JPS61273544A - カラ−写真画像の形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はハロゲン化銀カラー写′ｉＡ感光材料を用いて
カラー写真画像を形成する方法に関し、更に詳しくは、
色再現性に優れ、熱および湿度による白地の黄変ならび
に光堅牢性が同時に著しく改良され得るカラー写真画像
の形成方法に関する。

「発明の背景」 従来から、ハロゲン化銀カラー写真感光材料を画像露光
し、発色現像することにより芳香族第１級アミン系発色
現像主薬の酸化体と発色剤とがカップリング反応を行っ
て、例えばインドフェノール、インドアニリン、インダ
ミン、アゾメチン。

フェノキサジン、フェナジンおよびそれらに類似する色
素が生成し、色画像が形成されることは良く知られてい
るところである。このような写真方式においては通常減
色法による色再現方法が採られ、青感性、緑感性ならび
に赤感性の感光性ハロゲン化銀乳剤層に、それぞれ余色
画像にある発色剤、すなわちイエロー、マゼンタおよび
シアンに発色讐るカプラーを含有せしめたハロゲン化銀
カラー写真感光材料が使用される。

上記のイエロー色画像を形成させるために用いられるカ
プラーとしては、例えばアシルアセトアニリド系カプラ
ーがあり、またマゼンタ色画像形成用のカプラーとして
は例えばビラゾロン、ピラゾロベンズイミダゾール、ピ
ラゾロトリアゾールまたはインダシロン系カプラーが知
られており、さらにシアン色画像形成用のカプラーとし
ては、例えばフェノールまたはナフトール系カプラーが
一般的に用いられる。

マゼンタ色素を形成するために広く使用されているカプ
ラーとしては、１，２−ピラゾロ−５−オン類がある。

この１．２−ピラゾロ−５−オン類のマゼンタカプラー
から形成される色素は５５０ｎ−付近の主吸収以外に、
４３０ｎ−付近の副吸収を有していることが色再現上大
きなｒ２１１ｍであり、これを解決するために種々の研
究がなされてきた。

１．２−ピラン０−５−オン類の３位にアニリノ基を有
するマゼンタカプラーが上記副吸収が小さく、特にプリ
ント用カラー画像を得るために有用である。これらの技
術については、例えば米国特許第２，３４３，７０３号
、英国特許第１，０５９，９９４号等公報に記載されて
いる。

上記マゼンタカプラーの４３０ｎｌ付近の副吸収を減少
させるための別の手段として、英国特許第１．０４７，
６１２１ｉ）に記載されているピラゾロベンズイミダゾ
ール類、米国特許第３，７７０，４４７号に記載のイン
ダシロン類、また同第３，７２５，０６７号、英国特許
第１，２５２，４１８号、同第１，３３４，５１５号に
記載のピラゾロトリアゾール類等のマゼンタカプラーが
提案されている。これらのカプラーから形成される色素
は、４３０ｎ−付近の副吸収が、前記の３位にアニリノ
基を有する１、２−ピラゾロ−５−オン類から形成され
る色素に比べて著しく小さく色再現上好ましい。

一般にハロゲン化銀写真感光材料は、ｉ！ｊ像露光の後
、発色現像、漂白、定着、安定、漂白定着、水洗等の処
理工程で処理されるが、この定着能を有する処理液によ
る処理に続く水洗工程においては、ハ１コゲン化銀と反
応して水溶性のｖＩｉ塩を形成するｆヒ合物であるチオ
硫１塩、その他の水溶性銀錯塩、更には保恒剤としての
亜硫！ｌ！塩やメタ重亜硫酸塩等がハロゲン化銀写真感
光材料に含有、付着して持ち込まれ、水洗水量が少ない
場合画像保存性に悪い影響を残すことが知られている。

そこで、この様な欠点を解消するために定着能を有する
処理液で処理した後の水洗に多量の流水を用いて前記し
た塩をハロゲン化銀写真感光材料から洗い流しているの
が実情である。しかし近年水資源の不足、下水道料金お
よび光熱費の高騰等の経済的理由並びに公害的理由から
水洗水量を減量しかつ分書対策をとった処理工程が望ま
れていた。

上記の水洗処理工程を省略もしくは水洗水量を極端に低
減する方法として特開昭５７−８５４３号公報に記載さ
れているような多段向流安定化処理技術や、特開昭５８
−１３４６３６＠公報に記載されているようなビスマス
錯塩を含有する安定化液による実質的に水洗処理工程を
含まない処理技術も知られている。

ところが、前述の３−アニリノ−１，２−ピラゾロ−５
−オン系マゼンタカプラーを含有するハロゲン化銀感光
材料を前記の如く安定化処理する方法は特開昭５８−１
３４６３６号公報、特願昭５９−１２５５８６号の明細
書に提案されているが、既述の如く、マゼンタ色素の副
吸収のために色再現性が劣る上に、熱および湿度による
白地の黄変（以下Ｙ−スティンと称す）が著しいという
欠点を有していた。

同様に前述の、ピラゾロトリアゾール系等のマゼンタカ
プラーを含有するハロゲン化銀感光材料を前記の如く安
定化処理する方法も本出願人等の明細書に提案されてい
るが、色素画像の保存性、特に光堅牢性が低く、実用上
不充分なものもあった。

以上の記載から明らかなように、従来技術では、色再現
性に優れ、熱及び湿度によるＹ−スティンと光堅牢性を
同時に満足することは不可能であった。

［発明の目的］ 本発明は上記の問題点に鑑みなされたもので、本発明の
第１の目的は色再現性に優れ、熱及び湿度によるＹ−ス
ティン及び光堅牢性が同時に著しく改良され得るカラー
写真画像の形成方法を提供することにある。

本発明の第２の目的は色再現性に優れたハロゲン化銀写
真感光材料の光堅牢性ならびに熱及び湿度によるＹ−ス
ティンが改良されたカラー写真画像の形成方法を提供す
ることにある。

本発明のＮ３の目的は、色再現性、光堅牢性およびＹ−
スティンが改良され、かつ低公害性で経済性に優れたカ
ラー写真ｉｉ＊の形成方法を提供することにある。

他の目的は以下の記載から自ずと明らかになろう。

［発明の構成Ｊ 本発明の上記目的は、支持体上に下記一般式［Ｉ］で表
わされるマゼンタカプラーの少なくとも１種および下記
一般式［ａｌで表わされるマゼンタカプラーの少なくと
も１種を含有するハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン
化銀カラー写真感光材料を一４ａ８光した後、少なくと
も発色現像主薬する工程、定着能をｈする処理液で処理
する工程、及び実質的な水洗工程を含まず安定化処理す
る工程を施すカラー写真画像の形成方法によって速成さ
れた。

一般式［Ｉ］ ［式中Ｚは含窒素複素環を形成するに必要な非金属原子
群を表し、該２により形成される環は置換基を有しても
よい。

Ｘは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しつる置換基を表す。

またＲは水素原子または置換基を表す、］一般式［ａ　
］ Ｒ。

［式中、Ａ「はアリール基を表わし、Ｒ１は水素原子又
は置換基を表わし、Ｒλは置換基を表わす。Ｙは水素原
子または発色現像主薬の酸化体との反応により離脱しう
る置換基を、Ｗは−ＮＨ−１−ＮＨＣＯ−（Ｎ原子はピ
ラゾロン核の炭素原子に結合）または−ＮＨＣＯＮＨ−
を表わし、ｌは１または２の整数である。） ［発明の具体的構成］ 以下余白 次に本発明を具体的に説明する。

本発明に係る前記一般式（１） 一般式（１） ！ で表されるマゼンタカプラーに於いて、Ｚは含窒素複素
環を形成するに必要な非金属原子群を表し、該乙により
形成される環は置換基を有してもよい。

又は水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しうる置換基を表す。

またＲは水素原子または置換基を表す。

前記Ｒの表す置換基としては、例えばハロゲン原子、ア
ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、
アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニル
基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、ス
ピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シロキシ基
、アシルオキシ基、カルノ（モイルオキシ基、アミノ基
、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミド基、ウレ
イド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニ
ルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基が挙げ
られる。

ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子が挙
げられ、特に塩素原子が好ましい。

Ｒで表されるアルキル基としては、炭素数１〜３２のも
の、アルケニル基、アルキニル基としては炭素数２〜３
２のもの、シクロアルキル基、シクロアルケニル基とし
ては炭素数３〜１２、特に５〜７のものが好ましく、ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖でも分岐
でもよい。

また、これらアルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、シクロアルキル基、シクロアルケニル基は置換基〔例
えばアリール、シアノ、）＼ロゲン原子、ヘテロ環、シ
クロアルキル、シクロアルケニル、スピロ化合物残基、
有橋炭化水素化合物残基の他、アシル、カルボキシ、力
、ルバモイル、アルコキシカルボニル、アリールオキシ
カルボニルの如くカルボニル基を介して置換するもの、
更にはへテロ原子を介して置換するもの（具体的にはヒ
ドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環オキ
シ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ等の
酸素原子を介して置換するもの、ニトロ、アミノ（ジア
ルキルアミノ等を含む）、スルファモイルアミノ、アル
コキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルア
ミノ、アシルアミノ、スルホンアミド、イミド、ウレイ
ド等の窒素原子を介して置換するもの、アルキルチオ、
アリールチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフィニ
ル、スルファモイル等の硫黄原・子を介して置換するも
の、ホスホニル等の燐原子を介して置換するもの等）〕
を有していてもよい。

具体的には例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基
、ｔ−ブチル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、！
−ヘキシルノニル基、１．１′−ジペンチルノニル基、
２−クロル−ｔ−ブチル基、トリフルオロメチル基、１
−エトキシトリデシル基、ｌ−メトキシイソプロピル基
、メタンスルホニ、レエチル基、２，４−ジ−ｔ−アミ
ルフェノキシメチル基、アニリノ基、１−フェニルイソ
プロピル基、３−ｍ−ブタンスルホンアミノフェノキシ
プロピル基、３−４・−（α−〔４・・（ｐ−ヒドロキ
シベンゼンスルホニル）フェノキシフドデカノイルアミ
ノ）フェニルプロピル基、３−（４・−〔α−（２・・
、４・・−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブタンアミド〕
フェニル）−プロピル基、４−〔α−（０−クロルフェ
ノキシ）テトラデカンアミドフェノキシ〕プロピル基、
アリル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙
げられる。

Ｒで表されるアリール基としてはフェニル基が好ましく
、置換基（例えば、アルキル基、アルコキシ基、アシル
アミノ基等）を有していてもよい。

具体的には、フェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、
２．４−ジ−ｔ−アミルフェニル基、４−テトラデカン
アミドフェニル基、ヘキサデシロキシフェニル基、４Ｉ
−〔α−（４”−ｔ−プチルフエノキシ）テトラデカン
アミド〕フェニル基等が挙げられる。

Ｒで表されるヘテロ環基としては５〜７員のもやが好ま
しく、置換されていてもよく、又縮合していてもよい。

具体的には２−フリル基、２−チェニル基、２−ピリミ
ジニル基、２−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。

Ｒで表されるアシル基としては、例えばアセチル基、フ
ェニルアセチル基、ドデカノイル基、α−２，４−ジ−
ｔ−アミルフェノキシブタノイル基等のアルキルカルボ
ニル基、ベンゾイル基、３−ペンタデシルオキシベンゾ
イル基、ｐ−クロルベンゾイル基等のアリールカルボニ
ル基等が挙げられる。

Ｒで表されるスルホニル基としてはメチルスルホニル基
、ドデシルスルホニル基の如きアルキルスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基、ｐ−）ルエンスルホニル基の如
きアリールスルホニル基等が挙げられる。

Ｒで表されるスルフィニル基としては、エチルスルフィ
ニル基、オクチルスルフィニル基、３−フェノキシブチ
ルスルフィニル基の如きアルキルスルフィニル基、フェ
ニルスルフィニル基、ｍ　−ペンタデシルフェニルスル
フィニル基の如きアリールスルフィニル基等が挙げられ
る。

Ｒで表されるホスホニル基としてはブチルオクチルホス
ホニル基の如きアルキルホスホニル基、オクチルオキシ
ホスホニル基の如きアルコキシホスホニル基、フェノキ
シホスホニル基の如きアリールオキシホスホニル基、フ
ェニルホスホニル基の如きアリールホスホニル基等が挙
げられる。

Ｒで表されるカルバモイル基は、アルキル基、アリール
基（好ましくはフェニル基）等が置換していてもよく、
例えばＮ−メチルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジブチルカ
ルバモイル基、Ｎ−（２−ペンタデシルオクチルエチル
）カルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルカルバモ
イル基、Ｎ−（３−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキ
シ）プロピル）カルバモイル基等が挙げられる。

以下余白 Ｒで表されるスルファモイル基はアルキル基、アリール
基（好ましくはフェニル基）等が置換していてもよく、
例えばＮ−プロピルスルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ジエチ
ルスルファモイル基、Ｎ−（２−ペンタデシルオキシエ
チル）スルファモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルス
ルファモイル基、Ｎ。

−フェニルスルファモイル基等が挙げられる。

Ｒで表されるスピロ化合物残基としては例えばスピロ［
３，３］へブタン−１−イル等が挙げられる。

Ｒで表される有橋炭化化合物残基としては例えばビシク
ロ［２，２，１］ヘプタン−１−イル、トリシクロ［３
，３，１，１”’コブカン−１−イル、７．７−シメチ
ルービシクロ［２，２，１］へブタン−１−イル等が挙
げられる。

Ｒで表されるアルコキシ基は、更に前記アルキル基への
置換基として挙げたものを置換していてもよく、例えば
メトキシ基、プロポキシ基、２−エトキシエトキシ基、
ペンタデシルオキシ基、２−ドデシルオキシエトキシ基
、フェネチルオキシエトキシ基等が挙げられる。

Ｒで表されるアリールオキシ基としてはフェニルオキシ
が好ましく、アリール核は更に前記アリール基への置換
基又は原子として挙げたもので置換されていてもよく、
例えばフェノキシ基、ｐ−ｔ−プチルフェノキシ基、ｍ
−ペンタデシルフェノキシ基等が挙げられる。

Ｒで表されるペテロ環オキシ基としては５〜７員のへテ
ロ環を有するものが好ましく該ヘテロ環は更に置換基を
有していてもよく、例えば、３゜４．５．６−テトラヒ
ドロピラニル−２−オキシ基、ｌ−フェニルテトラゾー
ル−５−オキシ基が挙げられる。

Ｒで表されるシロキシ基は、更にアルキル基等で置換さ
れていてもよく、例えば、トリメチルシロキシ基、トリ
エチルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基等が挙げ
られる。

Ｒで表されるアシルオキシ基としては、例えばアルキル
カルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基等が
挙げられ、更に置換基を有してぃてもよく、具体的には
アセチルオキシ基、α−クロルアセチルオキシ基、ベン
ゾイルオキシ基等が挙げられる。

、Ｒで表されるカルバモイルオキシ基は、アルキル基、
アリール基等が置換していてもよく、例えばＮ−エチル
カルバモイルオキシ基、Ｎ、Ｎ−ジエチルカルバモイル
オキシ基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ基等が挙げ
られる。

Ｒで表されるアミノ基はアルキル基、アリール基（好ま
しくはフェニル基）等で置換されていてもよく、例えば
エチルアミノ基、アニリノ基、ｍ　−クロルアニリノ基
、３−ペンタデシルオキシカルボニルアニリノ基、２−
クロル−５−ヘキサデカンアミドアニリノ基等が挙げら
れる。

Ｒで表されるアシルアミノ基としては、アルキルカルボ
ニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基（好ましく
はフェニルカルボニルアミノ基）等が挙げられ、更に置
換基を有してもよく具体的にはアセトアミド基、α−エ
チルプロパンアミド基、Ｎ−フェニルアセトアミド基、
ドデカンアミド基、２．４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ
アセトアミド基、α−３−ｔ−ブチル４−ヒドロキシフ
ェノキシブタンアミド基等が挙げられる。

Ｒで表されるスルホンアミド基としては、アルキルスル
ホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げ
られ、更に置換基を有してもよい。

具体的にはメチルスルホニルアミノ基、ペンタデシルス
ルホニルアミノ基、ベンゼンスルホンアミド基、ｐ−）
ルエンスルホンアミド基、２−メトキシ−５−ｔ−アミ
ルベンゼンスルホンアミド基等が挙げられる。

