JPS5946937B2 - プロスタグランジンゴウセイチユウカンタイノセイゾウホウ - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、有用な新規プロスタグランジン合成中間体の
製造法に関するものである。

プロスタグランジンはシクロペンタン環を有する炭素数
２０の不飽和脂肪酸であり、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆお
よびＲ＿等のものが知られている。

これらのプロスタグランジン類は種々の生理活性をもつ
ことが知られている。たとえば血管拡張作用（ベルグス
トレーム他ＬｉｆｅＳｃｉ、、６４４９一５５（１９６
７））、血圧降下作用（カールソン他ＡｃｔａＭｅｄ、
Ｓｃａｎｄ、１８３、４２３（１９６８）’）。気管拡
張作用（カサート他Ｂｒｉｔ、Ｍｅｄ、Ｊ、４、７２３
（１９６９））、分娩誘発（力リム、Ｃｏｎｔｒａｃｅ
ｐｔｉｏｎ、３、１７３（１９７１））、肥溝の抑制、
生殖周期の調節、血小板凝集、平滑筋の収縮等の多様性
に富んだ薬理作用を有することが知られている。プロス
タグランジンを臨床面に応用するためには（１）これら
の生理作用のうちどれか１つの作用を選択的に有し、さ
らに（２蔚済的に安価に製造できるプロスタグラジン誘
導体の開発が望まれており、このような目的のためにす
でに多くの天然プロスタグランジン類似体が合成されて
いる。

本発明はプロスタグランジンの誘導体を合成する有用な
中間体の製造に関するものであり、さらに詳しくは本発
明は（式中Ｒ，およびＲ２はエステル形成保護基、Ｒ３
はアルキル基又はアリール基、Ｒ４はアルキル基又はＲ
４同士が結合して環形成したアルキレン基を表わす。

）であられされる化合物を酸性条件下で加水分解するか
又はカルボニル化合物とアセタール交換することを特徴
とする（式中Ｒｌ，Ｒ２，Ｒ３は上記定義に同じ）であ
られされるプロスタグランジン合成中間体の製造法を提
供するものである。

本発明方法の出発物質（）は （．式中Ｒｌ，Ｒ２，Ｒ４は上記定義に同じ）の化合物
をエステル化することにより得られる（工程５）。

ＣＭ）の化合物は あられされるアルデヒド化合物と（Ｐｈ３ｐｌ一ＣＨ２
ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ）Ｘθより生成されるウイ
テイヒ試薬と反応させることにより得られる（工程［相
］）。

（Ｘ）の化合物は ＶｌＺｌ （式中Ｒｌ，Ｒ２，Ｒ４は上記定義に同じ）のアルコー
ルを酸化することにより得られる（工程９）。

（）の化合物は （Ｒｌ，Ｒ２，Ｒ４は上記定義に同じ。

Ｒ５はＲｌ，Ｒ２と区別して除去することのできるエス
テル形成保護基でトリクロロアセチル基、モノクロロア
セチル基、ジクロロアセチル基、トリクロロエトキシカ
ルボニ基等をあられす。）の化合物の保護基Ｒ５を選択
的に除去することにより得られる（工程８）。化合物（
）は （式中Ｒｌ，Ｒ２，Ｒ５は上記定義に同じ）のアルデヒ
ド化合物をアルコールの存在下アセタール化することに
より得られる（工程７）。

化合物（）は （式中Ｒｌ，Ｒ２，Ｒ５は上記定義に同じ）を塩基又は
酸の存在下異性化することにより得られる（工程６）。

化合物（）は 一般式 （式中Ｒｌ，Ｒ２，Ｒ５は上記定義に同じ。

Ｒ６は水素又はアルキル基、Ｒ７は水素、アルキル基又
はアリール基をあられす。）であられされる化合物をオ
ゾン酸化することにより得られる（工程５）。化合物（
Ｖ）は （式中Ｒｌ，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７は上記定義に同じ。

）であられされる化合物を酸の存在下（Ｒ２ＣＯ）２０
（式中Ｒ２は上記定義に同じ）であられされる酸無水物
と反応せしめる事により得られる（工程４）。

化合物（）は ゛一般式 υ − （式中Ｒｌ，Ｒ６，Ｒ７は上記定義に同じ）の化合物を
（Ｒ５）２０（式中Ｒ５は上記定義に同じ）であられせ
る酸無水物又はＲ５Ｘ（式中Ｒ５は上記定義に同じ。

Ｘは塩素、臭素又はヨウ素）なる酸ハロゲン化物により
エステル化するか又はＲ５ＯＨ（式中Ｒ５は上記定義に
同じ）なるカルボン酸を縮合剤の存在下反応させてエス
テル化する事により得られる（工程３）。化合物（）は 一般式 （式中Ｒ１は上記定義に同じ）であられされる化合物を
一般式Ｒ６−ＣＨ＝Ｃ（０Ｒ１０）Ｒ２であられされる
エノール化合物とルイス酸の存在下反応せしめることに
より得られる（工程２）。

上記の反応工程は以下に示すとおりである。ここで出発
原料（１）の化合物は、たとえば藤瀬らの方法（藤瀬、
日化誌７４、７２５（１９５５）及び宇田、丸山、冠木
、藤瀬、日化誌８５（４）２７９（１９６４））により
青木果実中に含まれるオウクビスを原料として次のよう
な方法で調整される。この出発原料の調整は、藤瀬らの
方法に従い単離したオークピンを用いて行つてもよいが
、より望ましくは青木果実よりのオークピン含有エタノ
ール抽出液をそのままラネーニツケルを用いて水添し、
エタノールを濃縮後水を加えて水溶液となし、Ｃこれに
リン酸を入れて６０〜７０てに１０時間加熱反応をさせ
て糖をはずしこの水溶液からクロロホルム抽出により、
ほぼ純粋なテトラヒドロアンヒドロアウクビゲニンを得
るのがよい。この改良によりテトラヒドロアンヒドロア
ウクビゲニンを二容易に工業原料として使用できる。次
に各工程（１〜９）の詳細について述べる。工程１はア
ルコールの保護基を導入することであり、Ｒ，は水素又
はエステル形成保護基で具体的には水素又はアセチル基
、プロピオニル基、プｊチロイル基等のアルカノイル基
又はベンゾイル基、置換ベンゾイル基、４−フエニル・
ベンゾイル基等のアロイル基をあられす。

このためには、通常のエステル化反応に使用される方法
（たとえばＪ９Ｆ．Ｗ．マツゴミ一著ゝ３Ｐｒ０ｔｅｃ
ｔｉｖｅＧｒ０ｕｐｓ、゛ＩｎＯｒ訃ＮｉｃＣｈ６ｍｉ
ｓｔｒｇ″゛ ，１０９〜１１８，Ｐ１ｅｎｕｍＰｒｅ
ｓｓ，１９７３）が用いられる。工程２は化合物とエノ
ール化合物Ｒ６−ＣＨ＝Ｃ（０Ｒ１０）Ｒ７（Ｒ６は水
素又はアルキル基をあられし、Ｒ７はアルキル基、シク
ロアルキル基、アリール置換アルキル基及びフエノキシ
置換アルキル基、置換フエノキシ置換アルキル基等をあ
られす。

ＲｌＯはアルキル基、三置換シリル基又はアルカノイル
基、アロイル基を示す）をルイス酸の存在下反応するこ
とにより容易に好収率で達成できる。ルイス酸としては
、塩化アルミニウム、三塩化鉄、塩化亜鉛、塩化第二錫
、四塩化チタン、三フツ化ホウ素エーテル錯体等が用い
られるが、勿論これに限定されるものではない。通常の
実施には四塩化チタンが最も好ましく用いられる。エノ
ール化合物の具体的な例としては、酢酸イソプロペニル
、２−アセトオキシヘプテン−１、２−アセトオキシオ
クテン−１、２−アセトオキシノネン一１、α−アセト
オキシスチレン、α−アセトオキシ−Ｐ−クロロスチレ
ン、α−アセトオキシ−ｍ−クロロスチレン ２−アセ
トオキシ−３−フエニルプロペン一１、２−アセトオキ
シ−３−（Ｐ−クロロフエニル）プロペン−１、２−ア
セトオキシ−３−（ｍ−クロロフエニル）プロペン−１
、２−アセトオキシ−３−（３，４ジクロロフエニル）
プロペン−１、２−アセトオキシ−３−（４−メチルフ
エニル）プロペン−１、２−アセトオキシ−３−（Ｐ−
フルオルフエニノのプロペン−１、２−アセトオキシ−
３−（Ｐ−トリフルオルメチルフエニル）プロペン−１
、２−アセトオキシ−３−シクロヘキシルプロペン−１
、２−アセトオキシ−４−フエニルプテン一１、２アセ
トオキシ−４−（ｍ−クロロフエニル）ブテン−１、２
−アセトオキシ−４−（Ｐ−クロロフエニル）ブデン一
１、２−アセトオキシ−３−フエノキシプロペン一１、
２−アセトオキシ−３−（ｍ−クロロフエノキシ）プロ
ペン−１、２−アセトオキシ−３−（Ｐ−クロロフエノ
キシ）プロペン−１、２−アセトオキシ−５−（ｍ−ト
リフルオルメチルフエノキシ）プロペン−１、２一アセ
トオキシ一３−（Ｐ−トリフルオルメチルフエノキシ）
プロペン−１、２−アセトオキシ−５ーフェニルベンゼ
ン−１、２−アセトオキシ−６−フエニルヘキセン一１
、２−アセトオキシ−４（Ｐ−フエノキシフエニル）ブ
テン−１、２−エトキシオクテン−１、エチルイソプロ
ベニルエーテル、２−エトキシヘプテン、α一エトキシ
スチレン、２−エトキシ−３−フエニルプロペン一１、
イソプロベニルトリメチルシリルエーテル、２−トリメ
チルシロキシヘプテン一１、２−トリメチルシロキシオ
クテン一１、２−トリメチルシロキシノネン一１、２−
トリメチルシロキシ一３−メチルヘプテン−１、２−ト
リメチルシロキシー３−フエニルプロペン一１、α一ト
リメチルシロキシスチレン、２−トリメチルシロキシ一
４フエニルブテン一１、２−ベンゾイルプロペン−１、
トランス又はシス一３−アセトキシ−ブテン−２等をあ
げることができるが勿論これに限定されるものではない
。反応溶媒としては反応性のないものであれば何でもよ
いが、通常は二塩化メチレン、クロロホルムのようなハ
ロゲン化溶媒を使用すれば十分に好ましい結果が得られ
る。工程３は化合物とＲ５Ｃｌであられされる酸ハロゲ
ン化物又は（Ｒ５）２０であられされる酸無水物を塩基
の存在下反応させることにより好ましく得られる。

これはいわゆるエステル化反応であり、Ｒ５ＯＨなるカ
ルボン酸をカルボジイミド化合物を用いて縮合させる等
の技術を含め、通常のエステル合成に用いられる技術（
前記マツゴミ一著Ｐ．ｌＯ９〜１２１及びブーラ一・ビ
アソン共著１Ｓｕｒｖｅｙ０ｆ０ｒｇａｎｉｃＳｙｎｔ
ｈｅｓｉｓ，Ｗｉ１ｅｙＩｎｔｅｒｅｃｉｅｎｃｅ版第
１４章及びサンドラ一・力ロー共著１０ｒｇａｎｉｃＦ
ｕｎｃｔｉ０ｎａ１Ｇｒ０ｕｐＰｒｅｐａｒａｔ１０ｎ
ｓ５′，ＡｃａｄｅｍｉｃＰｒｅｓｓ，ｌ９６８第１０
章等）を適用することにより達成される。Ｒ５はＲｌ，
Ｒ２と区別して除去できるエステル形成保護基をあられ
すが、具体的にはモノクロルアセチル基、ジクロルアセ
チル基、トリクロルアセチル基、トリフルオルアセチル
基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、フ
エノキシアセチル基等をあげることができるが、これら
に限定されるものではない。） 工程４は化合物を（Ｒ２）２０であられされる酸無水物
と酸の存在下加熱することにより容易に達成される。

