JPS6130549A - ビシクロオクタン化合物 - Google Patents
ビシクロオクタン化合物Info
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- JPS6130549A JPS6130549A JP59152579A JP15257984A JPS6130549A JP S6130549 A JPS6130549 A JP S6130549A JP 59152579 A JP59152579 A JP 59152579A JP 15257984 A JP15257984 A JP 15257984A JP S6130549 A JPS6130549 A JP S6130549A
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- Japan
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- compound
- reaction
- group
- solvent
- acid
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pyrane Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の目的)
本発明は強い血小板凝集阻害作用等を有し。
さらに、その作用の持続性が優れているカルバサイクリ
ン訪導体の合成中間体に関するものである。
ン訪導体の合成中間体に関するものである。
最近、強力な血小板凝集阻害作用を表わすグロスタサイ
クリン(PGI2)が発見されてその生理作用が注目さ
れ、数多くのグループによってその類縁化合物の研究が
なされているが、本発明者等はα−側鎖に酸素原子又は
硫黄原子を有する新規なカルバサイクリン類を合成し、
薬理活性を検討したところ、これらの誘導体、例えば次
式(1)の化合物はすぐれた血小板凝集阻害作用等を有
し、その作用の持続性が優れてい−ることを見出した。
クリン(PGI2)が発見されてその生理作用が注目さ
れ、数多くのグループによってその類縁化合物の研究が
なされているが、本発明者等はα−側鎖に酸素原子又は
硫黄原子を有する新規なカルバサイクリン類を合成し、
薬理活性を検討したところ、これらの誘導体、例えば次
式(1)の化合物はすぐれた血小板凝集阻害作用等を有
し、その作用の持続性が優れてい−ることを見出した。
OHOH
そして、本発明者等は化合物0)等の合成法につ〜・て
鋭意検討し、合成中間体として有用な化合物を見出して
、本発明を完成した。
鋭意検討し、合成中間体として有用な化合物を見出して
、本発明を完成した。
(発明の構成)
本発明に係る合成中間体は一般式(1)を有する化合物
である。
である。
上記式中、nlは保詭されていてもよい ヒドロキシメ
チル基、保熱されていてもよいメルカプトメチル基又は
式−h −(OH2)nn−几3基(式中。
チル基、保熱されていてもよいメルカプトメチル基又は
式−h −(OH2)nn−几3基(式中。
R6は保画されていてもよいヒドロキシメチル基又は保
設されていてもよいカルボキシ基を示し、人は酸素原子
又は硫黄原子を示し、mは1乃至3の整数を示す。)を
示し、R2は水素原子又は水酸基の保護基を示し、nは
1乃至3の整数な示す。
設されていてもよいカルボキシ基を示し、人は酸素原子
又は硫黄原子を示し、mは1乃至3の整数を示す。)を
示し、R2は水素原子又は水酸基の保護基を示し、nは
1乃至3の整数な示す。
R1若しくはR5のヒドロメチル基の保護基、又はR2
の水酸基の保護基とし4ては、 通常使用される水酸基
の保1i基なら特に限定されないが、例えばアセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ベンゾイル、
ナ゛フトイルのような低級脂肪誤着しくは芳香族アシル
基;ベンジル、p−ニトロベンジル、p−メトキシベン
ジ、II/ t。
の水酸基の保護基とし4ては、 通常使用される水酸基
の保1i基なら特に限定されないが、例えばアセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ベンゾイル、
ナ゛フトイルのような低級脂肪誤着しくは芳香族アシル
基;ベンジル、p−ニトロベンジル、p−メトキシベン
ジ、II/ t。
ようなアラルキル基;2−テトラヒドロピラニル、2−
テトラヒドロフラニル、4−メトキシテトラヒドロピラ
ン−4−イル、2−テトラヒドロチオピラニルのような
アルコキシ基を置換分として有するか有しない環内に酸
素原子又は硫黄原子を含有する5乃至6員環状の複素環
基;メトキシメチル、エトキシメチル、ベンジルオキシ
メチルのようなアルコキシ基若しくはアラルキルオキシ
基を置換分として有するメチル基;1−メトキシエチル
、1−エトキシエチルのような1−アルコキシエチル基
又はトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリn−
プロピルシリル、t−ブチルジメチルシリル、ジフェル ニルt−ブf”ylJルのようなトリ低級アルキル若し
くはジアリール低?ジアルキルシリル茫をあげることが
でき、好i:1にはR1又はR5におけるヒドロキシメ
チル基の仙1:GΦ基がシリル基、アラルキル基又は芳
香族アシル基であり、B、2の水酸基の保t(1基が2
−テトラヒドロピラニル基又は2−テトラヒドロフラニ
ル基である。几1のメルカプトメチル基の保N%Mとし
ては上記のアラルキル基をあげることができる。
テトラヒドロフラニル、4−メトキシテトラヒドロピラ
ン−4−イル、2−テトラヒドロチオピラニルのような
アルコキシ基を置換分として有するか有しない環内に酸
素原子又は硫黄原子を含有する5乃至6員環状の複素環
基;メトキシメチル、エトキシメチル、ベンジルオキシ
メチルのようなアルコキシ基若しくはアラルキルオキシ
基を置換分として有するメチル基;1−メトキシエチル
、1−エトキシエチルのような1−アルコキシエチル基
又はトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリn−
プロピルシリル、t−ブチルジメチルシリル、ジフェル ニルt−ブf”ylJルのようなトリ低級アルキル若し
くはジアリール低?ジアルキルシリル茫をあげることが
でき、好i:1にはR1又はR5におけるヒドロキシメ
チル基の仙1:GΦ基がシリル基、アラルキル基又は芳
香族アシル基であり、B、2の水酸基の保t(1基が2
−テトラヒドロピラニル基又は2−テトラヒドロフラニ
ル基である。几1のメルカプトメチル基の保N%Mとし
ては上記のアラルキル基をあげることができる。
R3のカルボキシ基の保詐基としては、 通常使用され
るカルボキシ基の保護基なら特に限定されないが、例え
ばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、t−ブチルのような低級アルキル基又はフェニ
ル、トリルのようなアリール基をあげることができ、好
適には低級アルキル基である。
るカルボキシ基の保護基なら特に限定されないが、例え
ばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、t−ブチルのような低級アルキル基又はフェニ
ル、トリルのようなアリール基をあげることができ、好
適には低級アルキル基である。
化合物(1ンは平面構造式で表わされているが、環上の
2つの置換基に基づく立体異性体、不斉炭素に基づく光
学異性体を含む。本願発明は特にこれに限定されるもの
ではない。
2つの置換基に基づく立体異性体、不斉炭素に基づく光
学異性体を含む。本願発明は特にこれに限定されるもの
ではない。
本発明に係る化合物(1)は以下の方法に従って容易に
製造される。
製造される。
A法
(11(ffl
(V) (T。
Qω
6荀 (夏
a)B法 (■′)(Q (ト) (至) aO(璽b) 上記式中、R2及びnは前述したものと同意義を示し、
R1は保砕されていてもよいヒドロキシメチル基、保護
されていてもよいメルカプトメチル基又は式−A −(
OH2)m−R8(式中、人及びmは前述したものと同
意義を示し、R8は保護されていて、もよいヒドロキシ
メチル基を示す。)ヲ示し、福は式−人−(OH2)m
−n’基(式中、人及びmは前述したものと同意義を示
し、几9は保護されていてもよいカルボキシ基を示す。
6荀 (夏
a)B法 (■′)(Q (ト) (至) aO(璽b) 上記式中、R2及びnは前述したものと同意義を示し、
R1は保砕されていてもよいヒドロキシメチル基、保護
されていてもよいメルカプトメチル基又は式−A −(
OH2)m−R8(式中、人及びmは前述したものと同
意義を示し、R8は保護されていて、もよいヒドロキシ
メチル基を示す。)ヲ示し、福は式−人−(OH2)m
−n’基(式中、人及びmは前述したものと同意義を示
し、几9は保護されていてもよいカルボキシ基を示す。
)を示し、R4は保護されたヒドロキシメチル基(好適
には、保蝕基はアシル以外の基である。)。
には、保蝕基はアシル以外の基である。)。
保護されたメルカプトメチル基又は式−A −(CH2
)m−R7基(式中、人及びmは前述したものと同意義
を示し、R7はR4と同様の保護されたヒドロキシメチ
ル基を示し、Rはメチル、 エチル、n−プロピル、イ
ングロビル、n−ブチルのような低級アルキル基を示し
、R6は水酸基の保勲基な示す。
)m−R7基(式中、人及びmは前述したものと同意義
を示し、R7はR4と同様の保護されたヒドロキシメチ
ル基を示し、Rはメチル、 エチル、n−プロピル、イ
ングロビル、n−ブチルのような低級アルキル基を示し
、R6は水酸基の保勲基な示す。
A法は化合物(1)において、RがRa、即ち保護され
ていてもよいヒドロキシメチル基、保護されていてもよ
いメルカプトメチル基又は式−A −(OH2)nl−
R8(式中、凡8、A及びmは前述したものと同意義を
示す。)を示す化合物(Ia)を製造する方法である・ 第1工程は一般式(ff)を有するアルコキシカルボニ
ル化合物を製造する工程で、不活性溶剤中、塩基の存在
下、化合物(蓋)を一般式(式中、R5は前述したもの
と同意義を示す。)を有するジアルキルカーボネートな
反応させることによって達成°される。
ていてもよいヒドロキシメチル基、保護されていてもよ
いメルカプトメチル基又は式−A −(OH2)nl−
R8(式中、凡8、A及びmは前述したものと同意義を
示す。)を示す化合物(Ia)を製造する方法である・ 第1工程は一般式(ff)を有するアルコキシカルボニ
ル化合物を製造する工程で、不活性溶剤中、塩基の存在
下、化合物(蓋)を一般式(式中、R5は前述したもの
と同意義を示す。)を有するジアルキルカーボネートな
反応させることによって達成°される。
使用される塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水
素化カリウム≠参のようなアルカリ金属水素化物、メチ
ルリチウム、n−ブチルリチクム、S−プチルリテクム
、フェニルリチウムのような有機リチウム化合物をあげ
ることができるが、好適にはアルカリ金部水素化物であ
る。
素化カリウム≠参のようなアルカリ金属水素化物、メチ
ルリチウム、n−ブチルリチクム、S−プチルリテクム
、フェニルリチウムのような有機リチウム化合物をあげ
ることができるが、好適にはアルカリ金部水素化物であ
る。
使用される不活性溶剤は、反応に関与しなければ特に制
限されないか、好適にはエーテル、テトラヒドロフラン
、ジオキサンのようなエーテル類をあげることができる
。
限されないか、好適にはエーテル、テトラヒドロフラン
、ジオキサンのようなエーテル類をあげることができる
。
反応温度は通常、−10’C:、乃至90セであり、反
応に要する時間は30分間乃至2時間である。
応に要する時間は30分間乃至2時間である。
又、触媒としてエタノール等のアルコールを使用するこ
ともできる。
ともできる。
反応終了後、反応目的物は常法に従って反応混合物から
採取される。例えば、反応混合物を氷水にあけ、所望に
より希酸で酸性とした後。
採取される。例えば、反応混合物を氷水にあけ、所望に
より希酸で酸性とした後。
水不混和性有機溶剤で抽出し、有機溶剤を留去すること
によつ°C得ることができる。
によつ°C得ることができる。
さらK、必要忙応じて、常法1例えばカラムクロマトグ
ラフィー、再結晶法等によりさらに精製することもでき
る。
ラフィー、再結晶法等によりさらに精製することもでき
る。
第2工程は一般式(V)を有するアルコール化合物を製
造する工程で、化合物(ff)を不活性溶剤中、還元剤
と処理することによって達成される。
造する工程で、化合物(ff)を不活性溶剤中、還元剤
と処理することによって達成される。
使用される還元剤としてはカルボニル基のみを水酸基に
変換する還元剤であれば特に限定はなく、例えば水素化
ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ
素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリーtert
−ブトキシアルミニウムリチウム、水素化トリメトキシ
アルミニウムリチウム、水素化シアノホウ素ナトリウム
などの水素化金属化合物又はアルミニウムイソプロポキ
シド、ジインブチル−(2,6−ジ−t−ブチル−4−
メチルフェノキシ)アルミニウムのようなアルミニウム
化合物をあげることができるが、好適には水素化ホウ素
ナトリウムである。
変換する還元剤であれば特に限定はなく、例えば水素化
ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ
素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリーtert
−ブトキシアルミニウムリチウム、水素化トリメトキシ
アルミニウムリチウム、水素化シアノホウ素ナトリウム
などの水素化金属化合物又はアルミニウムイソプロポキ
シド、ジインブチル−(2,6−ジ−t−ブチル−4−
メチルフェノキシ)アルミニウムのようなアルミニウム
化合物をあげることができるが、好適には水素化ホウ素
ナトリウムである。
使用される不活性溶剤は反応に関与しなければ特に限定
されないが、例えばメタノール、エタノール、n−プロ
パツール、n−ブタノール、t−ブタノールのようなア
ルコール類又はエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類又はこれらの混合溶剤をあげる
ことができるが、好適にはアルコール類、特にメタノー
ルである。
されないが、例えばメタノール、エタノール、n−プロ
パツール、n−ブタノール、t−ブタノールのようなア
ルコール類又はエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類又はこれらの混合溶剤をあげる
ことができるが、好適にはアルコール類、特にメタノー
ルである。
反応温度は通常0℃乃至室温であり、反応に要する時間
は反応試剤、反応温度等により異なるが10分間乃至2
時間である。
は反応試剤、反応温度等により異なるが10分間乃至2
時間である。
反応終了後、本工程の目的化合物鴫常法に従って、反応
混合物から採取される。例えば反応終了後、溶剤を減圧
下で留去し、氷水を加えて水不混和性有機溶剤で抽出し
、有機溶剤を留去することによって得られる。
混合物から採取される。例えば反応終了後、溶剤を減圧
下で留去し、氷水を加えて水不混和性有機溶剤で抽出し
、有機溶剤を留去することによって得られる。
第3工程は一般式(Vl)を有する化合物を製造する工
程であり、前記一般式(V)を有する化合物の水酸基を
保設することによって達成される。
程であり、前記一般式(V)を有する化合物の水酸基を
保設することによって達成される。
反応は常法に従って化合物(V)を保護基を形成する化
合物と接触させることによって行なわれる。使用される
保岐基を形成する化合物としては例えば酢酸、プロピオ
ン酸、酪酸、安息香酸、ナフタリンカルボン酸のような
カルボン酸若しくはその反応性誘導体:ベンジルクロリ
ド、ベンジルプロミド、p−ニトロベンジルプロミド、
p−メトキシベンジルプロミドのよりなアラルキルハラ
イド化合物;ジヒドロビラン、ジヒドロチオビラン、ジ
ヒドロチオフェン、4−メトキシ−5,6−シヒドロー
(2H) ビランのよりな5若しくは6員環状の複素
環化合物;メトキシメチルクロリド、エトキンエチルク
ロリド、ベンジルオキシメチルクロリドのようなアルコ
キシ若シくはアラルキルオキシ置換アルキルハライド化
合物;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテルの
ような不飽和エーテル類;ヘキサメチルジシラサン、ト
リメチルシリルクロリ+’、トリーn−プロピルシリル
クロ’) )+、”−ブチルジメチルシリルクロリド、
ジフェニルt−ブチルシリルクロリドのようなシリル化
合物などをあげることができるが、第4工程の反応を考
慮すると、好適な化合物としてアラルキルハライド化合
物、5又は6員環複素環化合物、アルコキシ若しくはア
ラルキルオキシ置換アルキルハライド、不飽和エーテル
類又はシリル化合物をあげることができる。
合物と接触させることによって行なわれる。使用される
保岐基を形成する化合物としては例えば酢酸、プロピオ
ン酸、酪酸、安息香酸、ナフタリンカルボン酸のような
カルボン酸若しくはその反応性誘導体:ベンジルクロリ
ド、ベンジルプロミド、p−ニトロベンジルプロミド、
p−メトキシベンジルプロミドのよりなアラルキルハラ
イド化合物;ジヒドロビラン、ジヒドロチオビラン、ジ
ヒドロチオフェン、4−メトキシ−5,6−シヒドロー
(2H) ビランのよりな5若しくは6員環状の複素
環化合物;メトキシメチルクロリド、エトキンエチルク
ロリド、ベンジルオキシメチルクロリドのようなアルコ
キシ若シくはアラルキルオキシ置換アルキルハライド化
合物;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテルの
ような不飽和エーテル類;ヘキサメチルジシラサン、ト
リメチルシリルクロリ+’、トリーn−プロピルシリル
クロ’) )+、”−ブチルジメチルシリルクロリド、
ジフェニルt−ブチルシリルクロリドのようなシリル化
合物などをあげることができるが、第4工程の反応を考