Ｒで表されるイミド基は、開鎖状のものでも、環状のも
のでもよく、置換基を有していてもよく、例えばコハク
酸イミド基、３−ヘプタデシルコハク酸イミド基、フタ
ルイミド基、グルタルイミド基等が挙げられる。

Ｒで表されるウレイド基は、アルキル基、アリール基（
好ましくはフェニル基）等により置換されていてもよく
、例えばＮ−エチルウレイド基、Ｎ−メチル−Ｎ−デシ
ルウレイド基、Ｎ−フェニルウレイド基、Ｎ−ｐ−）−
リルウレイド基等が挙げられる。

Ｒで表されるスルファモイルアミノ基は、アルキル基、
アリール基（好ましくはフェニル基）等で置換されてい
てもよく、例えばＮ、Ｎ−ジブチルスルファモイルアミ
ノ基、Ｎ−メチルスルファモイルアミノ基、Ｎ−フェニ
ルスルファモイルアミノ基等が挙げられる。

Ｒで表されるアルコキシカルボニルアミノ基としては、
更に置換基を有していてもよく、例えばメトキシカルボ
ニルアミノ基、メトキシエトキシカルボニルアミノ基、
オクタデシルオキシカルボニルアミノ基等が挙げられる
。

Ｒで表されるアリールオキシカルボニルアミノ基は、置
換基を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル
アミノ基、４−メチルフェノキシカルボニルアミノ基が
挙げられる。

Ｒで表されるアルコキシカルボニル基は更に置換基を有
していてもよく、例えばメトキシカルボキシカルボニル
基、オクタデシルオキシカルボニル基、エトキシメトキ
シカルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニル基等
が挙げられる。

Ｒで表されるアリールオキシカルボニル基は更に置換基
を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル基、
ｐ−クロルフェノキシカルボニル基、１−ペンタデシル
オキシフェノキシカルボニル基等が挙げられる。

Ｒで表されるアルキルチオ基は、更に置換基を有してい
てもよく、例えば、エチルチオ基、ドデシルチオ基、オ
クタデシルチオ基、フェネチルチオ基、３−フェノキシ
プロピルチオ基が挙げられる。

Ｒで表されるアリールチオ基はフェニルチオ基が好まし
く更に置換基を有してもよく、例えばフェニルチオ基、
ｐ−メトキシフェニルチオ基、２−ｔ−オクチルフェニ
ルチオ基、３−オクタデシルフェニルチオ基、２−カル
ボキシフェニルチオ基、ｐ−アセトアミノフェニルチオ
基等が挙げられる。

ＲＭ　ａ　大、ｈ　ｇ　ヘテａＦＩｉ壬すＪＩ、Ｌ−１
−ｆは−５〜７員のへテロ環チオ基が好ましく、更に縮
合環を有してもよく、又置換基を有していてもよい。例
えば２−ピリジルチオ基、２−ベンゾチアゾリルチオ基
、２．４−ジフェノキシ−１，３，５−トリアゾール−
６−チオ基が挙げられる。

Ｘの表す発色現像主薬の酸化体との反応により離脱しう
る置換基としては、例えばハロゲン原子（塩素原子、臭
素原子、フッソ原子等）の他炭素原子、酸素原子、硫黄
原子または窒素原子を介して置換する基が挙げられる。

炭素原子を介して置換する基としては、カルボキシル基
の他例えば一般式 （Ｒ１・は前記Ｒと同義であり、Ｚ・は前記Ｚと同義で
あり、Ｒ７・及びＲ５・は水素原子、アリール基、アル
キル基又はへテロ環基を表す。）で示される基、ヒドロ
キシメチル基、トリフェニルメチル基が挙げられる。

酸素原子を介して置換する基としては例えばアルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキ
シ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、了り−ルオキシカルボニルオキシ基、アルキルオ
キサリルオキシ基、アルコキシオキサリルオキシ基が挙
げられる。

該アルコキシ基は更に置換基を有してもよく、例えば、
エトキシ基、２−フェノキシエトキシ基、２−シアノエ
トキシ基、フェネチルオキシ基、ｐ−クロルベンジルオ
キシ基等が挙げられる。

該アリールオキシ基としては、フェノキシ基が好ましく
、該アリール基は、更に置換基を有していてもよい。具
体的にはフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、３−
ドデシルフェノキシ基、４−メタンスルホンアミドフェ
ノキシ基、４−〔α−（３・−ペンタデシルフェノキシ
）ブタンアミド〕フェノキシ基、ヘキシデシルカルバモ
イルメトキシ基、４−シアノフェノキシ基、４−メタン
スルホニルフェノキシ基、■−ナフチルオキシ基、ｐ−
メトキシフェノキシ基等が挙げられる。

該へテロ環オキシ基としては、５〜７員のへテロ環オキ
シ基が好ましく、縮合環であってもよく、又置換基を有
していてもよい。具体的には、１−フェニルテトラゾリ
ルオキシ基、２−ベンゾチアゾリルオキシ基等が挙げら
れる。

該アシルオキシ基としては、例えばアセトキシ基、ブタ
ツルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、シンナ
モイルオキシ基の如１きアルケニルカルボニルオキシ基
、ベンゾイルオキシ基の如きアリールカルボニルオキシ
基が挙げられる。

該スルホニルオキシ基としては、例えばブタンスルホニ
ルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基が挙げられる。

該アルコキシカルボニルオキシ基としては、例えばエト
キシカルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニルオ
キシ基が挙げられる。

該アリールオキシカルボニル基としてはフェノキシカル
ボニルオキシ基等が挙げられる。

該アルキルオキサリルオキシ基としては、例えばメチル
オキサリルオキシ基が挙げられる。

該アルコキシオキサリルオキシ基としては、エトキシオ
キサリルオキシ基等が挙げられる。

硫黄原子を介して置換する基としては、例えばアルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルオ
キシチオカルボニルチオ基が挙げられる。

該アルキルチオ基としては、ブチルチオ基、２−シアノ
エチルチオ基、フェネチルチオ基、ベンジルチオ基等が
挙げられる。

該アリールチオ基としてはフェニルチオ基、４−メタン
スルホンアミドフェニルチオ基、４−ドデシルフェネチ
ルチオ基、４−ノナフルオロベンタンアミドフ臣ネチル
チオ基、４−カルボキシフェニルチオ基、２−エトキシ
−５−ｔ−ブチルフェニルチオ基等が挙げられる。

該ヘテロ環チオ基としては、例えば１−フェニル−１，
２，３，４−テトラゾリル−５−チオ基、２−ベンゾチ
アゾリルチオ基等が挙げられる。

該アルキルオキシチオカルボニルチオ基としては、ドデ
シルオキシヂオカルボニルチオ基等が挙げられる。

上記窒素原子を介して置換する基としては、例Ｒ４・ えば一般式−Ｎ　　　で示されるものが挙げられＲ１１
′ る。ここにＲ６′及びＲ６・は水素原子、アルキル基、
アリール基、ヘテロ環基、スルファモイル基、カルバモ
イル基、アシル基、スルホニル基、アリールオキシカル
ボニル基、アルコキシカルボニル基を表し、Ｒ４・とＲ
６・は結合してヘテロ環を形成してもよい。但しＲ４・
とＲ６・が共に水素原子であることはない。

該アルキル基は直鎖でも分岐でもよく、好ましくは、炭
素数１〜２２のものである。又、アルキル基は、置換基
を有していてもよく、置換基としては例えばアリール基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基
、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミノ基、アシ
ル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルオキシ
カルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ハロ
ゲン原子が挙げられる。

該アルキル基の具体的なものとしては、例えばエチル基
、オキチル基、２−エチルヘキシル基、２−クロルエチ
ル基が挙げられる。

Ｒ３・又はＲ６・で表されるアリール基としては、炭素
数６〜３２、特にフェニル基、ナフチル基が好ましく、
該アリール基は、置換基を有してもよく置換基としては
上記Ｒ４・又はＲ６・で表されるアルキル基への置換基
として挙げたもの及びアルキル基が挙げられる。該アリ
ール基として具体的なものとしては、例えばフェニル基
、１−ナフチル基、４−メチルスルホニルフェニル基が
挙げられる。

Ｒ４・又はＲ５・で表されるヘテロ環基としては５〜６
員のものが好ましく、縮合環であってもよく、置換基を
有してもよい。具体例としては、２−フリル基、２−キ
ノリル基、２−ピリミジル基、２−ベンゾチアゾリル基
、２−ピリジル基等が挙げられる。

Ｒ４・又はＲ６・で表されるスルファモイル基としては
、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ジアルキル
スルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ
、Ｎ−ジアリールスルファモイル基等が挙げられ、これ
らのアルキル基及びアリール基は前記アルキル基及びア
リール基について挙げた置換基を有してていもよい。ス
ルファモイル基の具体例としては例えばＮ、Ｎ−ジエチ
ルスルファモイル基、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ
−ドデシルスルファモイル基、Ｎ−ｐ−トリルスルファ
モイル基が挙げられる。

Ｒ６・又はＲｓ’で表されるカルバモイル基としては、
Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジアルキルカル
バモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジ
アリールカルバモイル基等が挙げられ、これらのアルキ
ル基及びアリール基は前記アルキル基及びアリール基に
ついて挙げた置換基を有していてもよい。カルバモイル
基の具体例としては例えばＮ、Ｎ−ジエチルカルバモイ
ル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−ドデシルカルバ
モイル基、Ｎ−ｐ−シアノフェニルカルバモイル基、Ｎ
−ｐ−）リルカルバモイル基が挙げられる。

Ｒ４・又はＲ６・で表されるアシル基としては、例えば
アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ
環カルボニル基が挙げられ、該アルキル基、該アリール
基、該ヘテロ環基は置換基を有していてもよい。アシル
基として具体的なものとしては、例えばヘキサフルオロ
ブタノイル基、２゜３．４．５．６−ペンタフルオロベ
ンゾイル基、アセチル基、ベンゾイル基、ナフトニル基
、２−フリルカルボニル基等が挙げられる。

Ｒ４・又はＲ６・で表されるスルホニル基としては、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環
スルホニル基が挙げられ、置換基を有してもよく、具体
的なものとしては例えばエタンスルホニル基、ベンゼン
スルホニル基、オクタンスルホニル基、ナフタレンスル
ホニル基、ｐ−クロルベンゼンスルホニル基等が挙げら
れる。

Ｒ４・又はＲ６・で表されるアリールオキシカルボニル
基は、前記アリール基について挙げたものを置換基とし
て有してもよく、具体的にはフェノキシカルボニル基等
が挙げられる。

Ｒ３・又はＲ６・で表されるアルコキシカルボニル基は
、前記アルキル基について挙げた置換基を有してもよく
、具体的なものとしてはメトキシカルボニル基、ドデシ
ルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等
が挙げられる。

Ｒ４・及びＲ６・が結合して形成するヘテロ環としては
５〜６員のものが好ましく、飽和でも、不飽和でもよく
、又、芳香族性を有していても、いなくてもよく、又、
縮合環でもよい。該ヘテロ環としては例えばＮ−フタル
イミド基、Ｎ−コハク酸イミド基、４−Ｎ−ウラゾリル
基、■−Ｎ−ヒダントイニル基、３−Ｎ−２，４−ジオ
キソオキサゾリジニル基、２−Ｎ−１，１−ジオキソ−
３−（２Ｈ）−オキソ−１，２−ベンズチアゾリル基、
１−ピロリル基、１−ピロリジニル基、ｌ−ピラゾリル
基、！−ピラゾリジニル基、１−ピペリジニル基、１−
ピロリニル基、１−イミダゾリル基、Ｉ−イミダゾリニ
ル基、１−インドリル基、１−イソインドリニル基、２
−イソインドリル基、２−イソインドリニル基、ｌ−ベ
ンゾトリアゾリル基、１−ベンゾイミダゾリル基、１−
（１，２，４−）リアゾリル）基、１−（１，２，３−
トリアゾリル）基、１−（１，２，３，４−テトラゾリ
ル）基、Ｎ−モルホリニル基、１，２，３．４−テトラ
ヒドロキノリル基、２−オキソ−１−ピロリジニル基、
２−ＩＨ−ピリドン基、フタラジオン基、２−オキソ−
１−ピペリジニル基等が挙げられ、これらへテロ環基は
アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリール
オキシ基、アシル基、スルホニル基、アルキルアミノ基
、アリールアミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミノ
基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、ウレイド基、アルコキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、イミド基、ニトロ
基、シアノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子等により
置換されていてもよい。

またＺ又はＺ・により形成される含窒素複素環としては
、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環また
はテトラゾール環等が挙げられ、前記環が有してもよい
置換基としては前記Ｒについて述べたものが挙げられる
。

又、一般式ＣＩ）及び後述の一般式（ＩＩ）〜〔■〕に
於ける複素環上の置換基（例えば、Ｒ１Ｒ６〜Ｒ８）が 部分（ここにＲ・・、Ｘ及びＺ・・は一般式（１）にお
けるＲ、Ｘ、Ｚと同義である。）を有する場合、所謂ビ
ス体型カプラーを形成するが勿論本発明に包含される。

又、Ｚ、Ｚ・、Ｚ・・及び後述のＺ、により形成される
環は、更に他の環（例えば５〜７員のシクロアルケン）
が縮合していてもよい。例えば一般式（Ｖ）においては
Ｒ５とＲ８が、一般式（Ｗ）においてはＲヮとＲ，ｌと
が、互いに結合して環（例えば５〜７員のシクロアルケ
ン、ベンゼン）ヲ形成してもよい。

以下余白 一般式（１）で表されるものは更に具体的には例えば下
記一般式（ＩＩ）〜〔■〕により表される。

一般式（ｎ） 一般式（ＩＩ［） Ｈ−Ｎ　−Ｎ 一般式（ＩＶ） Ｎ　−Ｎ　−８１１ 一般式（Ｖ） 一般式（ＶＩ） Ｎ−Ｈ□間 一般式〔■〕 ＮＮ 前記一般式（ＩＦ）〜〔■〕に於いてＲ１−Ｒ８及びＸ
は前記Ｒ及びＸと同義である。

又、一般式（１）の中でも好ましいのは、下記一般式〔
■〕で表されるものである。

一般式〔■〕 式中Ｒ、、Ｘ及びＺ＋は一般式ＣＩ）におけるＲｌＸ及
びＺと同義である。

前記一般式（ｎ）〜〔■〕で表されるマゼンタカプラー
の中で特に好ましいのものは一般式（ＩＩ）で表される
マゼンタカプラーである。

又、一般式ＣＩ）〜〔■〕における複素環上の置換基に
ついていえば、一般式ＣＩ）においてはＲが、また一般
式（ＩＩ）〜〔■〕においてはＲＩｈ、＜下記条件１を
満足する場合が好ましく更に好ましいのは下記条件！及
び２を満足する場合であり、特に好ましいのは下記条件
１．２及び３を満足する場合である。

条件ｌ　複素環に直結する根元原子が炭素原子である。

条件２　該炭素原子に水素原子が１個だけ結合している
、または全く結合していない。。

条件３　該炭素原子と隣接原子との間の結合が全て単結
合である。

前記複素環上の置換基Ｒ及びＲ１として最も好ましいの
は、下記一般式（ＩＸ）により表されるものである。

一般式（ＩＸ） Ｒ・ Ｒ＋ｏＣ− Ｒ＋　＋ 式中Ｒｓ　、　ＲＩｏ及びＲ１１はそれぞれ水素原子１
７、ロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アル
ケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基、ヘテロ環基、アシル基、スルホニル基、スルフィ
ニル基、ホスホニル基、カルバモイル基、スルファモイ
ル基、シアノ基、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合
物残基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オ
キシ基、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオ
キシ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基
、イミド基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、ア
ルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシ男ルポニ
ルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテ
ロ環チオ基を表し、Ｒｅ。

Ｒｔｏ及びＲ１１の少なくとも２つは水素原子ではない
。

又、前記Ｒ，，Ｒ，，及びＲｏの中の２つ例えばＲ８と
Ｒ１゜は結合して飽和又は不飽和の環、（例えばシクロ
アルカン、シクロアルケン、ヘテロ環）を形成してもよ
く、更に該環にａｌｌが結合して有橋炭化水素化合物残
基を構成してもよい。