Ｒ２としてはエステル形成保護基であり、具体的にはア
セチル、プロピオニル、ブチロイルのようなアルカノイ
ル基、ベンゾイル、置換ベンゾイル等のアロイル基をあ
げることができるが勿論これに限定されるものではない
。通常の実施には無水酢酸が十分好ましく用いられる。
酸としては塩化水素、硫酸、リン酸等の無機酸、三塩化
酢酸、三フツ化酢酸、Ｐ−トルエンスルホン酸等の有機
酸及び三フツ化ホウ素、塩化亜鉛等のルイス酸が使用さ
れるがこれらに限定されるものではない。通常の実施で
はＰ−トルエンスルホン酸を用いて十分好ましい結果が
得られる。無水酢酸は通常の実施においては溶媒をかね
て用いられ、反応終了後蒸留によつて除去される。反応
温度としては４０〜１８０℃の範囲が選ばれるが、通常
の実施においては５０〜１２０℃の任意の温度において
好ましく実施される。生成した化合物がこの条件でさら
にエノールアセテートに変化する可能性があるため、反
応の終点を薄層クロマトグラフイ一によつて追跡するこ
とによつて最高の収率をあげることができる。工程５は
化合物Ｖの炭素一炭素二重結合を酸化的に切断してアル
デヒドに変換する反応である。

このような目的をもつた反応としては、一般的にオゾン
酸化が知られており，その他四酸化オスミウム、四酸化
ルテニウム、重クロム酸塩などの重金属酸化物およびそ
の塩による酸化反応もしくは、これらの酸化反応によつ
てジオールが生成する場合には、四酢酸鉛などによるジ
オールの酸化開裂によつてアルデヒドに変換する反応が
一般的に知られているが、当業者にとつては明らかなよ
うにオゾン酸化が簡便かつ経済的に有利に使用される。
オゾン酸化は一般的に不活性な溶媒中、比較的低い反応
温度でオゾンを通じて接触させることによつて簡便に達
成せられ、通常の場合オゾニド中間体が得られる。反応
溶剤としては、当反応に関与しないようなものであれば
特に限定なく使用され、一般的には酢酸エチル、酢酸メ
チルなどのエステル系溶剤、アルコール、メタノール、
イソプロバノールなどのアルコール系溶剤、酢酸などの
有機酸系溶剤などが好適に使用される。反応温度として
は特に限定はないが、通常室温よりも低い温度が好まし
い。このようにして得られたオゾニド中間体は還元的に
分解することによつて目的のアルデヒド基をもつた化合
物に変換される。オゾニドの還元的分解法としては、既
に各種の方法が知られており、例えばパラジウム一炭素
などの触媒を使用した接触水添、亜鉛一酢酸による還元
、トリメチルホスフアイトやトリス（ジメチルアミノ）
ホスフイン、トリフエニルホスフインなどの三価のリン
化合物を使用した還元、ジメチルスルフイドなどのスル
フイド類を使用した還元、ジニトロフエニルヒドラジン
などのヒドラジン類を使用した還元、亜硫酸ナトリウム
を使用した還元などが一般的な方法である。通常の実施
では酢酸エチル中−７８方〜０℃でオゾンを通じてオゾ
ニドを生成せしめた後、過剰のオゾンを追い出してから
トリフエニルホスフインを加え、１〜２時間加熱するこ
とによつて十分目的が達成される。工程６は化合物を異
性化させて、化合物を得る反応である。

一般的に五員環についた４個の置換基の立体配置から、
化合物は化合物よりも安定な異性体である。従つて異性
化のための条件としては、酸又はアルカリと接触させる
ことによつてアルデヒドが部分的にエノール化する条件
であれば特に限定なく使用される。使用される酸または
アルカリとしては、化合物の他の部分特に３個のアルコ
ール保護基に影響を与えないようなものであれば特に限
定なく三弗化ホウ素エーテラートのようなルイス酸ある
いはＰ−トルエンスルホン酸のようなスルホン酸もしく
はこれらと有機カルボン酸の混合酸あるいは酢酸ナトリ
ウム、酢酸カリウムなどの弱塩基などが用いられる。反
応は溶媒の存在下または不存在下に行われるが、反応を
円滑に進行させるためには溶媒があつた方が好ましく、
使用される溶媒としては、反応に関与しないようなもの
であれば特に限定はなく、例えばアルコール、メタノー
ル、イソプロパノールなどのアルコール系溶媒もしくは
異性化に酸を使用するような場合には、酢酸などが好適
に使用されるがもちろんこれらに限定されるものではな
い。反応温度には特に限定はないが通常は室温〜１００
℃で好適に実施される。通常の実施ではメタノール中酢
酸ナトリウムと接触させ、５０℃ないし還流温度に加熱
することによつて充分目的が達成せられる。工程７はア
ルデヒドを保護する反応である。

ここで生成物（）のＲ４はアルキル基又はＲ４同士が結
合して環形成したアルキレン基で、具体的には炭素数１
〜５のアルキル基又は炭素数２〜５のアルキレン基が好
ましい。アルデヒドの保護基としては、以下の工程で変
化を受けないものであつて後にその保護基を除去する際
に化合物の他の部分に影響を与えないようなものが選ば
れる。アルデヒドの保護基としては、以上の条件を満た
すものであれば特に限定はなく、一般的にアルデヒド保
護基として知られているものの中から任意に選択される
。これらの保護基としてはアセタール類形成保護基が好
適に使用され、通常の実施においてはアセタールで十分
目的が達成される。反応は通常のアセタール化条件すな
わち酸触媒の存在下上記Ｒ４の限定に相当するアルコー
ルもしくはジオールと脱水条件下に行われる。反応は溶
剤の存在下もしくは不存在下に行われ、アルコールもし
くはジオールが溶剤の役目を果さないときは反応を円滑
に進行させるためには溶剤を使用した方が好ましく、そ
のような溶剤としてはジメトキシエタン、テトラヒドロ
フランジオキサンなどのエーテル系溶剤、ベンゼン、ト
ルエンなどの炭化水素、芳香族系溶剤などが好適に使用
されるが、もちろんこれらに限定されるものではない。
反応基質である化合物とアルコールもしくはジオールの
両方を均一に溶解する意味からエーテル系溶剤を使用す
ると一般に反応温度は低くすることが出来、またベンゼ
ン、トルエンなどの芳香族系溶剤を使用すると共沸によ
つて脱水が行えるので好ましい。酸触媒としては、Ｐ−
トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸などの有機ス
ルホン酸、塩酸、硫酸などの鉱酸、三フツ化ホウ素エー
テラートなどのルイス酸が好適に用いられ特に限定はな
いが通常の実施では有機スルホン酸もしくはルイス酸が
特に好適に使用される。反応温度には特に限定はないが
、通常室温ないし溶剤の還流温度で実施される。アセタ
ール化の条件としては、例えば低沸点カルボニル化合物
のアセタールもしくはケタールとの保護基交換反応も使
用される。この場合好ましくは溶剤の存在下、上述した
アセタール化条件に使用したような酸の存在下に低沸点
カルボニル化合物を除去する条件によつて簡単に目的が
達成される。工程８（・１アルコール保護基、Ｒ５を除
去して水酸基を遊離させる反応であり、他のアルコール
保護基Ｒ１およびＲ２の存在下に行われる。

保護基Ｒ５を除去する反応は、保護基Ｒ５の種類によつ
て除去条件が異なる。一般に工程３の説明において前述
した様なＲ５すなわちハロゲン置換アシル基あるいはハ
ロゲン置換アルコキシカルボニル基などはおだやかな塩
基性条件下においても加水分解を受け、従つて弱い塩基
を使つて反応条件を抑制することによつて他の保護基Ｒ
１およびＲ２を除去しないでＲ５を除去することは可能
であるが、より好ましくは保護基Ｒ５に特異的な除去条
件を使用することが望ましい。その様な除去条件として
は、例えばＲ５がモノクロルアセチル基を示す場合には
溶剤例えばアルコールなどの中でチオ尿素もしくは２−
アミノ−チオエタノールとともにおだやかに加熱する条
件が選ばれ、又Ｒ５が２，２，２−トリクロロエトキシ
カルボニル基を表わす場合には、アルコールなどの溶剤
中亜鉛粉末と接触させる条件が選ばれるがもちろんこれ
らに限定されるものではない。工程９はアルコールをア
ルデヒドに酸化する反応である。

酸化方法としては化合物の他の部分に影響を与えないよ
うな方法であれば特に限定なく使用出来、そのような酸
化方法としては例えば一般に知られている、コリンズ氏
酸化（クロム酸・ピリジン錯体）（ジエイ・シ一・コリ
ンズ等：テトラヘドロン・レターズ．，３３６３頁（１
９６８年））、塩化クロミルの錯体を用いる酸化（イ一
・ジエイ・コーリー等：テトラヘドロン・レターズ．，
２６４７頁（１９７５年））、コ一り一氏酸化（イ一・
ジエイ・コ一り一等：ジヤーナル・オブ・アメリカン・
ケミカル・ソサイアテイ一．，９４巻７５８６頁（１９
７２年）、テトラヘドロン・レターズ．，９１９頁（１
９７３年）、ジヤーナル・オブ・オーガニツク・ケミス
トリ一．，３４巻１２３３頁（１９７３年）等）、モハ
ツト氏酸化（ジエイ・シ一・モハツト等：ジヤーナル・
オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイアテイ一．，８７
巻５６６１頁（１９６５年）同誌８８巻１７６２頁（１
９６６年）等）などの方法が好適に使用されるが、もち
ろんこれらに限定されるものではない。通常の実施にあ
たつては、塩化メチレン中クロム酸・ピリジン錯体を使
用することによつて充分その目的が達成される。工程［
相］はウイテツヒ反応であつて４−カルボヒドロキシブ
チルトリフエニルホスホニウムブロマイドと塩基例えば
ナトリウムメチルスルフイニルカルバニドを反応させる
ことによつて得られるホスホニウムイリド（ウイテイツ
ヒ試薬）を化合物Ｘで示されるアルデヒドと作用させる
ことによつて目的が達成される。

反応は溶剤の存在下行われ、使用される溶剤としては一
般のウイテイツヒ反応に用いられる溶剤、例えばエーテ
ル類、炭化水素類、ジアルキルスルホキシド類、ジアル
キルホルムアミド類、ハロゲン化炭化水素などの不活性
有機溶剤をあげることが出来るが、特に好適にはジメチ
ルスルホキシドが望ましい。反応は好ましくは窒素アル
ゴンなどの不活性ガス中で行われ、反応温度には特に限
定はなく、通常室温もしくは室温付近の温度で好適に実
施される。ホスホニウムィリドの使用量は当モル以上が
好適に使用され、特に望ましくは過剰量３倍モルないし
５倍モルが使用される。上記のウイテイツヒ反応で得ら
れる生成物は塩であつて、これは例えば酢酸、シユウ酸
、酒石酸などの有機酸もしくは塩酸．臭化水素酸などの
鉱酸と処理することによつて容易に目的の有離酸即ち化
合物ＸＩに変換出来る。かくして得られた化合物Ｍのカ
ルボキシル基は必要に応じて保護されている方が以下に
続く反応において便利である。工程８はカルボキシル基
を保護する反応である。