慮すると、好適な化合物としてアラルキルハライド化合
物、5又は6員環複素環化合物、アルコキシ若しくはア
ラルキルオキシ置換アルキルハライド、不飽和エーテル
類又はシリル化合物をあげることができる。
カルボン酸化合物を使用する場合には、ジシクロヘキシ
ルカルボジイミドのような縮合剤の存在下に好適に行わ
れる◎ カルボン酸の反応性誘導体としては、例えば酢酸クロリ
ド、酢酸プロミド、ベンゾイルクロリド、ベンゾイルプ
ロミド、ナフトイルクロリドのような酸ハライド化合物
又は無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸のよう
な酸無水物をあげることができ、本誘導体を使用する場
合には、トリエチルアミン、ビーリジン、4−ジメチル
アミノピリジン、キノリン、N、N−ジメチルアニリン
のような有機煤基の存在下に好適に行われる。
ルカルボジイミドのような縮合剤の存在下に好適に行わ
れる◎ カルボン酸の反応性誘導体としては、例えば酢酸クロリ
ド、酢酸プロミド、ベンゾイルクロリド、ベンゾイルプ
ロミド、ナフトイルクロリドのような酸ハライド化合物
又は無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸のよう
な酸無水物をあげることができ、本誘導体を使用する場
合には、トリエチルアミン、ビーリジン、4−ジメチル
アミノピリジン、キノリン、N、N−ジメチルアニリン
のような有機煤基の存在下に好適に行われる。
本反応は溶剤の存在下で行われる。使用される溶剤とし
ては1例えばベンゼン、トルエン、キシレン、n−ヘキ
サンのような炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム
、四塩化炭素、クロルベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類をあげることができるが、好適には炭化水
素類である。
ては1例えばベンゼン、トルエン、キシレン、n−ヘキ
サンのような炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム
、四塩化炭素、クロルベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類をあげることができるが、好適には炭化水
素類である。
反応温度は通常O℃〜100℃であり1反応に要する時
間は反応試剤、反応温度、溶剤等により異なるが、30
分間乃至6時間である。
間は反応試剤、反応温度、溶剤等により異なるが、30
分間乃至6時間である。
アシルキルハライド化合物、アルコキシ若しくはアラル
キルオキシ置換アシキルハライド化合物又はシリル化合
物を使用する場合には、不活性情剤中化合物(V)を水
素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金D
1水素化物と反応させ、化合物(V)のアルカリ金鴇塩
を製造した後に、相当するノ・ライド化合物又はジシラ
ザンのようなシリル化試薬を反応させることによって達
成される。
キルオキシ置換アシキルハライド化合物又はシリル化合
物を使用する場合には、不活性情剤中化合物(V)を水
素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金D
1水素化物と反応させ、化合物(V)のアルカリ金鴇塩
を製造した後に、相当するノ・ライド化合物又はジシラ
ザンのようなシリル化試薬を反応させることによって達
成される。
使用する不活、性溶剤は反応に関与しなければ特に限定
されないが、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリルトリア
ミドのようなアミド類、アセトニトリル、ベンゾニトリ
ルのようなニトリル類又はジメチルスルホキシドのよう
なスルホキシド類をあげることができるが、好適にはア
ミド類である。
されないが、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリルトリア
ミドのようなアミド類、アセトニトリル、ベンゾニトリ
ルのようなニトリル類又はジメチルスルホキシドのよう
なスルホキシド類をあげることができるが、好適にはア
ミド類である。
反応温度は0℃乃至100℃であり、反応に要する時間
は反応試剤、反応温度等により異なるが通常10分間乃
至3時間である。
は反応試剤、反応温度等により異なるが通常10分間乃
至3時間である。
又、トリエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミ7
ノビリジンのような有機塩基又は水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸カリウムのような無機塩基の存在下
K、化合物(V)と相当するハライド化合物を反応させ
ることもできる。
ノビリジンのような有機塩基又は水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸カリウムのような無機塩基の存在下
K、化合物(V)と相当するハライド化合物を反応させ
ることもできる。
5若しくは6員環状の複素環化合物又は不飽和エーテル
類を使用する場合には1反応は不活性溶剤の存在下又は
不存在下少量の酸、例えば塩酸、臭化水素酸のような鉱
酸またはピクリン酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスル
ホン酸。
類を使用する場合には1反応は不活性溶剤の存在下又は
不存在下少量の酸、例えば塩酸、臭化水素酸のような鉱
酸またはピクリン酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスル
ホン酸。
p−トルエンスルホン酸、カンファースルホ/酸のよう
な有機酸の存在下で実施される。
な有機酸の存在下で実施される。
使用される溶剤としては反応に関与しなければ゛特に制
限されないが、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類、塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類又は
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類をあげることができるが、好適にはノ・ロゲン化炭化
水素類である。又、不活性溶剤の不存在下、溶剤を兼ね
て複素環化合物又はビニルエーテル化合物を過剰に使用
するととkよっても反応は行われる。
限されないが、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類、塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類又は
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類をあげることができるが、好適にはノ・ロゲン化炭化
水素類である。又、不活性溶剤の不存在下、溶剤を兼ね
て複素環化合物又はビニルエーテル化合物を過剰に使用
するととkよっても反応は行われる。
反応温度は通常0℃乃至se tであり、反応に要する
時間は反応試剤、反応温度等により異なるが、30分間
乃至3時間である。
時間は反応試剤、反応温度等により異なるが、30分間
乃至3時間である。
以上の各反応路γ後、水酸基の保諭された目的化合物は
常法に従って反応混合物から採取される。例えば1反応
混合物を氷水にあけ不溶物が存在する場合にはr別した
後、溶液が酸性又はアルカリ性の場合には適宜中和し、
水不混和性有機溶剤で抽出した後、溶剤を留去するとと
Kより得ることができる。さらに必要ならば常法、例え
ば力2ムクロマトグラフイー、薄層クロマトグラフィー
、基結晶法などを用いてさらに精製することができる。
常法に従って反応混合物から採取される。例えば1反応
混合物を氷水にあけ不溶物が存在する場合にはr別した
後、溶液が酸性又はアルカリ性の場合には適宜中和し、
水不混和性有機溶剤で抽出した後、溶剤を留去するとと
Kより得ることができる。さらに必要ならば常法、例え
ば力2ムクロマトグラフイー、薄層クロマトグラフィー
、基結晶法などを用いてさらに精製することができる。
第4工程は一般式(■)を有するヒドロキシメチル化合
物を製造する工程で不活性溶剤中、化合物(η)を還元
剤と処理することによって達成される。
物を製造する工程で不活性溶剤中、化合物(η)を還元
剤と処理することによって達成される。
使用される還元剤としては、アルコキシカルボニル基を
ヒドロキシメチル基に還元するものなら特に制限されな
いが、好適には、水素化リチウムアルミニウム、水素化
ホウ素リチウムのようなリチウム水素化合物、水素化ジ
インブチルアルミニウム、水素化ジイソプロピルアルミ
ニウムのような水素化アルミニウム化合物をあげること
ができる。
ヒドロキシメチル基に還元するものなら特に制限されな
いが、好適には、水素化リチウムアルミニウム、水素化
ホウ素リチウムのようなリチウム水素化合物、水素化ジ
インブチルアルミニウム、水素化ジイソプロピルアルミ
ニウムのような水素化アルミニウム化合物をあげること
ができる。
使用される不活性溶剤としては、反応に関与しなければ
特に制限されないが、好適にはエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン、キシン/のような芳香族炭化水素類をあげるこ
とができる。
特に制限されないが、好適にはエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン、キシン/のような芳香族炭化水素類をあげるこ
とができる。
反応温度は通常、−70℃乃至50℃であり、反応に要
する時間は30分間乃至5時間である。
する時間は30分間乃至5時間である。
本反応においてR6がアシル基の場合には同時に除去さ
れるが′、後述するように1級アルコール、2級アルコ
ールの反応性を利用して、2級アルコールのみを保護す
ることもできる。
れるが′、後述するように1級アルコール、2級アルコ
ールの反応性を利用して、2級アルコールのみを保護す
ることもできる。
反応終了後、反応目的物は常法に従って反応混合物から
採取される。例えば、反応混合物を氷水にあけ、水不混
和性有機溶剤で抽出し、有機溶剤を留去することによっ
て得ることができる。
採取される。例えば、反応混合物を氷水にあけ、水不混
和性有機溶剤で抽出し、有機溶剤を留去することによっ
て得ることができる。
さらに、必要に応じて、常法、例えばカラムクロマトグ
ラフィー、再結晶法等によりさらに精製することもでき
る。
ラフィー、再結晶法等によりさらに精製することもでき
る。
第5工程は一般式(vl)を有するホルミル体を製造す
る工程で、化合物(■)を酸化することによって達成さ
れる。
る工程で、化合物(■)を酸化することによって達成さ
れる。
本反応は1級アルコールをアルデヒドに酸化する通常の
方法に従って行われる。
方法に従って行われる。
使用される酸化剤としては例えば無水クロム酸、無水ク
ロム酸−ビリジン錯塩(Ool 1ins 試薬)、
無水クロム酸−濃硫酸−水(Jones試薬)、重クロ
ム酸ナトリウム、重クロム酸カリウムなどのクロム酸類
;N−ブロムアセトアミド、N−ブロムスクシンイミド
、 N−フロムフタルイミ)’、N−10ルーp−)ル
エンスルホンアミド、N−クロルベンゼンスルホンアミ
ドなどの有機活性ハロゲン化合物;アルミニウムーtc
r を−ブトキシド、アルミニウムイソプロポキシドな
どのアルミニウムアルコキシド類;ジメチルスルホキシ
ド−ジシクロカルポジイミド;ピリジン−無水硫酸など
が好適に用いられる。
ロム酸−ビリジン錯塩(Ool 1ins 試薬)、
無水クロム酸−濃硫酸−水(Jones試薬)、重クロ
ム酸ナトリウム、重クロム酸カリウムなどのクロム酸類
;N−ブロムアセトアミド、N−ブロムスクシンイミド
、 N−フロムフタルイミ)’、N−10ルーp−)ル
エンスルホンアミド、N−クロルベンゼンスルホンアミ
ドなどの有機活性ハロゲン化合物;アルミニウムーtc
r を−ブトキシド、アルミニウムイソプロポキシドな
どのアルミニウムアルコキシド類;ジメチルスルホキシ
ド−ジシクロカルポジイミド;ピリジン−無水硫酸など
が好適に用いられる。
反応は、不活性有機溶剤中で、好適に行われ、使用され
溶剤としては1例えばメチレンクロリド、クロロホルム
、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、エーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類
、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類又は
ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類をあげる
ことができる。
溶剤としては1例えばメチレンクロリド、クロロホルム
、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、エーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類
、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類又は
ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類をあげる
ことができる。
反応温度は0℃乃至室温であり、反応に要する時間は通
常30分間乃至3時間である。
常30分間乃至3時間である。
反応紙工後、目的のホルミル化合物は常法に従って反応
混合物から採取される。例えば反応終了後、不溶物が存
在する場合にはf別して、氷水にあけ、適宜中和した後
、水不混和性有機溶剤で抽出し、溶剤を留去することに
よって得ることができる。
混合物から採取される。例えば反応終了後、不溶物が存
在する場合にはf別して、氷水にあけ、適宜中和した後
、水不混和性有機溶剤で抽出し、溶剤を留去することに
よって得ることができる。
さらに、必要に応じて、常法、例えばカラムクロマトグ
ラフィー、再結晶法等によりさらに精製することもでき
る。
ラフィー、再結晶法等によりさらに精製することもでき
る。
第6エ程は所望に応じて行う工程で、R4に含まれる水
酸基の保蝕基若しくはメルカプト基の去して得た水酸基
を他の保護基で保護する反応を含み、本工程の反応は必
要に応じて適宜選択して行うことができる。
酸基の保蝕基若しくはメルカプト基の去して得た水酸基
を他の保護基で保護する反応を含み、本工程の反応は必
要に応じて適宜選択して行うことができる。
水酸基の保護基が低級脂肪族若しくは芳香族アシル基の
場合には、その除去は通常の加水分解反応によって行な
われる。使用される酸または塩基としては一般の加水分
解反応に使用される酸または塩基が特に限定なく使用さ
れるが、通常は例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウ
ムのようなアルカリ金属およびアルカリ土類金属の水酸
化物を用いて塩基性条件下で好適に行われる。使用され
る溶剤としては加水分解反応に用いられる溶剤が特に限
定なく用いられ、例えばメタノール、エタノール、n−
グロパノール、イソプロピルアルコールのようなアルコ
ール類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタンのようなエーテル類;ジメチル
スルホキシドのようなジアルキルスルホキシド類および
これらの有機溶剤と水との混合溶剤をあげることができ
る。
場合には、その除去は通常の加水分解反応によって行な
われる。使用される酸または塩基としては一般の加水分
解反応に使用される酸または塩基が特に限定なく使用さ
れるが、通常は例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウ
ムのようなアルカリ金属およびアルカリ土類金属の水酸
化物を用いて塩基性条件下で好適に行われる。使用され
る溶剤としては加水分解反応に用いられる溶剤が特に限
定なく用いられ、例えばメタノール、エタノール、n−
グロパノール、イソプロピルアルコールのようなアルコ
ール類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタンのようなエーテル類;ジメチル
スルホキシドのようなジアルキルスルホキシド類および
これらの有機溶剤と水との混合溶剤をあげることができ
る。
反応温度には特に限定はなく、通常は室温付近乃至溶剤
の還流温度で行なわれる。反応時間は反応温品などによ
って異なるが、通常は1乃至12時間である。
の還流温度で行なわれる。反応時間は反応温品などによ
って異なるが、通常は1乃至12時間である。
水酸基の保護基のアラルキル基の場合には相当する化合
物を不活性溶剤中還元剤と接触することによって達成さ
れる。
物を不活性溶剤中還元剤と接触することによって達成さ
れる。
使用される不活性溶剤と還元剤としては、リチウム、ナ
トリウム、カリウムのようなアルカリ金属又は硫化ナト
リウム若しくは硫化カリウムのようなアルカリ金JfA
硫化物をあげることができるが、好適にはアルカリ金属
である。アルカリ金属との反応は液体アンモニア又は液
体アンモニアとエーテル、テトラヒドロフランのような
エーテル類との混合溶剤中で好適に行われ、アルカリ金
属硫化物とのり応はメタノール、エタノールのようなア
ルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのような
エーテル類又はこれら有機溶剤と水の混合溶剤中で好適
に行われる。
トリウム、カリウムのようなアルカリ金属又は硫化ナト
リウム若しくは硫化カリウムのようなアルカリ金JfA
硫化物をあげることができるが、好適にはアルカリ金属
である。アルカリ金属との反応は液体アンモニア又は液
体アンモニアとエーテル、テトラヒドロフランのような
エーテル類との混合溶剤中で好適に行われ、アルカリ金
属硫化物とのり応はメタノール、エタノールのようなア
ルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのような
エーテル類又はこれら有機溶剤と水の混合溶剤中で好適
に行われる。
反応温度はアルカリ金属との反応では一78℃乃至−2
0℃であり、アルカリ金属硫化物との反応では0℃乃至
100℃であり、 反応に要する時間は通常20分間乃
至6時間である。
0℃であり、アルカリ金属硫化物との反応では0℃乃至
100℃であり、 反応に要する時間は通常20分間乃
至6時間である。
さらに保護基がp−メトキシベンジル基の場合にはセリ
クムアンモニウムフル第2イドと含水アセトン中、室温
付近で処理することによっても除去され、又はジクロロ
ジシアノベンゾキノン、過硫酸ナトリウム等の酸化剤に
よっても除去される。
クムアンモニウムフル第2イドと含水アセトン中、室温
付近で処理することによっても除去され、又はジクロロ
ジシアノベンゾキノン、過硫酸ナトリウム等の酸化剤に
よっても除去される。
水酸基の保護基が複素環基、アルコキシ若しくはアシル
キルオキシを置換分として有するメチル基又は1−アル
コキシエチル基の場合は酸と接触させることにより容易
に達成される。使用される酸としては例えばギ酸、酢酸
、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、
マロン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホンrハ%
p−)ルエンスルホン酸、カンファースルホン酸など
の有機酸;塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱酸が好適に
使用される。反応は溶剤の存在下または不存在下で実施
されるが、反応を円滑に行なうには溶剤を使用する方が
好ましく、使用される溶剤としては本反応に関与しなけ
れば特に限定はなく例えば水;メタノール。
キルオキシを置換分として有するメチル基又は1−アル
コキシエチル基の場合は酸と接触させることにより容易
に達成される。使用される酸としては例えばギ酸、酢酸
、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、
マロン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホンrハ%
p−)ルエンスルホン酸、カンファースルホン酸など
の有機酸;塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱酸が好適に
使用される。反応は溶剤の存在下または不存在下で実施
されるが、反応を円滑に行なうには溶剤を使用する方が
好ましく、使用される溶剤としては本反応に関与しなけ
れば特に限定はなく例えば水;メタノール。
エタノールなど゛のアルコール類;テトラヒドロフラン
、ジオキサンなどのエーテル類;アセトン、メチルエチ
ルケトンのようなケトン類またはこれらの有機溶剤と水
との混合溶剤が好適に使用される。反応温度には特に限
定はなく室温乃至溶剤の還流温度で行われる。
、ジオキサンなどのエーテル類;アセトン、メチルエチ
ルケトンのようなケトン類またはこれらの有機溶剤と水
との混合溶剤が好適に使用される。反応温度には特に限
定はなく室温乃至溶剤の還流温度で行われる。
又反応に袈する時間は30分間乃至10時間である。
水酸基の保護基がトリ低級アルキル若しくはジスリール
低級アルキルシリル基の場合は水あるいは酸または塩基
を含有する水と接触させることにより容易に達成される
。酸または塩基を含有する水を使用する場合に含有され
る酸または塩基としては例えばギ酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、シュウ酸、マロン酸などの有機酸;塩酸、臭
化水素酸、硫酸などの鉱酸のような酸または水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ金属およびアル
カリ土類金属の水酸化物;炭酸カリウム、炭酸カルシウ
ムなどのアルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩
のような塩基が特に限定なく使用される。反応は溶剤と
して水を使用すれば他の溶剤は特に必要ではない。他の
溶剤を使用する場合は例えばテトラヒドロフラン、ジオ
キサンなどのエーテル類;メタノール、エタノールなど
のアルコール類等の有機溶剤と水との混合溶剤が使用さ
れる。
低級アルキルシリル基の場合は水あるいは酸または塩基
を含有する水と接触させることにより容易に達成される
。酸または塩基を含有する水を使用する場合に含有され
る酸または塩基としては例えばギ酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、シュウ酸、マロン酸などの有機酸;塩酸、臭
化水素酸、硫酸などの鉱酸のような酸または水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ金属およびアル
カリ土類金属の水酸化物;炭酸カリウム、炭酸カルシウ
ムなどのアルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩
のような塩基が特に限定なく使用される。反応は溶剤と
して水を使用すれば他の溶剤は特に必要ではない。他の
溶剤を使用する場合は例えばテトラヒドロフラン、ジオ
キサンなどのエーテル類;メタノール、エタノールなど
のアルコール類等の有機溶剤と水との混合溶剤が使用さ
れる。
反応温度には特に限定はないが通常は室温で好適に行な
われる。反応に要する時間は30分間乃至5時間である
。又保護基がt−ブチルジメチルシリル基の場合にはテ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類の存
在下フッ化テトラ、ブチルアンモニウムと室温付近で2
0分間乃至3時間処理することによっても達成される。
われる。反応に要する時間は30分間乃至5時間である
。又保護基がt−ブチルジメチルシリル基の場合にはテ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類の存
在下フッ化テトラ、ブチルアンモニウムと室温付近で2
0分間乃至3時間処理することによっても達成される。
反応終了後、水酸基の保護基を除去する反応の目的化合
物は常法に従って反応混合物から採取される。例えば反
応終了後、適宜溶剤を減圧で留去するか、留去しないで
反応混合物を氷水にあけ必要に応じて中和して、次いで
適当な有機溶剤を加えて抽出を行ない、抽出液を水洗し
乾燥した後、抽出液より溶剤を留去することによって得
られる。
物は常法に従って反応混合物から採取される。例えば反
応終了後、適宜溶剤を減圧で留去するか、留去しないで
反応混合物を氷水にあけ必要に応じて中和して、次いで
適当な有機溶剤を加えて抽出を行ない、抽出液を水洗し
乾燥した後、抽出液より溶剤を留去することによって得
られる。
R4に含まれる水酸の保護基及びR6が同一の保i基の
場合には上記の保護基の除去反応により同時に除去され
る。又、保砕基を適宜選択することにより、選択的に脱
保静することもできる。
場合には上記の保護基の除去反応により同時に除去され
る。又、保砕基を適宜選択することにより、選択的に脱
保静することもできる。
メルカプト基の保護基のアラルキル基は水酸基の保護基
力iアラルキル基の場合と同様の反応条件下に除去され
る。
力iアラルキル基の場合と同様の反応条件下に除去され
る。
水酸基の保護基を除去して得られた又は生成したヒドロ
キ7基を他の保護基で保護する反応は前述した第3工程
と同様にして行われる。第5工程と第6エ程は順序を逆
にすることもでき′木。この反応は水酸基の保護基が゛
アシル基である化合物を必要とする場合に特に有効であ
る。
キ7基を他の保護基で保護する反応は前述した第3工程
と同様にして行われる。第5工程と第6エ程は順序を逆
にすることもでき′木。この反応は水酸基の保護基が゛
アシル基である化合物を必要とする場合に特に有効であ
る。
B法はR1が礼、即ち、式−A −(OH2)m−R9
(式中、R9、A及びmは前述したものと同意義を示す
。)を示す化合物(lb)を製造する方法である。
(式中、R9、A及びmは前述したものと同意義を示す
。)を示す化合物(lb)を製造する方法である。
第1工程は一般式(級)を有するヒドロキシメチル化合
物を製造する工程で、R7に含まれる水酸基の保詩基を
除去することによって達成される。本反応は前記A法第
6エ程の相当する反応と同様に行われる。又、本反応の
原料化合物(■′)において、好適にはR7に含まれる
水酸基の保護基とR6が同一反応条件で除去されないも
のである。
物を製造する工程で、R7に含まれる水酸基の保詩基を
除去することによって達成される。本反応は前記A法第
6エ程の相当する反応と同様に行われる。又、本反応の
原料化合物(■′)において、好適にはR7に含まれる
水酸基の保護基とR6が同一反応条件で除去されないも
のである。
第8工程は一般式(X)を有するカルボキシ化合物を製
造する工程で、化合物([)を酸化することによって達
成される。
造する工程で、化合物([)を酸化することによって達
成される。
本反応はヒドロキシメチル体をカルボキシ体に酸化する
通常の方法に従って行われる。
通常の方法に従って行われる。
使用される酸化剤としては例えば無水クロム酸−濃硫酸
一水(Jones試薬)、過マンガン酸カリウム−水酸
化ナトリウム若しくは炭酸ナトリウム、酸化銀、重クロ
ム酸カリウム−硫酸等をあげることができる。
一水(Jones試薬)、過マンガン酸カリウム−水酸
化ナトリウム若しくは炭酸ナトリウム、酸化銀、重クロ
ム酸カリウム−硫酸等をあげることができる。
反応は通常アセトンのようなケトン類、水又は水とメタ
ノール、エタノールのようなアルコールとの混合溶剤中
で行われる。。
ノール、エタノールのようなアルコールとの混合溶剤中
で行われる。。
反応温度は一30℃乃至100℃であり、 反応に畏す
る時間は通常30分間乃至5時間である。
る時間は通常30分間乃至5時間である。
又、本工程は化合物(+[)を二段階に酸化すること、
即ち、ホルミル体に変換した後、カルボキシ体を製造す
ることによっても行われる。
即ち、ホルミル体に変換した後、カルボキシ体を製造す
ることによっても行われる。
ホルミル体に変換する反応は前記A法第5工程と同様に
行われる。
行われる。
ホルミル体からカルボキシ体を製造する反応は常法に従
って行われる。例えば上記のJOneS試薬、酸化銀−
アルカリ(水酸化ナトリウム)等と反応させることKよ
って行われる。又、常法の空気酸化によっても達成され
る。
って行われる。例えば上記のJOneS試薬、酸化銀−
アルカリ(水酸化ナトリウム)等と反応させることKよ
って行われる。又、常法の空気酸化によっても達成され
る。
第9工程は一般式(XI)を有するヒドロキシメチル化
合物を製造する工程で、化合物(X)を還元することに
よって達成される。本反応は前記人法第4工杵と同様に
行われるが、α−側@〜のカルボキシ基の還元を防止す
るため、好適には室温付近で、還元剤として水素化リチ
ウムアルミニウム又は水素化ホウ素リチウムを使用して
行うことができる。
合物を製造する工程で、化合物(X)を還元することに
よって達成される。本反応は前記人法第4工杵と同様に
行われるが、α−側@〜のカルボキシ基の還元を防止す
るため、好適には室温付近で、還元剤として水素化リチ
ウムアルミニウム又は水素化ホウ素リチウムを使用して
行うことができる。
又、本反応の後、所望に応じて、カルボキシ基を保匪す
ることもできる。
ることもできる。
カルボキシ基を保護する反応のうち、保護基が低級アル
キルである化合物を製造する反応は溶剤の存在下または
不存在下でエステル化剤と接触させることによって行わ
れる。使用されるエステル化剤としては、例えばジアゾ
メタン、ジアゾエタン、ジアゾ−n−プロパン、ジアゾ
イソプロパン、ジアゾ−n−ブタンなどのジアゾアルカ
ン類をあげることができる。反応は溶剤の存在下で好適
に行われ、使用される溶剤としては本反応に関与しなけ
れば特に限定はなく例えばエチルエーテル、ジオキサン
などのエーテル類が好適である。反応温度には限定はな
いが副反応を抑え且つジアゾアルカン類の分解を防ぐた
め比較的低温で行なうのが望ましく通常低級アルキル基
、又はアリール基である化合物を製造する反応は、カル
ボン酸を炭酸活性体又はカルボキシ活性体と反応させ混
合酸無水物に変換させた後、相当するヒドロキシ化合物
と反応させることによって行われる。
キルである化合物を製造する反応は溶剤の存在下または
不存在下でエステル化剤と接触させることによって行わ
れる。使用されるエステル化剤としては、例えばジアゾ
メタン、ジアゾエタン、ジアゾ−n−プロパン、ジアゾ
イソプロパン、ジアゾ−n−ブタンなどのジアゾアルカ
ン類をあげることができる。反応は溶剤の存在下で好適
に行われ、使用される溶剤としては本反応に関与しなけ
れば特に限定はなく例えばエチルエーテル、ジオキサン
などのエーテル類が好適である。反応温度には限定はな
いが副反応を抑え且つジアゾアルカン類の分解を防ぐた
め比較的低温で行なうのが望ましく通常低級アルキル基
、又はアリール基である化合物を製造する反応は、カル
ボン酸を炭酸活性体又はカルボキシ活性体と反応させ混
合酸無水物に変換させた後、相当するヒドロキシ化合物
と反応させることによって行われる。
使用される炭酸活性体又はカルボン酸活性体としては、
例えばクロル炭酸エチル、ブロム炭酸エチル、クロル炭
IJ n −7’ロピル、クロル炭ボン酸ハライドをあ
げることができる。
例えばクロル炭酸エチル、ブロム炭酸エチル、クロル炭
IJ n −7’ロピル、クロル炭ボン酸ハライドをあ
げることができる。
カルボン戯と上記活性体の反応は、好適には不活性溶剤
中、塩基の存在で行われる。
中、塩基の存在で行われる。
使用される塩基としては、例えば、トリエチルアミン、
N−メチル七ルホリン、N、N〜ジメチルアニリン、ピ
リジン、4−(N、N−ジメチルアミノ)ピリジンのよ
うな有機アミンをあげることができ、使用される不活性
溶剤としては、例えばエーテル、テトラヒドロフラン。
N−メチル七ルホリン、N、N〜ジメチルアニリン、ピ
リジン、4−(N、N−ジメチルアミノ)ピリジンのよ
うな有機アミンをあげることができ、使用される不活性
溶剤としては、例えばエーテル、テトラヒドロフラン。
ジメトキシエタンのようなエーテル類又はメチレンクロ
IJ )”、クロロホルムのよウナハロゲン化炭化水素
類をあげることができる。
IJ )”、クロロホルムのよウナハロゲン化炭化水素
類をあげることができる。
反応温度は通常−10℃乃至室温であり1反応に要する
時間は1時間乃至24時間である。又、混合酸無水物は
単離することなく次の反応に使用することもできる。
時間は1時間乃至24時間である。又、混合酸無水物は
単離することなく次の反応に使用することもできる。
カルボン酸の混合酸無水物とヒドロキシ化合物との反応
は好適には不活性溶剤中、塩基の存在下で行われる。使
用される溶剤及び塩基は上記混合酸無水物を製造する反
応に使用されるものと同様のものであり、又、塩基を溶
剤を兼ねて大過剰に使用することもできる。
は好適には不活性溶剤中、塩基の存在下で行われる。使
用される溶剤及び塩基は上記混合酸無水物を製造する反
応に使用されるものと同様のものであり、又、塩基を溶
剤を兼ねて大過剰に使用することもできる。
反応温度は通常0℃乃至80℃であり、反応に要する時
間は30分間乃至10時間である。
間は30分間乃至10時間である。
第10工程は一般式(XI)を有するホルミル化合物を
製造する工程で、化合物(XI)を酸化することによっ
て達成される。本反応は前記人法第5工程と同様に行わ
れる。
製造する工程で、化合物(XI)を酸化することによっ
て達成される。本反応は前記人法第5工程と同様に行わ
れる。
第11工程は所望に応じて行う工程で、水酸基の保護で
あるR6の除去反応及び几9に含まれるカルボキシ基の
保護基の除去反応を含み、各反応は必要に応じて、適宜
選択して行うことができる。
あるR6の除去反応及び几9に含まれるカルボキシ基の
保護基の除去反応を含み、各反応は必要に応じて、適宜
選択して行うことができる。
n・6の除去反応は前記A法第6エ程の相当する反応と
同様に行われる。
同様に行われる。
カルボキシ基の保詐基の除去反応は通常の加水分解反応
によって行われる。使用される酸または塩基としては一
般の加水分解反応に使用される酸または塩基が特に限定
なく使用されるが、通常は例えば水酸化リチウム、水酸
化す) IJウム、水酸化カリウム1.水酸化カルシウ
ム、水酸化バリウムのようなアルカリ全組およびアルカ
リ土類金属の水酸化物を用いて塩基性条件下で好適に行
なわれる、使用される溶剤としては加水分解反応に用い
られる溶剤が特に限定なく用いられ、例えばメタノール
、エタノール、n−プロパツール、イソプロピルアルコ
ールのようなアルコール類;エチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエ
ーテル類;ジメチルスルホキシドのよう′なジアルキル
スルホキシド類およびこれらの有機溶剤と水との混合溶
剤をあげることができる。
によって行われる。使用される酸または塩基としては一
般の加水分解反応に使用される酸または塩基が特に限定
なく使用されるが、通常は例えば水酸化リチウム、水酸
化す) IJウム、水酸化カリウム1.水酸化カルシウ
ム、水酸化バリウムのようなアルカリ全組およびアルカ
リ土類金属の水酸化物を用いて塩基性条件下で好適に行
なわれる、使用される溶剤としては加水分解反応に用い
られる溶剤が特に限定なく用いられ、例えばメタノール
、エタノール、n−プロパツール、イソプロピルアルコ
ールのようなアルコール類;エチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエ
ーテル類;ジメチルスルホキシドのよう′なジアルキル
スルホキシド類およびこれらの有機溶剤と水との混合溶
剤をあげることができる。
反応温度には特に限定はなく、通常は室温付近乃至溶剤
の還流温度で行われる。反応時間は反応温度などによっ
て異なるが1通常は1乃至12時間である。
の還流温度で行われる。反応時間は反応温度などによっ
て異なるが1通常は1乃至12時間である。
反応終了後1反応目的物は常法に従って反応混合物から
採取される。例えば、反応混合物を氷水にあけ、希酸で