Ｒ０〜Ｒ０により表される基は置換基を有してもよく、
Ｒ９−Ｒ１１により表される基の具体例及び該基が有し
てもよい置換基としては、前述の一般式ＣＩ）における
Ｒが表す基の具体例及び置換基が挙げられる。

又、例えばＲ６とＲ１゜が結合して形成する環及びＲ６
−Ｒ１により形成される有橋炭化水素化合物残基の具体
例及びその有してもよい置換基としては、前述の一般式
ＣＩ）におけるＲが表すシクロアルキル、シクロアルケ
ニル、ヘテロ環基有橋炭化水素化合物残基の具体例及び
その置換基が挙げられる。

一般式（ＩＸ）の中でも好ましいのは、（ｉ）Ｒｅ−Ｒ
１１の中の２つがアルキル基の場合、（ｉｉ）Ｒｓ〜Ｒ
，ｌの中の１つ例えばＲ１１が水素原子であって、他の
２つＲｏとＲ８゜が結合して根元炭素原子と共にシクロ
アルキルを形成する場合、 である。

更に（ｉ）の中でも好ましいのは、Ｒ，〜Ｒ１１の中の
２つがアルキル基であって、他の１つが水素原子または
アルキル基の場合である。

ここに該アルキル、該シクロアルキルは更に置換基を有
してもよく該アルキル、該シクロアルキル及びその置換
基の具体例としては前記一般式ＣＩ）におけるＲが表す
アルキル、シクロアルキル及びその置換基の具体例が挙
げられる。

以下余白 又、一般式（Ｉ）におけるＺにより形成される環及び一
般式〔■〕におけるＺＩにより形成される環が有しても
よい置換基、並びに一般式（ｎ）〜（Ｗ）におけるＲ１
−Ｒ８としては下記一般式（Ｘ）で表されるものが好ま
しい。

一般式（Ｘ） −Ｒ’−８Ｑ、−Ｒ” 式中Ｒ１はアルキレンを、Ｒ”はアルキル、シクロアル
キルまたはアリールを表す。

Ｒ１で示されるアルキレンは好ましくは直鎖部分の炭素
数が２以上、より好ましくは３ないし６であり、直鎖９
分岐を問わない。またこのアルキレンは置換基を有して
もよい。

該置換基の例としては、前述の一般式ＣＩ）におけるＲ
がアルキル基の場合該アルキル基が有してもよい置換基
として示したものが挙げられる。

置換基として好ましいものとしてはフェニルが挙げられ
る。

Ｒ１で示されるアルキレンの、好ましい具体例を以下に
示す７ Ｃ８，Ｃ，１１，Ｃ，Ｉｌ、。

（ＨｔＣＨＩＣＨ−、”Ｃｌ１ｔＣＩＩｔＣＨ＊ＣＩＩ
ｔ−１＜Ｈ，Ｃ■、ｃｏ、ｃｕ−。

Ｒ１で示されるアルキル基は直鎖１分岐を問わない。

具体的にはメチル、エチル、プロピル、１ｓｏ−プロピ
ル、ブチル、２−エチルヘキシル、オクチル、ドデシル
、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタダシル、２−へ
キシルデシルなどが挙げられる。

Ｒ″で示されるシクロアルキル基としては５〜６貝のも
のが好ましく、例えばシクロヘキシルが挙げられる。

Ｒ′で示されるアルキル、シクロアルキルは置換基を有
してもよく、その例としては、前述のＲ１への置換基と
して例示したものが挙げられる。

Ｒ宜で示されるアリールとしては具体的には、フェニル
、ナフチルが挙げられる。該アリール基は置換基を有し
てもよい。該置換基としては例えば直鎖ないし分岐のア
ルキルの他、前述のＲ１へや置換基として例示したもの
が挙げられる。

また、置換基が２個以上ある場合それらの置換基は、同
一であっても異なっていてもよい。

一般式（１）で表される化合物の中でも特に好ましいの
は、下記一般式（Ｘ［）で表されるものである。

一般式〔ん〕 式中、Ｒ，Ｘは一般式（１）におけるＲ、Ｘと同義であ
りＲ’、Ｒ’は、一般式（Ｘ）におけるＲ１゜Ｒ１と同
義である。

以下余白 Ｃ，Ｈ。

１２１ｈＳ Ｃ，Ｈ。

Ｃ２＋１゜ 以下余白 Ｃ２１１ツ Ｃ４Ｕ。

ｌｌ ＣＨ，ｃＨ３ Ｊ１３ ｃｔｏｌｌ＊ｔ Ｃｔ＊ｌＩｔう Ｃ４１１・ Ｃ１２１Ｉ２５ 以下余白 Ｃ２１１゜ Ｃ，１１゜ ｃ、ｔｙ（ｔ） Ｃ？ｌ１１゜ Ｃコｌ１７ ２１１ｇ ＣＪｑ　　　　　　０ＣａＨ＋　− ■ ＣフＨＩＳ ＣＪｑ 以下余白 Ｃ＝Ｈ１ｓ Ｃ，Ｈ。

Ｊｔ ＯＣｌｌ、Ｃ０ＩＩＩＩＣＨ２ＣＩ＋２０ＣＩ＋。

ｏｃｎ、ｃ＋＋、ｓｏ、ｃＩＩｉ ２Ｈ５ ■ ｃ、ｎ。

Ｃ２１ｔ。

ｘＲｓ Ｉｎ５ Ｃ，Ｈ。

Ｃ，ｌＩ。

Ｃ２Ｈ。

Ｉ１１ 以下余白 Ｃ，ｌ。

Ｃ，ｌＩ＠ Ｃ４Ｈ。

Ｃ，！Ｉｆ、寥 Ｃａｌｌ、ｉ 以下余白 Ｈ１ ｌｌｉ １Ｂ Ｃ２ＩＩ５ １ｇ ＮＨＳＯ２ＣｎＨｘｔ Ｃ１ｌ。

ＣｓｌＬｔ（ｔ） ｃ、ｎ、テ（１） 聯 Ｃ１１３ Ｈ３ ｌｌｓ （Ｈ，Ｃａ１ｌｕ（ｔ） Ｃ１１３Ｃ，Ｒ，、（１） ＣＩ＋。

Ｈ３ Ｊｓ １１１ｃ　　　Ｃ１ｌ暑 Ｃ２１１ツ 以下余白 ０（Ｃ１ｈ）２０ｃｕｌｈｓ に　□Ｎ　−Ｎ ５Ｏ Ｎ　　　　ＨＮ　　　　　　　　　　　　　　　Ｃ１２
Ｂ２％Ｎ　−Ｎ　　　Ｎ　　　　Ｃ，ｌＩ＠ ＣＩ４日、、　　　　　　　　　　　Ｎ　−Ｎ　−８Ｎ
　−Ｎ　−Ｎ Ｎ　　−Ｎ　−Ｎ Ｎ　　　　Ｎ　　　　ＮＨ １６２゜ Ｎ　　　　Ｎ　　　　ＮＨ し山　　　　　　　　　　　　　　　　　　　ｃｏ、　
Ｎ　　　　　Ｎ　　　　　Ｎ１１Ｎ　　　　Ｈ８１１ Ｃ１１１％　　　　　　　　　　　　Ｎ　　　　Ｎ　　
　　８１１Ｊｓ ｘＨｓ 開−ＨＭＩ Ｎ　　　　Ｎ　　　　Ｎｌ１ Ｎ　　　　Ｎ　　　　８１ −Ｎ−１ ８Ｎ １！Ｉ３ 以下余白 また前記カプラーの合成はジャーナル・オブ・ザ・ケミ
カル・ソサイアティ（Ｊ　ｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　　ｔｂ
ｅＣｈｅｍｉｃａｌ　　Ｓ　ｏｃｆｅｔｙ）　、パーキ
ン（ｐ　ｅｒｋｉｎ）１　　（１９７７）　、　２０４
７〜２０５２、米国特許３，７２５，０６７号、特開昭
５９−９９４３７号、特開昭５８−４２０４５号、特開
昭５９−１６２５４８号、特開昭５９−１７１９５６、
特開昭６０−３３５５２号及び特開昭６０−４３６５９
号等を参考にして合成を行った。

本発明のカプラーは通常ハロゲン化銀１モル当りｔｘｔ
ｏ−’モル乃至１モル、好ましくはｌ×１０−Ｒモル乃
至８ＸＩＯ−’モルの範囲で用いることができる。

また本発明のカプラーは他の種類のマゼンタカプラーと
併用することもできる。

以下余白 次に前記一般式［ａ　］で表わされるカプラーについて
詳述する。

Ａｒで表わされるアリール基としてはフェニル基および
ナフチル基等が挙げられ、好ましくはフェニル基であり
、特に好ましくは置換されたフェニル基である。

この置換基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアノ基、カルバモイル基、スルファモイル基
、スルホニル基、スルホンアミド基、アシルアミノ基等
であり、Ａｒであられされるフェニル基に２個以上の置
換基を有してもよい。

以下に置換基の具体的な例を挙げる。

ハロゲン原子：塩素、臭素、フッ素 アルキル！Ｉ：メチル基、エチル５１．１８Ｇ−プロピ
ル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、【−ペンチル基等であ
るが特に炭素原子数１〜５のアルキル基が好ましい。

アルコキシｌＩ：メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基
、５ｅａ−ブトキシ７１，１ｓｏ−ペンチルオキシ基等
であるが、特に炭素原子数１〜５のアルコキシ基が好ま
しい。

アリールオキシ基：フェノキシ基、β−ナフトキシ基等
であるが、このアリール部分には更にＡ「で示されるフ
ェニル基に挙げていると同様な置換基を有してもよい。

アルコキシカルボニル基：上述したアルコキシ基の付い
たカルボニル基であり、メトキシカルボニル基、ペンチ
ルオキシカルボニル基等のアルキル部分の炭素原子数が
１〜５のものが好ましい。

カルバモイル１１：カルバモイル基、ジメチルカルバモ
イル基等のフルキルカルバモイル基スルファモイル基：
スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチル
スルファモイル基、エチルスルファモイル基等のフルキ
ルスルファモイル基 スルホニルＭ：メタンスルホニル基、エタンスルホニル
基、ブタンスルホニル基等アルキルスルホニル基 スルホンアミド！Ｉ：メタンスルホンアミド基、トルエ
ンスルホンアミド基等のアルキルスルホンアミド基、ア
リールスルホンアミド基等アシルアミム１アセトアミム
Ｌピバロイルアミノ基、ベンズアミド基等 特に好ましくはハロゲン原子であり、その中でも塩素が
最も好ましい。

Ｒ８で表わされる置換基はハロゲン原子、アルキル基、
アルコキシ基等である。

具体的な例を以下に挙げる。

ハロゲン原子：塩素、臭素、フッ素 アルコキシ基：メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、
５ｅａ−ブトキシ基、１ｓｏ−ペンチルオキシ基等の炭
素原子数が１〜５のアルコキシ基が好ましい。

アルキル基：メチル基、エチル基、１ｓｏ−プロピル基
、ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基等の炭ＪＩ
！原子数が１〜５のアルキル基が好ましい。

特に好ましくはハロゲン原子であり、中でも塩素が好ま
しい。

Ｒ１で表わされる置換基はハロゲン原子、アルキル基、
アミド基、イミド基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ
−フルキルスルファモイル基、アルコキシカルボニル基
、アシルオキシ基、スルホンアミド基、またはウレタン
基等である。これらの墨のうらアミド４！（例えば、テ
トラデカンアミドＩ、３−ｔ　−７チルー４−ヒトＯキ
シフェノキシテトラデカンアミド基等）、イミド基（例
えばドデシルスクシンイミド基、オクタデセニルスクシ
ンイミド基等）およびスルホンアミドｍ＜例えばブチル
スルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基等）を好
ましく用いることができる。

Ｗは−ＮＨ−１−ＮＨＣＯ−（窒素原子はピラゾロン核
の炭素原子に結合）または−ＮＨＣＯＮＨ−のいずれで
もよいが、Ｗは−ＮＨ−を特に好ましく用いることがで
きる。

Ｙで表わされる芳香族第１＠アミン系発色現拳主薬の酸
化体とカップリング反応により離脱しうる置換基として
は、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アシルオ九と基、ア素原子、イオウ原子の中から
選ばれた原子と５ないし６員環を形成するに要する原子
群を表わす。）等が挙げられる。

以下に具体的な例を挙げる。

ハロゲン原子：塩素、臭素、フッ素 アルコキシ基：エトキシ基、ベンジルオキシ基、メトキ
シエチルカルバモイルメトキシ デシルカルバモイルメトキシ基等 アリールオキシ基：フェノキシ基、４−メトキシフェノ
キシ基、４−ニトロフェノキシ基等アシルオキシ基：ア
セトキシ基、ミリストイルオキシ基、ベンゾイルオキシ
基等 アリールチオ基：フェニルチオ基、２−ブトキシ−５−
オクチルフェニルチオ基、２，５−ジヘキシルオキシフ
ェニルチオ基等 アルキルチオ基：メチルチオ基、オクチルチオ基、ヘキ
サデシルチオ基、ベンジルチオ基、２−（ジエチルアミ
ノ）エチルチオ基、エトキシカルボニルメチルチオ基、
エトキシエチルチオ基、フェノキ２〜エチルチオ基等 次に前記一般式［ａ　］で表わされるマゼンタカプラー
の具体的代表例を挙げるが、本発明がこれらに限定され
るものではない。

以下余白 ａ　−　１　　　　　　　　　ｃＬ ａ−４　　　　　　　　　（Ｊ。

Ｌ ’−７Ｃ１ ａ−１ｏｃｔ ｔ −１６ｃＬ ａ−１８ｃｚ Ｃ２ ａ　−２２ｃ。

Ｌ Ｌ ｔ ａ　−２９ＣＨｓ ”　−３４ＣＬ ａ−３５０ｔ ’　−４０ｃｔ ａ−４１ｃｔ Ｃｔ Ｌ ＣＲｓ これらは、例えば米国特許第２，６００，７８８号、同
第３，０６１，４３２＠、同第３，０６２，６５３号、
同第３，１２７゜２６９号、同第３，３１１，４７６号
、同第３，１５２，８９６号、同第３，４１９，３９０
！、同第３，５１９．４２９号、同第３，５５５．３１
８号、同第３，６８４，５１４号、同第３，８８８，８
８０号、同第３，９０７，５７１号、同第３，９２８，
０４４号、同第３．９３０．８６１号、同第３，９３０
，８８６号、同第３，９３３，５００号等の明細書、特
開昭４９−２９６３９号、同４９−１１１６３１号、同
４９−１２９５３８号、同５０−１３０４１号、同５２
−５８９２２号、同５５−６２４５４号、同　５５−１
１８０３４号、同５６−３８０４３号、同５７−３５８
５８号、同６０−２３８５５号の各公報、英国特許第１
，２４７，４９３号、ベルギー特許第７６９，１１６号
、同第７９２，５２５号、***特許２，１５６，１１１
号の各明細書、特公昭４６−６０４７９号公報等に記載
されている。

本発明に用いることのできるハロゲン化銀カラー写真感
光材料（以下、本発明に係る感光材料と称す）において
、前記一般式［Ｉ］で表わされるカプラー（１：Ｘ下カ
プラー［Ｉ］と称す）と前記一般式［ａ］で表わされる
カプラー（以下カプラー［ａ　］と称す）を使用するに
あたり、その併用比率は如何なる比率で用いることもで
きるが、本発明の目的にはカプラー［ＩＪを２モル％乃
至９８モル％の範囲で添加するのが好ましく・１０モル
％乃至９５モル％のＩｇ囲が特に好ましい・カプラー［
■］およびカプラー［ａ　Ｊはそれぞれ単独で混合して
も、複数用いて混合することもできる・又、カプラー［
ＩＪとカプラー［ａ　］は、同一の乳化分散液に含有さ
せても、別々の乳化分散液を調製して添加しても良いが
、工程数の点から同一の乳化分散液に含有させることが
好ましい。

更にカプラー［ＩＪとカプラー［ａ　］は、本発明に係
る感光材料中であれば夫々如何なる層に添加することも
できるが、カプラー［ＩＪとカプラー［ａ］を同一層に
含有させることが特に好ましい。