Ｒ３はアルキル基又はアリール基であり、具体的には炭
素数１〜５のアルキル基、ハロゲン置換アルキル基、フ
エニル基、置換フエニル基、ナフチル基又は置換ナフチ
ル基等があげられる。反応はＲ４に相当する保護基を形
成する化合物と接触させることによつて達成される。使
用される保護基を形成する化合物としては例えばジアゾ
アルカン類、アルキルアルコール類、ハロゲン置換アル
コール類などをあげることが出来る。エステル化の方法
としては通常の方法（例えばジエイ・エフ・ダブリユ・
マコーミ一編著：プロテクテイブ・グルーブス・イン・
オーガニツク・ケミストリ一１８５頁〜１９２頁 プレ
ナム・プレス、１９７３年）が使用され、特に好適には
溶剤存在下ジアゾアルカンと接触させることで簡単に目
的が達成される。工程５はアルデヒド基の保護基を除去
する反応である。

アルデヒドの保護基、アセタール類形成保護基を除去す
る反応としては一般にカルボニル基の保護基を除去する
反応として知られた方法（例えばジエイ・エフ・ダブリ
ユ・マコーミ一編著：プロテクテイブ・グループス・イ
ン・オーガニツク・ケミストリ一、３３０頁〜３３１頁
、プレナム・プレス１９７３年）が使用され、通常は酸
の存在下加水分解するかアセトンのような簡単なカルボ
ニル化合物との間におけるアセタール（ケタール）交換
反応によつて簡便に目的が達成される。反応は溶剤の存
在下あるいは不存在下で実施されるが、反応を円滑に進
めるためには溶剤を使用することが好ましい。アセトン
、メチルエチルケトン等のようなＣ６までの簡単なカル
ボニル化合物の間でアセタール交換を行なつてＲ４を除
去する場合には、カルボニル化合物それ自身を溶剤とし
て使用できる。溶剤としては水、ベンゼン等ＣｌＯまで
の炭化水素、エーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケト
ン等のケトン類またはアルコール類が使用され、水を使
用する場合以外は水を含有させて使用するのが望ましい
。使用する酸はギ酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸、
塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸、Ｐ−トルエンスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸等のスルホン酸またはルイス
酸をあげることができる。反応温度に限定はなく、室温
へ溶媒還流温度程度で行なわれるが、通常室温でも十分
好適に実施される。反応時間は数分〜数日程度である。
また反応終結は薄層クロマトグラフイ一のような分析手
段で容易に知ることができる。反応終了後目的物は常法
に従つて反応混合物から採取され、酢酸ナトリウム、炭
酸水素ナトリウム等の弱アルカリを加えて中和した後、
溶剤を留去する。さらにカラムクロマトグラフィー、薄
層クロマトグラフイ一あるいは製造的高速液体クロマト
グラフイ一などの手段によつて精製された目的物を得る
ことができる。工程Ｓ−５すなわち化合物ＸからＸＩＵ
に至る工程は次に示されるような工程０〜Ｏに変更する
ことも出来る。ここでＲ１〜Ｒ４の表わす意味は前述し
たものと全く同じである。

Ｒ８は水素原子もしくは水酸基の保護基を示す。この反
応工程０〜Ｏはウイテイツヒ反応を化合物ｘで示される
ヘミアセタールを原料として使用することに特徴があり
、工程［相］で示されるウイテイツヒ反応は立体化学的
な意味から前述した工程６で示されるウイテイツヒ反応
よりも収率が大きくずれている。以下には工程◎から工
程［相］までの各工程について説明する。工程０はエス
テル形成性アルコール保護基Ｒ１およびＲ２を除去する
反応である。エステルを加水分解する反応は一般的に知
られた方法（例えばジエイ・エフ・ダブリユ・マコーミ
一編著：プロテクテイブ・グループス・イン・オーガニ
ツク・ケミストリ一、１０９頁〜１２０頁、プレナム・
５プレス１９７３年）が特に限定なく使用することが
出来るが、アルデヒド保護基に影響を与えないような条
件が選ばれる。そのような方法の中では例えば水性アル
コールもしくは水性メタノール中水酸化アルカリ又は炭
酸アルカリを使用する加水１分解法もしくはメタノール
中炭酸カリのようなエステル交換法などが特に好適に使
用される。反応は窒素もしくはアルゴンなどの不活性気
体中で行うことが望ましく、反応温度には特に限定はな
いが通常０℃ないしは溶剤の還流温度の範囲で好適１に
実施される。工程９はウイテイツヒ反応であつて、前述
した工程０のところで説明したと同様の反応条件が特に
限定なく使用される。

工程［相］はカルボキシル基を保護する反応であつ〉て
前述した工程８と全く同様に実施される。

工程［相］は水酸基を保護する反応であつて、必要に応
じて実施される。Ｒ８で示される水酸基の保護基として
は、アシル基、アロイル基、ハロゲン置換アシル基、ア
ルコキシカルボニル基、ハロゲン置換アルキルオキシカ
ルボニル基のようなエステル形成保護基が特に限定なく
使用され、エステル化の条件としては例えば工程１およ
び工程３で説明したと同様な条件が使用される。以下に
続く連続した反応工程において水酸基が反応に関与しな
い場合には工程［相］は省略され、従つてその場合Ｒ８
は水素原子を示す。工程０はアルデヒド基の保護基を除
去する反応であつて、工程５の説明で前述したのと全く
同様な条件を用いることによつて目的が達成される。

工程１〜０ＶＣおいて、各工程は必要に応じて全体的に
影響を与えない限り、任意にその順序を変えることが出
来る。例えば工程６即ちアルデヒドの異性化（反転）反
応は工程５の後に行うことが出来る。また工程８即ちカ
ルポキシル基の保護基を導入する反応は工程５の後に行
うことが出来る。又例えば工程＠は工程［相］の後に行
うことが出来る。また工程５および工程６即ち化合物か
らに至る工程は次に示されるような工程［相］〜［Ｆ］
に変更することも出来る。上記反応工程は、α・β不飽
和カルボニル化合物の段階で異性化を行つてしかる後に
炭素一炭素二重結合を酸化的に開裂して、化合物で示さ
れるアルデヒドを製造することに特徴を有する。

一般に工程４においては目的の化合物の他に一部、α・
β不飽和カルボニル化合物がエノル化されてアシル化を
受けた化合物が副生するが、工程［相］ではこの副生成
物も化合物Ｘを与えることが明らかとなつた。従つて反
応工程（［相］→◎）は工程４の後に副生成物を除去す
る必要がないことから有用である。以下には工程＠およ
び［相］について解説する。工程＠はα・β不飽和カル
ボニル化合物の異性化反応であつて、たり安定な化合物
Ｘを得るものである。

異性化条件としてはα・β不飽和カルボニル化合物を部
分的にエノル化するような条件であれば、安定な異性体
Ｘの方向へ平衡が進むので、酸性もしくは塩基性の条件
が使用されるが、Ｒ５で示される水酸基の保護基が比較
的に塩基性条件下で除去され易いことから好ましくは酸
性条件が好適に使用される。使用される酸としては、ギ
酸、酢酸、プロピオン酸などの有機酸、メタンスルホン
酸、ペンセルスルホン酸、Ｐ−トルエンスルホン酸のよ
うな有機スルホン酸、塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱
酸あるいは三フツ化ホウ素エーテラートなどのルイス酸
が単独あるいは酸度を調整するために組み合わされて使
用され特に限定はないが、有機酸と有機スルホン酸の組
み合わせ、中でも酢酸とＰ−トルエンスルホン酸の組み
合わせが特に好適に使用される。反応は溶剤の存〉く在
下もしくは不存在下に行われるが、酢酸のような有機酸
を使用する場合には、溶剤の役目を同時に果すことが出
来る。反応温度には特に限定はないが通常室温ないし溶
剤または有機酸の還流温度の間で実施される。工程［相
］は炭素−炭素二重結合を酸化的に開裂してアルデヒド
を得る反応であつて、工程５で説明したものと全く同様
の手段を用いることによつて目的が達成できる。

かくして得られた化合物Ｘもしくは化合物Ｘはプロスタ
グランジン誘導体の合成原料として重要である。化合物
Ｘ（化合物Ｘは化合物Ｘに含まれるものとして表わす）
から、プロスタグランジン誘導体を導く工程を次に例示
した。ここでＲ１〜Ｒ３の意味は前述したものと全く同
じである。

Ｚ１は水素原子、アルキル基、芳香族置換アルキル基、
置換フエニルオキシメチレン基などを表わす。Ｚ２は水
素原子もしくは低級アルキル基を表わす。以下工程１お
よび工程６について簡単に説明する。

工程１はウイテイツヒ反応のワーズワース氏による変法
もしくはウイテイツヒーホーナ一反応と呼ばれるもので
あつて一般式 の 凸 で示されるα カルボニウムイリドとアルデヒ ドを反応させることによつてα・β一不飽和カルボニウ
ム化合物を得る反応である。

反応は溶剤の存在下に行われ、使用される溶剤としては
一般にウイテイツヒ反応に用いられる溶剤、例えばエー
テル類、炭化水素類、ジアルキルスルホキシド類、ジア
ルキルホルムアミド類、ハロゲン化炭素類などの不活性
溶剤が特に限定なく使用される。反応は好ましくは窒素
、アルゴンなどの不活性ガス中で行われ、反応温度には
特に限定はないが、通常室温付近の温度で実施される。
工程１は化合物ＸＸをカルボニル還元剤で還元するかも
しくはグリニヤ一試薬で処理し、続いて必要に応じて保
護基を除去する反応に付することによつて化合物ＸＸＩ
なるプロスタグランジン誘導体を得る反応である。

使用される還元剤としては一般にカルボニル化合物を還
元すると知られている化合物であつて、化合物の他の部
分に影響を与えないものであれば特に限定なく使用され
、好適には水素化金属化合物が使用される。使用される
グリニャー試薬としては、エーテルもしくはテトラヒド
ロフラン中で調整されたアルキルマグネシウムハライド
が通常使用され目的を達成する。続いて必要ならば生成
した化合物は保護基を除去する反応に付する。Ｒ，〜Ｒ
３の示すエステル形成性の水酸基およびカルボキシル基
の保護基は一般にエステルを加水分解する条件によつて
簡便に除去することが出来る。エステル加水分解の条件
としては、前述した工程０で説明したと全く同様な条件
が特に限定なく使用される。通常の実施においては、水
性アルコールもしくは水性メタノール中水酸化アルカリ
と接触させることによつて充分簡便に目的が達成される
。反応終了後反応液を酸性にすることによつて目的の遊
離のカルボン酸が得られる。反応終了後、各工程の目的
化合物は通常の方法によつて反応混合物から採取され、
得られた目的化合物は必要ならば常法、例えばカラムク
ロマトグラフイー、薄層クロマトグラフイーあるいは工
業用高速分取液体クロマトグラフイーなどの手段によつ
て更に精製することが出来る。次に実施例および参考例
をあげて本発明の方法を更に具体的に説明するが、もち
ろんこれらによつて本発明の範囲が限定されるものでは
ない。略号として次のものを使用した。ｍｐ：融点（未
補正） ｔｌｃ：薄層クロマトグラフイー（特記なき限り、メル
ク社製シリカゲル薄層板、アート・５７１５を使用） ｉｒ：赤外吸収スペクトル ｍａｓｓ：質量スペクトル ｎｍｒ：核磁気共鳴吸収スペクトル（プロトン１００Ｍ
Ｈｚで測定）１３−Ｃ−ｎｎ１ｒ：炭素−１３核磁気共
鳴吸収スペクトル〔ｄ〕。

：旋光度ｉｒのデータは主要なピークのみ記載した。

ｍａｓｓのデータは親ピークもしくはそれに対応するピ
ークのみ記載した。実施例 １ （１Ｒ，３ａＲ，５Ｓ，６Ｒ，６ａＲ）−ヘキサヒドロ
−５−ベンゾイルオキシ−６−（２ヒドロキシエチル）
−１−（２−オキソーヘプチル）−１Ｈ−シクロペンタ
〔Ｃ〕フラン（工程２） ０２−アセトキシ−１−ヘ
プテン６．３５７ｆ（４０．７ｍｍｏｌ）を精製した塩
化メチレン８０ｍｌに溶かし、この溶液をアルゴン雰囲
気中０℃〜５℃に冷却攪拌しながら、これに四塩化チタ
ンの塩化メチレン溶液（０．６４Ｍ）６３．８ｍ２（４
０．７ｍｍｏ１）をゆつくり滴下して加える。