酸性とした後、水不混和性有機溶剤で抽出し、有機溶剤
を留去することによって得ることができる。
採取される。例えば、反応混合物を氷水にあけ、希酸で
酸性とした後、水不混和性有機溶剤で抽出し、有機溶剤
を留去することによって得ることができる。
さらに、必要に応じて、常法、例えばカラムクロマトグ
ラフィー、再結晶法等によりさらにさらに、化合物(I
)において、 R1がアシル基で保護されたヒドロキシ
メチル基である化合物(lっけ化合物(■)において、
R4が保護されたヒドロキシメチル基である化合物(イ
ンを原料として、以下の方法でも別途に製造することが
できる。
ラフィー、再結晶法等によりさらにさらに、化合物(I
)において、 R1がアシル基で保護されたヒドロキシ
メチル基である化合物(lっけ化合物(■)において、
R4が保護されたヒドロキシメチル基である化合物(イ
ンを原料として、以下の方法でも別途に製造することが
できる。
Cvl) (XIV)(XV)
(XW) (Xilll) (■
c)上記式中、 R6及びnは前述したものと同意義を
示し、R7はR4におけると同様の保曖されたヒドロキ
シメチル基を示し、R11は除去する反応において、R
10に含まれる水酸基の保護基と区別される水酸基の保
護基を示し、R+2は低級脂肪族アシル、芳香族アシル
のようなアシル基を示す。
(XW) (Xilll) (■
c)上記式中、 R6及びnは前述したものと同意義を
示し、R7はR4におけると同様の保曖されたヒドロキ
シメチル基を示し、R11は除去する反応において、R
10に含まれる水酸基の保護基と区別される水酸基の保
護基を示し、R+2は低級脂肪族アシル、芳香族アシル
のようなアシル基を示す。
R10に含まれる水酸基の保護基とR11の関係は以下
の通シである。即ち、Uloに含まれる水酸基の保護基
が中性条件で除去されるアラルキル基又はt−ブチルジ
メチルシリル基の場合にはR11け酸性条件下で除去さ
れる複素環基、アルコキシ基若しくはアラルキルオキシ
基を置換分とするメチル基、1−アルコキシエチル基で
あル、逆にR”に含まれる水酸基の保護基が酸性条件で
除去される基である場合にはRITは中性条件で除去さ
れる基である。
の通シである。即ち、Uloに含まれる水酸基の保護基
が中性条件で除去されるアラルキル基又はt−ブチルジ
メチルシリル基の場合にはR11け酸性条件下で除去さ
れる複素環基、アルコキシ基若しくはアラルキルオキシ
基を置換分とするメチル基、1−アルコキシエチル基で
あル、逆にR”に含まれる水酸基の保護基が酸性条件で
除去される基である場合にはRITは中性条件で除去さ
れる基である。
第12工程は一般式CXW)fr:有する化合物を製造
する工程で、化合物(vl)に含まれる水酸基を保護す
ることによシ達成される。
する工程で、化合物(vl)に含まれる水酸基を保護す
ることによシ達成される。
本反応は前記A法第3工程と同様に行われる。
第13工程社一般式CXV) k有するアルコール体を
製造する工程で、化合物(XIV)において、R1゜に
含まれている水酸基の保護基を除去することによって達
成される。
製造する工程で、化合物(XIV)において、R1゜に
含まれている水酸基の保護基を除去することによって達
成される。
本反応は前記へ法第6エ程の相当する反応と同様に行わ
れるが、第12工程において既述したよつK R11,
−が除去されない反応条件で行う必要がある。
れるが、第12工程において既述したよつK R11,
−が除去されない反応条件で行う必要がある。
又、R6については除去されても、第1アルコールと第
2アルコールとの反応性を利用できるため、後の反応に
格別の支障は生じないが、R+[lに含まれる水酸基と
同時に除去されない基が好ましく、具体的にはRj+と
同様の基である。
2アルコールとの反応性を利用できるため、後の反応に
格別の支障は生じないが、R+[lに含まれる水酸基と
同時に除去されない基が好ましく、具体的にはRj+と
同様の基である。
第14工程は一般式(罰)を有するアシルオキシ化合物
音製造する工程で、化合物CXV) k低級脂肪族基し
くは芳香族カルボン酸又はそれらの反応性誘導体と反応
させることによって達成される。
音製造する工程で、化合物CXV) k低級脂肪族基し
くは芳香族カルボン酸又はそれらの反応性誘導体と反応
させることによって達成される。
カルボン酸化合物を使用する場合には、ジシクロへキシ
ルカルボジイミドのような縮合剤の存在下に好適に行わ
れる。
ルカルボジイミドのような縮合剤の存在下に好適に行わ
れる。
カルボン酸の反応性誘導体としては、例えば酢酸クロリ
ド、酢酸プロミド、ベンゾイルクロリド、ベンゾイルプ
ロミド、ナフトイルクロリドのような酸ハライド化合物
又は無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸のよう
な酸無水物をあげる仁とができ5本誘導体を使用する場
合には、トリエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルア
ミノピリジン、キノリン、N、N−ジメチルアニリンの
ような有機塩基の存在下に好′適に行われる。
ド、酢酸プロミド、ベンゾイルクロリド、ベンゾイルプ
ロミド、ナフトイルクロリドのような酸ハライド化合物
又は無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸のよう
な酸無水物をあげる仁とができ5本誘導体を使用する場
合には、トリエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルア
ミノピリジン、キノリン、N、N−ジメチルアニリンの
ような有機塩基の存在下に好′適に行われる。
本反応は溶剤の存在下で行われる。使用される溶剤とし
ては、例えばベンゼン、トルエン。
ては、例えばベンゼン、トルエン。
キシレン、n−ヘキサンのような炭化水素類、塩化メチ
レン、クロロホルム、四塩化炭素、りロルベンゼンのよ
りなノ・ロゲン化炭化水素類、エーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類、アセトン、メ
チルエチルケトンのようなケトン類をあけることができ
るが、好適には炭化水素類である。
レン、クロロホルム、四塩化炭素、りロルベンゼンのよ
りなノ・ロゲン化炭化水素類、エーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類、アセトン、メ
チルエチルケトンのようなケトン類をあけることができ
るが、好適には炭化水素類である。
反応温度は通滑09C〜100℃であり、反応に要する
時間は反応試剤、反応温度、溶剤等によシ異なるが、3
0分間乃至6時間である。
時間は反応試剤、反応温度、溶剤等によシ異なるが、3
0分間乃至6時間である。
反応終了後、本工程の目的化合物は常法に従って、反応
混合物から採取される。例えば反応終了後、溶剤を減圧
下でWイ去し、氷水を加えて水不混和性有機溶剤で抽出
し、有機溶剤を留去することによって得られる。さらに
、必要なら常法1例えばカラムクロマトグラフィー等に
より精製することもできる。
混合物から採取される。例えば反応終了後、溶剤を減圧
下でWイ去し、氷水を加えて水不混和性有機溶剤で抽出
し、有機溶剤を留去することによって得られる。さらに
、必要なら常法1例えばカラムクロマトグラフィー等に
より精製することもできる。
第15工程は一般式(XVI+) ’e有するヒドロキ
シメチル化合物′fr:1M造する工程で、化合物(X
■)における水酸基の保n基R11を除去することによ
って達成される。
シメチル化合物′fr:1M造する工程で、化合物(X
■)における水酸基の保n基R11を除去することによ
って達成される。
本反応は前記A法第6エ程における相当する反応と同様
に行われる。
に行われる。
本反応で、R6とR11が同一の反応条件で除去される
保護基である場合には、両方の基は同時に除去される。
保護基である場合には、両方の基は同時に除去される。
この場合には、必要に応じて、第1アルコールと第2ア
ルコールの反応性の差を利用して、2級の水酸基を再保
護することもできる。例えば、R6とR11が同時に除
去されたジオール体(肩? トリクロロアセチルクロリ
ド、トリフルオロアセチルクロリドのような活性アシル
ハライドと反応させ、1級の水酸基がアシル化された化
合物(XK)に導き(第1T工程〕、2級の水酸基を保
護して化合物(XX)を得た後(第18工程)、温和な
条件で活性アシルオキシ基を加水分解して〔第18工程
〕、目的とする化合物(XMI)が製造される。
ルコールの反応性の差を利用して、2級の水酸基を再保
護することもできる。例えば、R6とR11が同時に除
去されたジオール体(肩? トリクロロアセチルクロリ
ド、トリフルオロアセチルクロリドのような活性アシル
ハライドと反応させ、1級の水酸基がアシル化された化
合物(XK)に導き(第1T工程〕、2級の水酸基を保
護して化合物(XX)を得た後(第18工程)、温和な
条件で活性アシルオキシ基を加水分解して〔第18工程
〕、目的とする化合物(XMI)が製造される。
(X%り (XIID(XK)
(XX)(X■) 上記式中、R6、RH、R12及びnは前述したものと
同意義を示し、R15は活性アシル基を示す。
(XX)(X■) 上記式中、R6、RH、R12及びnは前述したものと
同意義を示し、R15は活性アシル基を示す。
第17エ程及び第18工程はそれぞれ前記へ法第3工程
における相当する反応と同様に行われる。第11工程の
反応においては温和な条件で活性アシルハライドを過剰
にならないように使用することによって好適に、行われ
る。
における相当する反応と同様に行われる。第11工程の
反応においては温和な条件で活性アシルハライドを過剰
にならないように使用することによって好適に、行われ
る。
第19工程は化合物(XX) ’に不活性溶剤中、弱塩
基と温和な条件で反応させることによって達成さnる。
基と温和な条件で反応させることによって達成さnる。
使用される弱塩基として仁、例えば、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩;
酢酸ナトリウム、酢酸カリウムのような脂肪族カルボン
酸のアルカリ金属塩;塩基性アルミナ:又はトリエチル
アミン、ピリジンのような有機アミン類をあげることが
できるが、好適にはアルカリ金属重炭酸塩である。
ム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩;
酢酸ナトリウム、酢酸カリウムのような脂肪族カルボン
酸のアルカリ金属塩;塩基性アルミナ:又はトリエチル
アミン、ピリジンのような有機アミン類をあげることが
できるが、好適にはアルカリ金属重炭酸塩である。
使用される不活性溶剤は反応に関与しなければ特に制限
されないが、例えばメタノール、エタノール、n−グロ
パノニル、イソプロピルアルコールのようなアルコール
類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、ジメトキシエタンのようなエーテル類;ジメチルスル
ホキシドのようなジアルキルスルホキシド類およびこれ
らの有機溶剤と水との混合溶剤をあげることができる。
されないが、例えばメタノール、エタノール、n−グロ
パノニル、イソプロピルアルコールのようなアルコール
類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、ジメトキシエタンのようなエーテル類;ジメチルスル
ホキシドのようなジアルキルスルホキシド類およびこれ
らの有機溶剤と水との混合溶剤をあげることができる。
反応温度には特に限定はなく、通常は室温乃至50℃で
行われる。反応時間は反応温度などによって異なるが、
通常は1乃至12時間である。
行われる。反応時間は反応温度などによって異なるが、
通常は1乃至12時間である。
第16エ程”は化合物(II C) f 製造する工程
で、化合物(腫)ヲ酸化することによって達成される。
で、化合物(腫)ヲ酸化することによって達成される。
本反応は前記A法第6エ程の反応と同様に行われる。
さらに、本発明に係る化合物(…)がラセミ体の場合に
は、當法に従って適当な合成段階で光学異性体に分割す
ることができる。例えば、前記化合物ff)を加水分解
して得られるカルボキシ化合物(V’) (:f中、R4及びnは前述したものと同意義を示す。
は、當法に従って適当な合成段階で光学異性体に分割す
ることができる。例えば、前記化合物ff)を加水分解
して得られるカルボキシ化合物(V’) (:f中、R4及びnは前述したものと同意義を示す。
)を光学活性アミン、例えばキニーネ、エフェドリン、
アンフェタミン、α−メチルベンジルアミン等と塩を形
成させ、分別結晶によシ分離することができる。
アンフェタミン、α−メチルベンジルアミン等と塩を形
成させ、分別結晶によシ分離することができる。
又、A法第1工程で得られたオクト−3−エン本発明の
原料化合物億)は以下に示す方法に従ってM遣される。
原料化合物億)は以下に示す方法に従ってM遣される。
C法
(XN) 00ffl)
z ZCXX
FJ) (XXIV)(XXV)
(I[a) D法 (XxTv) (XXW )(II[b
) 上記式中、 R9,n及びmは前述したものと同意@全
示し、R4はR4におけると同様の保護されたヒドロキ
シメチル基又は保護されたメルカプトメチル基を示し、
R5はRVcおけるとR1様の式 −A−(CT(2)
m−R’基(穴中、I(’、A及びmは前述したものと
同意義を示す。)を示し、R14は保護されてもよいカ
ルボキシ基又は保護されたヒドロキシメチル基を示し、
2は式ルキル基を示し、Yは酸素原子又は硫黄原子を示
し、Aはエチレン、プロピレン、トリメチレン、ブチレ
ン、テトラメチレン、2.2−ジメチル) IJメチレ
ンのような炭素数2乃至5のアルキレン基を示す。)を
有するカルボニル基の保睦基を示すO C法は化合物@)において、 R4が保護されたヒドロ
キシメチル基又は保護されたメルカプトメチル基である
化合物CNa)を製造する方法である。
FJ) (XXIV)(XXV)
(I[a) D法 (XxTv) (XXW )(II[b
) 上記式中、 R9,n及びmは前述したものと同意@全
示し、R4はR4におけると同様の保護されたヒドロキ
シメチル基又は保護されたメルカプトメチル基を示し、
R5はRVcおけるとR1様の式 −A−(CT(2)
m−R’基(穴中、I(’、A及びmは前述したものと
同意義を示す。)を示し、R14は保護されてもよいカ
ルボキシ基又は保護されたヒドロキシメチル基を示し、
2は式ルキル基を示し、Yは酸素原子又は硫黄原子を示
し、Aはエチレン、プロピレン、トリメチレン、ブチレ
ン、テトラメチレン、2.2−ジメチル) IJメチレ
ンのような炭素数2乃至5のアルキレン基を示す。)を
有するカルボニル基の保睦基を示すO C法は化合物@)において、 R4が保護されたヒドロ
キシメチル基又は保護されたメルカプトメチル基である
化合物CNa)を製造する方法である。
第20工程は一般式(XXII)を有する化合物を製造
する工程で、公知のオキソ化合物(2)を一般式%式%
) 又は一般式 [(R”OJ &CT(2)、、−、−R’〕M0(X
XVII)(式中、R9及びnは前述したものと同意′
義を示し、R16は低級アノシキル基又はアリール基金
示し、Mはアルカリ金属を示す。〕 を有するウイテツヒ試薬又は変法ウイテツヒ試薬と不活
性溶剤中、例えばジメトキシエタンのようなエーテル類
中、室温伺近で1時1−11乃至10時間反応させるこ
とによって行われる。
する工程で、公知のオキソ化合物(2)を一般式%式%
) 又は一般式 [(R”OJ &CT(2)、、−、−R’〕M0(X
XVII)(式中、R9及びnは前述したものと同意′
義を示し、R16は低級アノシキル基又はアリール基金
示し、Mはアルカリ金属を示す。〕 を有するウイテツヒ試薬又は変法ウイテツヒ試薬と不活
性溶剤中、例えばジメトキシエタンのようなエーテル類
中、室温伺近で1時1−11乃至10時間反応させるこ
とによって行われる。
第21工程は一般式CXM)を有する化合物を製造する
工程で、化合物(XXI) i不活性溶剤中、例えはテ
トラヒドロフランのようなエーテル類中、塩基、例えば
ジインプロピルアミノリチウム、ジシクロヘキシルアミ
ノリチウムのようなで行われる。
工程で、化合物(XXI) i不活性溶剤中、例えはテ
トラヒドロフランのようなエーテル類中、塩基、例えば
ジインプロピルアミノリチウム、ジシクロヘキシルアミ
ノリチウムのようなで行われる。
妃22工程は一般式<xxR)をイーする化合物を製造
する工程で、化合物(XXII)) ’1前記八法第4
工程と同様に還元することによって行われる。
する工程で、化合物(XXII)) ’1前記八法第4
工程と同様に還元することによって行われる。
泥23工稈に一般穴(XXV)を有する化合物を製造す
る工程で、化合qfIA(XXT1.りに含まれるカル
ボニル基の保護基を通常の方法に従って除去することに
よシ達成さfi、る。
る工程で、化合qfIA(XXT1.りに含まれるカル
ボニル基の保護基を通常の方法に従って除去することに
よシ達成さfi、る。
前記カルボニル基の保護基においてYが酸素原子である
場合には、相当する化合物を例えば酢酸−水、希塩酸−
含水アセ訃ン、希塩酸−含水アセトニトリル、希硫酸−
含水アセトンのような酸および水性溶媒と0℃乃至10
0℃で30分間乃至3時間接触させることによって除去
される。
場合には、相当する化合物を例えば酢酸−水、希塩酸−
含水アセ訃ン、希塩酸−含水アセトニトリル、希硫酸−
含水アセトンのような酸および水性溶媒と0℃乃至10
0℃で30分間乃至3時間接触させることによって除去
される。
この反応において、R1のヒドロキシメチル基の保護基
が複素環基、アルコキシ基若しくはアラルキルオキシ基
’e ffff−換分として有するメチル基又はトリ低
級アルキル若しくはジアリール低級アルキルシリル基で
ある場合には1通常、当該保護基も同時に除去される。
が複素環基、アルコキシ基若しくはアラルキルオキシ基
’e ffff−換分として有するメチル基又はトリ低
級アルキル若しくはジアリール低級アルキルシリル基で
ある場合には1通常、当該保護基も同時に除去される。
又、必要なら。
生成しfcヒドロキシメチル基を前記A法相3工程と同
様にして、所望の保護基によシ保護することもできる。