カプラー［ＩＪおよび［ａ　Ｊはその添加量は限定され
ないが一般にハロゲン化銀乳剤層中の銀１−Ｅ−／Ｌ／
　（１５タリ、［Ｉ　］　ト［ａ　Ｊ　１７）合計テＩ
　Ｘ　１０’モル乃至２モルで用いることが好ましく、
特に１Ｘ１０　　モル乃至８　Ｘ　１０−’モルの範囲
で好まし一ス く用いることができる。

上記カプラー［ＩＪから形成される色素は色再現上好ま
しい分光吸収特性を示すが、光堅牢性においてカプラー
［ａ　］より劣る。一方力プラー［ａ　］から形成され
る色素は副吸収を有しており分光吸収特性としては劣る
が光堅牢性はカプラー［ＩＪより優れている。

本発明者等は、これらの色素画像形成方法について鋭意
研究した結果、水洸処理を含まず安定化処理する場合に
ついて、前記カプラー［ＩＪとカプラー［ａ　］の組合
せが、相開効果的に優れた色再現性と光堅牢性を発揮す
ることを発見したものであり従来技術からでは全く予想
されない効果であった。

本発明に用いるカプラー［ＩＪおよび［ａ　Ｊと共に色
素画像の退色を防止する退色防止剤を用いてもよく、好
ましく用いられる退色防止剤を以下に示す。

以下余白 一般式［ＡＩ 式中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
リール基、又は複素環基を表し、Ｒ１、Ｒｓ、Ｒｓ、Ｒ
−はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、
アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキン基
またはアシルアミノ基をあられし％　Ｒ４はアルキル基
、ヒドロキシ基、アリール基又はアルコキシ基を表す。

又Ｒ１とＲ２は互いに閉環し、５貝または６貝環を形成
してもよく、その時のＲ４はヒドロキシ基またはアルコ
キシ基をあられす、又Ｒ３とＲ４が閉環し、５員の炭化
水素環を形成してもよく、そのときのＲ＋はアルキル基
、アリール基、または複素環基をあられす、但し、Ｒ１
が水素原子で、かつ、Ｒ４がヒドロキシ基の場合を除く
。

前記一般玄ｒＡ１においで、Ｒ７は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、７リール基または複素環基をあられ
すが、このうち、アルキル基としては、例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、ｎ−オクチル基、ｔｇｒｔ−
オクチル基、ヘキサデシル基などの直鎖または分岐のフ
ルキル基を早げることができる。またＲ１であられされ
るアルケニル基としでは、例えばアリル、ヘキセニル、
オクテニル基などが挙げられる。さらに、Ｒ１の７リー
ル基としでは、フェニル、ナフチルの各基が挙げられる
。さらにＲ１で示される複素環基としては、テトラヒド
ロピラニル基、ピリミジル基などが具体的に挙げられる
。これら各基は置換基を有することができ、例えば置換
基を有するアルキル基としてベンクル基、ニドキシメチ
ル基、置換基をあられすが有するアリール基としてメト
キシ７エ二ル基、クロルフェニル基、４−ヒドロキシ−
３，５−ジブチルフェニル基などが挙げられる。

一般式［ＡＩにおいて、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ３およびＲ６は
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、
アルケニル基、アリール基、アルコキシｆｉ＋＊たはア
シルアミ７基をあられすが、このうち、アルキル基、ア
ルケニル基、アリール基については前記Ｒ，について述
べたアルキル基、アルケニル基、アリール基と同一のも
のが挙げられる。また前記ハロゲン原子としては、例え
ばフッ素、塩素、臭素などを挙げることができる。さら
に前記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基
などを具体的に挙げることができる。さらに前記アシル
アミノ基はＲ’Ｃ０ＮＨ−で示され、ここにおいで、Ｒ
′はアルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル
、ｎ−ブチル、ｎ−オクチル、ｊｅｒｋ−オクチル、ベ
ンツルなとの各基）、アルケニルが（例えばアリル、オ
クテニル、オレイルなどの各基）、アリール基（例えば
７ヱニル、メトキシフェニル、ナフチルなどの各基）、
マたはへテロ環基（例えばピリジル、ピリミジルの各基
）を挙げることができる。

また前記一般式［ＡＩにおいで、Ｒ１はフルキル基、ヒ
）Ｐａキシ基、アリール基またはアルコキシ基を表すが
、このうちアルキル基、アリール基についでは、前記Ｒ
，で示されるアルキル基、アリール基と同一のものを具
体的に挙げることができる。またＲ１のアルケニル基に
ついでは前記Ｒ２、Ｒ３、ＲｓおよびＲ１について述べ
たアルコキシ基と同一のものを挙げることができる。

Ｒ１とＲ２は互いに閉環してベンゼン環と共に形成する
環としでは、例えばクロマン、クマラン、メチレンジオ
キシベンゼンが挙げられる。

また、Ｒ１とＲ４が閉環してベンゼン環と共に形成する
環としでは、たとえばインダンが挙げられる。これらの
環は、置換基（例えばフルキル、アルコキシ、７リール
）を有してもよい。

又、ＲＩとＲ２％　またはＲ１とＲ１が■環して形成す
る環中の原子をスピロ原子としてスピロ化合物を形成し
てもよいし、Ｒ２、Ｒ４などを連結基として、ビス体を
形成しでもよい。

前記一般式［ＡＩで表されるフェノール系化合物または
フェニルエーテル系化合物のうち、好ましいものは、Ｒ
〇−基（Ｒはアルキル基、アルケニル基、７リール基、
またはへテロ環基を表す。）を４個有するビインダン化
合物であり、特に好ましくは下記一般式［Ａ−１］で表
すことがで終る。

一般式［Ａ−１］ 式中Ｒはアルキル基（例えばメチル、エチル、プロピル
、ｎ−オクチル、ｔｅｒｔ−オクチル、ベンノル、ヘキ
サデシル）、アルケニル基（例えば、アリル、オクテニ
ル、オレイル）、７１７−ル基（例えば、フェニル、ナ
フチル）またはへテロ環基（例えば、テトラヒドロピラ
ニル、ピリミジル）で表される基をあられす、Ｒ９およ
びＲ１゜は各々水素原子、ハロゲン原子、（例えば、７
７素、塩素、臭素）、アルキル基（例えばメチル、エチ
ル、ｎ−ブチル、ペンシル）、アルコキシ基（例えばア
リル、ヘキセニル、オクテニル）、またはアルコキシ基
（例えばメトキシ、エトキシ、ベンツルオキシ）を表し
、ＲＩは水′ｌｋ原子、アルキル基（例えばメチル、エ
チル、ｎ−ブチル、ペンシル）、アルケニル基（例えば
、２−プロペニル、ヘキセニル、オクテニル）、または
アリール基（例えばフェニル、メトキシフェニル、クロ
ルフェニル、ナフチル）をｉｔ。

前記一般式［ＡＩで表さ机る化合物は、米国特許ｆＪＳ
３，９３５，０１６号、同ＭＳ３，９８２，９４４号、
同第４．２５４，２１６号、特開昭５５−２１００４号
、同５４−１４５５３０号、英国特許公１５１１２．０
７７．４５５号、同２，０６２号、８８８号、米国特許
第３，７６４，３３７、同第３．４３２３００号、同第
３，５７４　、６２７号、同第３，５７３，０５０号、
特開昭５２−１５２２２５号、同５３−２０３２７号、
同５３−１７７２９号、同５５−８３２１号、英国特許
第１，３４７，５５８号、同公開２．０８６，９７５号
、特公昭５４−１２３３７号、同４８−３１８２５号、
米国特許第３，７００，４５５号などに記載の化合物を
も含む。

前記一般式［ＡＩで表される化合物の使用量は、マゼン
タカプラーに対して５〜３ＱＱモル％が好虫しく、より
好ましくは１０〜２００モル％である。

以下に前記一般式［ＡＩで表される化合物の代表熱五億
釧参示す− タイプ（１） ＯＲＩ タイプ（２） タイプ（３） タイプ（４） タイプ（５） タイプ（６） タイプ（７） タ　　イ　　プ　（４） 以下余白 タ　　イ　　プ　（５） 以下余白 タ　　イ　　プ　　（６） 以下余白 Ａ−７ 以下余白 一般式［Ｂ］ （式中Ｒ０お上りＲ１はそれぞれ水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケ
ニルオキシ基、ヒドロ坪シ基、アリール基、アリールオ
キシ基、アシル基、アシルアミ７基、アシルオキシ基、
スルホンアミド基、シクロアルキルまたはアルコキシカ
ルボニル基をあられし％　ｒｔｔは水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、７シル基、シクロアル
キル基またはへテロ環基をあられし、Ｒ３は水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基
、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、スル
ホンアミド基、シクロアルキル基またはアルコキシカル
ボニル基をあられす。

以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもよ
い０例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
７リール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ル７ミ７基、アシルオキシ基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スル７７モイル基などが挙げられる。

虫たＲ７とＲ４は互いに閉環し、５貝または６貝環を形
成してもよい、Ｒ２とＲ１がｍＩＩＩシベンゼン環と共
に形成する環としては例えばクロマン環、メナレンツオ
キシベンゼン環が挙げられる。

Ｙはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあられす。

クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、もしくはヘテロ環で置換されてもよ（、
さらにスピロ環を形成しでもよい。

一般式［Ｂ］で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式［Ｂ−１１、［Ｂ　−２１、［Ｂ−
３１、［ｌ３−４］、［ｌ３−５］で示される化合物−
勿今３？１ス− 一般式［Ｂ−１１ 一般式［Ｂ　−２］ １ｔ″ 一般式［Ｂ−３１ 一般式［Ｂ　−４］ 一般式［Ｂ　−５］ Ｉへ１ 一般式［Ｂ　−１］、［Ｂ−２］、［Ｂ−３］、［Ｂ　
−４］お上り［Ｂ−５］におけるＲ１、Ｒ３、Ｒ５およ
びＲ１は前記一般式［Ｂ］におけるのと同じ意味を持ち
、Ｒｓ、Ｒａ、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１およびＲ１０は水素原
子、へロデン原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アリール
基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基をあられす。

さらにＲ３とＲい　Ｒ，とＲ７、Ｒ７とＲ８、Ｒ８とＲ
９およびＲ１とＲｈｏとが互いに環化して炭素環を形成
してもよ（、さらに該炭素環はアルキル基で置換されで
もよい。

前記一般式［８−１］、［Ｂ−２］、［Ｂ　−３１゜［
Ｂ−４］および［Ｂ　−５１においてＲＩおよびＲ４が
水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基ま
たはシクロアルキル基、Ｒｓ、ＲいＲ１、Ｒ，、Ｒ６お
よりＲ２゜が水素原子、アルキル基、またはシクロアル
キル基である化合物が特に有用である。

一般式［Ｂ］で表される化合物はテトラヘドロン（Ｔｅ
ｔｒａｂｅｄｒｏｎ）、１９７０．ｖｏ１２６，４７４
３〜４７５１頁、日本化学会誌、１９７Ｚ、Ｎｏ１０，
０９８７〜１９９０頁、ケミカル（ｃｈｅｗルｅｔｔ、
）、１９フ２（４）３１５−３１６頁、特開昭５５−１
３９３８３号に記載されている化合物を表し、含み、か
つこれらに記載されでいる方法に従って合成することが
できる。

前記一般式［Ｂ］で表される化合物のうち使用量は、前
記本発明乳剤係るマゼンタカプラーに対しで５〜３００
モル％該好ましく、より好ましくは１０〜２００モル％
である。

以下にこれらの化合物の代表的具体例を示す。

以下余白 一般式［ＣＩ Ｐ １（” 一般式［ＤＩ Ｉ 式中Ｒ１およびＲ３は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルアミノ基、アルコキシ基、スルホンアミ
ド基もしくはフルコキシカルポニル基をあられす。

以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもよ
い０例えばハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アル
コルジカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
シルアミノ基、カルバモイル基、スルホン７ミド基、ス
ル７７モイル基などが亭げられる。

Ｙはベンゼン環と共にシクロマンも、シ（はノクマラン
環を形成するのに必要な原子群をあられす。

クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、ジクロフルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されてもよく、
さらにスピロ環を形成してもよい。

一般式［ＣＩおよび［ＤＩで示される化合物のうち、本
発明に特に有用な化合物は一般式［Ｃ−１］、［Ｃ−２
］、［Ｄ　−１１オＪ：　（７［Ｄ　−２１？示！　レ
ル化会物に包含される。

一般式［Ｃ−１］ 一般式［Ｃ−２］ 一般式［Ｄ−１１ 一般式［Ｄ−２］ 一般式［Ｃ−１］、［Ｃ−２］、［Ｄ　−１］および［
Ｄ　−２］におけるＲ１およびＲ２は前記一般式［ＣＩ
および［ＤＩにおけるのと同じ意味を持ち、Ｒ５、Ｒい
Ｒ６、ＲいＲ１およびＲ６は水素原子、ハロゲン原子、
アルキル基、アルコキシ基、ヒドロ斗シ基、アルケニル
基、アルケニルオキシ基、アリール基、アリールオキシ
基もしくはヘテａ環基をあられす、さらにＲｓとＲ１、
Ｒ４とＲｓ％ＲｉとＲ６、Ｒ６とＲ７およびＲ１とＲ６
とが互いに環化して炭素環を形成しでもよく、さらに該
炭素環はアルキル基で置換されてもよい。

前記一般式［Ｃ−１］、［Ｃ−２３、［Ｄ−１］および
［Ｄ　−２１荷おいて、Ｒ，およびＲ２が水素原子、ア
ルキル基、アルコキシ基、ヒドロ今シ基またはシクロア
ルキル基、Ｒ１、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ２およびＲ８が
水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基である
化合物が特に有用である。

一般式［ＣＩ、［ＤＩで表される化合物は日本化学学会
誌（Ｊ、　　Ｃｈｅｗ、　　Ｓｏｃ、　　ｐａｒｔ　　
Ｃ）　　１９８Ｂ、（１４）ｔ　　１９：１７〜１８頁
、有機合成化学協会誌１９フ０．２８（１）、　６０〜
６５頁、テトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌ
ｅｔｔｅｒｓ）１９７３、（２９）、２７０７〜２７１
０真に記載されでいる化合物を含み、かつこれらに記載
されでいる方法に従って合成することができる。

前記一般式［ＣＩ、［ＤＩで表される化合物の使用量は
、前記本発明に係るマゼンタカプラーに対して５〜３０
０モル％が好ましく、より好ましくは１０〜２００モル
％である。

以下にこれらの化合物の具体的代表例を示す。

以下余白 一般式〔Ｅ〕 式中Ｒ，Ｉは水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
リール基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ
環基を表わし、［（３は水素原子、〕）ロゲン原子、ア
ルキル基、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ
基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、スル
ホンアミド基、シクロアルキル基もしくはアルコキシカ
ルボニル基を表わす。

Ｒ２およびＲ４は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
、アルケニル基、アリール基、アシル基、アシルアミノ
基、スルホンアミド基、シクロアル岬ル基もしくはアル
コキシカルボニル基を表わす。

以上にあげた基はそれぞれ他の置換基で置換されていて
もよい０例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド基、
スルファモイル基等が挙げられる。

またＲ１　とＲ２は互いに閑環し、５貝または６貝環を
形成してもよい。

その時Ｒ３およびＲ４は水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、
アシル基、アシルアミ７基、アシルオキシ基、スルホン
７ミド基もしくはアルコキシカルボニル基を表わす。

Ｙはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群を表わす。

クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、フルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基６しくはヘテロ環基で置換されていてもよ
く、さらにスビ四環を形成しでもよい。

一般式（Ｅ）で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式（Ｅ　　ＩＬ（Ｅ−２）、（Ｅ−３
）、（Ｅ−４）および（Ｅ−５）で示される化合物に包
含される。

一般式（Ｅ−１） ＯＲ＋ 一般式（Ｅ−２３ ＲＩ 一般式（Ｅ−３） Ｋ″　ｈ“°　０に１ 一般式（Ｅ−４３ Ｒ＠ 一般式（Ｅ−５） 一般式（Ｅ−１）〜（Ｅ−５）におけるＲ１１Ｒ２、Ｒ
３およびＲ４は前記一般式（Ｅ）におけるのと同じ意味
を持ち、ＲＳ、　Ｒ＠、　Ｒフ、Ｒ”ｔＲ＠およびＲＩ
Ｏは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
基、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基
、アリール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基を
表わす、さらにＲ、ｓとＲ−Ｒ“とＲ７、Ｒ７とＲｔ、
ＲｓとＲ”お上りＲ−とＲＩ’とが互いに環化して炭素
環を形成してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置
換されてもよい。