得られた淡黄色の混合物を攪拌しながら、これに更に６
−エピーテトラヒドロアンヒドロアウクビゲニンベンゾ
エイト１０．１５７（３７．０５ｍｍｏ１）を含んだ塩
化メチレン溶液（５０ｍ０をゆつくり滴下して加える。
滴下終了後更にＯ℃〜−５℃で３０分攪拌を続けてから
、得られたかつ色の反応液に冷却した飽和重曹水２００
ｍｅを加えてチタンの錯体を分解する塩化メチレン層を
分離したのち、水層を酢酸エチル４００ｍｅで５回抽出
し、有機層を合してから重曹水２００ｍｌで２回食塩水
２００ｍｅで１回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮
して油状の粗生成物１５．２７ｔが得られた。シリカゲ
ル３００７を使用したカラムクロマトグラフイーに供し
、酢酸エチル５〜２０％を含んだ塩化メチレンで展開溶
出し、５００ｍｌのフラクシヨンを２１本採取する。ぶ
７から黒１３までのフラクシヨンを集めて濃縮すること
によつて無色油伏の純粋な生成物８．８２Ｖ（２２．７
ｍｍｏｌ，６１．３０１））が得られた。

Ｊｆｆ）．６のフラクシヨンど應１４から２１までのフ
ラクシヨンを集めて濃縮することによつて、不純物少量
を含んだ生成物０．９６７（６．６７（：ｆ））が得ら
れた。この生成物は次に示す分析データによつて、表記
の（１Ｒ，３ａＲ，５Ｓ，６Ｒ，６ａＲ）一ヘキサヒド
ロ−５−ベンゾイルオキシ−６−（２一ヒドロキシエチ
ル）−１−（２−オキソーヘプチル）−１Ｈ−シクロペ
ンタ〔Ｃ〕フランであることを確認した。（ただしＡＣ
はアセチルである。

以下同じ）前記実施例１のカラムクロマトグラフイーに
おいて、黒４と黒５のフラクシヨンを濃縮することによ
つて無色油状の生成物２．０ｔ（４．６５ｍｍｏ１，１
２．５Ｃｆ６）が得られた。このものは次の分析データ
によつて表記の（１Ｒ，３ａＲ，５Ｓ，６Ｒ，６ａＲ）
−ヘキサヒドロ−６−（２−アセチルオキシエチル）−
５−ベンゾイルオキシ−１−（２オキソーヘプチル）−
１Ｈ−シクロペンタ〔Ｃ〕フランであることを確認した
。をアルゴン気流中ドライアイス−アセトン浴で冷却攪
拌しながら、これに四塩化チタンの塩化メチレン溶液（
０．６４Ｍ）１．２５ｍｅ（０．８ｍｍ０１）を加える
。

１５分後、上記反応液に更に６−エピテトラヒドロアン
ヒドロベンゾエート２００巧（０．７３ｍｍ０１）を含
んだ塩化メチレン溶液４ｍ２をゆつくり滴下して加える
。

滴下終了後、反応液の温度をゆつくりと上昇させ、３０
了Ｃで１７時間攪拌する。得られた反応液に冷却した飽
和重曹水１０ｍｅを加え、酢酸エチル３０ｍ２で５回抽
出する。抽出液を合して重曹水少量および食塩水少量で
洗つてから硫酸マグネシウムで乾燥し、溶剤を留去する
ことによつて淡黄色油状の粗生成物２３８即が得られた
。これを２ｗｒｒＬ厚さ２０ｃｍ×２０ｃｍの製造的シ
リカゲル薄層板２枚を使用して、薄層クロマトグラフイ
一に供し、酢酸エチルで展開する。Ｒｆ値が０．１から
０．２５の間の層のシリカゲルをかき取つて、酢酸エチ
ル３００ｍｅで抽出し、瀘過した瀘液を濃縮することに
よつて無色油状の純粋な生成物（１Ｒ，３ａＲ，５Ｓ，
６Ｒ，６ａＲ）−ヘキサヒトロー５−ベンゾイルオキシ
−６−（２−ヒドロキシエチル）−１−（２−オキソー
プロピル）−１Ｈ−シクロペンタ〔Ｃ〕フラン１３１〜
（０．３９５ｍｍ０１，５４．１％）が得られた。この
ものは次に示す分析データによつて確認した。＼υ
υ 前記実施例３．の製造的薄層クロマトグラフイ一におい
てＲｆ値が０．３から０．４の間のシリカゲル層をかき
取つて酢酸エチル３００ｍｅ．で抽出し、酢酸エチル溶
液を瀘過した後、瀘液を濃縮することによつて無色油状
の生成物５２ワ（０．１３９ｍｍ０１，１９．０％）が
得られた。

このものは次に示す分析データによつて、（１Ｒ，３ａ
Ｒ，５Ｓ，６Ｒ，６ａＲ）−ヘキサヒトロー６−（２−
アセチルオキシエチル）−５−ベンゾイルオキシ−１（
２−オキソプロピル）−１Ｈ−シクロペンタ〔Ｃ〕フラ
ンであることを確認した。２−アセトキシプロペン１．
３２ｔ（１３．２ｍｍｏｌ）と三フツ化ホウ素エーテラ
ート１．８８ｔ（１３．２ｍｍｏ１）を乾燥精製した塩
化メチレン３０ｍｌに溶かしアルゴン気流中−５℃で冷
却攪拌しながら、これに６−エピーテトラヒドロアンヒ
ドロアウクビゲニンベンゾエイト３．３７（１２．１ｍ
ｍｏ１）を含んだ塩化メチレン溶液４０ｍｅをゆつくり
滴下して加える。

滴下終了後−５℃で更に２時間攪拌を続けた後、冷却し
た飽和重曹水２００ｍ２を加え酢酸エチル２５０ｍｅで
３回抽出する。抽出液を合して、重曹水少量と食塩水少
量で洗つた後、硫酸マグ不シウムで乾燥し溶剤を留去す
ることによつて淡黄色油状の粗生成物４．０３７を得た
。このものをシリカゲル１００ｆを使用したカラムクロ
マトグラフイーに供し、酢酸エチル２〜７％を含んだベ
ンゼンで溶出して２００ｍｅずつのフラクシヨンを採取
する。屋４から屋１０までのフラクシヨンを集めて濃縮
することにより無色結晶１．９０８ｔ（６．０４ｍｍｏ
ｌ，４９．９（ｆ６）を得た。このものは次に示す分析
データによつて、（４Ｒ，５Ｓ，６ａＲ）−４，５，６
，６ａ−テトラヒドロ−４−（２−アセチルオキシエチ
ル）−５−ベンゾイルオキシ−１Ｈ−シクロペンタ〔Ｃ
〕フランであることを確認した。ｍｐ ４９〜５１℃ ｔｔｃ （塩化メチレン：酢酸エチル ９：１）Ｒｆ＝
Ｏ．６実施例 ６． （１Ｒ，３ａＲ，５Ｓ，６Ｒ，６ａＲ）−ヘキサヒドロ
−６−（２−アセチルオキシエチル）５−ベンゾイルオ
キシ−１−（２−オキソプロピル）−１Ｈ−シクロペン
タ〔Ｃ〕フラン（工程２）前記実施例５．のカラムクロ
マトグラフイーにおいて、遥５２から黒６５までのフラ
クシヨンを集めて濃縮することによつて、無色油状の純
粋な表記化合物（１Ｒ，３ａＲ，５Ｓ，６Ｒ，６ａＲ）
ーヘキサヒドロ−６−（２−アセチルオキシエチル）−
５−ベンゾイルオキシ−１−（２−オキソプロピル）−
１Ｈ−シクロペンタ〔Ｃ〕フラン０．７２ｙ（１．９３
ｍｍ０１，１５．９％）が得られた。

このものは前記実施例４．で得られた化合物と各分析デ
ータが全く同一であることより確認した。実施例 ７〜
実施例 １０．（工程１および２） 前記実施例１．〜実施例６．と同様にして、６−エピー
テトラヒドロアンヒドロアウクビゲニンベンゾエイトと
２−アセトキシプロペンの縮合反応を各種のルイス酸を
使用して行なつた結果を、実施例７．〜実施例１０．と
して以下に表にして示す。

反応はすべてアルゴン気流中、精製乾燥した塩化メチレ
ン中で行い、ルイス酸と２−アセトキシプロペンの混合
溶液に６−エピーテトラヒドロアンヒドロアウクビゲニ
ンペンゾエイトの溶液を滴下した。収率は６−エピーテ
トラヒドロアンヒドロアウクビゲニンベンゾエイトを基
準にして計算した。実施例 １１〜実施例（工程１およ
び２） ２４． 前記実施例１．〜実施例６．と同様に、ルイス酸として
四塩化チタンを使用して６−エビーテトラヒドロアンヒ
ドロアウクビゲニンベンゾエイトと各種のエノル化合物
、エノルアセテート、エノルアルキルエーテル、エノル
シリルエーテル等との反応を行つた結果を実施例１１．
〜実施例２４．として以下に表にして示す。

反応はすべてアルゴン気流中、精製乾燥した塩化メチレ
ン中で行つた。混合した順序として示した意味は例えば
、１→｛２＋３｝は２と３の塩化メチレン溶液に１の塩
化メチレン溶液を滴下することを示している。アルコー
ル保護基をベンゾイル基からアセチル基に変えた例とし
て、６−エピーテトラヒドロアンヒドロアウクビゲニン
アセテートの反応を行つた結果も合せて表に記した。実
施例 ２５． （１Ｒ，３ａＲ，５Ｓ，６Ｒ，６ａＲ）−ヘキサヒトロ
ー５−ベンゾイルオキシ−６−（２−クロロアセトキシ
エチル）−１−（２−オキソプロピル）シクロペンタ〔
Ｃ〕フラン（工程１（１Ｒ，３ａＲ，５Ｓ，６Ｒ，６ａ
Ｒ）−ヘキサヒトロー５−ベソゾイルオキシ一６−（２
−ヒドロオキシエチル）−１−（２−オキソプロピノｏ
一１Ｈ−シクロペンタ〔Ｃ］フラン３．０ｙ（９．０２
ミリモル）を１００ｍｅの無水エーテルに溶解し、ピリ
ジン０．８７ｍｅを加える。

ついで室温でモノクロロアセチルクロリド１．２２ｒを
加え、１５分攪拌する。エーテル溶液を１ＮＨＣｔつい
で水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後、瀘過、濃縮す
ると４ｒ（９．７９ｍｍ０１，１０８％）の（１Ｒ，３
ａＲ，５Ｓ，６Ｒ，６ａＲ）−ヘキサヒドロ５−ベンゾ
イルオキシ−６−（２７−クロロアセトオキシエチル）
−１−（２−オキソプロピル）シクロペンタ〔Ｃ〕フラ
ン〔赤外スペクトル（液膜法）１７５５ｃｒｎ−１，１
７１５ＣＩＴ１−１〕が得られた。実施例 ２６．（１
Ｓ，２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−（２−アセトキシエチル
）−４−アセトオキシメチル−１ベンゾイルオキシ−３
−（３−オキソ一１−ブテニル）シクロペンタス（工程
４）（１Ｒ，３ａＲ，５Ｓ，６Ｒ，６ａＲ）−ヘキサヒ
トロー５−ベンゾイルオキシ−６−（２−ヒドロオキシ
エチル）−１−（２−オキソプロピノ０−１Ｈ−シクロ
ペンタ〔Ｃ〕フラン６６４Ｔ１ｆ（２ミリモル）を無水
酢酸１２ｍｅに溶かし、Ｐ−トルエンスルホン酸５０７
７Ｖを加え、１００℃に１時間加熱撹拌する。