様にして、所望の保護基によシ保護することもできる。
前記カルボニル基の保護基においてYが硫黄一原子であ
る場合には、相当する化合物を、テトラヒドロフラン、
エーテルのようなエーテル類、塩化メチレン、クロロホ
ルムのような710ゲン化炭化水累類、メタノール、エ
タノールのようなアルコール類又は水或いはそnらの混
合溶剤中、酢酸水銀、塩化水銀又は酸化水銀(赤〕と0
℃乃至60℃で接かさせることによって除去される。こ
の反応では必要によシボロントリフルオライド−エーテ
ル錯体等のルイス酸を触媒として用いることができる。
る場合には、相当する化合物を、テトラヒドロフラン、
エーテルのようなエーテル類、塩化メチレン、クロロホ
ルムのような710ゲン化炭化水累類、メタノール、エ
タノールのようなアルコール類又は水或いはそnらの混
合溶剤中、酢酸水銀、塩化水銀又は酸化水銀(赤〕と0
℃乃至60℃で接かさせることによって除去される。こ
の反応では必要によシボロントリフルオライド−エーテ
ル錯体等のルイス酸を触媒として用いることができる。
第24工程は化合物(II[a)を製造する工程で、水
酸基を保護する反応、水酸基をメルカプト基に変換する
反応及びメルカプト基ヲ保詐する反応を含む。水酸基を
保護する反応は前記へ法相3工程と同様にして行われる
。
酸基を保護する反応、水酸基をメルカプト基に変換する
反応及びメルカプト基ヲ保詐する反応を含む。水酸基を
保護する反応は前記へ法相3工程と同様にして行われる
。
水酸基をメルカプト基に変換する反応は、通常の方法で
行われ、例えば化合物(XXIV) f、 D法相25
工程で述べる方法によって合成したスルホニルオキシ体
を不活性溶剤中、塩基の存在下チオ尿素、チオ酢酸全反
応させたのち必要なら加水分解することによ5xせられ
る。
行われ、例えば化合物(XXIV) f、 D法相25
工程で述べる方法によって合成したスルホニルオキシ体
を不活性溶剤中、塩基の存在下チオ尿素、チオ酢酸全反
応させたのち必要なら加水分解することによ5xせられ
る。
使用される塩基としては例えば、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物をあげることができる。
酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物をあげることができる。
使用される不活性溶剤としては、反応に関与しなげれば
特に制限されないが1例えば、ベンゼン、トルエンのよ
うな芳香族炭化水素類、エーテル、テトラヒドロフラン
のようなエーテル類、メタノール、エタノールのような
アルコール類、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルム
アミドのような極性溶剤又はこれら有機溶剤と水との混
合溶剤をあげることができる。
特に制限されないが1例えば、ベンゼン、トルエンのよ
うな芳香族炭化水素類、エーテル、テトラヒドロフラン
のようなエーテル類、メタノール、エタノールのような
アルコール類、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルム
アミドのような極性溶剤又はこれら有機溶剤と水との混
合溶剤をあげることができる。
反応温度は0℃乃至100℃であシ、反応に要する時間
は30分間乃至12時間である。又、D法は化合物知に
おいて、R4が式−A−(CH2)m−R’基(式中、
R’ 、 A及びmは前述したものと同意義を示す。)
である化合物(■b)を製造する方法である。
は30分間乃至12時間である。又、D法は化合物知に
おいて、R4が式−A−(CH2)m−R’基(式中、
R’ 、 A及びmは前述したものと同意義を示す。)
である化合物(■b)を製造する方法である。
第25工程は一般式(XxVI)’e有する化合物金製
造する工程で、Aが酸素原子である化合物α罰a)は化
合物(XXIV)のアルカリ金属塩をア般式 X−
(CH2)m R” 、 <XXMM)(
式中、114及びmは前述したものと同意義を示し、X
は塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子を示す。) を有する化合物又〜はR14がカルボキシ基である場合
のそのアルカリ金属塩を不活性溶剤中、例えば、テトラ
ヒドロフラン、ジメチルスルホシト、ジメチルホルムア
ミドのような極性溶剤又はその混合溶剤中、室温付近で
5乃至24時間反応させることによ勺製造される。又、
Aが硫黄原子である化合物(’XXWb)は化合物CX
xIv) eスルホニルオキシ体に変換させた後、一般
式 %式%) (式中、R14及びmは前述したものと同意義を示す。
造する工程で、Aが酸素原子である化合物α罰a)は化
合物(XXIV)のアルカリ金属塩をア般式 X−
(CH2)m R” 、 <XXMM)(
式中、114及びmは前述したものと同意義を示し、X
は塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子を示す。) を有する化合物又〜はR14がカルボキシ基である場合
のそのアルカリ金属塩を不活性溶剤中、例えば、テトラ
ヒドロフラン、ジメチルスルホシト、ジメチルホルムア
ミドのような極性溶剤又はその混合溶剤中、室温付近で
5乃至24時間反応させることによ勺製造される。又、
Aが硫黄原子である化合物(’XXWb)は化合物CX
xIv) eスルホニルオキシ体に変換させた後、一般
式 %式%) (式中、R14及びmは前述したものと同意義を示す。
)を有する化合物と反応させることによって製造される
。
。
スルホニルオキシ体の製造は、化合物(XXIV)を不
活性溶剤中、−例えばメチレンクロリドのようなハロゲ
ン化炭化水素類中、塩基の存在下、例えばト・リエチル
アミン、ピリジン等(溶剤を兼ねて大過剰使用すること
もできる。ンの存在下、メタンスルホニルクロリド、p
−トルエンスルホニルクロリドのようなスルホン酸ハラ
イドと室温付近で、30分間乃至3時間反応させること
によシ行われる。化合物(XXWb)の製造は上記のス
ルホニルオキシ体を不活性溶剤中、例えばジメチルスル
ホキシドのような極性溶剤中、化合物(XXK)又はR
14がカルボキシ基である場合のそのアルカリ金属塩を
室温付近で30分間乃至2時間反応させることによって
行われる。
活性溶剤中、−例えばメチレンクロリドのようなハロゲ
ン化炭化水素類中、塩基の存在下、例えばト・リエチル
アミン、ピリジン等(溶剤を兼ねて大過剰使用すること
もできる。ンの存在下、メタンスルホニルクロリド、p
−トルエンスルホニルクロリドのようなスルホン酸ハラ
イドと室温付近で、30分間乃至3時間反応させること
によシ行われる。化合物(XXWb)の製造は上記のス
ルホニルオキシ体を不活性溶剤中、例えばジメチルスル
ホキシドのような極性溶剤中、化合物(XXK)又はR
14がカルボキシ基である場合のそのアルカリ金属塩を
室温付近で30分間乃至2時間反応させることによって
行われる。
第26エ程は所望に応じて化合物(XXW)において、
R14が保護されたカルボキシ基である場合に行う工程
である。本工程は保護されてもよいカルボキシ基をヒド
ロキシメチル基に還元した後、水酸基を保護することに
よって行われる。
R14が保護されたカルボキシ基である場合に行う工程
である。本工程は保護されてもよいカルボキシ基をヒド
ロキシメチル基に還元した後、水酸基を保護することに
よって行われる。
還元反応は前記A法相4工程と同様に行われ、水酸基の
保護基を付する反応は前記A法相3工程と同様に行われ
る。
保護基を付する反応は前記A法相3工程と同様に行われ
る。
(発明の効果)
本発明によシ得られる化合物(1)は通常の方法に従っ
て、優れた薬理活性を有するグロスタサイクリン誘導体
、例えば化合物(1)のd導体(I“)K導くことがで
きろ。
て、優れた薬理活性を有するグロスタサイクリン誘導体
、例えば化合物(1)のd導体(I“)K導くことがで
きろ。
E法
(lie)
’ 0THP ・ (JMOTHP
OH F法 (lid) 上6己式中、A、n及びmは前述したものと同意義を示
し、R17は水酸基又はメルカプト基の保映基を示し、
R18は保護されたヒドロキシメチル基又は法論されて
もよいカルボキシ基を示し、C3H11はn−ペンチル
基を示し、Tap はテトラヒドロピラニル基を示す
。
OH F法 (lid) 上6己式中、A、n及びmは前述したものと同意義を示
し、R17は水酸基又はメルカプト基の保映基を示し、
R18は保護されたヒドロキシメチル基又は法論されて
もよいカルボキシ基を示し、C3H11はn−ペンチル
基を示し、Tap はテトラヒドロピラニル基を示す
。
E法はR1が保護されてもよいとドロキシメチル又は保
護されてもよいメルカプトメチル基である化合物に含ま
れる化合物(II。)を原料とする方法である。
護されてもよいメルカプトメチル基である化合物に含ま
れる化合物(II。)を原料とする方法である。
化合物(+10)eウイテツヒ反応により、不砲和ケト
ン体に変換し、カルボニル基を還元し、得られた化合物
の2級水酸基を保護した抜に、ヒドロキシメチル基又は
メルカプトメチル基の保護基を除去しs −g+られン
穎化合物の水酸基又はメルカプト基をカルボキシアルキ
ル化し、2級水酸基の保護基を除去することによって、
化合物(1’)が製造さノするO F法はR1が式−A−(O)I2)−R′基(式中、R
′、A及びmは前述したものと同i sHを示す。)で
ある化合物と1jまれる化合物(■d)を原料とする方
法である。
ン体に変換し、カルボニル基を還元し、得られた化合物
の2級水酸基を保護した抜に、ヒドロキシメチル基又は
メルカプトメチル基の保護基を除去しs −g+られン
穎化合物の水酸基又はメルカプト基をカルボキシアルキ
ル化し、2級水酸基の保護基を除去することによって、
化合物(1’)が製造さノするO F法はR1が式−A−(O)I2)−R′基(式中、R
′、A及びmは前述したものと同i sHを示す。)で
ある化合物と1jまれる化合物(■d)を原料とする方
法である。
化合物(Ila)i・ウイテソヒ反応により、不砲和ケ
トン体に変換し、カルボニル基を還元し、得られた化合
物の2級水酸基を保護した後、R18が保護されたヒド
ロキシメチル基である場合にはヒドロキシメチル基の保
護基を除去し、得られた化合物のヒドロキシメチル基を
酸化し、R18が保護されたカルボキシ基である場合に
は保護基を除去してカルボキシ化合物を得た後、2級の
水酸基の保護基を除去することによって、化合物(11
)が潜られる。
トン体に変換し、カルボニル基を還元し、得られた化合
物の2級水酸基を保護した後、R18が保護されたヒド
ロキシメチル基である場合にはヒドロキシメチル基の保
護基を除去し、得られた化合物のヒドロキシメチル基を
酸化し、R18が保護されたカルボキシ基である場合に
は保護基を除去してカルボキシ化合物を得た後、2級の
水酸基の保護基を除去することによって、化合物(11
)が潜られる。
実施例 1
窒、l囲気下、55%油性水素化す) IJウム(46
2mg )に 1,4−ジオキサン(151RJ)と炭
(波ジエチル(10M)を加わえ、内温80℃まで加熱
する。このものに、攪拌下 3−(5−ジメチル−t−
ブチルシリルオキシ−3−オキサペンチル)−1−オキ
ソ−7スービシクロ[3,3,OJオクト−2−エン(
500M9 )の1,4−ジオキサン(5d)溶液を滴
下し、ついで同温度で30分攪拌する。反応終了後、反
応液を氷冷し、酢酸で中和した後、1和食塩水を加わえ
、1炸酸エチルエステルで一抽出する0佃出液は自利食
塩水で洗浄し、無水硫酸す) IJウムで乾燥後、減圧
下溶媒を留去し、残漬100〜を得る。
2mg )に 1,4−ジオキサン(151RJ)と炭
(波ジエチル(10M)を加わえ、内温80℃まで加熱
する。このものに、攪拌下 3−(5−ジメチル−t−
ブチルシリルオキシ−3−オキサペンチル)−1−オキ
ソ−7スービシクロ[3,3,OJオクト−2−エン(
500M9 )の1,4−ジオキサン(5d)溶液を滴
下し、ついで同温度で30分攪拌する。反応終了後、反
応液を氷冷し、酢酸で中和した後、1和食塩水を加わえ
、1炸酸エチルエステルで一抽出する0佃出液は自利食
塩水で洗浄し、無水硫酸す) IJウムで乾燥後、減圧
下溶媒を留去し、残漬100〜を得る。
このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精
製することにより、よシ極性の低い部分より、144#
9の目的とずろオクト−2−エン体が油状物質として得
られた。また、より極性の高い部分から オクト−3−
エン体 114・・1?がIOられた。
製することにより、よシ極性の低い部分より、144#
9の目的とずろオクト−2−エン体が油状物質として得
られた。また、より極性の高い部分から オクト−3−
エン体 114・・1?がIOられた。
オクト−2−エン体:
工Rスペクトル(Liq、)νmaxffi ’ :
780.838゜1107、1143.1232.12
55.1G23.1662゜1730.1757.28
60.2940.296G。
780.838゜1107、1143.1232.12
55.1G23.1662゜1730.1757.28
60.2940.296G。
オクト−3−エン体:
工Rスペクトル(Liq 、 )シmazcut−’
: 778.835゜1104、1140.1236.
1255.1621.1662゜1F27. 1754
. 2860. 2940,2960゜実施例2 乙 55%油性水素化ナトリウム1.ool、炭酸ジメfk
(40al)及び 3−(5−ジメチル−1−ブチル7
リルオキシー3−オキサペンチル)−7−オキツーシス
ーピシクo [3,3,0]]オクトー2−エン 2.
30g)を用い、実施例1と同様に反応処理することに
よシ、よシ極性が低い目的とするオクト−2−エン体が
油状物質として1.0(,9得られる。また、よシ極性
が高いオクト−3−エン体が0.96p得られた。
: 778.835゜1104、1140.1236.
1255.1621.1662゜1F27. 1754
. 2860. 2940,2960゜実施例2 乙 55%油性水素化ナトリウム1.ool、炭酸ジメfk
(40al)及び 3−(5−ジメチル−1−ブチル7
リルオキシー3−オキサペンチル)−7−オキツーシス
ーピシクo [3,3,0]]オクトー2−エン 2.
30g)を用い、実施例1と同様に反応処理することに
よシ、よシ極性が低い目的とするオクト−2−エン体が
油状物質として1.0(,9得られる。また、よシ極性
が高いオクト−3−エン体が0.96p得られた。
オクト−2−エン体:
工Rスペクトル(Liq 、 )νmaXcrn 、
778.837゜1105、1140.1232.1
253.1623.1662゜1732、1759.2
86G、 2940.2970゜オクト−3−エン体; 工Rスペクトル(L、iq、 )νmazctrt
、 778.838゜004、 ’1140.123.
8.1255.1623.1665゜1730、175
6.28@@、 2’34G、 2970゜実施例3 3−(5−ジメチル−1−ブチルシリルオキシ−3−オ
キサベンチk)−舊β−メトキシカルボニルー1−オキ
ソ−シス−ビシクロ[’ s、s。
778.837゜1105、1140.1232.1
253.1623.1662゜1732、1759.2
86G、 2940.2970゜オクト−3−エン体; 工Rスペクトル(L、iq、 )νmazctrt
、 778.838゜004、 ’1140.123.
8.1255.1623.1665゜1730、175
6.28@@、 2’34G、 2970゜実施例3 3−(5−ジメチル−1−ブチルシリルオキシ−3−オ
キサベンチk)−舊β−メトキシカルボニルー1−オキ
ソ−シス−ビシクロ[’ s、s。
O]オクト−2−エン(1,IAg)をエチルアルコー
ル(22td’JK溶解し、−40〜〜3tJ℃で水素
化ホウ素ナトリウム(240a7)を加わえ、30分攪
拌する。反応終了後、酢酸、次いで鳩和食塩水を加わえ
酢酸エチルでmtbする。抽出液は飽和食塩水で洗浄し
%無水硫酸す) +7ウムで乾燥後、減圧上溶媒を留去
し、残渣1.291を得る。このものをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製し、目的物を油状物質2
して1、04 p得た。
ル(22td’JK溶解し、−40〜〜3tJ℃で水素
化ホウ素ナトリウム(240a7)を加わえ、30分攪
拌する。反応終了後、酢酸、次いで鳩和食塩水を加わえ
酢酸エチルでmtbする。抽出液は飽和食塩水で洗浄し
%無水硫酸す) +7ウムで乾燥後、減圧上溶媒を留去
し、残渣1.291を得る。このものをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製し、目的物を油状物質2
して1、04 p得た。
工Rスペクトル(”q−) ’mail1m 、71
8.835゜1100、1140.1255. H2S
、 286G、 2930゜2950、3440゜ 実施例 4 2−エン 3−(5−ジメチル−t−ブチルシリルオキシ−3−オ
キサペンチル)−6β−メトキシカルボニル−γα−ヒ
ドロキシーシスービシクロ[3−3,+1 ]]オクト
ー2−エン 1.02g)を塩化メチレン(20:ri
i )に溶解し、氷冷下 λ3−ジヒド目ピラン(o、
3(twtj)とパラトルエンスルホン酸(20M?)
を加わえ、50分攪拌するO反応終了後5那炭酸水素ナ
トリウム水を加わえ中和し、飽和食塩水を加わえ、酢酸
エチルエステルで抽出する。抽出液Fi飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧上溶媒を留去
し、残渣1.39J/を得る。このものをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにて、IIMし、目的物を油状
物質として 1.22/得た。
8.835゜1100、1140.1255. H2S
、 286G、 2930゜2950、3440゜ 実施例 4 2−エン 3−(5−ジメチル−t−ブチルシリルオキシ−3−オ
キサペンチル)−6β−メトキシカルボニル−γα−ヒ
ドロキシーシスービシクロ[3−3,+1 ]]オクト
ー2−エン 1.02g)を塩化メチレン(20:ri
i )に溶解し、氷冷下 λ3−ジヒド目ピラン(o、
3(twtj)とパラトルエンスルホン酸(20M?)