前記一般式（Ｅ−１）〜（Ｅ−５）において、Ｒ１，Ｒ
”、Ｒ３お上りＲ４が水素原子、アルキル基、またはシ
クロアルキル基、前記一般式（Ｅ−５）において、Ｒ’
お上りＲ４が水素原子、アルキル基、フルコキシ基、ヒ
ドロキシ基またはシクロアルキル基、さらに前記一般式
（Ｅ−１３〜（Ｅ−５：１ニオイテ、Ｒ’、Ｒ＠、Ｒ’
、Ｒ”、Ｒ’おＡびＲ”が水素原子、フルキル基、また
はシクロアルキル基である化合物が特に有用である。

一般式［Ｅ］により表される化合物はテトラヘドロン（
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ＞　１９６５
．（８）、４５７〜４６０頁日本化学学会誌（Ｊ、　Ｃ
ｈｅｗ、　Ｓｏｃ、　ｐａｒｔ　Ｃ）　１９６８゜（２
２）、　　２０１３〜２０１６頁、　（Ｚｈ、　　Ｏｒ
ｇ、　にｈｉｍ）　　１９７０．（８）。

１２３０〜１２３７頁に記載されている化合物を含み、
かつこれらに記載されている方法に従って合成すること
ができる。

前記一般式［Ｅ−１］で表される化合物の使用量は、前
記本発明に係るマゼンタカプラーに対して５〜３００モ
ル％が好ましく、より好ましくは１０〜２００モル％で
ある。

以下に二枕らの化合物の具体的代表例を示す・以下余白 一般式ＣＦ） 式中Ｒ＋は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ環
基を表し、Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基、アシ
ル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミ
ド基、シクロアルキル基、もしくはアルコキシカルボニ
ル基をあられす。

Ｒｊは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基、アシル基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、シクロアルキル基もしくはアルコキシカル
ボニル基をあらオフす。

１１　、は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、゛ｒ
アルケニル基アルコキシ基、アルケニルオキシ基、ヒド
ロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、
アシルアミノ基、アシルオキシ基・スルホンアミド基、
もしくはアルコキシカルボニル基をあられす。

以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもい
い１例えばアルキル基、アルケニル基１アルフキシ基、
７１３−・ル基、アリールオキシ基、ヒドロキン基、ア
ルフキジカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
７°ジルアミ、ノ基、カルバモイル基、スルホンアミド
基、スル７７そ・「ル基などが挙げられる。

又１Ｎ、とＲ２は互いに閉環し、５貝または６貝環を形
成してもよい、その時Ｒｓおよ（／Ｒ４は水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基
、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオキ
シ基、スルホン７ミド基、もしくはアルコキシカルボニ
ル基をあられす。

Ｙはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあられす。

クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基でｆｆ！換されていて
もよく、さらにスピＩＪＷａを形成してもよい。

一般式［Ｆ］で示される化合物のらち、本発明に特に有
用な化合物は一般式［Ｆ−Ｉ　Ｊ、　［Ｆ−２１、［Ｆ
−３］、［Ｆ　−４］および［Ｆ’−５］で示される化
合物に包含される。

以下余白 一般式ＣＦ−１１ 一般式ＣＦ−２） 一般式（Ｆ−３） 一般式ＣＦ−４） 一般式ＣＦ−５） 一般式［Ｆ−１１および［Ｆ−５］におけるＲ１５Ｒ１
、Ｒ３お上りＲ４は前記一般式［Ｆ］におけるのと同じ
意味を持ち、Ｒ５、Ｒ，、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１ぢよびＲ１
゜は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
基、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルクニルオキシ基
、アリール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基を
あられす。

さらにＲ１とＲ６、Ｒ１とＲ１、Ｒ２とＲ６、Ｒ６とＲ
３およびＲ，とＲＩＧとが互いに環化して炭素環を形成
してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換されて
もよい。

また［Ｆ−３］、［Ｆ−４］および［Ｆ　−５］におい
て２つのＲｌ＝　ＲＩｏはそれぞれ同一でも異なってい
てもよい。

前記一般式［Ｆ−１］、［Ｆ−２］、ＩＦ−３］、［Ｆ
　−４］および［Ｆ−５］において【（１、Ｒ１、およ
びＲ１が水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、Ｒ
１が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ
基またはシクロアルキル基、さらにＲ９、Ｒ１，Ｒ，、
Ｒ８、Ｒ１およびＲ１゜が水素原子、アルキル基、また
はシクロアルキル基である化合物が特に有用である。

一般式［Ｆ］により表される化合物はテトラヘドロ　ン
（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　　Ｌｅｔｔｅｒｓ）　　１
９フＯｓ　　Ｖｏｌ　　２８−４７４３〜４７５１頁、
日本化学学会誌１９７２．　Ｎｏ、１０．１９８７−１
９９０頁、シンセサイズ（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）　１９
フ５＊　Ｖｏｔ　６−３９２〜３９３頁、（１）ｕｌ　
Ｓａｃ、Ｃｈｉｍｗ　Ｄｅｌｇ　）　１９７５．　Ｖｏ
ｌ８４（））、　７４７〜７５９真に記載されている化
合物を含み、かつこれらに記載されでいる方法に従って
合成することができる。

前記一般式［Ｆ］で表される化合物の使用量は、前記本
発明に係るマゼンタカプラーに対して５〜３００キル％
が好ましく、より好ましくは１０〜２００モル％である
。

以下に一般式［Ｆ］で表される化合物の具体的代表例を
示す。

以下余白 一般式ＣＧ） Ｒ 式中Ｒ−及びＲ５は、そ＃ｔぞれ水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、ア
シルアミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、シ
クロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。

Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、ヒドロキシ基、７リール基、アシル基、アシルア
ミ７基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、シクロア
ルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。

上に挙げた基は、それぞれ他の置換基で置換されでもよ
い、ｌｔ！換基としで、例えばアルキル基、アルケニル
基、フルコ斗シ基、アリール基、アリールオキシ基、ヒ
ドロキシ基、フルコキシカルポニル基、アリールオキシ
カルボニル基、アシル７ミ７基、カルバモイル基、スル
ホンアミド基、スル７７モイル基等が挙げられる。

またＲ２どＲ３は互いに閉環し、５Ｒ＊たけ６貝の炭化
水素環を形成してもよい。この５Ｊ’ｌまたは６１４の
炭化水素環はハロゲン原子、アルキル基、ジクロフルキ
ル基、アルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、ア
リール基、アリールオキシ基またはへテロ環基等で置換
されてもよい。

Ｙはインダン環を形成するのに必要な原子群を表す、イ
ンダン環はハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、シクロアルキル基、ヒドロキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、またはへテロ環基等で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。

一般式ＣＧ）で示される化合物の中、本発明に特に有用
な化合物は一般式（Ｇ−１）〜（Ｇ−３）で示される化
合物に包含される。

以下余白 一般式（Ｇ−１） 一般式（Ｇ−２） 一般式（Ｇ−３） 一般式（Ｇ−１）〜（Ｇ−３３におけるＲ　’、Ｒ２及
びＲ３は一般式ＣＧ）におけるものと同義であり、Ｒ４
，Ｒ”、Ｒ＠、Ｒ’、Ｒ”及（／Ｒ’ｌ！、ソｒｔソｔ
ｔ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリール基、アリール
オキシ基またはへテロ環基を表す、Ｒ４とＲ５、Ｒ５と
Ｒ＠、Ｒ＠と■（〕、Ｒ７とＲ８及びＲ・とＲ９は互い
に閉環して炭化水素環を形成してもよく・更に該炭化水
素環はアルキル基で置換されてもよい。

前記一般式（Ｇ−１）〜（Ｇ−３）において、Ｒ１及び
Ｒ３が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基またはシクロアルキル基、Ｒ２が水素原子、アルＡ
・ル基、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、Ｒ’、
Ｒ’、Ｒ’、Ｒフ、　Ｉｔ　Ｉ及びｌ（１が水素原子、
アルキル基またはシクロアルキル基である化合物が特に
有用である。

前記一般式［Ｇ］で表される化合物のうち使用量は、マ
ゼンタカプラーに対して５〜３００モル％が好ましく、
より好ましくは１０〜２００モル％である。

以下に一般式［Ｇ］で表される化合物の代表的具体例を
示す。

以下余白 一般式（Ｈ） Ｒ３ 式中Ｒ’及びＲ２は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、
アシルアミ７基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、
シクロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す
。

Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオキ
シ基、スルホンアミド基、シクロアルキル基またはアル
コキシカルボニル基を表す。

上に挙げた基は、それぞへ他のＷ１換基で置換されても
よく、例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基
、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキンカルボニル基、ア
シルアミノ基、カルバモイル基・スルホンアミド基、ス
ルファモイル基等が挙げられる。

またＲ１とＲ２及びＲ２とＩｔ３は互いに閉環し、５員
または６真の炭化水素環を形成してもよく、該炭化水素
環はハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ア
ルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリール基
、アリールオキシ基、ヘテロ環基等で置換されてもよい
。

Ｙはインゲン環を形成するのに必要な原子群を表し、該
インダン環は上記炭化水素環を置換し得る置換基で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。

一般式〔１１〕で示される化合物の中、本発明に特に有
用な化合物は一般式（Ｈ−１）−（Ｈ−２）で示される
化合物に包含される。

一般式（Ｈ−１） 一般式（Ｈ−２） 一般式（Ｈ−３） 一般式（Ｈ−１）〜（Ｈ−３）におけるＲ１．Ｒ諺及び
Ｒ３は一般式（Ｈ）におけるものと同義であり、Ｒ’、
Ｉ？’、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ”及１．ｒＲ”ｊ！、ツレツレ
水素原子、へロデン原子、アルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシ基、アルテニル基、アリール基、アリールオ
今シ基またはへテａ環基を表す、またＲ４とＲｓ、Ｒｓ
とＲ−１Ｒ＠とＲ？、Ｒ？とＲ１及びＲ１とＲ１は互い
に閉環して炭化水素環を形成してもよ（、更に該炭化水
素環はアルキル基で置換されてもよい。

前記一般式（Ｈ−１）〜（Ｈ−３）においで、Ｒ１及び
Ｒ１がそれぞれ水素原子、アルキル基またはシクロアル
キル基、Ｒ’が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシ基またはシフロアｎｙ＊ｓｔＭ、Ｒ４、Ｒｉ
　、　Ｒ＠　、　Ｒ？　、　Ｒａ及（７Ｒ・が、そ桟ぞ
れ水素原子、アルキル１１＋！Ａたけジクロフルキル基
である化合物が特に有用である４ 前記一般式（ＩｌｌでＲ１−れる化合物の合成方法は既
知であって、米国特許３，０５７９２９号、Ｃｈｅｉａ
。

Ｂ　ｑｒ、　　１９７２．　９５（Ｓ　　Ｌ　　　１０
７３〜１８７４貝、　ＣｈｓｍｉｓＬ−ｒｙ　　Ｌ　ｅ
ｔｔｅｆ”ｓ＊　　１９８０１７３９〜７４２１Ｘ）こ
従って製造Ｃきる。

前記一般式ＩＨＩでａｉＬれる化合物マゼンタカプラー
に対して５〜３００モル％が好ましく、より好ましくは
１０〜２００モル％である。

以下に一般式［Ｈ］で表される具体的代表例を示す。

以下余白 たはアリール基を表し、Ｙは窒素原子と共に５〜７Ｒ環
の複葉環を形成するのに必要な非金属原子群を表す、但
し、該複葉環を形成する窒素原子を含む非金属原子中、
２以上のへタロ原子がある場合、少なくとも２つのへテ
ロ原子は互いに隣接しないヘテロ原子である。〕 Ｒで表される脂肪族基としては、置換基を有してもよい
飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和アル
キル基が挙げられる。飽和アルキル基としては、例えば
、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシ
ル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ、
不飽和アルキル基としでは、例えば、エチニル基、プロ
ペニル基岬が挙げられる。

Ｒ１で表されるシクロアルキル基としては、置換基を有
しでもよい５〜７Ｒのシクロアルキル基で例、ｔば、シ
クロペンチル基、シクロヘキンル基等が挙げられる。

Ｒ”？表されるアリール基としでは、それぞれ置換基を
有してもよいフェニル基、ナフチル基を表す。

Ｒ１で表される脂肪族基、シクロアルキル基、アリール
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ
基、スルファモイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オキン基、アル斗ルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、７１
Ｊ−ルチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置
換基を有してもよい。

前記一般式（Ｊ）においで、Ｙは窒素原子と共に５〜７
員環の複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す
が、該複素環を形成する窒素原子を含む非金属原子群の
少なくとも２つはへテロ原子でなければならず、また、
この少な（とも２つのへテロ原子は互いに隣接してはな
らない、一般式（Ｊ）で表される化合物の複素環におい
で、全てのヘテロ原子が互いに隣接した場合は、マゼン
タ色素画像安定化剤としての機能を発揮することが小米
ないので好ましくない。

前記一般式（Ｊ）で表さ＾る化合物の前記５〜７員環の
複素環は置換基を有してもよく、置換基としては、アル
キル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、アル
コキシカルボニル基、スルホニル基、スルファモイル基
等であり、更に置換基を有しでもよい、＊た、Ｍ５〜７
Ｒ環の複素環は飽和であってもよいが、飽和の複素環が
好ましい。又、該複素環にベンゼン環等が縮合していて
もよく、スピロ環を形成してもよい。

本発明の前記一般式（Ｊ）で表される化合物の使用量は
、本発明の前記一般式（１）で表されるマゼンタカプラ
ーに対して５〜３００モル％が好ましく、より好ましく
は１０〜２００モル％である。

以下に一般式（Ｊ）で表される代表的具体例を示す。

以下余白 Ｊ−６３ Ｊ−６４ Ｊ−６フ Ｊ−フＯ ■ ■ ■ Ｃ１λＨ店 前記一般式（Ｊ）で表される化合物の中で、ピペラジン
系化合物及びホモピペラジン系化合物は特に好ましく、
さらに好ましくは、下記一般式（Ｊ−１）または（Ｊ−
２）で表される化合物である。

一般式［Ｊ−１） 一般式（Ｊ−２） 式中％　Ｒ”及びＲ３は、それぞれ水素原子、アルキル
基またはアリール基を表す、但し、Ｒ″とＲ３が同時に
水素となることはない、Ｒ４〜Ｒ１″は、それぞれ水素
原子、アルキル基または７リール基を表す。

前記一般式（Ｊ−１）及び（Ｊ−２〕においてＲ゛及び
Ｒ１は・それぞれ水素原子、アルキル基またはアリール
基を表すが、Ｒ２またはＲ３で表されるアルキル基とし
ては、例えば、エチル基、エチル基、ブチル基、オクチ
ル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、
オクタデシル基等が挙げられる。Ｒ２＊たはｔｔ　’で
表されるアリール基としては、フェニル基等が挙げられ
る。Ｒ２またはＲ３で表されるアルキル基、アリール基
は置換基を有しでもよく、置換基としては、ハロゲン原
子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリール
オ坪ン基、複素環基等が挙げられる。

Ｒ２とＲ’（置換基を含む）の炭素原子数の合計は６〜
４０が好ましい。

前記一般式（Ｊ−１）または（Ｊ−７２３において　Ｒ
４〜Ｒ”は、それぞれ水素原子、アル斗ル基虫たはアリ
ール基ｔ−表すが、Ｒ４・−Ｒ１３で表されるアルキル
基としでは、例えば、メチル基、エチル基等が挙げられ
る６　Ｒ４〜Ｉ（１３で表されるアリール基としてはフ
ェニル基等が挙げられる。

前記一般式（Ｊ−１）または（Ｊ−２３で表される化合
物の具体例は、前記した例示ピペラジン系化合物（Ｊ　
−１”）〜（Ｊ−３０）及び例示ホモピペラジン系化合
物（Ｊ−５１）〜（Ｊ−６２）の中に記載した通りであ
る。