酢酸ナトリウムを加えた後、減圧下に無水酢酸を除去し
た後、カラムクロマトグラフイ一（シリカゲル、シクロ
ヘキサン一酢エチ）で精製すると５９８Ｔｆ１ｆ（１．
４４ｍｍ０１，７２％）の（１Ｓ，２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）
−２−（２−アセトオキシエチル）−４−アセトオキシ
メチル−１−ベンゾイルオキシ−３−（３−オキソ一１
−ブテニル）シクロペンタン〔赤外スペクトル（液膜濁
；１７３５ｃＩｎ−１，１７１５ｃ［ｍ−１，１６７０
ｃＴｎ−１１６２０ｃＩｎ−１．ＮＭＲ（１００ＭＨｚ
，ＣＤＣＧ；２．０２Ｐ（Ｓ，３Ｈ），２．０４Ｐ（Ｓ
，３Ｈ），２．１０（Ｓ，３Ｈ），２．２８（Ｓ，３Ｈ
），１．５０〜３．１０（Ｍ，７Ｈ），４．０２（Ｍ，
４Ｈ），５．３５（Ｍ，ｌＨ），６，１２（Ｄ，ｌＨ，
Ｔ＝１６Ｈｚ），６．８７（Ｄｄ，ｌＨ，Ｔ二１６Ｈｚ
，８Ｈｚ）〕が得られた。実施例 ２７． （１Ｓ，２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトオキシメチル
−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロアセトオキ
シエチル）−３−（３−オキソ一１−ブテニル）シクロ
ペンタン（工程４）（１Ｒ，３ａＲ，５Ｓ，６Ｒ，６ａ
Ｒ）−ヘキサヒトロー５−ベンゾイルオキシ−６−（２
−クロロアセトオキシエチル）−１−（２−オキソプロ
ピル）−１Ｈ−シクロペンタ〔Ｃ〕フラン４．０７（９
．７９ｍｍ０１）を無水酢酸５０ｍｅに溶かし、ｐ−ト
ルエンスルホン酸２．８７を加え、８０℃に４０分加熱
する。

減圧で溶媒を除去し、残渣を除去し、残渣をカラムクロ
マトグラフイ一で精製する（シリカゲル２８０７，ベン
ゼン−０〜２０％酢酸エチル）と１．９５ｆ（４．３３
ｍｍ０１，４４，２％）の（１Ｓ，２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）
−４−アセトオキシメチル−１−ベンゾイルオキシ一２
−（２−クロロアセトオキシエチル）−３−（３−オキ
ソー１−ブテニル）シクロペンタン〔赤外スペクトル；
１７５０ｃＩｎ−１，１７３５０「４，１７１０ｃｒｒ
１−１，１６５５ｃＩｎ−１，ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，
ＣＤＣｔ３）；１．５４〜２．１０Ｐ（Ｍ，４Ｈ，２Ｏ
Ｏｌ鬼の３Ｈを除く），２．０１鬼（Ｓ，３Ｈ），２．
２０〜２．５０（Ｍ，ｌＨ），２．５０〜２．８０（Ｍ
，ｌＨ），２．８２〜３．１４（Ｍ，ｌＨ），４．０１
（Ｓ，２Ｈ），４．２０（Ｔ，２Ｈ），３．９６〜４．
３２（Ｍ，２Ｈ），５．５８（Ｍ，ｌＨ），６．２０（
Ｄ，ｌＨ，Ｔ＝１６Ｈｚ），７．０４（Ｄｄ，ｌＨ，Ｔ
＝１６，１１．２Ｈｚ），７．５５（Ｍ，３Ｈ），８．
０５（Ｍ，２Ｈ）。〕Ｓを得た。実施例 ２８（１Ｓ，
２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−２−（２−アセトオキシエチル）
−４−アセトオキシメチル−１−ベンゾイルオキシ−３
−（３−オキソ一１オクテニル）シクロペンタン（工程
＠）（１Ｓ，２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−（２−アセトオ
キシエチル）−４−アセトオキシメチル−１ベンゾイル
オキシ−３−（３−オキソ一１−オクテニル）シクロペ
ンタス３３ｍｆ（０．０７ｍｍ０Ｐを酢酸５ｍ′に溶小
し、ｐ−トルエンスルホン酸４５巧を加えて１００〜１
１０℃に４時間加熱す．る。

酢酸を減圧で除去した後、薄層クロマトグラフイ一で精
製して、１７巧・（０．０３６ｍｍ０１，５１．５％）
の（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−２一（２−アセトオキ
シエチル）−４−アセトオキシエチル）−４−アセトオ
キシメチル−１−ベンゾ．イルオキシ一３−（３−オキ
ソ一１−オクテニノレ）シクロペンタン〔赤外スペクト
ル（液膜法）；１７４０ｃＩｎ−１，１７１５ｃｍ−１
，１６７０−１，１６３０ｃｒｒ１−１，１２７５ｃＩ
ｒ１−１，１２３５ｃＩｎ−１，９８０ｃｍ１−１，７
１０ｃｍ−１，ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｔ３）；
０．９０１ｐ（Ｔ，３Ｈ），１．９２（Ｓ，３Ｈ），１
．９６（Ｓ，３Ｈ），２．５６（Ｔ，２Ｈ，Ｔ＝６．４
Ｈｚ），１．１６〜２．４６（Ｍ，ｌ３Ｈ），４．０６
（Ｍ，４Ｈ），５．５２（Ｍ，ｌＨ）、，６．２２（Ｄ
，ｌＨ）Ｔ＝１６Ｈｚ），６．７０（Ｄｄ，ｌＨ，Ｔ＝
１６Ｈｚ，８Ｈｚ），７．５２（Ｍ，３Ｈ），８．００
（Ｍ，２Ｈ）〕を得た。実施例 ２９． （１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−アセチルオキシメチ
ル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２クロロアセチルオ
キシエチル）−３−〔（Ｅ）一３−オキソ一１−オクテ
ニル〕−シクロペンタン（工哲＠）（１Ｓ，２Ｒ，３Ｒ
，４Ｒ）−４−アセチルオキシメチル−１−ベンゾイル
オキシ−２−（２クロロアセチルオキシエチル）−３−
〔（Ｅ）−３−オキソ一１−オクテニル〕−シクロペン
タン５０巧（０．１１１ｍｍ０１）とｐ−トルエンスル
ホン酸一水和物６０ηを酢酸１０ｍ２に溶解し、１０５
℃の油浴中、アルゴン雰囲気下に４時間攪拌する。

得られた反応液を減圧下に濃縮して酢酸を除去し、残り
を酢酸エチル３０ｍ２に溶かして、重曹水少量と食塩水
少量で順に洗浄する。硫酸ナトリウムで乾燥したあと、
溶剤を留去することによつて６３ｍｑの茶色油状の粗生
成物が得られた。これを２０ｃｍＸ２０ｃｍのシリカゲ
ル薄層板２枚を使用した薄層クロマトグラフイ一に供し
、シクロヘキサン：酢酸エチル８：２の混合溶剤で２回
展開する。Ｒｆ値が０．２から０．３までの間のシリカ
ゲル層をかき取つて酢酸エチルで抽出し、瀘過してシリ
カゲルを除いた溶液を濃縮することによつて、無色油状
の純粋な生成物２４巧（０．０５３ｍｍ０１，４８．０
％）が得られた。このものは次の分析データによつて、
（１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）−４アセチルオキシメチル
−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロアセチルオ
オキシエチル）−３〔（Ｅ）−３−オキソ一１−オクテ
ニル〕シクロペンタンであることを確認した。Ｔｔｃ（
シクロヘキサン：酢酸エチル ８：２実施例 ３０（１
Ｓ，２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−（２−アセトオキシエチ
ル）−４−アセトオキシメチル−１−ベンゾイルオキシ
−３−ホルミルーシクロペンタン（工程５）（１Ｓ，２
Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−（２−アセトオキシエチル）−
４−アセトオキシメチル−１ベンゾイルオキシ−３−（
３−オキソブテニノＯシクロペンタン１５１Ｔｆ！ｇ（
０．３６３ｍｍ０１）を酢エチ２０ｍｅに溶かし、−７
８（に冷却した後、オゾンを通じる。

１．５時間オゾンを通した後、アルゴンを通じてオゾン
を追い出し、トリフエニルホスフイン２００Ｔ！ｆを加
え２時間還流する。

薄層クロマトグラフイ一で分離精製すると１１５巧（０
．３０６ｍｍ０１，８４．３％）の（１Ｓ，２Ｒ，３Ｒ
，４Ｒ）−２−（２−アセトオキシエチル）一４−アセ
トオキシメチル−１−ベンゾイルオキシ−３−ホルミル
シクロペンタン〔赤外スベクトルル（液膜法）；２７０
０ｃｒｎ−１，１７３８ＣＩＴ１−１，１７１５ｃｍ゛
−１，ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｔ３）；２．００
ｐ（Ｓ，６Ｈ），１．６０〜３．１０（Ｍ，７Ｈ），４
．１６（Ｍ，４Ｈ），５．６０（Ｍ，ｌＨ），７．５２
（Ｍ，３Ｈ），７．９４（Ｍ，２Ｈ），１０．１０（Ｄ
，ｌＨ）．〕を無色の油伏物として得た。実施例 ３１ （１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−２−（２−アセトオキシ
エチル）−４−アセトオキシメチル−１−ベンゾイルオ
キシ−３−ホルミルシクロペンタン（工程６）（１Ｓ，
２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−（２−アセトオキシエチル）
−４−アセトオキシメチル−１−ベンゾイルオキシ−３
−ホルミルシクロペンタン１６３ｍｖ（０．４３４ｍｍ
０１）をメタノール２０ｍｅに溶かし、酢酸ナトリウム
３００巧を加え，６０′Ｃに３時間加熱する。

メタノールを減圧で除去した後、エーテル２０ｍｅを加
えて溶かし、ついで重曹水で洗つた後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。瀘過後、濃縮すると（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ
，４Ｒ）−２−（２−アセトオキシエチル）−４アセト
オキシメチル−１−ベンゾイルオキシ−３−ホルミルシ
クロペンタン１４１巧（０．３７５ｍｍ０１，８６．４
％）〔赤外スペクトル（液膜法）；２７００ｃｍ−１，
１７３８ｃｍ−１，１７１５国−１．ＮＭＲ（１００Ｍ
Ｕ，ＣＤＣｔ３） ；９，７４ｐ（Ｄ，ｌＨ，ＣＨＯ）
．〕を無色の油伏物として得た。実施例 ３２ （１Ｓ，２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトオキシメチル
−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロアセトオキ
シエチル）−３−ホルミルシクロペンタン（工程５）（
１Ｓ，２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトオキシメチル−
１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロアセトオキシ
エチル）−３−（３−オキソ１−ブテニル）シクロペン
タン１５１巧（０．３３５ｍｍ０１を酢酸エチル１５ｍ
１に溶解し、オゾンを１．５時間通じる。