を加わえ、50分攪拌するO反応終了後5那炭酸水素ナ
トリウム水を加わえ中和し、飽和食塩水を加わえ、酢酸
エチルエステルで抽出する。抽出液Fi飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧上溶媒を留去
し、残渣1.39J/を得る。このものをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにて、IIMし、目的物を油状
物質として 1.22/得た。
工Rスペクトル(Llq、) ’!1.aXGl’−’
: 71B、 836゜1023、1G36.112
0.1137.1198.1252゜173T、 28
60.2950゜ 実施例5 3−(5−ジメチル−t−ブチルシリルオキシ−3−オ
キサペンチル)−6β−メトキシカルボニル−Tα−(
2−テトラヒドロヒラニルオキシ)−シス−ビシクロ[
3,3,[l ]]オクトー2−エン6001/19)
のテトラヒドロフラン(20rd)16液に室温で、1
Mテトラブチルアンモニウムフルオリドのテトラヒドロ
フラン溶液(2,6i7りを加わえ、30分攪拌する。
: 71B、 836゜1023、1G36.112
0.1137.1198.1252゜173T、 28
60.2950゜ 実施例5 3−(5−ジメチル−t−ブチルシリルオキシ−3−オ
キサペンチル)−6β−メトキシカルボニル−Tα−(
2−テトラヒドロヒラニルオキシ)−シス−ビシクロ[
3,3,[l ]]オクトー2−エン6001/19)
のテトラヒドロフラン(20rd)16液に室温で、1
Mテトラブチルアンモニウムフルオリドのテトラヒドロ
フラン溶液(2,6i7りを加わえ、30分攪拌する。
反応終了後、反応液に飽和食塩水を加わえ、酢酸エチル
エステルで抽出する。抽出液は飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧上溶媒を留去し、残渣
610ηを得る。このものをシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製し、目的物を油状物質として448
η得た。
エステルで抽出する。抽出液は飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧上溶媒を留去し、残渣
610ηを得る。このものをシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製し、目的物を油状物質として448
η得た。
工Rスペクトル(Liq、)νmaX’m −755
,973゜1025、1036.106F、 1120
.1200.143g。
,973゜1025、1036.106F、 1120
.1200.143g。
1735、2860.2!45.3450゜実施例6
ジョーンズ(Jones ) 試WiC1,smt)
をア七トン(20m7りに浴解し、−20℃ に冷却し
、このものに 3−(5−ヒドロキシ−3−オキサペン
チル)−6β−メトキシカルボニル−Tα−〔2−テト
ラヒドロピラニルオキシ)−シス−ビシクロ[3,3,
0コオクトー2−エン(470噂のアセトン(10d)
溶液を1下する0内温−10℃で3.5時間攪拌した後
、イングロビルアルコールを加わえ、5チ炭酸水素ナト
リウム水にて中和し、飽和食塩水を加わえ、ジエチルエ
ーテルにて抽出する0抽出液は飽和食塩水で洗浄し、無
水、硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧上溶媒を留去し得
られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製し、目的物を油状物・城として173M9得た。
をア七トン(20m7りに浴解し、−20℃ に冷却し
、このものに 3−(5−ヒドロキシ−3−オキサペン
チル)−6β−メトキシカルボニル−Tα−〔2−テト
ラヒドロピラニルオキシ)−シス−ビシクロ[3,3,
0コオクトー2−エン(470噂のアセトン(10d)
溶液を1下する0内温−10℃で3.5時間攪拌した後
、イングロビルアルコールを加わえ、5チ炭酸水素ナト
リウム水にて中和し、飽和食塩水を加わえ、ジエチルエ
ーテルにて抽出する0抽出液は飽和食塩水で洗浄し、無
水、硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧上溶媒を留去し得
られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製し、目的物を油状物・城として173M9得た。
工Rスペクトル(Liq、)νmax/1m 、75
5.973゜1G23.1064.1135.1200
.143B、 1730゜2940、3150゜ 実施例7 3−(4−カルボキシ−3−オキサブチル)−6β−メ
トキシカルボニル−1α−(2−テトラヒドロピラニル
オキシ)−シス−ビシクロ[3,3,OJオクト−2−
エン(ITθ〜)をテトラヒドロフラン(5−)に溶解
し、水素化ホウ素リチウム(200/Q)を加わえ、室
温で20時間攪拌する。反応終了後、酢酸、飽和食塩水
を加わえ、ジエチルエーテルで抽出する0抽出液は、飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
上溶媒を留去する。得られた残渣2001119をジエ
チルエーテル5diC溶解し、過剰のジアゾメタンのエ
ーテル溶液を加わえる。
5.973゜1G23.1064.1135.1200
.143B、 1730゜2940、3150゜ 実施例7 3−(4−カルボキシ−3−オキサブチル)−6β−メ
トキシカルボニル−1α−(2−テトラヒドロピラニル
オキシ)−シス−ビシクロ[3,3,OJオクト−2−
エン(ITθ〜)をテトラヒドロフラン(5−)に溶解
し、水素化ホウ素リチウム(200/Q)を加わえ、室
温で20時間攪拌する。反応終了後、酢酸、飽和食塩水
を加わえ、ジエチルエーテルで抽出する0抽出液は、飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
上溶媒を留去する。得られた残渣2001119をジエ
チルエーテル5diC溶解し、過剰のジアゾメタンのエ
ーテル溶液を加わえる。
反応終了後、減圧上溶媒を留去し得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマト−グラフィーにて精製上、目的物を
油状物質として28m2得た。
ゲルカラムクロマト−グラフィーにて精製上、目的物を
油状物質として28m2得た。
工Rスペクトル シmaXffi−’ : 980.1
025.1035゜10B8.1137.1212.1
443.1757.2880゜2950.347G。
025.1035゜10B8.1137.1212.1
443.1757.2880゜2950.347G。
実施例 8
ラヒドロビラニルオキシ)−シス−ビシクロ[3,3,
OJオクト−2−エン 3−(4−メトキシカルボニル′−3−オキサブチル)
−6β−ヒドロキシメチル−7α−(2−テトラヒドロ
ピラニルオキシ)−7スービシクロ[3,3,OJオク
ト−2−エン(26+119)のジメチルスルホキシド
(1Tnl)溶液にトリエチルアミン(0,31117
)を加わえ、反応液を激しく攪拌しな3(ら室温で、ピ
リジン−803コンプレックス(1101,19)のジ
メチルスルホキシド(1−)溶液を加わえ1時間潰拌す
る。反応終了後 反応液を110食塩水にあけ、酢酸エ
チルエステルで抽出する。油出液は、水で洗浄し、無水
硫酸す) IJウムで乾燥する。減圧上溶媒を留去し、
目的物を油状物質として261ダ得た〇−1。
OJオクト−2−エン 3−(4−メトキシカルボニル′−3−オキサブチル)
−6β−ヒドロキシメチル−7α−(2−テトラヒドロ
ピラニルオキシ)−7スービシクロ[3,3,OJオク
ト−2−エン(26+119)のジメチルスルホキシド
(1Tnl)溶液にトリエチルアミン(0,31117
)を加わえ、反応液を激しく攪拌しな3(ら室温で、ピ
リジン−803コンプレックス(1101,19)のジ
メチルスルホキシド(1−)溶液を加わえ1時間潰拌す
る。反応終了後 反応液を110食塩水にあけ、酢酸エ
チルエステルで抽出する。油出液は、水で洗浄し、無水
硫酸す) IJウムで乾燥する。減圧上溶媒を留去し、
目的物を油状物質として261ダ得た〇−1。
工Rスペクトル(Ll(1,)νmaxcIrL −
978,1030゜1042、1083.1140.1
21G、 1445.1725゜1760、2960゜ IJMRスペクトル(cDal、、)δ:9−70 (
I Hs br、s ) 、5= 37 (I Hlb
r−ts )*4、’58 (IH,br、s )’、
4.04 (2H,s )。
978,1030゜1042、1083.1140.1
21G、 1445.1725゜1760、2960゜ IJMRスペクトル(cDal、、)δ:9−70 (
I Hs br、s ) 、5= 37 (I Hlb
r−ts )*4、’58 (IH,br、s )’、
4.04 (2H,s )。
実施例9
1−オキソ−オクト−2−エン体(実施例2の化合物=
130■)をエタノール9 mlに溶解し−40〜−3
0℃で水素化ホウ素ナトリウム100ηを加え30分攪
拌した。反応終了後酢酸、次いで飽和食塩水を加え酢酸
エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗滌後、硫酸
ナトリウムと共1に乾燥した。溶媒を留去し得られた残
渣をシリカゲルリロマトグラフイーで精製すると1ll
Wvの油状の目的化合物が得られた。
130■)をエタノール9 mlに溶解し−40〜−3
0℃で水素化ホウ素ナトリウム100ηを加え30分攪
拌した。反応終了後酢酸、次いで飽和食塩水を加え酢酸
エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗滌後、硫酸
ナトリウムと共1に乾燥した。溶媒を留去し得られた残
渣をシリカゲルリロマトグラフイーで精製すると1ll
Wvの油状の目的化合物が得られた。
工Rスペクトル(Liq、)シmazcWL−’ :
780840.1030,1103,1143,119
0,1260゜t731.2860,21140,34
(t。
780840.1030,1103,1143,119
0,1260゜t731.2860,21140,34
(t。
実施例1]
3−(S−ジメチル−t−ブチルクリルオキシ−3−オ
キサペンチル)−6β−エトキクカルボニル−7α−(
2−テトラヒドロピラニル−2−エン ヒドロキン体(実施例9の化合物:110■)のメチレ
ンクロリド溶液(5ml)にジヒドロピランf1.15
m1を加え水冷下更にP−)ルエンスルホン酸を触媒量
加え攪拌した。30分後飽和食塩水を加え酢酸エチルで
抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗滌後、硫酸ナトリウ
ムと共に乾燥した。溶媒を留去し得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると128〜の
油状の目的化合物が得られた。
キサペンチル)−6β−エトキクカルボニル−7α−(
2−テトラヒドロピラニル−2−エン ヒドロキン体(実施例9の化合物:110■)のメチレ
ンクロリド溶液(5ml)にジヒドロピランf1.15
m1を加え水冷下更にP−)ルエンスルホン酸を触媒量
加え攪拌した。30分後飽和食塩水を加え酢酸エチルで
抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗滌後、硫酸ナトリウ
ムと共に乾燥した。溶媒を留去し得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると128〜の
油状の目的化合物が得られた。
工Rスペクトル(Liq)νmaxcIl ’ ; 7
79839.971,1022,10311,1123
,1260゜実施例11 2−エン エステル体(実施例1oの化合物:1281v)及び2
0%ジイソブチルアルミニウム水素のトルエン溶液1.
4 ml を用δ実施例16と同様に反応処理すると1
14Ivの油状の目的化合物が得られた。
79839.971,1022,10311,1123
,1260゜実施例11 2−エン エステル体(実施例1oの化合物:1281v)及び2
0%ジイソブチルアルミニウム水素のトルエン溶液1.
4 ml を用δ実施例16と同様に反応処理すると1
14Ivの油状の目的化合物が得られた。
工Rスペクトル(Liq) νmaxc* 、 7
F8゜113!i、@80,1022,1035,11
18.121m0゜1255.1463.3450 実施例12 ヒドロキシ体(寅゛施例11の化合物 1121nIi
I)のジメチルスルホキシド溶液(8ml)にトリエチ
ルアミン2.5 ml を加える。この反応液に激しく
攪拌しながらピリジン無水硫酸複合体550■のジメチ
ルスルホキシド溶液4 ml を滴下した。45分後
反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出した。抽出液を水
洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去すると11
01#gの油状の目的化合物が得られた。
F8゜113!i、@80,1022,1035,11
18.121m0゜1255.1463.3450 実施例12 ヒドロキシ体(寅゛施例11の化合物 1121nIi
I)のジメチルスルホキシド溶液(8ml)にトリエチ
ルアミン2.5 ml を加える。この反応液に激しく
攪拌しながらピリジン無水硫酸複合体550■のジメチ
ルスルホキシド溶液4 ml を滴下した。45分後
反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出した。抽出液を水
洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去すると11
01#gの油状の目的化合物が得られた。
工Rスペクトル(Liq) !’maXcl11 ’
: 779゜835.915,1022.1035.
1200,1255゜1s110.t?22,2L20
,2s6G、z930゜NMRスペクトルccDcts
)δ:9.68(IH。
: 779゜835.915,1022.1035.
1200,1255゜1s110.t?22,2L20
,2s6G、z930゜NMRスペクトルccDcts
)δ:9.68(IH。
’br)、5.30(IH,’br、s)、468(I
H,br)。
H,br)。
0.90(9H,θ1.0.60 (61,θ)実施
例13 55%油性ナトリウム水素200!v、 炭酸ジエチ
ル1 ml 及び3−(2−ジメチル−t−ブチルクリ
ルオキシエチル)−1−オキソーシスービククロ(3,
3,0)オクト−2−エンtsyダを用い実施例1と同
様に反応処理すると57■の油状のオクト−2−エン体
(よシ極性が低い化合物)及び油状の49m9のオクト
−3−エン体(より極性が高い化合物)が得られた。
例13 55%油性ナトリウム水素200!v、 炭酸ジエチ
ル1 ml 及び3−(2−ジメチル−t−ブチルクリ
ルオキシエチル)−1−オキソーシスービククロ(3,
3,0)オクト−2−エンtsyダを用い実施例1と同
様に反応処理すると57■の油状のオクト−2−エン体
(よシ極性が低い化合物)及び油状の49m9のオクト
−3−エン体(より極性が高い化合物)が得られた。
オクト−2−エン体:
工Rxベクトル(Liq) vmax tx 、
7 F 5 。
7 F 5 。
11311.110G、1232,1252,1623
,1662゜1730.1757 オクトー3−エン体 IRスペクトル(Liq) ymax am 、7
78 。
,1662゜1730.1757 オクトー3−エン体 IRスペクトル(Liq) ymax am 、7
78 。
8311.1100,1238,1258,1823.
1g62゜1728.1757 実施例14 6β−エトキシカルボニルオクト−2−エン体(実施例
13の化合物:108■)及び水素化ホウ素ナトリウム
So■を用い実施例3と同様に反応処理すると101〜
の油状の目的化合物が得られた。
1g62゜1728.1757 実施例14 6β−エトキシカルボニルオクト−2−エン体(実施例
13の化合物:108■)及び水素化ホウ素ナトリウム
So■を用い実施例3と同様に反応処理すると101〜
の油状の目的化合物が得られた。
工Rスペクト/l/ (Liq) Vmax cm
、 775 。
、 775 。
840.1100,1258,1730.34110実
施例1S ヒドロキシ体(実施例14の化合物:95Iv)及びジ
ヒドロビラン0.D5rn1を用い実施例4と同様に反
応処理すると油状の目的化合物110′II9得られた
。
施例1S ヒドロキシ体(実施例14の化合物:95Iv)及びジ
ヒドロビラン0.D5rn1を用い実施例4と同様に反
応処理すると油状の目的化合物110′II9得られた
。
IRスペクトル(Liq )νmaxcm 、77
7゜838.975.1G23,1038,1100,
1258゜実施例16 ビラニル体(実施例15の化合物:*15#)をメチレ
ンクロリド15m1 に溶解する。この・−溶液に一7
0℃で20%水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエ
ン溶液9.9 ml を加え2時間30分攪拌した。
7゜838.975.1G23,1038,1100,
1258゜実施例16 ビラニル体(実施例15の化合物:*15#)をメチレ
ンクロリド15m1 に溶解する。この・−溶液に一7
0℃で20%水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエ
ン溶液9.9 ml を加え2時間30分攪拌した。
反応終了後メタノール、酢酸次いで飽和食塩水を力Uえ
酢酸エチルで抽出する。抽出液を飽和食塩水で洗滌復硫
酸す) IJウムで乾燥する。溶媒を留去し得られた残
渣をシリカゲルカラムで精製すると869の油状の目的
化合物が得られた。
酢酸エチルで抽出する。抽出液を飽和食塩水で洗滌復硫
酸す) IJウムで乾燥する。溶媒を留去し得られた残
渣をシリカゲルカラムで精製すると869の油状の目的
化合物が得られた。
工Rスペクトル(Liq) L’maX crn−’
: 780B40,982,1024,1040,1
100.1280゜実施例17 ヒドロキシ体(実施例16の化合物=80rn9)を用
い実施例12と同様に反応処理すると94■の油状の粗
製目的化合物が得られた。
: 780B40,982,1024,1040,1
100.1280゜実施例17 ヒドロキシ体(実施例16の化合物=80rn9)を用
い実施例12と同様に反応処理すると94■の油状の粗
製目的化合物が得られた。
工Rスペクト/l/ (Liq ) vmax an
’ 二T81゜842.1104,1262,173
0.274ONMRスペクトル(ODOt!S)δ:
9.64 (IH、d)。
’ 二T81゜842.1104,1262,173
0.274ONMRスペクトル(ODOt!S)δ:
9.64 (IH、d)。
5.28(IH,brs )、4.511(IH,br
)、0.88(9H,s)、0.2(8H,s) 実施例1日 アルコール体(実施例16の化合物: 8.9B?>及
びジヒドロピラン(1,24F)を用い実施例4と同様
に反応処理して得られたジビラニル体4.57Fをテト
ラヒドロフラン40 mlに溶かし室温で1Mテトラブ
チルアンモニウムフルオリド30m1 を加え、実施例
5と同様に反応処理すると2.11Fの油状のアルコー
ル体が得られた。このアルコール体2.11fをピリジ
ン15m1に溶解しベンゾイルクロリド1.15fを加
え室温で4時間放置したのち水を加え酢酸エチルで抽出
する。抽出液を飽和食塩水、冷却した3チ塩酸水、重曹
水、次いで飽和食塩水で洗滌したのち硫酸ナトリウムと
共に乾燥する。溶媒を留去し得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトで精製すると油状のベンゾイル体2.2
19が得られた。このベンゾイル体5.22をメタノー
ル52m1 に溶解して水13m1とp−)ルエンスル
ホン酸1,3tを刀口えて30〜35℃に1.5時間攪
拌する。次いで、反応液を100m’1の水に希釈して
酢酸エチル抽出、抽出液を水洗、無水芒硝乾燥及び溶媒
を減圧留去と順次行ない得られた結晶性残渣をシクロヘ
キサンにて洗滌済遇することにより2.81の目的化合
物を得た。
)、0.88(9H,s)、0.2(8H,s) 実施例1日 アルコール体(実施例16の化合物: 8.9B?>及
びジヒドロピラン(1,24F)を用い実施例4と同様
に反応処理して得られたジビラニル体4.57Fをテト
ラヒドロフラン40 mlに溶かし室温で1Mテトラブ
チルアンモニウムフルオリド30m1 を加え、実施例
5と同様に反応処理すると2.11Fの油状のアルコー
ル体が得られた。このアルコール体2.11fをピリジ