次に、前記一般式〔Ｊ〕で表される本発明の代表的なマ
ゼンタ色素画像安定化剤の合成例を示す。

合成例−１（化合物Ｊ−２の合成） ピペラジン９．０８及びミリスチルブロマイド５５゜を
溶解した１００輸ｌの７セトン中に、無水炭酸カリウム
１５．を加え、１０時間煮沸還流して反応させた。

反応後、反応液を５００ｍ１’の水にあけた後、酢酸エ
チル５００曽Ｚで抽出した。酢酸エチル屑を硫酸マグネ
シウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色結晶の
目的物が得られた。アセトン３００論ｌで再結晶して、
白色鱗片状の結晶３４ｇ（収率７０％）を得た。

融点５５〜５８℃ 合成例−２（化合物Ｊ−３４の合成） ４−モルホリノアニリン１８ｇを酢酸二チル１００−ｌ
に溶解した後、攪拌下、反応液を２０℃に保ちながら、
無水酢酸１２ｍ１’を少しずつ加えた。無水酢酸添加後
、氷冷し、析出する結晶をろ取した後、酢酸エチルで再
結晶し、白色粉末状結晶１８．５ｇ（収率７５％）を得
た。

融貞２０７〜２１０℃ 一般式（Ｋ） 式中、Ｒ１は脂肪族基、シクロアルキル基またはアリー
ル基を表し、Ｙは窒素原子と共に５〜７貝環の複素環を
形成するのに必要な単なる結合手または２価の炭化水素
基を表す、　Ｒ”＊　Ｒ’＊　Ｒ’ｅＲ５，Ｒ１，Ｒ？
は、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロアルキル基ま
たはアリール基を表す、但し、ＨｚとＲ４及びＲ２とＲ
′は互いに結合して単なる結合手を形成して窒素原子、
Ｙと共に不飽和の５〜７員環の複素環を形成してもよい
、＊た、Ｙが単なる結合手のときは、ＲＳとＲ１が互い
に結合して単なる結合手を形成して窒素原子、Ｙと共に
不飽和の５員環の複素環を形成してもよい、また、Ｙが
単なる結合手でないときは、Ｒ“とＹ、Ｒ’とＹまたは
Ｙ自身で不飽和結合を形成して窒素原子、Ｙと共に不飽
和の６員または７員の複素環を形成してもよい。

Ｒ１で表される脂肪族基としては、置換基を有してもよ
い飽和フルキル基、及びｆ１換基を有しでもよい不飽和
アルキル基が苧げられる。飽和アルキル基としては、例
えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ド
デシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基管が苧げら
れ、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、
プロペニル基等が挙げられる。

Ｒ”？表されるシクロアルキル基としては、置換基を有
してもよい５〜７員のシクロアルキル基で例えば、シフ
ペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

Ｒ１で表されるアリール基としでは、置換基を有しても
よいフェニル基、ナフチル基を表す。

Ｒ１で表される脂肪族基、シクロアルキル基、アリール
基の置換基としでは、アルキル基、７リール基、アルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ
基、スル７７モイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基等が挙げられ、これらのｒ！１換基はさらに
置換基を有してもよい。

前記一般式（Ｋ）において、Ｙは′！を素原子と共に５
〜７Ｒ環の複索環を形成するのに必要な単なる結合手ま
たは２価の炭化水素基を表すが、Ｙが単なる結合手のと
きは、さらにＲ５とＲ７が互いに結合して単なる結合手
を形成して不飽和の５５’ｌ環の複素環を形成してもよ
（、またＹが２価の単価水素基の場合、即ち、メチレン
基の場合には、Ｒ５とＹまたはＲ７とＹとで不飽和結合
を形成し、不飽和の６貝環の複素環を形成しでもよく、
またエチレン基の場合には、Ｒ’とＹ、Ｒ７とＹまたは
Ｙ自身で不飽和結合を形成し、不飽和の７貝環の複素環
を形成しても、よい、さらにＹｔ’表される２価の炭化
水素基は置換基を有してもよく、この置換基には、アル
キル基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基
、７シルアミ７基、スルホンアミド基、スル７７モイル
基、了り−ル基、ヘテロ環基等が挙げら虹る。

前記一般式（Ｋ）にオイテ、Ｒ１，Ｒ３，Ｒ’、Ｒ’ｔ
Ｒ１及びＲ？は、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロ
アルキル基またはアリール基を表すが、Ｒ１−Ｒ７で表
される脂肪族基としては、置換基を有してもよい飽和ア
ルキル基及び置換基を有してもよい不飽和フルキル基が
挙げられる。飽和アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、テ
トラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ、不飽和ア
ルキル基としては、例えば、エチニル基、プロペニル基
等が挙げられる。

Ｒ２〜Ｒ？で表されるシクロアルキル基としでは、置換
基を有してもよい５〜７Ｊｌ環のシクロアルキル基で、
例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げ
られる。

Ｒ”−Ｒ’テｊｌ！レル７１７−ル基としテｌｉ、！！
！Ｐ基を有してもよいフェニル基、ナフチル基等が挙げ
られる。

上記Ｒ２〜Ｒ１で表される脂肪族基、ンクロアルキル基
、アリール基の置換基としては、アル坪ル基、アリール
基、アルコキシ基、カルボニル基、カルバモイル基、ア
シルアミ７基、スル７７モイル基、スルホンアミド基、
カルボニルオ今シ基、アル坪ルスルホニル基、アリール
スルホニル基、ヒドロキシ基、ヘテは環基、アルキルチ
オ基等が挙げられる。

前記一般式（Ｋ）で表される化合物は、５〜７貝環の飽
和の複素環を有する場合が、不飽和であるよりも好まし
い。

以下に前記一般式（Ｋ）で表される化合物の使用量は、
本発明の前記一般式（１）で表されるマゼンタカプラー
に対して５〜３００モル％が好ましく、より好ましくは
１０〜２００モル％である。

前記一般式（Ｋ）で表される化合物の代表的具体例を示
す。

以下余白 に−３４ に−３５ に−３６ に−３７ に−３８ に−３９ に−４０ 次に、前記一般式（Ｋ）で表される化合物の代表的合成
例を示す。

合成例−１（化合物に−１４の合成） ピペラジン９．０ｇ及びミリスチルブロマイド２８ｇを
溶解した６０１１（ｌの７七トン中に、無水炭酸カリウ
ムｃｔ、ｏｇを加え、２０時間煮沸還流して反応させた
。

反応後、反応液を３００　、Ｑの水に注ぎ込んだ後、酢
酸エチル３００ｍ（ｌで抽出した。酢酸エチル層を硫酸
マグネシウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色
結晶の目的物が得られた。アセトン１００■ａで再結晶
して、白色鱗片状の結晶１２ｇ（収率４３％）を得た。

融点１７５〜１８０℃ 本発明に用いるマゼンタカプラーのハロゲン化銀写真感
光材料への添加方法としては、一般的な疎水性化合物の
添加方法と同様に、固体分散法、ラテックス分散法、水
中油滴型乳化分散法等種々の方法を用いて分散する事が
でき、これはカプラー等の疎水性化合物の化学構造等に
応じて適宜選択することができる。水中油滴型乳化分散
法は、カプラー等の疎水性化合物を分散させる方法が適
用でき、通常、沸点約１５０℃以上の高沸点有ｉ溶媒に
、必要に応じて低沸点及び／または水溶性有ｌＩ溶媒を
併用し溶解し、ゼラチン水溶液などの親水性バインダー
中に界面活性剤を用いて撹拌器、ホモジナイザー、コロ
イドミル、フロージットミキサー、超音波装置等の分散
手段によって、乳化分散した後、目的とする親水性コロ
イド麓中に添加すればよい。分散液または分散と同時に
低沸点有機溶媒を除去する工程を入れても良い。

高沸点有機溶媒としては、現像主薬の酸化体と反応しな
いフェノール翼導体、フタル酸エステル、リン酸エステ
ル、クエン酸エステル、安息香酸工ステル、アルキルア
ミド、脂肪酸上ステル、トリメシン酸エステル等の沸点
１５０℃以上の有機溶媒が用いられる。

本発明において好ましく用いることのできる高沸点有機
溶媒としては、誘電率が６．０以下の化合物であり、例
えば、誘電率６．０以下のフタル酸エステル、リン酸エ
ステル等のエステル類、有機酸アミド類、ケトン類、炭
化水素化合物等である。

好ましくは誘電率６．０以下１．９以上で１００℃にお
ける蒸気圧が０．５ｅｃｍＨａ以上の高沸点有機溶媒で
ある。またより好ましくは、該高沸点有機溶媒中のフタ
ル酸エステル類あるいはリン酸エステル類である。更に
該高沸点有機溶媒は２種以上の混合物であってもよい。

なお、本発明における誘電率とは、３０℃における誘電
率を示している。

本発明において有利に用いられるフタル酸エステルとし
ては、下記一般式［ｂＪで示されるものが挙げられる。

一般式［ｂ　Ｊ 式中、Ｒ３およびＲ＋は、それぞれアルキル基、アルケ
ニル基またはアリール基を表わす。但し、Ｒ３およびＲ
４で表わされる基の炭素原子数の総和は８乃至３２であ
る。またより好ましくは炭素原子数の総和が１６乃至２
４である。

本発明において、前記一般式［ｂＪのＲ３およびＲ＋で
表わされるフルキル基は、直鎖でも分岐のものぐもよく
、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデ
シル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシ
ル基等である＝Ｒ３およびＲ＋で表わされるアリール基
は、例えばフェニル基、ナフチル基等であり、アルケニ
ル基は、例えばヘキセニル基、ヘプテニル基、オクタデ
セニルＩＩｗである。これらのアルキル基、アルケニル
基およびアリール基は、単一もしくは複数の置換基を有
していても良く、アルキル基およびアルケニル基の置換
基としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、アルケニル基、アルコキシ
カルボニル基等が挙げられ、アリール基の置換基として
は、例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、アルケニル基、アルコ
キシカルボニル基等を挙げることができる。

本発明において有利に用いられるリン酸エステルとして
は、下記一般式［０］で示されるものが挙げられる。

一般式「°」　　　　　　　。

■ Ｒ，０−Ｐ−ＯＲ。

ＯＲ。

式中、Ｒｙ、Ｒ６およびＲ／７は、それぞれアルキル基
、アルケニル基またはアリール基を表わす。

但し、Ｒ５−、Ｒ６およびＲ／７で表わされる炭素原子
数の総和は２４乃至５４である。

一般式［ＯＪのＲ，−、ＲおよびＲ／７で表わされるア
ルキル基は、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル基
、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウン
デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基
、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、
オクタデシル基、ノナデシル基等であり、アリール基と
しては、例えばフェニル基、ナフチル基等であり、また
アルケニル基としては、例えばヘキセニル基、ヘプテニ
ル基、オクタデセニル基等である。

これらのアルキル基、アルケニル基およびアリール基は
、単一もしくは複数の置換基を有していても良い。好ま
しくはＲｙ１Ｒ６およびＲ，７はアルキル基であり、例
えば、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、３．５
．５−トリメチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシ
ル基、５ｅＣ−デシル基、５ｅｃ−ドデシル基、ｔ−オ
クチル基等が挙げられる。

以下に本発明に用いられる有機溶媒の代表的具体例を示
すが、これらに限定されるものではない。

例示有機溶媒 Ｓ−２ＣｚＨｓ 　２Ｈｓ ０−ＣｓＨ＋５（ｉ） 蒼 ０　＝　Ｐ　−ＯＣｔ　Ｈ＋　＊　（ｉ　）０−ＣｓＨ
＋１（ｉ） ０−ＣｔＨ＋５（ｎ） ■ ０”Ｐ　　ＯＣｓＨ＋５（ｎ） ０−ＣｓＨ＋５（ｎ） ０−Ｃ＋ｏＨｉ＋（ｉ） ｏ＝ｐ−ｏ−ｃ、。Ｈｚｌ（ｉ） ０−　Ｃｔ　ｏ　Ｈｔ　ｔ　（ｉ） ０ＣＨＨｔ＋（ｎ） ０＝Ｐ　　Ｏ−Ｃ＋ｏＨ２＋（ｎ） ０　　Ｃｌｏ　Ｈｚ　ｌ（ｎ　） これらの有機溶媒は、一般に本発明に係るマゼンタカプ
ラー［Ｉ］および［ａｌの合計に対し、０乃至２５０ｆ
［１１％の割合で用いられる。好ましくはカプラーに対
し１０乃至２００重量％である。

カプラー等の疎水性化合物を高沸点溶媒単独又は低沸点
溶媒と併用した溶媒に溶かし、機械的又は超音波を用い
て水中に分散する時の分散助剤として、アニオン性界面
活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤
を用いる事が出来る。

以下余白 次に・本発明における実質的な水洗工程を含まず安定化
処理する工程について詳述する。

本発明における安定化処理液（以下本発明に係る水洗代
替安定液と称す）には防黴剤を含有させることが好まし
い。好ましく用いられる防黴剤は、ヒドロキシ安息香酸
系化合物、アルキルフェノール系化合物、チアゾール系
化合物、ピリジン系化合物、グアニジン系化合物、カー
バメイト系化合物、モルホリン系化合物、四級ホスホニ
ウム系化合物、四級アンモニウム系化合物、尿素系化合
物、イソキサゾール系化合物、プロパツールアミン系化
合物、スルファミド誘導体及びアミノ酸系化合物である
。

前記ヒドロキシ安息香酸系化合物は、ヒドロキシ安息香
酸及びヒドロキシ安息香酸のエステル化合物としてメチ
ルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、ブチ
ルエステル等があるが、好ましくはヒドロキシ安息香酸
のｎ−ブチルエステル、イゾプチルエステル、プロピル
エステルであり、より好ましくは前記ヒトＯキシ安恣香
酸エステル３種の混合物である。

アルキルフェノール系化合物は、アルキル基が炭素原子
数１〜６のアルキル基をＷ１換基として持つ化合物であ
り、好ましくはオルトフェニルフェノール、オルトシク
ロヘキシフェノールである。

チアゾール系化合物は、五員環に窒素原子及びイオウ原
子を持つ化合物であり、好ましくは１゜２−ベンツイソ
チアゾリン３−オン、２−メチル−４−イソチアゾリン
３−オン、２−オクチル−４−イソチアゾリン３−オン
、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン３−オ
ン、２−（４−チアゾリル）ベンツイミダゾールである
。

ピリジン系化合物は具体的には２，６−シメチルビリジ
：ノ、２．４．６−トリメチルビリジン、ラジウム−２
−ピリジンチオール−１−オキサイド等があるが、好ま
しくはラジウム−２−ピリジンチオール−１−オキサイ
ドである。

グアニジン系化合物は具体的にはシクロへキシジン、ポ
リへキサメチレングアニジン塩酸塩、ドデシルグアニジ
ン塩ｍ塩があり、好ましくは、ドデシルグアニジン及び
その塩である。

カーバメイト系化合物は具体的にはメチル−１−（プチ
ルカーバモイル）−２−ベンズイミダゾ−／レカーバメ
イト、メチルイミダゾールカーバメイト等がある。

モルホリン系化合物は具体的には４−（２−二トロブチ
ル）モルホリン、４−　（３−ニトロブチル）モルホリ
ン等がある。

四級ホスホニウム系化合物はテトラアルキルホスホニウ
ム塩、テトラアルコキシホスホニウム塩等があるが、好
ましくはテトラアルキルホスホニウム塩であり、更に具
体的な好ましい化合物はトリー〇ブチルーテトラデシル
ホスホニウムクロライド、トリーフェニル・ニトロフェ
ニルホスホニウムクロライドがある。

四級アンモニウム系化合物は例えばベンザルコニウム塩
、ベンゼトニウム塩、テトラアルキルアンモニウム塩、
アルキルピリジニウム塩があり、具体的にはドデシルジ
メチルベンジルアンモニウムクロライド、ジデシルジメ
チルアンモニウムクロライド、ラウリルピリジニウムク
ロライド等がある。

尿素系化合物は具体的にはＮ−（３，４−ジクロロフェ
ニル）−Ｎ’−（４−クロロフェニル）尿素、Ｎ−（３
−トリフルオロメチル−４−クロロフェニル）−Ｎ’−
（４−クロロフェニル）尿素等がある。