反応の進行の程度は薄層クロマトグラフイ一（酢酸エチ
ルリシクロヘキサン＝４：６，３回展開）で生成物が原
料よりわずかに極性が小さいことより知ることができる
。オゾンの導人を停止した後、アルゴンを通じることに
より過剰のオゾンを除去し、ついでトリフエニルホスフ
イン２００巧を加えて２時間還流する。溶媒を減圧下除
去した後、残渣をクロマトグラフイ一で精製し、１１５
ｍｑ（０．２８ｍｍ０１，８３．６％）の無色の油伏物
として（１Ｓ，２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトオキシ
メチル−１−ベンゾイルオキＳシ一２−（２−クロロア
セトオキシエチル）−３−ホルミルシクロペンタン〔赤
外スペクトル；１７３５ｃｍ−１，１７１５ＣＩ１１−
１．ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｔ３）；１０．０ｐ
（Ｄ，ｌＨ，Ｔ５Ｈ．）アルデヒド水素．〕を得た。実
施例 ３３ （１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−アセトオキシメチル
−１−ベンゾイルオキシ−２−（２クロロアセトオキシ
エチル）−３−ホルミルシクロペンタン（工程６）（１
Ｓ，２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトオキシメチル−１
−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロアセトオキシエ
チル）−３−ホルミルシクロペンタン１６３即（０．３
９７ｍｍ０１）をメタノール２０ｍ２に溶かし、酢酸ナ
トリウム３００巧を加え、６０℃に４時間加熱する。

反応の進行は、薄層クロマトグラフイ一（シリカゲルリ
クロロホルム；７ｃｍを三回展開）で原料より生成物が
少し極性が強い（Ｒｆ小）ことより知ることができる。
メタノールを減圧で除去し、エーテル１５ｍｅを加えて
溶かし、水洗した後、無水硫酸マグ坏シウムで乾燥する
。エーテル溶液を瀘別後濃縮すると無色の油伏物として
、（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−アセトオキシメチ
ル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロアセトオ
キシエチル）−３−ホルミルシクロペンタン〔赤外スペ
クトル；１７３５ｃｍ−１，１７１５ｃｒｒ１−１，Ｎ
ＭＲ（１００ＭＨＺ，ｃＤｃｔ３）；１．６５〜２．９
０ＰＦ１（Ｍ，７Ｈ，２．ＯＯ酔の３Ｈを除く。），２
．００（Ｓ，３Ｈ），４．００（Ｓ，２Ｈ），４．００
〜４．３６（４Ｈ，ｍ），５．５５（Ｍ．ｌＨ），７．
５２（Ｍ，３Ｈ），８．００（Ｍ，２Ｈ），９．６７（
Ｄ，ｌＨ，Ｔ＝２，１Ｈｚ）．〕１１４Ｔｆ！ｆ（０．
２７８ｍｍ０１，６９．９（ｆ））を得た。実施例 ３
４． （１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−アセトオキシメチル
−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロアセトオキ
シエチル）−３−（１，３ジオキソラン一２−イル）シ
クロペンタン（工程７）１ｔのナス型フラスコに（１Ｓ
，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−アセトオキシメチル−１−
ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロアセトオキシエチ
ノレ）３−ホルミルシクロペンタン３０７（７３ｍｍ０
１）をジメトキシエタン３５０ｍ２に溶かし、これにエ
チレングリコール３００ｍ１とｐ−トルエンスルホン酸
４７（２１．０５ｍｍ０１）を加える。

さらに、この溶液に４Ａ−モレキユラーシープを適量入
れ、室温（２５℃）に放電する。約２時間後、薄層クロ
マトグラフイ一で反応の終点を確認したら酢酸ナトリウ
ム１．７２６７（２１．０５ｍｍ０１）を加え、瀘過し
、ジメトキシエタンを留去する。留去残渣をエーテル１
０００ｍｅにうすめ、水洗（３００ｍｅ×１）を行なう
。さらに水層をエーテル抽出（３００ｍ１×１）する。
ついでエーテル層を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥し
、エーテルを濃縮すると、３３７（７２．６ｍｍ０１，
９９．５（Ｆ６）の（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−
アセトオキシメチル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２
−クロロアセトオキシエチル）−３−（１，３−ジオキ
ソラン一２−イル）シクロペンタン（ＩＲ（液膜法）；
１７４０ｃｍ−１，１７２０ａｎ−１１２７０ＣＩＴ１
−りが得られる。実施例 ３５ （１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−アセトオキシメチル
−１−ベソゾイルオキシ一２−（２一ヒドロオキシエチ
ル）−３−（１，３−ジオキソラン一２−イル）シクロ
ペンタン（工程８）″２ｔ三ツロフラスコにコンデンサ
ー、エアーモーター、大型オイルバス、アルゴン導入管
を取り付ける。

これに（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４アセトオキシメ
チル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロアセト
オキシエチル）−３−（１，３−ジオキソラン一２−イ
ル）シクロペンタン４０．７Ｖ（８９．５４ｍｍ０１）
をエタノール１０００ｍ江溶かし入れ、さらにチオ尿素
８．８５７（１１．６．４ｍｍ０１）と炭酸水素ナトリ
ウム８．３０Ｖ（９８．５ｍｍ０１）を加えて攪拌し、
７０〜８０℃で加熱する。およそ１時間で加熱攪拌をや
め、１晩放置する。薄層クロマトで反応の終点をみて、
反応液を瀘過する。瀘液を濃縮し得られたかつ色の油伏
物に水３００ｍ１を加え、酢酸エチル抽出する。酢酸エ
チル層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して得られた
粗生成物をカラムクロマトグラフイ一（シリカゲル１０
００ｔ、クロロホルム−メタノール）で精製すると（１
Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−アセトオキシメチル−１
−ベンゾイルオキシ−２−（２−ヒドロオキシエチノり
３−（１．３−ジオキソラン一２−イル）シクロペンタ
ン３１．６１ｙ（８３．６ｍｍ０１，９３．４％）が得
られる。この構造は次のデータより確認した。ＩＲ（液
膜法）；３３５０ａｒ１−１，１７１０？−１，９６０
ｃｍ−１，９３０ｃｒｎ−１，ＮＭＲ（ＣＤｃｔ３，ｌ
ＯＯＭＨＺ）：７．１０〜８．１０Ｙ！Ｐ（Ｍ，５Ｈ）
，５．３８〜５．５６ｐ（Ｍ，ｌＨ），４．９０Ｐ（Ｄ
，Ｔ＝４Ｈｚ，１Ｈ），３．５０〜４．３０ｐ（Ｍ，９
Ｈ），１．９５ｐ（Ｍ，３Ｈ），１．６０〜２．６０ｐ
ｐＩｎ（Ｍ，７Ｈ，ｌ．９５ｐｌ３Ｈは除く）実施例
３６． （１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−アセトオキシメチル
−１−ベンゾイルオキシ−２−ホルミルメチル−３−（
１，３−ジオキソラン一２イル）シクロペンタン（工程
９）アルゴン雰囲気、氷冷下でセライト６５ｙ、コリン
ス試薬１１１７（４３０ｍｍ０１）、脱気乾燥した塩化
メチレン３００ｍ１を混合させ、激しく攪拌する。

これに、（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）４−アセトオキシ
メチル−１−ベンゾイルオキシ２−（２−ヒドロオキシ
エチル）−３−（１，３−ジオキソラン一２−イル）シ
クロペンタン２９．５７７（７８ｍｍ０１）を一気に投
入する。約１０分間激しく攪拌した後、吸引瀘過（固体
を塩化メチレンでよく洗う）する。瀘液を濃縮し、全体
が５０ｍ１になつたとき、エーテル１０００ｍｅ加え、
クロム錯体を瀘別する。ついでエーテル溶液を硫酸銅水
溶液で洗浄し、飽和食塩水で洗つた後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。エーテルを濃縮して得られる粗生成物を
、カラムクロマトグラフイ一（シリカゲル１０００７、
シクロヘキサン一酢酸エチル）で精製すると、２５．４
ｙ（６７．６ｍｍ０１，８６．６％）の（１Ｓ，２Ｒ，
３Ｓ，４Ｒ）４−アセトオキシメチル−１−ベンゾイル
オキシ−２−ホルミルメチル−３−（１，３−ジオキソ
ラン一２−イル）シクロペンタンが得られた。構造は次
のデータより確認した。ＩＲ（液膜法）；２７２０ｃ［
ｎ−１，１７２０申−１，ＮＭＲ（ＣＤＣｔ３，ｌＯＯ
ＭＨｚ）；９．７０ｐ（Ｍ，ｌＨ），７．９８ｐ１（Ｍ
，２Ｈ），７．５０ｐ（Ｍ，３Ｈ），５．５０ｐ（Ｍ．
ｌＨ），４．８８Ｐ１（Ｄ，Ｔ＝４Ｈｚ，１Ｈ），３．
７０〜４．４０ｐ（Ｍ，７Ｈ），２．７６ＰＦ１（Ｍ，
２Ｈ），１．７０〜２．６０ｐ（Ｍ，７Ｈ）．実施例
３７． （３ａＲ，４Ｓ，５Ｒ，６ａＳ）−ヘキサヒトロー２−
ヒドロオキシ−５−（２−ヒドロオキシメチル）−４−
（１，３−ジオキソラン一２一イル）−２Ｈ−シクロペ
ンタ〔ｂ〕フラン（工程（Ｄ）アルゴン雰囲気下で、（
１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−アセトオキシ−１−ベ
ンゾイルオキシ−２−ホルミルメチル−３−（１，３−
ジオキソラン一２−イル）シクロペンタン７．４７（１
９。

８ｍｍ０１）をメタノール１２０ｍｅに溶かし、そこへ
１Ｎ一水酸化カリウム水溶液７０ｍ１を加え、室温（２
０℃）で攪拌する。

およそ１時間で反応が終了し、メタノールを留去する。
留去残渣を水１００ｍｅでうすめ、ｎ−ヘキサン●エー
テル（１：１）混合溶液で抽出（１００ｍｅ×１５）し
、副生成物を除く。さらに水層を酢酸エチル抽出（１０
０ｍｅＸ１０）、塩析（酢酸エチル１００ｍｅ×５）を
行ない、酢エチ層を合わせ硫酸マグネシウムで乾燥する
。酢酸エチルを濃縮すると、（３ａＲ，４Ｓ，５Ｒ，６
ａＳ）−ヘキサヒドロ２−ヒドロオキシ−５−（２−ヒ
ドロオキシエチル）−４−（１，３−ジオキソラン一２
−イノり一２Ｈ−シクロペンタ〔ｂ〕フラン３．６１６
Ｉｉ７（１５．７ｍｍ０１，７９．４％）が得られる。
構造は次のデータより確認した。ＩＲ（液膜法）；３４
００ｃｎ１−１，１７３０ｃｍ−１１０１０ｃｍ−１〔
α〕Ｌ５＋１．９３０（Ｃｌ．Ｏ３７，ＣＨＣ４）実施
例 ３８．（Ｚ）−Jヨ黶k（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，５Ｓ）
一５−ヒドロオキシ−３−ヒドロオキシメチル−２−（
１，３−ジオキソラン一２−イル）シクロペンタン−１
−イル〕−５−ヘプテン酸メチルエステル（工程［相］
および［相］）アルゴン雰囲気下で、４−カルボヒドロ
キシ−ｎ−ブチルトリフエニルホスホニウムブロマイド
１９，６０７（４４．２５ｍｍ０１）を脱気した無水ジ
メチルスルホキサイド５０ｍ２に溶かし、さらにナトリ
ウムメチルスルフイニカルバニドのジメチルスルホキサ
イド溶液（２．１５５Ｍ）４１．０７ｍ１（８８．５ｍ
ｍ０１）を加える。