ン15m1に溶解しベンゾイルクロリド1.15fを加
え室温で4時間放置したのち水を加え酢酸エチルで抽出
する。抽出液を飽和食塩水、冷却した3チ塩酸水、重曹
水、次いで飽和食塩水で洗滌したのち硫酸ナトリウムと
共に乾燥する。溶媒を留去し得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトで精製すると油状のベンゾイル体2.2
19が得られた。このベンゾイル体5.22をメタノー
ル52m1 に溶解して水13m1とp−)ルエンスル
ホン酸1,3tを刀口えて30〜35℃に1.5時間攪
拌する。次いで、反応液を100m’1の水に希釈して
酢酸エチル抽出、抽出液を水洗、無水芒硝乾燥及び溶媒
を減圧留去と順次行ない得られた結晶性残渣をシクロヘ
キサンにて洗滌済遇することにより2.81の目的化合
物を得た。
工Rスペクトル(KBr) νmaxc+m ’ :
10801120.1280,1715.322ON
MRスペクトル(ODOLs)δ:4.43(2H。
10801120.1280,1715.322ON
MRスペクトル(ODOLs)δ:4.43(2H。
t)、5.46(tH,e)、7.48(3H,m)、
8.05(2H,m) 実施例19 0ピラニルオキシ)−シス−ビシクロ(3,3゜ジヒド
ロキシ体30Fとトリエチルアミン2.61m’lをベ
ンゼン60m1に溶解して水冷却、攪拌下にトリクロロ
アセチルクロリド1.111 mlをベンゼン30m1
に溶解して滴下し20分間攪拌する。反応液を氷水に希
釈して酢酸エチル抽出、抽出液を水洗、乾燥及び溶媒を
減圧留去と順次行ない4.92の油状残渣を得た。この
残渣な、50fのシリカゲルを用いたカラムクロマトグ
ラフィーに付し精製することによシ&0510モノート
リクロロアセチル体を得た。
8.05(2H,m) 実施例19 0ピラニルオキシ)−シス−ビシクロ(3,3゜ジヒド
ロキシ体30Fとトリエチルアミン2.61m’lをベ
ンゼン60m1に溶解して水冷却、攪拌下にトリクロロ
アセチルクロリド1.111 mlをベンゼン30m1
に溶解して滴下し20分間攪拌する。反応液を氷水に希
釈して酢酸エチル抽出、抽出液を水洗、乾燥及び溶媒を
減圧留去と順次行ない4.92の油状残渣を得た。この
残渣な、50fのシリカゲルを用いたカラムクロマトグ
ラフィーに付し精製することによシ&0510モノート
リクロロアセチル体を得た。
モノ−トリクロロアセチル体3.05Fと2.3−ジヒ
ドロピラン0.113 mlを10m1の塩化メチレン
に溶解して少量のp−トルエンスルホン酸を加えて室温
に10分間攪拌する。反応液を酢酸エチルに希釈して水
洗、乾燥及び溶媒を減圧留去と順次行ないピラニル体3
.7fを得た。
ドロピラン0.113 mlを10m1の塩化メチレン
に溶解して少量のp−トルエンスルホン酸を加えて室温
に10分間攪拌する。反応液を酢酸エチルに希釈して水
洗、乾燥及び溶媒を減圧留去と順次行ないピラニル体3
.7fを得た。
ヒラニル体3.6Fを70 ml、のメタノールに溶解
して飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5mlを加えて30
〜40℃に2時間攪拌する。反応液を、飽和食塩水に希
釈し、て酢酸エチル抽出、抽出液を水洗、乾燥及び溶媒
減圧留去と順次行ない得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付すことにより2.599の目的
化合物を得た。
して飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5mlを加えて30
〜40℃に2時間攪拌する。反応液を、飽和食塩水に希
釈し、て酢酸エチル抽出、抽出液を水洗、乾燥及び溶媒
減圧留去と順次行ない得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付すことにより2.599の目的
化合物を得た。
工Rスペクトル(LJ−q)νmaxm 、9γ0
゜1G20,1070,1110,1270,1600
゜1715.3420 実施例20 ヒト目キシ体2.50fをジメチルスルホキシド25m
1に溶解してトリエチルアミン8.97m1を加えて2
0℃攪拌下にサルファ・−トリオキシド−ピリジンコン
プレックスs、tsrをジメチルスルホキシド17m1
に溶解して滴下し10分間攪拌する。反応液を、氷水に
希釈して酢酸エチル抽出、抽出液を水洗、乾燥及び溶媒
を減圧留去と順次行ない2.34Fの目的化合物を得た
。
゜1G20,1070,1110,1270,1600
゜1715.3420 実施例20 ヒト目キシ体2.50fをジメチルスルホキシド25m
1に溶解してトリエチルアミン8.97m1を加えて2
0℃攪拌下にサルファ・−トリオキシド−ピリジンコン
プレックスs、tsrをジメチルスルホキシド17m1
に溶解して滴下し10分間攪拌する。反応液を、氷水に
希釈して酢酸エチル抽出、抽出液を水洗、乾燥及び溶媒
を減圧留去と順次行ない2.34Fの目的化合物を得た
。
工Rスペクトル(Liq> j/maX cm 、
715 。
715 。
975.103(1,1120,1211,12ONM
Rスペクトル(ODO4x) a : 4.64 (I
H。
Rスペクトル(ODO4x) a : 4.64 (I
H。
El)、5.46(IH,e)、9.78(IH,d)
オクタン 14、19 Fの55%油性ナトリウム水素をヘキサン
で洗滌した後1. s tのジメトキシエタンを加えた
。この懸濁液に水冷下トリメチルホスホノアセテ−)7
4.02Fを滴下し室温で1時間攪拌した。次いで反応
液に3−オキソ−7、7−ニチレンジオキシーシスービ
シクロ(3,3゜0〕オクタン14gのジメトキシエタ
ン溶液(370ml)を滴下し室温で10時間攪拌した
。
オクタン 14、19 Fの55%油性ナトリウム水素をヘキサン
で洗滌した後1. s tのジメトキシエタンを加えた
。この懸濁液に水冷下トリメチルホスホノアセテ−)7
4.02Fを滴下し室温で1時間攪拌した。次いで反応
液に3−オキソ−7、7−ニチレンジオキシーシスービ
シクロ(3,3゜0〕オクタン14gのジメトキシエタ
ン溶液(370ml)を滴下し室温で10時間攪拌した
。
反応終了後、反応液に酢酸及び飽和食塩水を加え酢酸エ
チルで抽出する。抽出液を飽和食塩水で洗滌後硫酸ナト
リウムと共に乾燥する。溶媒を留去し得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると151
の油状の目的化合物が得られた。
チルで抽出する。抽出液を飽和食塩水で洗滌後硫酸ナト
リウムと共に乾燥する。溶媒を留去し得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると151
の油状の目的化合物が得られた。
工Rスペクト/I/ (Liq) νmax crn
’ : 730 。
’ : 730 。
117B、10211,1130,1367.1440
,1660゜1720.2900.2960 参考例2 ジイソプロピルアミノリチウム溶液(9,yzrのジイ
ソプロピルアミン、16.7mlの15チブチルリチウ
ムヘキサン溶液及び66m1のテトラヒドロフランより
N製) VC−1o 〜−20℃でヘキサメチルホスホ
リルトリアミド16.7mlを加え30分攪拌した。こ
の溶液を一14℃まで冷却し60分攪拌した後エステル
体(参考例1の化合物:15.26?) のテトラヒド
ロフラン溶液(86ml)を滴下し40分攪拌した。反
応終了後、飽和塩化アンモニウム溶液に稀釈し酢酸エチ
ルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗滌後硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。溶媒を留去し得られた残渣をシリカゲ
ルカラムク。7トグラフイーで精製すると15.052
の油状の目的化合物が得°られた。
,1660゜1720.2900.2960 参考例2 ジイソプロピルアミノリチウム溶液(9,yzrのジイ
ソプロピルアミン、16.7mlの15チブチルリチウ
ムヘキサン溶液及び66m1のテトラヒドロフランより
N製) VC−1o 〜−20℃でヘキサメチルホスホ
リルトリアミド16.7mlを加え30分攪拌した。こ
の溶液を一14℃まで冷却し60分攪拌した後エステル
体(参考例1の化合物:15.26?) のテトラヒド
ロフラン溶液(86ml)を滴下し40分攪拌した。反
応終了後、飽和塩化アンモニウム溶液に稀釈し酢酸エチ
ルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗滌後硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。溶媒を留去し得られた残渣をシリカゲ
ルカラムク。7トグラフイーで精製すると15.052
の油状の目的化合物が得°られた。
−1、゛
工Rスペクトル(Liq) νmax an 、
730 。
730 。
800.953,1110.124G、1330,14
40゜143.211Go、297G 参考例3 水素化アルミニウムリチウム(λsty> 。
40゜143.211Go、297G 参考例3 水素化アルミニウムリチウム(λsty> 。
エーテル(250mx)懸濁液に一3〜8℃にてエステ
ル体(参考例2の化合物:t4.56r)のエーテル溶
液(t25m’l)を滴下した。25分攪拌後反応液に
4%苛性ソーダ水(15ml)を加え60分攪拌した。
ル体(参考例2の化合物:t4.56r)のエーテル溶
液(t25m’l)を滴下した。25分攪拌後反応液に
4%苛性ソーダ水(15ml)を加え60分攪拌した。
析出物を炉取しF液を濃縮し得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製すると12.429の
油状の目的化合物を得た。
カラムクロマトグラフィーで精製すると12.429の
油状の目的化合物を得た。
工Rスペクトル(Liq)νmaxcm 、722゜
795.950,985.1045,111G、133
0゜1432.14B0,2900.3450参考例4 ヱ 7.1−エチレンジオキシ−3−(2−ヒドロキシエチ
ル)−シス−ビシクロ(3,3,0)オクト−2−エン
(3,0Of)を、ア七トン(30m’l)。
795.950,985.1045,111G、133
0゜1432.14B0,2900.3450参考例4 ヱ 7.1−エチレンジオキシ−3−(2−ヒドロキシエチ
ル)−シス−ビシクロ(3,3,0)オクト−2−エン
(3,0Of)を、ア七トン(30m’l)。
水(12ml)の混液に溶解したものに、濃塩酸(0,
5m1) を加わえ、室温で1時間攪拌する。
5m1) を加わえ、室温で1時間攪拌する。
反応終了後、反応液に飽和食塩水を加わえ、酢酸エチル
にて抽出する。抽出液は飽和食塩水で洗滌後、無水硫酸
す) リウムで乾燥する。減圧上溶媒を留去し、得られ
た残渣2.61Fを、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製し、目的物を油状物質として1.97F得
た。
にて抽出する。抽出液は飽和食塩水で洗滌後、無水硫酸
す) リウムで乾燥する。減圧上溶媒を留去し、得られ
た残渣2.61Fを、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製し、目的物を油状物質として1.97F得
た。
工Rx<クトル(Liq)νmaxcrn :104
7゜1400.1740.2B50,2900.343
0参考例5 3−(2−ヒドロキシエチル)−7−オキソ−シス−ビ
シクロ(3,3,0)オクト−2−エン(1,902)
のジメチルホルムアミド(10m1)溶液に、t−ブチ
ルジメチルシリルクロライド(2,58p)、イミダゾ
ール(1,17f )、4−ジメチルアミノピリジン(
0,2(1)を加わえ、室温で30分攪拌する。反応終
了後、反応液を飽和食塩水にあけ、酢酸エチルで抽出す
る。抽出液は飽和食塩水で洗滌後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥する。減圧上溶媒を留去し、得られ念残渣s、
s o yを、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製し、目的物を油状物質として象022得た。
7゜1400.1740.2B50,2900.343
0参考例5 3−(2−ヒドロキシエチル)−7−オキソ−シス−ビ
シクロ(3,3,0)オクト−2−エン(1,902)
のジメチルホルムアミド(10m1)溶液に、t−ブチ
ルジメチルシリルクロライド(2,58p)、イミダゾ
ール(1,17f )、4−ジメチルアミノピリジン(
0,2(1)を加わえ、室温で30分攪拌する。反応終
了後、反応液を飽和食塩水にあけ、酢酸エチルで抽出す
る。抽出液は飽和食塩水で洗滌後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥する。減圧上溶媒を留去し、得られ念残渣s、
s o yを、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製し、目的物を油状物質として象022得た。
IRスペクトル(Liq、) νmax cm 。
775,839,1100,1257,1745.28
60゜2900.2940.2970 参考例6 15%n−ブチルリチウムヘキサン溶液(33,0m1
)の溶媒を減圧上留去したものに、テトラヒドロフラン
(lOQml )を加ワエ、内温−50℃に冷却する。
60゜2900.2940.2970 参考例6 15%n−ブチルリチウムヘキサン溶液(33,0m1
)の溶媒を減圧上留去したものに、テトラヒドロフラン
(lOQml )を加ワエ、内温−50℃に冷却する。
このものに、同温度で、7、7−ニチレンジオキシー3
−(2−ヒドロキシエチル)−シス−ビシクロ(3,3
,0)オクト−2−エン(10,(1)のテトうヒドロ
フラン(lOQml )溶液を、約20分かけて滴下し
た後、反応液を室温にまで戻す。ヱ温にて、上記反応液
にリチウムクロルアセテ−)(7,20f)をジメチル
スルホキ7ド(10m1)、ジメチルホルムアミド(2
00ml )の混液に溶解した溶液を約30分かけて滴
下する。
−(2−ヒドロキシエチル)−シス−ビシクロ(3,3
,0)オクト−2−エン(10,(1)のテトうヒドロ
フラン(lOQml )溶液を、約20分かけて滴下し
た後、反応液を室温にまで戻す。ヱ温にて、上記反応液
にリチウムクロルアセテ−)(7,20f)をジメチル
スルホキ7ド(10m1)、ジメチルホルムアミド(2
00ml )の混液に溶解した溶液を約30分かけて滴
下する。
室温で16時間攪拌した後、反応液を酢酸で中和し、水
にあけ、酢酸エチルで抽出する。酢酸エチルエステル抽
出層を5%炭酸水素ナトリウム水溶液にて抽出する。5
チ炭酸水素ナトリウム抽出液は、酢酸酸性とした後、酢
酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗滌後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥する。減圧上溶媒を留去し、得られた残F
F、to、zrをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
にて精製し、目的物を油状物質として5、48 f得た
。
にあけ、酢酸エチルで抽出する。酢酸エチルエステル抽
出層を5%炭酸水素ナトリウム水溶液にて抽出する。5
チ炭酸水素ナトリウム抽出液は、酢酸酸性とした後、酢
酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗滌後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥する。減圧上溶媒を留去し、得られた残F
F、to、zrをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
にて精製し、目的物を油状物質として5、48 f得た
。
工Rスペクトル(Liq) v+naxcm−1: 1
1351200.1240,1400,1430,17
35゜2900.2940.3150 参考例1 3−(4−カルボキシ−3−オキサブチル)−7,7−
ニチレンジオキシー7スーピシクロ〔3,3,0〕オク
ト−2−エン(3,00f )のジエチルエーテル(1
0ml) 溶液に、過剰のジアゾメタンジエチルエー
テル溶液を加わえる。反応終了後、減圧上溶媒を留去し
、残渣3.16Pを得る。このものをジエチルエーテル
(10ml)に溶解し、水冷下、水素化アルミニウムリ
チウム(1,02)のエーテル(50ml)懸濁液に加
わえる。室温で30分攪拌した後、−チ水酸化ナトリウ
ム水溶液(4m1.)を加わえ、室温で3時間攪拌する
。生成する白色沈殿物を戸去した後、ろ液を減圧上濃縮
し、残渣3.3Ofを得る。この゛ものをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物を油状物質
として1.82r 得た。
1351200.1240,1400,1430,17
35゜2900.2940.3150 参考例1 3−(4−カルボキシ−3−オキサブチル)−7,7−
ニチレンジオキシー7スーピシクロ〔3,3,0〕オク
ト−2−エン(3,00f )のジエチルエーテル(1
0ml) 溶液に、過剰のジアゾメタンジエチルエー
テル溶液を加わえる。反応終了後、減圧上溶媒を留去し
、残渣3.16Pを得る。このものをジエチルエーテル
(10ml)に溶解し、水冷下、水素化アルミニウムリ
チウム(1,02)のエーテル(50ml)懸濁液に加
わえる。室温で30分攪拌した後、−チ水酸化ナトリウ
ム水溶液(4m1.)を加わえ、室温で3時間攪拌する
。生成する白色沈殿物を戸去した後、ろ液を減圧上濃縮
し、残渣3.3Ofを得る。この゛ものをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物を油状物質
として1.82r 得た。
−1。
工Rスペクトル(Liq、)νmax arr 、
104 B 。
104 B 。
1080.1110,1325,2900.2950゜
参考例8 7γ−エチレンジオキシ−3−(5−ヒドロキシ−3−
オキサペンチル)−シス−ビシクロ(3,3,0)オク
ト−2−エン(120■)をアセトン(14m1) 、
水(7ml)の混液に溶解したものに、濃塩酸(0,1
5m1)を力口わえ、室温で30分攪拌する。反応終了
後、反応液を飽和食塩水にあけ、酢酸エチルエステルで
抽出する。
参考例8 7γ−エチレンジオキシ−3−(5−ヒドロキシ−3−
オキサペンチル)−シス−ビシクロ(3,3,0)オク
ト−2−エン(120■)をアセトン(14m1) 、
水(7ml)の混液に溶解したものに、濃塩酸(0,1
5m1)を力口わえ、室温で30分攪拌する。反応終了
後、反応液を飽和食塩水にあけ、酢酸エチルエステルで
抽出する。
抽出液は、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥する。減圧上溶媒を留去し、得られた残渣592〜
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目
的物を油状物として583■得た。
乾燥する。減圧上溶媒を留去し、得られた残渣592〜
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目
的物を油状物として583■得た。
工Rスペクトル(Liq・) νmaxcrlL、 t
oao。
oao。
1118.1154,1398.1F35,2900゜
参考例9 3−(5−ヒドロキシ−3−オキサペンチル)−7−オ
キツーシス−ビシクロ[3,3,0)オクト−2−エン
(1,5tr)のジメチルホルムアミド(8m:L)溶
液に、t−ブチルジメチルシリルクロライド(1,62
1)、イミダゾール(0,73f)、4−ジメチルアミ
ノピリジン(0,2Of)を加わえ、室温で30分攪拌
する。反応終了後、反応液を飽和食塩水にあけ、酢酸エ
チルエステルで抽出する。抽出液は、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧上溶媒を留去
し、得られた残渣4.0 Ofをシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにて精製し、目的物を油状物質として2
.33r得た。
参考例9 3−(5−ヒドロキシ−3−オキサペンチル)−7−オ
キツーシス−ビシクロ[3,3,0)オクト−2−エン
(1,5tr)のジメチルホルムアミド(8m:L)溶
液に、t−ブチルジメチルシリルクロライド(1,62
1)、イミダゾール(0,73f)、4−ジメチルアミ
ノピリジン(0,2Of)を加わえ、室温で30分攪拌
する。反応終了後、反応液を飽和食塩水にあけ、酢酸エ