イソキサゾール系化合物は具体的には３−ヒドロキシ−
５−メチル−イソキサゾール等がある。

プロパツールアミン系化合物は、ｎ−プロパツール類と
イソプロパツール類があり、具体的にはＤＬ−２−ベン
ジルアミノ−１−プロパツール、３−ジエチルアミノ−
１−プロパツール、２−ジメチルアミノ−２−メチル−
１−プロパツール、３−アミノ−１−プロパツール、イ
ドプロパツールアミン、ジイソプロパツールアミン、Ｎ
Ｎ−ジメチル−イソプロパノールアミン等がある。

スルファミド誘導体は具体的には、フッ素化スルファミ
ド、４−クロロ−３，５−ジニトロベンゼンスルファミ
ド、スルファニルアミド、アセトスルファミン、スルフ
ァピリジン、スルフ７グアニジン、スルファチアゾール
、スルファジアジン、スルファメタシン、スルファメタ
シン、スルファインオキサゾール、ホモスルファミン、
スルフイソミジン、スルファグアニジン、スルファメチ
ゾール、スルフ７ビラジン、フタルイソスルファチアゾ
ール、スクシニルスルファチアゾール等がある。

アミノ酸系化合物は具体的にはＮ−ラウリル−β−アラ
ニンがある。

なお上記防黴剤のなかで本発明において特に好ましく用
いられる化合物は、ピリジン系化合物、グアニジン系化
合物及び四級アンモニウム系化合物である。

水洗代替安定液への防黴剤の添加量は、水洗代替安定液
１ア当たり０．００２１３〜５０９の範囲で用いられ、
好ましくはｏ、ｏｏｓｇ〜１Ｇｇの範囲で使用される。

本発明に用いる水洗代替安定液に添加することのできる
化合物のうち好ましい化合物としては、アンモニウム化
合物があげられる。

これらは各種の無機又は有機化合物のアンモニウム塩に
よって供給されるが、具体的には水酸化アンモニウム、
臭化アンモニウム、炭酸アンモニウム、塩化アンモニウ
ム、次亜リン酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、亜
リン酸アンモニウム、フッ化アンモニウム、酸性フッ化
アンモニウム、フルオロホウ酸アンモニウム、ヒ酸アン
モニウム、炭酸水素アンモニウム、フッ化水素アンモニ
ウム、硫酸水素アンモニウム、硫酸アンモニウム、ヨウ
化アンモニウム、硝酸アンモニウム、五ホウ酸アンモニ
ウム、酢酸アンモニウム、アジピン酸アンモニウム、ラ
ウリントリカルボン酸アンモニウム、安息香酸アンモニ
ウム、カルバミン酸アンモニウム、クエン酸アンモニウ
ム、ジエチルジチオカルバミン酸アンモニウム、ギ酸ア
ンモニウム、リンゴ酸水素アンモニウム、シュウ酸水素
アンモニウム、フタル酸水素アンモニウム、酒石酸水素
アンモニウム、チオ硫酸アンモニウム、亜硫酸アンモニ
ウム、エチレンジアミン四酢酸アンモニウム、１−ヒド
ロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸アンモニウム
、乳酸アンモニウム、リンゴ酸アンモニウム、マレイン
酸アンモニウム、シュウ酸アンモニウム、フタル酸アン
モニウム、ピクリン酸アンモニウム、ピロリジンジチオ
カルバミン酸アンモニウム、サリチル酸アンモニウム、
コハク酸アンモニウム、スルファニル酸アンモニウム、
酒石酸アンモニウム、チオグリコール酸アンモニウム、
２，４．６−トリニトロフエノールアンモニウムなどで
ある。これらアンモニウム化合物は単用でも２以上の併
用でもよい。

アンモニウム化合物の添加量は、水洗代替安定液１」当
りｏ、ｏｏｉモル〜１．０モルの範囲であり、好ましく
は、０．００２〜０．２モルの範囲である。

本発明においては水洗代替安定液は鉄イオンに対するキ
レート安定度定数が８以上であるキレート剤を含有する
ことが好ましい。

ここにキレート安定度定数とは、Ｌ、Ｇ。

５ｌｌｌｅｎ　−Ａ、　Ｅ、　Ｍａｒｔｅｌｌ著、“ス
タビリテイ争コンスタンツ・オプφメタルイオン命コン
ブレックシイズ（Ｓｔａｂｉｌｉｔｙ　　Ｃｏｎｓｔａ
ｎｔｓｏｆＭｅｔａｌ−ｉｏｎ　　Ｃｏｍｐｌｅｘｅｓ
）　”　、ザｅケミカル・ソサイテイ、ロンドン（Ｔｈ
ｅ　　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　５ｏｃｉｅｔｙ。

Ｌｏｎｄｏｎ　　）　　（１９６４）、Ｓ、Ｃｈａｂｅ
ｒｅｋ　　−Ａ、Ｅ。

Ｍａｒｔｅｌｌ著、′オルガニック・セキュエスタリン
グ争エージエンツ＜　ｏ　ｒｇａｎｉｏ　　ｓ　ｅｑｕ
ｅｓｔｅｒｔｎｇＡｏｅｎｔｓ　）　’　、　Ｗｉｌｅ
ｙ　（１９５９）等により一般に知られた定数を意味す
る。

本発明において鉄イオンに対するキレート安定度定数が
８以上であるキレート剤としては、有機カルボン酸キレ
ート剤、有機リン酸キレート剤、無機リン酸キレート剤
、ポリヒドロキシ化合物等が挙げられる。尚上記鉄イオ
ンとは、第２鉄イオン（Ｆｅ３寸）を意味する。

本発明において第２鉄イオンとのキレート安定度定数が
６以上であるキレート剤の具体的化合物例としては、下
記化合物が挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。即ちエチレンジアミンジオルトヒドロキシフェニ
ル酢酸、ジアミノプロパン四酢酸、ニトリロ三酢酸、ヒ
ドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシ
エチルグリシン、エチレンジアミンニ酢酸、エチレンジ
アミンニプロピオン波、イミノニ酢酸、ジエチレントリ
アミン五酢酸、ヒドロキシエチルイミノニ酢酸、ジアミ
ノプロパノール四酢酸、トランスシクロヘキサンジアミ
ン四酢酸、エチレンジアミンＦｌｌ、グリコールエーテ
ルジアミン四酢酸、エチレンジアミンテトラキスメチレ
ンホスホン酸、ニトリロトリメチレンホスホン酸、１−
ピドＯキシエチリデンー１．１−ジホスホン酸、１．１
−ジホスホンエタン−２−カルボン酸、２−ホスホノブ
タン−１，２，４−トリカルボン酸、１−ヒドロキシ−
１−ホスホノプロパン−１，２，３−トリカルボン酸、
カテコール−３，５−ジスルホン酸、ピロリン酸ナトリ
ウム、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸
ナトリウムが挙げられる。特に好ましくはＡ−ＰＯ３Ｍ
λ（式中、Ｍは水素原子、ナトリウム原子、カリウム原
子、アンモニウム等のカチオンを表わし、Ａは無機、又
は有機の基を表わす。）で表わされる化合物でぁす、例
えば、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン
酸、１．１−ジホスホノエタンー２−カルボン酸、ビロ
リン酸、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン
酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム、ニトリロトリメ
チレンホスホン酸、エチレンジアミンテトラホスホン酸
、ジエチレントリアミンペンタホスホン酸、１−ヒト［
１キシプロピリデン−１，１−ジホスホン酸、１−アミ
ノエチリデン−１，１−ジホスホン酸、１−ヒドロキシ
エチリデン−１，１−ジホスホン酸やこれらの塩である
。

上記キレート剤の使用量は水洗代替安定液１ｆ２当り０
．０１〜５０ｇ、好ましくは０．０５〜２０Ｑの範囲で
良好な結果が得られる。

本発明における水洗代替安定液には前記キレート剤と併
用して金属塩を含有することが好ましい。

かかる金属塩としては、ｓ　ａ　Ｓｃ　ａ　ｓ　Ｃｅ　
ｓ　Ｃｏ、Ｉｎ、Ｌａ、Ｍｎ、Ｎｉ　、ｐｂＳＳｎ、　
ｚｎ。

ＴＩ　、Ｚｒ、Ｍａ、ＡＪ２、Ｓｒの金属塩が挙げられ
、これらはハロゲン化物、水酸化物、硫Ｓ塩、炭酸塩、
リン酸塩、酢酸塩等の無機塩又は水溶性キレート剤とし
て供給できる。使用量としては水洗代替安定液１，１２
当りＩ　Ｘ　１０−＋〜ｌＸ１０〜′モルの範囲であり
、好ましくは４　Ｘ　１０−＋〜２×１０２モル、更に
好ましくは８　Ｘ　１０”−＋〜１×１０−２モルの範
囲である。

この他に通常知られている添加剤として、例えば界面活
性剤、有機硫黄化合物、オニウム塩、ホルマリン、クロ
ム等の硬膜剤などがあるが、これら化合物の添加量は本
発明における水洗代替安定液のｐＨを維持するに必要で
かつカラー写真画像の保存時の安定性と沈澱の発生に対
し悪影響を及ぼさない範囲で、どのような化合物を、ど
のような組み合せで使用してもさしつかえない。

本発明における水洗代替安定液のＤＨは本発明をより効
果的に達成するためには、好ましくは３．０〜１１．０
の範囲であり、更に好ましくはｐＨ６，０〜１１．０の
範囲であり、特に好ましくはｐｌ−１１，０〜１０．０
の範囲である。本発明の水洗代替安定液に含有すること
ができるｐＨ１整剤は、−一般に知られているアルカリ
剤または酸剤のいかなるものも使用できる。

本発明は安定浴への水洗代替安定液の補充量が少ない場
合に効果が大きく、該補充量が処理される感光材料の単
位面積当りの前浴からの持ち込み量の１〜５０倍の範囲
が好ましく、２〜２０倍の範囲において本発明の効果が
特に顕著である。

安定化処理の処理温度は、１５℃〜６０℃、好ましくは
２０℃〜４５℃の範囲がよい。また処理時間も迅速処理
の観点から短時間であるほど好ましいが、通常２０秒〜
１０分間、最も好ましくは１分〜３分であり、複数槽安
定化処理の場合は前段槽はと短時間で処！し、後段槽は
ど処理時間が長いことが好ましい。特に前槽の２０％〜
５０％増しの処理時間で順次処理する事が望ましい。本
発明における安定化処理の後には水洗処理を全く必要と
しないが、極く短詩筒内での少量水洗によるリンス、表
面洗浄などは必要に応じて任意に行うことはできる。

本発明における安定化処理工程での水洗代替安定液の供
給方法は、多槽カウンターカレント方式にした場合、後
浴に供給して前浴からオーバーフローさせることが好ま
しい。もちろん単槽で処理することもできる。上記化合
物を添加する方法としては、安定化槽に濃厚液として添
加するか、または安定化槽に供給する水洗代替安定液に
上記化合物及びその他の添加剤を加え、これを水洗代替
安定補充液に対する供給液とするか等各種の方法がある
が、どのような添加方法によって添加してもよい。

本発明において、発色現［１１１、定着能を有する処理
液で処理するとは、通常の発色現像液による処理後の感
光材料の定着を目的とするための定着浴又は漂白定着浴
の使用による工程を指す。発色現像液、定着液および漂
白定着液の詳細については後述する。

本発明において、定着能を有する処理液で処理し、引き
統いて実質的に水洗することなく、水洗代替安定液で処
理するときは、定着浴または漂白定着浴の次に直接水洗
代替安定液で処理することを示すものであり、この処理
工程は従来から知られている定着浴または漂白定着浴の
後、水洗処理し、安定液で処理する工程とは全く異なっ
ている。

このような本発明において、水洗代替安定液による処理
とは定着能を有する処理液による処理後直ちに安定化処
理してしまい実質的に水洗処理を行わない安定化処理の
ための処理を指し、その処理槽を安定浴又は安定槽とい
う。

本発明において安定槽は１〜５槽であるとき本発明の効
果が大きく、特に好ましくは１〜３槽であり、多くても
９槽以下であることが好ましい。

以下余白 本発明に係る感光材料は、例えばカラーのネガ及びポジ
フィルム、ならびにカラー印画紙などに適用されるが、
とりわけ直接鑑賞用に供される力゛シー印画紙に適用し
た場合に本発明の効果が有効に発揮される。

このカラー印画紙をはじめとする本発明に係る感光材料
は、単色用のものでも多色用のものでも良い。多色用ハ
ロゲン化銀カラー写真感光材料の場合には、減色法色再
現を行うために、通常は写真用カプラーとして、マゼン
タ、・イエロー、及びシアンの各カプラーを含有するハ
ロゲン化銀乳剤層ならびに非感光性層が支持体上に適宜
の層数及び層順でＭＩＩＬ、た構造を有しているが、践
暦数及びＩｌｌｗＡは重点性能、使用目的によって適宜
変更しても良い。

本発明に係る感光材料に用いられるハロゲン化銀乳剤に
は、ハロゲン化銀として臭化銀、沃臭化銀、沃塩化銀、
塩臭化銀、及び塩化銀等の通常のハロゲン化銀乳剤に使
用される任意のものを用いる事が出来る。

ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、酸
性法、中性法、アンモニア法のいずれかで得られたもの
でもよい。該粒子は一時に成長させても良いし、種粒子
をつくった後、成長させても良い。種粒子をつくる方法
と成長させる方法は同じであっても、異なっても良い。

ハロゲン化銀乳剤はハライドイオンと銀イオンを同時に
混合しても、いずれか一方が存在する中に、他方を混合
してもよい。また、ハロゲン化銀結晶の臨界成長速度を
考慮しつつ、ハライドイオンと銀イオンを混合釜内のｌ
）Ｈ，Ｄ　ＡＱをコントロールしつつ逐次同時に添加す
る事により、生成させても良い。成長後にコンバージョ
ン法を用いて、粒子のハロゲン組成を変化させても良い
。

ハロゲン化銀乳剤の製造時に、必要に応じてハロゲン化
銀溶剤を用いる事により、ハロゲン化銀粒子の粒子サイ
ズ、粒子の形状、粒子サイズ分布、粒子の成長速度をコ
ントロール出来る。

ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、粒
子を形成する過程及び／又は成長させる過程で、カドミ
ウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩又は
錯塩、ロジウム塩又は錯塩、鉄塩又はｕ塩、等を用いて
金属イオンを添加し、粒子内部に及び／又は粒子表面に
包合させる事が出来、また適当な還元的雰囲気にお（事
により、粒子内部及び／又は粒子表面に還元増感核を付
与出来る。

ハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀粒子の成長の終了後
に不要な可溶性塩類を除去しても良いし、あるいは含有
させたままで良い。該塩類を除去する場合には、リサー
チ・デ、Ｃスクロージｔ−−１７６４３号記載の方法に
基づいて行う事が出来る。

ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、内
部と表面が均一な層から成っていても良いし、異なる層
から成っても良い。

ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、潜
像が主として表面に形成されるような粒子であつ°【も
良く、又主として粒子内部に形成されるような粒子でも
良い。

ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、規
則的な結晶形を持つものでも良いし、球絆や板状のよう
な変則的な結晶形を持つものでも良い。これら粒子にお
いｃ、　　（１ｏｏ）面と（１１１）面の比率は任意の
ものが使用出来る。又、これら結晶形の複合形を持つも
のでも良く、様々な結晶形の粒子が混合されても良い。

ハロゲン化銀乳剤は、別々に形成した２種以上のハロゲ
ン化銀乳剤を混合して用いても良い。

ハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増感される。即ち
、銀イオンと反応できる硫黄を含む化合物や、活性ゼラ
チンを用いる硫黄増感法、セレン化合物を用いるセレン
増感法、還元性物質を用いる還元増Ｍ法、金その他の貴
金属化合物を用いる貴金属増感法などを単独又は組み合
わせて用いる事が出来る。

ハロゲン化銀乳剤は、写真業界において増感色素として
知られている色素を用いて、所望の波長域に光学的に増
感出来る。増感色素は単独で用いても良いが、２種以上
を組み合わせて用いても良い。増感色素と共にそれ自身
分光増感作用を持たない色素、あるいは可視光を実質的
に吸収しない化合物であって、増感色素の増感作用を強
める強色増感剤を乳剤中に含有させても良い。