これに（３ａＲ，４Ｓ，５Ｒ，６ａＳ）−ヘキサヒトロ
ー２−ヒドロオキシ−５−（２−ヒドロオキシエチル）
−４（１，３−ジオキソラン一２−イル）−２Ｈ−シク
ロペンタ〔ｂ〕フラン３．３９４７（１４．７５ｍｍ０
１）を無水ジメチルスルホキサイド２５ｍｅに溶かした
ものを加え、室温で２時間攪拌する。次に４０℃以下で
ジメチルスルホキサイドを留去し、水２００ｍｅに溶か
してエーテル抽出（１００ｍ′×３）を行なう。ついで
水層を酒石酸水素ナトリウムの粉末を加え、ＰＨ３〜４
ＶＣ．して酢酸エチル抽出（１００ｍ１ｘ３）、塩析（
１００ｍ１！×３）し、酢酸エチル層を合わせて硫酸マ
グネシウムで乾燥する。酢酸エチルを濃縮して得られた
粗生成物を塩化メチレン１００ｍ１ＶＣ溶かし、ジアゾ
メタン−エーテル溶液を加える。ついで塩化メチレンを
濃縮すると、７．０９ｔの粗生成物が得られ、これをカ
ラムクロマトグラフイ一（シリカゲル２００（ｉ／、シ
クロヘキサン一酢酸エチル）で精製すると、３．４４７
（１０．５ｍｍ０１．収率７１％）の純粋な（Ｚ）−J
ヨ黶k（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，５Ｓ）−５ヒドロオキシ−
３−ヒドロオキシメチル−２（１，３−ジオキソラン一
２−イル）シクロペンタン−１−イル〕−５−ヘプテン
酸メチルエステルが得られる。この構造は次のデータよ
り確認した。ＩＲ（液膜法）；３４００？１，１７３０
。．−１，９７０（１−ｎ１−１，ＮＭＲ（ＣＤＣｔ３
，ｌＯＯＭＨｚ）；５．４０ｐ１（Ｍ，２Ｈ），４．９
０ｐ１（Ｄ，Ｔ＝４Ｈｚ，１Ｈ），３．８〜４．１０ｐ
（Ｍ，５Ｈ），３．００〜３．７０酔（Ｍ，７Ｈ），１
，４０〜２，４０Ｐ（Ｍ，ｌ３Ｈ）．実施例 ３９． （Ｚ）−Jヨ黶k（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，５Ｓ）−５−ベソ
ゾイルオキシ一３−ベンゾイルオキシメチル−２−（１
，３−ジオキソラン一２−イ トル）シクロペンタン−
１−イル〕−５−ヘプテン酸メチルエステル（工程［相
］）アルゴン雰囲気下で、１００ｍｅナス型フラスコに
（Ｚ）−Jヨ黶k（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，５Ｓ）５−ヒドロ
オキシ−３−ヒドロオキシメチル−２（１，３−ジオキ
ソラン一２−イル）シクロペンタン−１−イル〕−５−
ヘプテン酸メチルエステル２．３６４７（７．２ｍｍ０
１）をピリジン２０ｍｅに溶かす。

これを攪拌しながら塩化ベンゾイル１．８６ｍｅ（２．
２３ｙ二１５．８４ｍｍ０１）を注射器で滴下する。（
発熱したら少し冷水で冷やす）滴下後およそ１時間で反
応の終点をみたら攪拌をやめ、エーテル１５０ｍ１を加
え、水洗（１００ｍ２ｘ１），１Ｎ・塩酸洗浄（５０ｍ
ｅＸ５）し、さらに飽和重曹水洗浄（５０ｍｅ×１）、
飽和食塩水洗浄（５０ｍ１×１）を終え、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。エーテルを濃縮すると４．０７の粗生
成物が得られる。これをカラムクロマトグラフイ一（シ
リカゲル１２０Ｖ、ベンゼン・酢酸エステル）で精製を
行なうと、３．３２８７（６．２ｍｍ０１．収率８６％
）の純粋な（Ｚ）−Jヨ黶k（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，５Ｓ）
−５−ベンゾイルオキシ−３−ベンゾイルオキシメチル
−２−（１，３−ジオキソラン一２−イル）シクロペン
タン−１−イル〕−５ヘプテン酸メチルエステルが得ら
れる。この構造ぱ次のデータにより確認した。

ＩＲ（液膜法）；１７２０ｃｎ１−１，１２６０ｃｎ１
−１，９６０Ｃ１１１−１，９３０ｃｎ１−１，ＮＭＲ
（ＣＤＣｔ３，ｌＯＯＭＨｚ）；７．９０〜８．１０Ｆ
（Ｍ，４Ｈ），７．２０〜７．６０ｐ（Ｍ，６Ｈ），５
．２０〜５．５６匹（Ｍ，３Ｈ），４．９９ｖＩｐ（Ｄ
，Ｔ＝２Ｈｚ，１Ｈ），３．７０〜４．６０ｐ（Ｍ，６
Ｈ），３．６０Ｐ（Ｓ，３Ｈ），１，２０゛〜２．７０
ｐ（Ｍ，ｌＯＨ）．〔α兄５＋２２．１３Ｓ（ＣＯ．８
３６，ＭｅＯＨ）実施例 ４０．（Ｚ）−Jヨ黶k（１Ｒ
，２Ｓ，３Ｒ，５Ｓ）５−ベンゾイルオキシ−３−ベン
ゾイルオキシメチル−２−ホルミルシクロペンタン−１
−イル〕−５−ヘプテン酸メチルエステル（工程＠１０
０ｍｅナス型フラスコに（Ｚ）−Jヨ■■ オキシ−３−ベンゾイルオキシメチル−２−（１，３−
ジオキソラン一２−イル）シクロペンタン一１−イル〕
−５−ヘプテン酸メチルエステル１．０１９７（１，９
ｍｍｏ１）を２（ｆ６イソプロパノル／クロロホルム４
０ｍｅに溶かす。

これに氷冷しながら濃塩酸２０ｍｅを加え、２５℃に戻
し、充分混るように攪拌する。約１時間経過したら反応
液を静置し、上澄の濃塩酸を抜き取り、新しく濃塩酸２
０ｍｅ加え攪拌する。この操作を３度繰り返したのち、
水３０ｍｌ１クロロホルム３０ｍｅを加えて希釈し、水
洗（３０ｍｅＸ４）、飽和重曹水で洗浄（３０ｍｅ×２
）した後、硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下でクロ
ロホルムを出来るだけ低温（２０℃以下）で濃縮すると
、９３４．８巧（１．９ｍｍｏ１）の粗（Ｚ）−７−〔
（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，５Ｓ）−５−ベンゾイルオキシ−
３−ベンゾイルオキシメチル−２−ホルミルシクロペン
タン−１−イル〕−５−ヘプテン酸メチルエステルが得
られる。赤外スペクトル（液膜法）でアセタールの吸収
（９６０Ｃ１１１−１ ，９３０ＣｌＴｌ−１ ）がな
くなり、アルデヒドの吸収（２７２０ｃｍ−１）が確認
された。実施例 ４１． （１Ｒ，３ａＲ，５Ｓ，６Ｒ，６ａＲ）−ヘキサヒドロ
−５−ベンゾイルオキシ−６−（２クロロアセチルオキ
シエチル）−１−（２−オキソーヘプチル）−１Ｈ−シ
クロペンタ〔Ｃ］フラン（エ程３）（１Ｒ，３ａＲ，５
Ｓ，６Ｒ，６ａＲ）−へキサヒドロ−５−ベンゾイルオ
キシ−６−（２−ヒドロキシエル）−１−（２−オキソ
ーヘプチル）−１Ｈ−シクロペンタ〔Ｃ〕フラン０．３
０７（０．７７ｍｍｏｌ）とクロ「コアセチルクロライ
ド０．１０２Ｖ（０．９ｍｍｏｌ）を乾燥エーテル１０
ｍｅに溶かし、氷水浴中で冷却攪拌しながらピリジン０
．０７１７（０．９ｍｍｏｌ）を加える。

１時間後、エーテル７０ｍｅを加えてうすめ、エーテル
溶液を水、重曹水、１規定塩酸、重曹水、食塩水で順に
洗浄してから硫酸マグ不シウムで乾燥し、エーテルを留
去することによつて無色油状の生成物が０．３１２７（
０．６９ｍｍｏｌ，９０％）得られた。

このものは次の分析データπよつて、（１Ｒ，３ａＲ，
５Ｓ，６Ｒ，６ａＲ）−ヘキサヒドロー５−ベンゾイル
オキシ−６−（２−クロロアセチルオキシエテル）−１
−（２−オキソーヘプチノＯ−１Ｈ−シクロペンタ〔Ｃ
〕フランであることを確認した。実施例 ４２． （１Ｓ，２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−アセチルオキシメチ
ル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２クロロアセチルオ
キシエチル）−３−〔（Ｅ），３−オキソ−１−オクテ
ニル〕−シクロペンタン（エ程４）（１Ｒ，３ａＲ，５
Ｓ，６Ｒ，６ａＲ）−ヘキサヒトロー５−ベンゾイルオ
キシ−６−（２−クロロアセチルオキジエチル）−１−
（２−オキソヘブチル）−１Ｈ−シクロペンタ〔Ｃ〕フ
ラン５．９ｆ（１３．０ｍｍ０１）とｐ−トルエンスル
ホン酸１水和物１７を無水酢酸１２０ｍｅに溶解し、こ
の溶液を７０℃油浴中で攪拌する。

２．５時間後、減圧下に無水酢酸を留去し残りを酢酸エ
チル５００ｍ２ＶＣ溶かして．重曹水少量で２回、食塩
水少量で３回洗つた後、硫酸マグネシウムで乾燥して濃
縮することにより、粗生成物６．４８７を得た。

これをシリカゲル３００ｙを使用したカラムクロマトグ
ラフイ一に供し、酢酸エチル含有（２０％）シクロヘキ
サンで溶出し、２００ｍｅずつのフラクシヨンを２０本
取る。黒８から黒１４までのフラクシヨンを集めて濃縮
することによつて純粋な目的化合物（１Ｓ，２Ｒ，３Ｒ
，４Ｒ）−４−アセチルオキシメチル−１−ベンゾイル
オキシ−２（２−クロロアセチルオキシエチル）−３−
〔（Ｅ）−３−オキソ一１−オクテニル〕−シクロペン
タン４．１７９７（８．４５ｍｍ０１，６５％）が油伏
物質として得られた。次の分析データによつて確認した
。厳寒期に採取した青木果実１．７炸を２〜３ｒｍｎ厚
の輪切りにし、炭酸カルシウム５０７とアルコール３．
４ｔを加えて加熱し２時間還流させた後、得られた茶か
つ色温溶液を直ちに瀘過する。

残つた果実片にアルコール３．４ｔを加え、家庭用ミキ
サーで５分間ホモゲナイズしてから再び加熱し２時間還
流させる。熱いうちに直ちに吸引瀘過して得た瀘液を先
に得た瀘液と合せて減圧下濃縮することによつて、鉛伏
淡茶色の固体２３０７が得られた。Ｔｔｃ（ｎ−プタノ
ールリアセトン：水４：５：１） Ｒｆ＝０．６５ 参考例 ２ テトラヒドロアウクピン 粗アウクピン２７０７（青木果実２幻のアルコール抽出
物）、アルコール３００ｍｅ、水３００ｍｅ、水酸化ナ
トリウム１Ｖおよびラネーニツケル３７（Ｗ−７に展開
）の混合物を１ｔオートクレーブ中、水素圧１００気圧
、７０〜１００℃で２時間攪拌振トウする。

室温冷却後、水素を放出して得た反応液を遠心分離して
、上澄液を濃縮することによつて２７０７の粗生成物を
得た。Ｔｔｃ（ｎ−ブタノールリアセトン：水 参考例 ３ テトラヒドロアンヒドロアウタビゲニン 粗テトラヒドロアウクピン２７０７（青木果実２蛇のア
ルコール抽出物をラネーニツケルで水添して得たもの）
、リン酸５０ｍ１、および水１ｔのの混合物を７０℃油
浴中で１７時間攪拌する。

反応液を室温に冷却して、食塩を飽和するまで加えた後
、クロコホルム１ｔで３回抽出する。クロロホルム抽出
液を合して硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮することによ
つて無色固体状の生成物２４７を得た。このものはシク
ロヘキサン：酢酸エチル混合溶剤で再結晶することによ
つて無色柱状結晶となる。Ｍｐ８４〜８８℃ Ｔｔｃ（塩化メチレンリメタノール １０：１）Ｒｆ＝
０．４０〔α〕Ｌ２Ｏ＝＋４８．７タ（Ｃ＝２，０１２
アルコール）参考例 ４。

