
【００１８】
よって、実施の形態２は、実施の形態１と同様の効果を有する他、通気部を形成するための追加の製造工程を必要としないという利点もある。
【００１９】
実施の形態３．
図３はこの発明の実施の形態３におけるマスク用ペリクルを示す図である。図１と同じ構成要素には同じ番号を付し、説明は省略する。図３に示すように、実施の形態３のマスク用ペリクルは、実施の形態１と同様に、四角形のペリクル枠３１の上端面にペリクル板１３を接着したマスク用ペリクルにおいて、ペリクル枠３１の四隅近傍に、それぞれ、ペリクルの内部と外部を連通する通気部が設けられている。
【００２０】
ただし、この通気部は、実施の形態１とは異なり、ペリクル枠３１の四隅に補強の為に設けられている補強部材３２に形成された通気孔３３である。このように補強部材３２を設けたことにより、通気孔３３をペリクル枠３１の四隅に形成することができる。これにより、実施の形態３は、実施の形態１よりもペリクル枠のコーナー部における不活性ガスを置換されやすくし、更に短時間で効率よくペリクル内を不活性ガスで置換することができる。
【００２１】
実施の形態４．
図４はこの発明の実施の形態４におけるマスク用ペリクルを示す図である。図１と同じ構成要素には同じ番号を付し、説明は省略する。図４（ａ）に示すように、実施の形態４のマスク用ペリクルは、実施の形態１と同様に、四角形のペリクル枠４１の上端面にペリクル板１３を接着したマスク用ペリクルにおいて、ペリクル枠４１の四隅近傍に、それぞれ、ペリクルの内部と外部を連通する通気部が設けられている。
【００２２】
ただし、この通気部は、実施の形態１とは異なり、ペリクル枠４１の四隅に補強の為に設けられている補強部材４２に形成された通気孔４３である。
【００２３】
ここで、図４（ａ）のＡ−Ｂでの断面図を図４（ｂ）に示す。この図に示すように、マスク１１の上端面に、補強部材４２の下端面が接着剤層４４を介して接合されている。そして、通気孔４３は、補強部材４２の上端面からペリクル枠４１の内側側面へ開通している。
【００２４】
このように補強部材４２を設けたことにより、通気孔４３をペリクル枠４１の四隅に形成することができる。これにより、実施の形態４は、実施の形態３と同様の効果を有する。
【００２５】
【発明の効果】
この発明は以上説明したように、ペリクル枠のコーナー部における不活性ガスを置換されやすくし、短時間で効率よくペリクル内を不活性ガスで置換することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施の形態１におけるマスク用ペリクルを示す図である。
【図２】この発明の実施の形態２におけるマスク用ペリクルを示す図である。
【図３】この発明の実施の形態３におけるマスク用ペリクルを示す図である。
【図４】この発明の実施の形態４におけるマスク用ペリクルを示す図である。
【符号の説明】
１１ マスク
１２ ペリクル枠
１３ ペリクル板
１４ 通気孔（通気部）
２１ ペリクル枠
２２ 切り欠き（通気部）
３１ ペリクル枠
３３ 通気孔（通気部）
４１ ペリクル枠
４３ 通気孔（通気部）
Claims (3)
- 四角形のペリクル枠の上端面にペリクル板を接着したマスク用ペリクルにおいて、前記ペリクル枠の四隅近傍に、それぞれ、ペリクルの内部と外部を連通する通気部が設けられていることを特徴とするマスク用ペリクル。
- 前記通気部は、前記ペリクル枠に設けられた通気孔であることを特徴とする請求項１記載のマスク用ペリクル。
- 前記通気部は、前記ペリクル枠に設けられた切り欠きであることを特徴とする請求項１記載のマスク用ペリクル。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003152629A JP2004354720A (ja) | 2003-05-29 | 2003-05-29 | マスク用ペリクル |
| KR1020040038005A KR20040103384A (ko) | 2003-05-29 | 2004-05-28 | 마스크용 펠리클 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003152629A JP2004354720A (ja) | 2003-05-29 | 2003-05-29 | マスク用ペリクル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004354720A true JP2004354720A (ja) | 2004-12-16 |
Family
ID=34047791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003152629A Pending JP2004354720A (ja) | 2003-05-29 | 2003-05-29 | マスク用ペリクル |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004354720A (ja) |
| KR (1) | KR20040103384A (ja) |
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| JP2011186327A (ja) * | 2010-03-10 | 2011-09-22 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 大型ペリクル用枠体、及び大型ペリクル |
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