チルエステルで抽出する。抽出液は、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧上溶媒を留去
し、得られた残渣4.0 Ofをシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにて精製し、目的物を油状物質として2
.33r得た。
工Rスペクトル(Liq−) LIma、xcm ’
: 780゜840.1108,1140,1256
,1743,2870゜2950.2980 参考例10 アルコール体(参考例3の化合物:120#l57)を
メチレンクロリド(IQml)に溶解し水冷下トリエチ
ルアミン(87m9 ) 人込でメタンスルホニルク
ロリド(97m? ) を加えた。2時間後反応液に
酢酸エチルエステルを加え飽和食塩水、酢酸水、稀重曹
水、次いで飽和食塩水で洗滌し硫酸ナトリウムと共に乾
燥した。溶媒を留去すると125 m9の目的化合物が
得られた。
: 780゜840.1108,1140,1256
,1743,2870゜2950.2980 参考例10 アルコール体(参考例3の化合物:120#l57)を
メチレンクロリド(IQml)に溶解し水冷下トリエチ
ルアミン(87m9 ) 人込でメタンスルホニルク
ロリド(97m? ) を加えた。2時間後反応液に
酢酸エチルエステルを加え飽和食塩水、酢酸水、稀重曹
水、次いで飽和食塩水で洗滌し硫酸ナトリウムと共に乾
燥した。溶媒を留去すると125 m9の目的化合物が
得られた。
工lRスペクトル(0HO43) l/max tx
。
。
32O
NMRスペクトル(ODO4ろ)δ:3.12(3H,
F3)、3.86(4H2日) 参考例11 55係ナトリウム水素(油性)(31■)をヘキサンで
洗滌後ジメチルスルホキシド15m1に懸濁した。この
懸濁液にチオグリコール酸395■を加え室温で発泡し
なくなるまで攪拌する。次いでメシル体(参考例10の
化合物:12119 ) のジメチルスルホキシド溶
液311/1を加え室温で1時間攪拌した。反応液を氷
水にあけ酢酸で酸性として酢酸エチルで抽出する。
F3)、3.86(4H2日) 参考例11 55係ナトリウム水素(油性)(31■)をヘキサンで
洗滌後ジメチルスルホキシド15m1に懸濁した。この
懸濁液にチオグリコール酸395■を加え室温で発泡し
なくなるまで攪拌する。次いでメシル体(参考例10の
化合物:12119 ) のジメチルスルホキシド溶
液311/1を加え室温で1時間攪拌した。反応液を氷
水にあけ酢酸で酸性として酢酸エチルで抽出する。
抽出液を飽和食塩水で洗滌したのち硫酸ナトリウムと共
に乾燥する。溶媒を留去し得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製すると、136〜の目的
化合物が得られた。
に乾燥する。溶媒を留去し得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製すると、136〜の目的
化合物が得られた。
iRスペクトル(OHOt5)νmaxcIrL。
1730.3150.NMRスペクトル(aD(、tx
)δ: 3.22(21(、s)3.87(4H,a)
参考例21 −2−エン アルデヒド体(実施例17の化合物:94m9)をエー
テル1.5mlに溶解し、150■のトリブチル−2−
オキソヘプチリデンホスホランを加え室温で5時間放置
した。反応終了後溶媒な留去し得られた残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製すると105即の油状の目
的化合物が得られた。
)δ: 3.22(21(、s)3.87(4H,a)
参考例21 −2−エン アルデヒド体(実施例17の化合物:94m9)をエー
テル1.5mlに溶解し、150■のトリブチル−2−
オキソヘプチリデンホスホランを加え室温で5時間放置
した。反応終了後溶媒な留去し得られた残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製すると105即の油状の目
的化合物が得られた。
工RスペクトA、 (Li+1) νmax cm ’
: 775 。
: 775 。
834.978.1(121,103B、1257,1
625゜1e7o、192.2930 参考例22 エノン体(参考例21の化合物:100〜)のメタノー
ル溶液(1,5in’l)をセリウムトリクロリド、T
−水利物日1019のメタノール溶液(1lnl)に氷
冷下加えたのち、水素化ホウ素ナトリウム100■を加
え攪拌した。、 15分後、飽和食塩水を加え酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を飽和食塩水で洗滌後硫酸ナトリ
ウムと共に乾燥する。溶媒を留去し得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトで精製するとよシ極性の低い部分
より油状の3β−ヒドロキシ異性体29■が得られ、よ
り極性の高い部分よシ油状の3α−ヒドロキシ異性体5
5m(jが得られた。
625゜1e7o、192.2930 参考例22 エノン体(参考例21の化合物:100〜)のメタノー
ル溶液(1,5in’l)をセリウムトリクロリド、T
−水利物日1019のメタノール溶液(1lnl)に氷
冷下加えたのち、水素化ホウ素ナトリウム100■を加
え攪拌した。、 15分後、飽和食塩水を加え酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を飽和食塩水で洗滌後硫酸ナトリ
ウムと共に乾燥する。溶媒を留去し得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトで精製するとよシ極性の低い部分
より油状の3β−ヒドロキシ異性体29■が得られ、よ
り極性の高い部分よシ油状の3α−ヒドロキシ異性体5
5m(jが得られた。
IRスペクト# (Liq) umax tyn
、 777 。
、 777 。
838、N10,1023,1038,1101,12
60゜2940.3440 3α−ヒドロキシ異性体: 工Rスペクトル(LiQ)+zmaxcm 、77
8゜839.980.1022.to39,110G、
1259゜2940.3450 参考例23 3α−ヒドロキシ体(参考例22の化合物:53m17
)をメチレンクロリド2ml に溶解しジヒドロピラ
ン[1,1mlを加えた後水冷し、更に触媒量のP−)
ルエンスルホン酸を加え攪拌した。30分後稀重曹水を
加え酢酸エチルで抽出した。抽出液を水洗後硫酸ナトリ
ウムと共に乾燥する。溶媒を留去し得ら?L、り残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製スるドア2
〜の油状の目的化合物が得らり、た。
60゜2940.3440 3α−ヒドロキシ異性体: 工Rスペクトル(LiQ)+zmaxcm 、77
8゜839.980.1022.to39,110G、
1259゜2940.3450 参考例23 3α−ヒドロキシ体(参考例22の化合物:53m17
)をメチレンクロリド2ml に溶解しジヒドロピラ
ン[1,1mlを加えた後水冷し、更に触媒量のP−)
ルエンスルホン酸を加え攪拌した。30分後稀重曹水を
加え酢酸エチルで抽出した。抽出液を水洗後硫酸ナトリ
ウムと共に乾燥する。溶媒を留去し得ら?L、り残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製スるドア2
〜の油状の目的化合物が得らり、た。
工Rスペクトル(Liq) l/maX ca ’
: 778840.980,1022,1040.10
80,1260゜参考例24 ピラニル体(参考例23の化合物ニア0mII)のテト
ラヒドロフラン溶液(21]]1)にIMテトラブ千チ
ルンニニウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液0.
3nrlを加え室温で1時間半攪拌した。反応終了後飽
和食塩水を加え酢酸エチル゛で抽出した。抽出液を飽和
食塩水、稀重曹水、飽和食塩水で順次洗滌後硫酸す)
IJウムと共に乾燥した。溶媒を留去し得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると38
■の油状の目的化合物が俸らfまた。
: 778840.980,1022,1040.10
80,1260゜参考例24 ピラニル体(参考例23の化合物ニア0mII)のテト
ラヒドロフラン溶液(21]]1)にIMテトラブ千チ
ルンニニウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液0.
3nrlを加え室温で1時間半攪拌した。反応終了後飽
和食塩水を加え酢酸エチル゛で抽出した。抽出液を飽和
食塩水、稀重曹水、飽和食塩水で順次洗滌後硫酸す)
IJウムと共に乾燥した。溶媒を留去し得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると38
■の油状の目的化合物が俸らfまた。
工Rスペクトル(Li、q ) vmax cm
、 3350゜1032.1022.12B2,144
2,1453,974参考例25 ヒドロキシエチル体(参考例24の化合物:105m9
)をジメチルスルホキシド(L5ml)及びジメチルホ
ルムアミド(L5ml)に溶解し55%油性ナトリウム
水素(961qp)を加え室温で30分攪拌する。次い
でクロル酢酸リチウム塩5961R9を加え22時間攪
拌する。その後反応液を氷水にあけ酢酸で酸性として、
酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水、次いで水で洗
滌したのち、無水硫酸ナトリウムと共に乾燥する。溶媒
を留去し得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(2s
o+厚さ、20儒X20ぼ ニジリカゲル)で精製し、
目的化合物を油状物として31 m9得た。展開溶媒は
酢酸少量含有ヘキサン−酢酸エチル(1:1)を使用し
九。
、 3350゜1032.1022.12B2,144
2,1453,974参考例25 ヒドロキシエチル体(参考例24の化合物:105m9
)をジメチルスルホキシド(L5ml)及びジメチルホ
ルムアミド(L5ml)に溶解し55%油性ナトリウム
水素(961qp)を加え室温で30分攪拌する。次い
でクロル酢酸リチウム塩5961R9を加え22時間攪
拌する。その後反応液を氷水にあけ酢酸で酸性として、
酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水、次いで水で洗
滌したのち、無水硫酸ナトリウムと共に乾燥する。溶媒
を留去し得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(2s
o+厚さ、20儒X20ぼ ニジリカゲル)で精製し、
目的化合物を油状物として31 m9得た。展開溶媒は
酢酸少量含有ヘキサン−酢酸エチル(1:1)を使用し
九。
工Rスペクトル(Liq)νmaxcm 、 17
20 。
20 。
1750、NMRスペクトル(ODCt5)δppm:
0.90(3H,t、0H3) 3.62 (2H、t : ;J=−T H2,−cH
2o−)4.07(2H,θ、−0H20−) 4.67(2H,br、e、−00HO−X2)5.2
〜5.8(3H,m、=OH−X3)参考例26 オクト−2−エン ジビ→ニル体(参考例25の化合物=150〜)のアセ
トン溶液(flml)にカンファースルホン酸20■を
加え、すらに白濁するまで水を加え、50℃に加熱攪拌
した。3時間30分後食塩水を加え酢酸エチルで抽出す
る。抽出液を食塩水で洗滌後、無水硫酸ナトIJウムと
共に乾燥する。溶媒を留去し得られた残渣をシリカゲル
を用い精製する。20%酢酸エチル含有ヘキサン〜酢酸
エチル流出部より95■の油状目的物が得られた。
0.90(3H,t、0H3) 3.62 (2H、t : ;J=−T H2,−cH
2o−)4.07(2H,θ、−0H20−) 4.67(2H,br、e、−00HO−X2)5.2
〜5.8(3H,m、=OH−X3)参考例26 オクト−2−エン ジビ→ニル体(参考例25の化合物=150〜)のアセ
トン溶液(flml)にカンファースルホン酸20■を
加え、すらに白濁するまで水を加え、50℃に加熱攪拌
した。3時間30分後食塩水を加え酢酸エチルで抽出す
る。抽出液を食塩水で洗滌後、無水硫酸ナトIJウムと
共に乾燥する。溶媒を留去し得られた残渣をシリカゲル
を用い精製する。20%酢酸エチル含有ヘキサン〜酢酸
エチル流出部より95■の油状目的物が得られた。
工Rスペクトル(Liq) LmaXc1n’ :1
133.3380,973 N M RXへ/ ト# (ODCjt5)a ppm
:0.110(3H,t :0H3) & 75 (2H+ t : J =6 Hz T −
〇 H20−)4.08 (2H、s 、 −0H20
−)5.41 (I H、br、s 、 =OH−)5
.53(2H,m、−0R=OH−)参考例27 3−(5−ジメチル−t−ブチルシリルオキアルデヒド
′#(実施例12の化合物:110■)及びトリブチル
2−オキソヘプチリデンホスホラン180■を用い参考
例21と同様に反応処理すると130〜の油状の目的化
合物が得られた。
133.3380,973 N M RXへ/ ト# (ODCjt5)a ppm
:0.110(3H,t :0H3) & 75 (2H+ t : J =6 Hz T −
〇 H20−)4.08 (2H、s 、 −0H20
−)5.41 (I H、br、s 、 =OH−)5
.53(2H,m、−0R=OH−)参考例27 3−(5−ジメチル−t−ブチルシリルオキアルデヒド
′#(実施例12の化合物:110■)及びトリブチル
2−オキソヘプチリデンホスホラン180■を用い参考
例21と同様に反応処理すると130〜の油状の目的化
合物が得られた。
工Rスペクトル(Li(1) νmaxm ’ :
7γ8I836.975,1021,1035,107
11,1120゜1200.1253,1630,16
72,1692゜2860.2930 参考例28 −(3β−ヒドロキシ)異性体 ケトン体(参考例2Tの化合物:125■)。
7γ8I836.975,1021,1035,107
11,1120゜1200.1253,1630,16
72,1692゜2860.2930 参考例28 −(3β−ヒドロキシ)異性体 ケトン体(参考例2Tの化合物:125■)。
セリウムトリクロリド・1水和物tsomp及び水素化
ホウ素ナトリウム100■を用い参考例22と同様に反
応処理すると、よ勺極性の低い部分より油状の3β−ヒ
ドロキシ体(401v)及びより極性の高い部分より油
状の3α−ヒドロキシ体(741r19)が得られた□ 3β−ヒドロキシ体: IRxベクトル(Liq)νmaxm −”By1
135.978,1021.1034.t、075.’
t 1t8゜119$1.1254,1464.2B5
0,2920゜3α−ヒドロキシ体: 工Rスペクトル(Liq) Vmaxaa 、 7
78 。
ホウ素ナトリウム100■を用い参考例22と同様に反
応処理すると、よ勺極性の低い部分より油状の3β−ヒ
ドロキシ体(401v)及びより極性の高い部分より油
状の3α−ヒドロキシ体(741r19)が得られた□ 3β−ヒドロキシ体: IRxベクトル(Liq)νmaxm −”By1
135.978,1021.1034.t、075.’
t 1t8゜119$1.1254,1464.2B5
0,2920゜3α−ヒドロキシ体: 工Rスペクトル(Liq) Vmaxaa 、 7
78 。
835.975.t020.to33.1tt6.t
19T。
19T。
1254.1462,21150,2930.3430
参考例29 2−テトラヒドロピラニルオキシ)オクト−1トー2−
エン 3α−ヒドロキシ体(参考例2Bの仕合物:10即)及
びジヒドロビラン0.1mlを用い参考例λ3と同様に
反応処理すると81■の油状の目的化合物が得られた。
参考例29 2−テトラヒドロピラニルオキシ)オクト−1トー2−
エン 3α−ヒドロキシ体(参考例2Bの仕合物:10即)及
びジヒドロビラン0.1mlを用い参考例λ3と同様に
反応処理すると81■の油状の目的化合物が得られた。
工Rスペクトル(Ljq) vmaxcm−1: 77
9゜1139.979,1022,1039,1202
,1259゜2860.2940 参考例30 シリル体(参考例29の化合物:1lO1llp)及び
1Mテトラブチルアンモニウムフルオリドのテトラヒド
ロフラン溶液0.3mlを用い参考例24と同様に反応
処理すると36mりの油状の目的化合物が得られた。
9゜1139.979,1022,1039,1202
,1259゜2860.2940 参考例30 シリル体(参考例29の化合物:1lO1llp)及び
1Mテトラブチルアンモニウムフルオリドのテトラヒド
ロフラン溶液0.3mlを用い参考例24と同様に反応
処理すると36mりの油状の目的化合物が得られた。
工Rスペクトル(Liq) Umaxcm 、 I
N 8゜872.980,1203,1263,144
2.3480参考例31 ヒドロキシ体(参考例30の化合物:571V)を実施
例6、次いで参考例26と同様に反応、処理を行い油状
の目的化合物を11〜得た。
N 8゜872.980,1203,1263,144
2.3480参考例31 ヒドロキシ体(参考例30の化合物:571V)を実施
例6、次いで参考例26と同様に反応、処理を行い油状
の目的化合物を11〜得た。
工Rスペクトル(Liq) νmax cm 、
973 。
973 。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は保護されていてもよいヒドロキシメチ
ル基、保護されていてもよいメルカプトメチル基又は式
−A−(CH_2)_m−R^3基(式中、R^3は保
護されていてもよいヒドロキシメチル基又は、保護され
ていてもよいカルボキシ基を示し、Aは酸素原子又は硫
黄原子を示し、mは1乃至3の整数を示す。)を示し、
R^2は水素原子又は水酸基の保護基を示し、nは1乃
至3の整数を示す。〕 を有するビシクロオクタン化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59152579A JPS6130549A (ja) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | ビシクロオクタン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59152579A JPS6130549A (ja) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | ビシクロオクタン化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6130549A true JPS6130549A (ja) | 1986-02-12 |
JPH0451535B2 JPH0451535B2 (ja) | 1992-08-19 |
Family
ID=15543548
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59152579A Granted JPS6130549A (ja) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | ビシクロオクタン化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6130549A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4698363A (en) * | 1984-11-22 | 1987-10-06 | May & Baker Limited | Prostacyclin analogues |
JPH04145048A (ja) * | 1990-10-04 | 1992-05-19 | T Hasegawa Co Ltd | 精製クロロゲン酸の製法 |
-
1984
- 1984-07-23 JP JP59152579A patent/JPS6130549A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4698363A (en) * | 1984-11-22 | 1987-10-06 | May & Baker Limited | Prostacyclin analogues |
JPH04145048A (ja) * | 1990-10-04 | 1992-05-19 | T Hasegawa Co Ltd | 精製クロロゲン酸の製法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0451535B2 (ja) | 1992-08-19 |
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