テトラヒドロアンヒドロアウクビゲニン 乾燥したセライト５４５３６ｔとクロム酸２ピリジン錯
体（コリンズ試薬）２４ｙ（９３ｍｍ０１）および精製
した塩化メチレン１６０ｍｅの混合物をアルゴン雰囲気
中室温で攪拌しながら、テトラヒドロアンヒドロアウク
ビゲニン４．１ｔ（２４ｍｍ０１）の塩化メチレン（２
０ｍｅ）溶液を一度に加える。

１時間撹拌した後、粉砕した硫酸水素ナトリウム水和物
２４ｔを加え更に１０分間攪拌する。

反応混合物をセライトを敷いたグラスフイルタ一で瀘過
し、塩化メチレン５００ｍｅでよく洗つた後、瀘液と洗
液を合して濃縮し、かつ色油伏物を得た。これにエーテ
ル２００ｍｅを加えて攪拌し、生じたかつ色の沈澱を瀘
別し、エーテル溶液を硫酸ナトリウムで乾燥後、エーテ
ルを留去することによつて淡黄色固体の生成物４７（２
３．８ｍｍ０１，９９％）を得る。

このもの｝ま、シクロヘキサン：酢酸エチルの混合溶剤
で再結晶することによつて無色柱状晶となる。次の分析
データによつて、テトラヒドロアンヒドロアウクビゲノ
ンであることを確認した。Ｍｐ７３．５〜７６．５℃ Ｔｔｃ（塩化メチレンリメタノール １０：１）Ｒｆ＝
０．６５Ｃ−Ｎｍｒ（ＣＤＣｔ３）δＰＰ［ｌ（ＴＭＳ
から低磁場）２１７．１３８１００．８３９７３．０９
５５８．８０１４３．５３２４２．６２２４１．３２３
３５．４７５２５．１１６参考例 ５． ６−エピーテトラヒドロアンヒドロアウクビゲニンテト
ラヒドロアンヒドロアウクビゲノン １０．２４７（６１ｍｍ０１）を乾燥エーテル５００ｍ
ｅに溶解せしめ、これをアルゴン雰囲気中、氷水浴で冷
却しながら、水素アルミニウムリチウムのテトラヒドロ
フラン溶液（１．３５Ｍ）２５ｍｅを滴下する。

滴下終了後、更に１５分間撹拌してから少量の飽和食塩
水を滴下して、リチウム塩をつぶした後エーテル溶液を
食塩水少量で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥してから
濃縮することにより無色の結晶９．６ｔ（５６ｍｍ０１
，９３（ｆ））か得られた。次の分析データによつて６
−エピーテトラヒドロアンヒドロアウクビゲニンである
ことを確認した。

参考例 ６ ６−エピーテトラヒドロアンヒドロアウクビグニンベン
ゾエイトＣ［程−）６−エビーテトラヒドロアンヒドロ
アウクビゲニン７．２７Ｖ（４２．８ｍｍ０１）をピリ
ジン２０ｍ１に溶かし、氷水浴中で冷却攪拌しながらベ
ンゾイルクロライド７．６ｙ（５４ｍｍ０１）を滴下す
る。

滴下終了後、室温に戻して更に２時間撹拌してからエー
テル５００ｍｅでうすめ、水、１規定塩酸、水、飽和重
曹水、飽和食塩水で順に洗う。エーテル溶液を硫酸ナト
リウムで乾燥してから濃縮することにより、粗生成１２
．４６ｙを油伏物質として得た。シリカゲル５００７を
使用したカラムクロマトグラフイ一に供し、ベンゼン：
酢酸エチル混合溶剤で展開溶出することにより精製して
１０．１８７（３７．２ｍｍ０１，８７％）の無色結晶
が得られた。

次の分析データによつて、６−エビーテトラヒドロアン
ヒドロアウクビゲニンベンゾエイトであることを確認し
た。参考例 ７． （５Ｚ，９α，１１α，１３Ｅ）−９−ベンゾイルオキ
シ−１］−ベンゾイルオキシメチル−１５−オキソープ
ロスタ一５，１３−ジエン酸メチルエステル（工程＠）
水素化ナトリウム（５８（！）含有油伏分散物）１３８
〜をアルゴン置換した１００ｍ１のフラスコに入れ、ペ
ンタンで洗う。

ついでジメトキシエタン３０ｍｅを加え攪拌し、これに
ジメチル２−オキソヘブチルホスホネート６７４巧（３
．０４ｍｍ０１）をジメトキシエタン１５ｍ１に溶かし
て加える。室温で３０分間攪拌した後、（Ｚ）−Jヨ黶
k（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，５Ｓ）−５−ベンゾイルオキシ
−３−ベンゾイルオキシメチル−２−ホルミルシクロペ
ンタン一１−イル〕−５−ヘプテン酸メチルエステル９
３５巧（１．９０ｍｍ０１）をジメトキシエタン１０ｍ
ｅに溶かして加える。室温で３時間反応させた後、酢酸
を加えて中性とし、ついで溶媒を減圧で除去する。残渣
をカラムクロマトグラフイ一で精製すると、１．０５７
（１．７９ｍｍ０１，９４％）の（５Ｚ，９α，１１α
，１３Ｅ）−９−ベンゾイルオキシ−１１ベンゾイルオ
キシメチル１５−オキソープロスタ一５，１３−ジエン
酸メチルエステルを得た。このものの物性値は次に示す
通りで構造とよく一致している。赤外スペクトル（液膜
法）；１７４０ＣＩＴ１−１１７２０ｃｒｒ１−１，１
６７５ｃｍ−１，１６３０Ｃ１Ｔ１−１，７１０ｃＩｎ
−１ＮＭＲスペクトル（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｔ３）；
δ値、０．９０１１Ｐ１（Ｔ，３Ｈ），１．４０〜２．
８８Ｐ（Ｍ，２ｌＨ），３．６０（Ｓ，３Ｈ），４，２
９（Ｄ，２Ｈ），５．３４（Ｍ，２Ｈ），５．４８（Ｍ
，ｌＨ），６．２２（Ｄ，ｌＨ，Ｔ＝１６Ｈｚ），６．
７４（Ｄｄ，ｌＨ，Ｔ＝１６，８Ｈｚ），７．１４〜７
．６６（Ｍ，６Ｈ），７．８２〜８．１６（Ｍ，４Ｈ）
．参考例 ８ （５Ｚ，９α，１１α，１３Ｅ）−９−ベンゾイルオキ
シ−１１−ベンゾイルオキシメチル１５−ヒドロオキシ
−プロスター５，１３−ジエン酸メチルエステル（工程
・砂）（５Ｚ，９α，１１α，１３Ｅ）−９−ベンゾイ
ルオキシ−１１−ベンゾイルオキシメチル−１５オキソ
ープロスタ一５，１３−ジエン酸メチルエステル９６０
巧（１．６３ｍｍ０１）をジメトキシエタン１０ｍｅ圀
溶かし、アルゴン下に亜鉛ボロンハイドライド（Ｚｎ（
ＢＨ４）２ ；０．７Ｍジメトキシエタン溶液）１，２
ｍｅを加え、室温で１時間反応させる。

過剰の亜鉛ボロンハイドライドを酒石酸モノナトリウム
塩水溶液を加えて分解した後、塩化メチレン５０ｍｅを
加えてうすめ、硫酸マグネシウムを加え乾燥する。瀘別
後、減圧で溶媒を除去すると薄黄色油伏物として９５０
即（１．６１ｍｍ０１，９９％）の（５Ｚ，９α，１１
α，１３Ｅ）−９−ペンタールオキシ−１１ベンゾイル
オキシメチル一１５−ヒドロオキシ−プロスター５，１
３−ジエン酸メチルエステル〔赤外スペクトル（液膜法
）；１７４０ｃｎ１−１，１７２０ｃｍ−１，９７０ｃ
ｎ１−１，３４５０ＣＩ１１−１，〕を得た。このもの
は、１５α及び１５β体の混合物であるが、分離するこ
となく 、次の工程に使用した。参考例 ９、（５Ｚ，
９α，１１α，１３Ｅ，１５α）及び（５Ｚ，９α，１
１α，１３Ｅ，１５β）−９，１５−ジヒドロオキシ−
１１−ヒドロオキシメチル−プロスター５，１３−ジエ
ン酸（５Ｚ，９α，１１α，１３Ｅ）−９−ベンゾイル
オキシ−１１−ベンゾイルオキシメチル−１５−ヒドロ
オキシ−プロスター５，１３−ジエン酸メチルエステル
９８２ｍｑ（１．６６ｍｍ０１）を１２ｍ２のメタノー
ルに溶かし、これに攪拌しながら２Ｎカセイカリ水溶液
５ｍｅを加え、室温で８時間反能させる。

シユウ酸で中和した後、減圧でメタノールを除去し、さ
らにシユウ酸でＰＨ２〜３．５にして、酢エチで抽出す
る。酢エチを濃縮して得た残渣をカラムクロマトグラフ
イ一（シリカゲル；クロロホルム−メタノール（２〜５
％）で精製分離すると、最初に留出する部分から純粋な
（５Ｚ，９α，１１α，１３Ｅ，１５β）−９，１５−
ジヒドロオキシ−１１−ヒドロオキシメチループロスタ
一５，１３−ジエン酸２２２７Ｔ１ｇ（０．６０３ｍｍ
０１，３６％）、最後留出する部分から純粋な（５Ｚ，
９α，１１α，１３Ｅ，１５α）−９，１５−ジヒトオ
キシ−１１−ヒドロオキシメチル−プロスター５，１３
−ジエン酸１６９７ｎｆ！（０．４５９ｍｍ０１，２８
％）及び中間に留出する部として両者の混合物５３Ｔｆ
！ｆ（０．１４４ｍｍ０１，９％）を得た。これら二つ
の化合物は次に示す物性値をもち、これは構造とよく一
致している。（５Ｚ，９α，１１α，１３Ｅ，１５α）
−９，１５−ジヒドロオキシ−１１−ヒドロオキシメチ
ル−プロスター５，１３−ジエン酸；赤外スペクトル（
液膜法）；３３００ｃｎ１−１１７１０ＣＩＴ１−１，
９６５（１Ｔｎ−１．ＮＭＲスペクトル（１００ＭＨｚ
，ＣＤＣｔ３）δ１″直、０．８９ｐ（Ｔ，３Ｈ），１
，１０〜２．６０（Ｍ，２ｌＨ），３．６０（Ｍ，２Ｈ
），４．１２（Ｍ，２Ｈ），５．２０〜６．０（Ｍ，８
Ｈ）．〔α〕。

＝＋２３．０（５Ｚ，９α，１１α，１３Ｅ，１５β）
−９，１５−ジヒドロオキシ−１１−ヒドロオキシメチ
ループロスタ一５，１３−ジエン酸；赤外スペクトル（
液膜法）；３３００ｃｍ−１，１７１０Ｃ１１１′−１
，９６５ｃｒｒ１−１〔α〕。

二＋１２．８６ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｔ３）；
δ値，０．８８ｐＩｍ，１．０５〜２．５０（Ｍ，２ｌ
Ｈ），３．５６（Ｍ，２Ｈ），４．１２（Ｍ，２Ｈ），
５．２０〜５．７０（Ｍ，８Ｈ）。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１およびＲ＿２はエステル形成保護基、Ｒ＿
   ３はアルキル基又はアリール基、Ｒ＿４はアルキル基又
   はＲ＿４同士結合して環形成したたアルキレン基を表わ
   す。 ）で表わされる化合物を酸性条件下で加水分解するか又
   はカルボニル化合物とアセタール交換することを特徴と
   する一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３は上記定義に同じ）であ
   らわされるプロスタグランジン合成中間体の製造法。