ハロゲン化銀乳剤には、感光材料の製造工程、保存中、
あるいは写真処理中のカプリの防止及び／又は写真性能
を安定に保つことを目的として、化学熟成中及び／又は
化学熟成の終了時、及び／又は化学熟成の終了後、ハロ
ゲン化銀乳剤を塗布するまでに、写真業界においてカブ
リ防止剤又は安定剤として知られている化合物を加える
事が出来る。

ハロゲン化銀乳剤のバインダー（又は保護コロイド）と
しては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外
にゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子のグラフトポ
リマー、蛋白質、糖誘導体、セルロース誘導体、単一あ
るいは共重合体の如き合成親水性高分子物質等の親水性
コロイドも用いる事が出来る。

本発明に係る感光材料の写真乳剤層、その他の親水性コ
ロイド層は、バインダー（又は保護コロイド）分子を架
橋させ、膜強度を高める硬膜剤を単独又は併用すること
により硬膜される。硬膜剤は、処理液中に硬膜剤を加え
る必要がない程度に、感光材料を硬膜出来る量添加する
事が望ましいが、処理液中に硬膜剤を加える事も可能で
ある。

本発明に係る感光材料のハロゲン化銀乳剤層及び／又は
他の親水性コロイド層の柔軟性を高める目的で可塑剤を
添加出来る。

本発明に係る感光材料の写真乳剤層その他の親水性コロ
イド層に、寸度安定性の改良などを目的として、水不溶
又は難溶性合成ポリマーの分散物（ラテックス）を含む
事が出来る。

本発明に係る感光゛材料の乳剤層には、発色現像処理に
おいて、芳香族第１級アミン現像剤（例えばｐ−フェニ
レンジアミン誘導体や、アミノフェノール誘導体など）
の酸化体とカップリング反応を行い色素を形成する、色
素形成カプラーが用いられる。該色素形成性カプラーは
、各々の乳剤層に対して乳剤層の感光スペクトル光を吸
収する色素が形成されるように選択されるのが普通であ
り、胃色光感光性乳剤層にはイエロー色素形成カプラー
が、緑色光感光性乳剤層にはマゼンタ色素形成カプラー
が、赤色光感光性乳剤層にはシアン色素形成カプラーが
用いられる。しかしながら目的に応じて上記組み合わせ
と異なった用い方でハロゲン化銀写真感光材料を作って
も良い。

イエロー色素画像形成カプラーとしては、アシルアセト
アミド型ベンゾイルメタン型の４当量もしくは２当ｌカ
プラーが代表的であり、例えば米国特許第２，１８６，
８４９号、同第２，３２２，０２７号、同第２．７２８
，６５８号、同第２．８７り、０５７号、同第３，２６
５，５０６号、同第３，２７７．１５５号、同第３，４
０８，１９４号、同第３，４１５，６５２号、同第３，
４４７，９２８号、同第３，６６４．８４１号、同第３
，７７０，４４６号、同第３，７７８，２７７号、同第
３，８４９，１４０号、同第３，８９４，８７５号、英
国特許第７７８．０８９％、同第８０８，２７６号、同
第８７５，４７６号、同第１，４０２，５１１号、同第
１，４２１，１２６＠及び同第１．５１３，８３２号の
各明細書および特公昭４９−１３５７６号、特開昭４８
−２９４３２号、同４８−８６Ｊ５３４号、同４９−１
０７３６号、同４９〜１２２３３５号、同５０−２８８
３４号、同５０−１３２９２６号、同５０−１３８８３
２号、同５１−３６３１号、同５１−１７４３８号、同
５１−２６０３８号、同５１−２６０３９号、同５１−
５０７３４号、同５１−５３８２５号、同５１−７５５
２１４、同５ｌ−８９７２８ｊｊ　、同５１−１０２６
３６号、同５１−１０７１３７＠、同５１−１１７０３
１号、同　５１−１２２４３９Ｍ、同　５１−１４３３
１９号、（ｒｌＪ　　５３−９５２９号、同５３−８２
３３２号、同５３−１３５６２５％、同５３−１４５６
１９＠、同５４−２３５２８号、同５４−４８５４１＠
、同５４−６５０３５号、同５４−１３３３２９Ｍ、同
５５−５９８号の各公報などに記載されている。

シアン色ｍａｌ！ｉｍ形成カプラーとしでは、：ノエノ
ール系、ナフトール系４当瓜もしくは２当虚型シアン色
素画像形成カプラーが代表的であり、米国特ｉ！Ｆ第２
，３０６，４１０＠、同第２，３５６，４７５号、同第
２．３６２，５９８＠、同第２，３８７，５３１Ｍ、同
第２，３６９，９２９＠、同第　２，４２３，７３０号
、同第　２，４７４，２９３号、同第２，４７６．００
８号、同第２，４９８．４６６＠、同第２，５４５．６
８１号、同第２，７２８，６６０号、同第２，７７２ｊ
６２号、同第２，８９５，８２６号、同第２，９７６．
１４８号、同第３，００２．８３６号、同第３，４１９
，３９０号、同第３，４４６，６２２号、同第３，４７
６．５６３号、同第３，７３７，３１６号、同第３，１
５８．３０８号、同第３．８３９，０４４号、英国特許
第４７８，９９１＠、同第９４５，５４２号、同第１，
０８４，４８０号、同第１．３７７．２３３号、同第１
，３８８，０２４号及び同第１，５４３．０４０号の各
明細書、並びに特開昭４７−３７４２５号、同５０−１
０１３５号、同５０−２５２２８号、同５０−１１２０
３１＠、同５０−１１７４２２号、同５０−１３０４４
１号、同　５１−６５５１４、同５１−３７６４７号、
同５１−５２８２８号、同５１−１０８８４１号、同　
５３−１０９６３０号、同５４−４８２３７号、同５４
−６６１２９号、同５４−１３１９３１号、同５５−３
２０７１号の各公報などに記載されている。

カラードカプラーとしては、例えば英国特許第９３７．
６２１号、同　１，０３５，９５９％、同　１，２５５
，１１１号、特開昭４８−２２０２８号、同５２−４２
１２１号、特公昭３８−２２３３５号、同４４−２０１
５号、同４４−１５７５４号、米国特許第２．４４９，
９６６号、同２，５２１，９０８号、同　２，５４３，
６９１号、同２，８０１，１７１％、同２，９８３，６
０８号、同３，００５，７１２号、同３，０３４，８９
２号、同３，０６１，４３２号、同３，４１９．３９１
号、同３，４７６．５６０号、同３，４７６．５６３号
、同３．４８１，７４１＠、同３，５１９，４２９号、
同　３，５８３，９７１号、同３，６２２，３２８号、
同３，６８４，５１４号、同４，００４，９２９号、同
４，０７０．１９１号、同４，１３８，２５８号、同４
，１３８，２６４号、同　４，１６３，６７０号、同　
４，２９２，４００号、同４．３６９，２４８Ｑ等に記
載のものを使用できる。

ＤＩＲカプラーとしては、例えば英国特許第９５３．４
５４号、米国特許第３，２２７，５５４号、同３，６１
５．５０６号、同３，６１７，２９１号、同３，７０１
，７８３号、同３．９３３，５００号、同　４，０９５
，９８４号、同　４，１４９，８８６号、同４，２８６
，０５４号、同４，３５９，５２１号、特開昭５２−９
０９３２号、同５６−１１６０２９号、同５７−１５１
９４４号等に記載の化合物及び、米国特許第４，２４８
，９６２号、同４，４０９．３２３号、特開昭５７−１
５４２３４＠、同５８−１６２９４９号、同５８−２０
５１５０号、同５９−１９５６４３号、同５９−２０６
８３４号、同５９−２０６８３６号、同５９−２１０４
４０号、同６Ｇ−７４２９号等に記載のタイミングＤＩ
Ｒカプラーを好ましく用いることができる。

本発明に係る感光材料の乳剤層間で（同−感色性層間及
び／又は異なった感色性層間）、現像主薬の酸化体又は
電子移動剤が移動して色濁りが生じたり、鮮鋭性の劣化
、粒状性が目立つのを防止するために色カプリ防止剤が
用いられる。

該色カブリ防止剤は、乳剤層自身に用いても良いし、中
間層を隣接乳剤ｌｌ１ｍ１に設けて、該中間層に用いて
も良い。

本発明に係る感光材料の保護層、中間層等の親水性コロ
イド層に感光材料が摩擦等で帯電する事に起因する放電
によるカブリ防止、画像のＵ■光による劣化を防止する
ために紫外線吸収剤を含んでいても良い。

本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の層構成は如何
なる層数、層順もとりうるが、好ましくは支持体上に■
イエローカプラー含有ハロゲン化銀乳剤層、■マゼンタ
カプラー含有ハロゲン化銀乳剤層、■シアンカプラー含
有ハロゲン化銀乳剤層が支持体側より■−■−〇の順に
塗設されており、■と■、■−〇の闇に中間層を、支持
体側からみて■より遠い側に非感光性層を設け、前記■
と■の中間層および■に隣接する非感光性層中に紫外線
吸収剤を含有させることが好ましく、上記■に隣接する
非感光性層に紫外線吸収剤を含有させる場合は、該層上
に隣接して保護層を更に塗設したものが好ましい。

本発明に係る感光材料には、必要に応じてフィルタ一層
、ハレーション防止層及び／又はイラジェーション防止
層等の補助層を設ける事が出来る。

これらの層中及び／又は乳剤層中には、現像処理中にカ
ラー感光材料より流出するか、もしくは漂白される染料
が含有させられても良い。

本発明に係る感光材料のハロゲン化銀乳剤層及び／又は
その他の親水性コロイド層に感光材料の光沢を低減する
、加筆性を高める、感材相互のくつつき防止等を目標と
してマット剤を添加出来る。

本発明に係る感光材料の滑り摩擦を低減させるために滑
剤を添加出来る。

本発明に係る感光材料に、？！！１！防止を目的とした
帯電防止剤を添加出来る。帯電防止剤は支持体の乳剤を
積層してない側の帯電防止層に用いられる事もあるし、
乳剤層及び／又は支持体に対して乳剤層が積層されてい
る側の乳剤層以外の保護コロイド層に用いられても良い
。

本発明に係る感光材料の写真乳剤層及び／又は他の親水
性コロイド層には、塗布性改良、帯電防止、スベリ性改
良、乳化分散、接着防止及び（現像促進、硬調化、増感
等の）写真特性改良等を目的として、種々の界面活性剤
が用いられる。

本発明に係る感光材料の写真乳剤層、その他の層はバラ
イタ層又はα−オレフレインポリマー等をラミネートし
た紙、合成紙等の可撓性反射支持体、酢酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリカーボネイト、ポリアミ
ド等の半合成又は合成高分子からなるフィルムや、ガラ
ス、金属、陶器などの剛体等に塗布出来る。

本発明に係る感光材料は、必要に応じて支持体表面にコ
ロナ放電、紫外線照射、火焔処理等を施した優、直接又
は（支持体表面の接着性、帯電防止性、寸度安定性、耐
摩耗性、硬さ、ハレーション防止性、摩擦特性及び／又
はその他の特性を向上するための）１または２以上の下
塗層を介して塗布されても良い。

本発明に係る写真感光材料の塗布に際して、塗重性を向
上させる為に増粘剤を用いても良い。塗布法としては２
種以上の層を同時に塗布する事の出来るエクスドールジ
ョンコーティング及びカーテンコーティングが特に有用
である。

本発明に係る感光材料は、本発明に係る感光材料を構成
する乳剤層が感度を有しているスペクトル領域の電磁波
を用いて露光出来る。光源としては、自然光（日光）、
タングステン電灯、蛍光灯、水銀灯、キセノンアーク灯
、炭素アーク灯、キセノンフラッシュ灯、陰極線管フラ
イングスポット、各種レーザー光、発光ダイオード光、
電子線、Ｘ纏、γ線、α線などによって励起された蛍光
体から放出する光等、公知の光源のいずれでも用いるこ
とが出来る。

露光時開は通常カメラで用いられる１ミリ秒から１秒は
勿論、１マイクロ秒より短い露光、例えば陰極線管やキ
セノンアーク灯を用いて１００マイクロ秒〜１マイクロ
秒の露光を用いることも出来るし、１秒以上より長い露
光も可能である。該露光は連続的に行なわれても、間欠
時に行なわれても良い。

本発明に係る感光材料は、当業界公知のカラー現像を行
う事によりカラー画像を形成することが出来る。

本発明において発色現像液に使用される芳香族第１級ア
ミン系発色現像主薬は、種々のカラー写真プロセスにお
いて広範囲に使用されている公知のものが包含される。

これらの現像剤はアミンフェノール系及びｐ−フェニレ
ンジアミン系ＭＷ８体が含まれる。これらの化合物は遊
離状態より安定のため一般に塩の形、例えば塩酸塩また
は硫酸塩の形で使用される。また、これらの化合物は一
般に発色現像液１ｐについて約０，１１７〜約３０９の
濃度、好ましくは発色現像液１ｐについて約１ｇ〜約１
５ｏの濃度で使用する。

アミノフェノール系現像液としては、例えば〇−アミノ
フェノール、ｐ−アミノフェノール、５−アミノ−２−
オキシトルエン、２−アミノ−３−オキシトルエン、２
−オキシ−３−アミノ−１゜４−ジメチルベンゼンなど
が含まれる。

特に有用な第１級芳香族アミン系発色現像剤はＮ、Ｎ’
−ジアルキル−〇−フェニレンジアミン系化合物であり
、アルキル基及びフェニル基は任意の置換基で１換され
ていてもよい。その中でも特に有用な化合物例としては
、Ｎ、Ｎ’　−ジエチル−ｐ−フェニレンジアミン塩酸
塩、Ｎ−メ゛チルーｐ−フェニレンジアミン塩酸塩、Ｎ
、Ｎ’　−ジメチル−ｐ−フェニレンジアミン塩酸塩、
２−アミノ−５−（Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルアミノ）
−トルエン、Ｎ−エチル−Ｎ−β−メタンスルホンアミ
ドエチル−３−メチル−４−アミノアニリン硫酸塩、Ｎ
−エチル−Ｎ−β−ヒドロキシエチルアミノアニリン、
４−アミノ−３−メチル−Ｎ。

Ｎ′−ジエチルアニリン、４−アミノ−Ｎ−（２−メト
キシエチル）−Ｎ−エチル−３−メチルアニリン−〇−
トルエンスルホネートなどを挙げることができる。

本発明の処理において使用される発色現像液には、前記
芳香族第１級アミン系発色現像剤に加えて、更に発色現
像液に通常添加されている種々の成分、例えば水酸化ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカ
リ剤、アルカリ金属亜硫酸塩、アルカリ金属重亜硫酸塩
、アルカリ金属チオシアン酸塩、アルカリ金属ハロゲン
化物、ベンジルアルコール、水軟化剤及び濃厚化剤など
を任意に含有せしめることもできる。この発色現像液の
ＤＨ値は、通常７以上であり、最も一般的には約１０〜
約１３である。

本発明においては、発色現像処理した後、定着能を有す
る処理液で処理するが、該定着能を有する処理液が定着
液である場合、その前に漂白処理が行なわれる。該漂白
工程に用いる漂白剤としては有機酸め金１ｕｉｉ塩が用
いられ、該金属錯塩は、現像によって生成した金属銀を
酸化してハロゲン化銀にかえすと同時に発色剤の未発色
部を発色させる作用を有するもので、その構成はアミノ
ポリカルボン酸または蓚酸、クエン！ｌ！１等の有機酸
で鉄、コバルト、銅等の金属イオンを配位したものであ
る。このような有１ｍｌの金属錯塩を形成するために用
いられる最も好ましい有機酸としては、ボリカルボン酸
またはアミノポリカルボン酸が挙げられる。これらのポ
リカルボン酸またはアミノポリカルボン酸はアルカリ金
属塩、アンモニウム塩もしくは水溶性アミン塩であプて
もよい。

これらの具体的代表例としては、次のものを挙げること
ができる。

［１］エチレンジアミンテトラ酢酸 ［２］ニトリロトリ酢酸 ［３］イミノジ酢酸 ［４］エチレンジアミンテトラ酢酸ジナトリウム塩 ［５］エチレンジアミンテトラ酢酸テトラ（トリメチル
アンモニウム）塩 ［６］エチレンジアミンテトラ酢駿テトラナトリウム塩 ［７］ニトリロトリ酢酸ナトリウム塩 使用される漂白剤は、前記の如き有機酸の金属錯塩を漂
白剤として含有すると共に、種々の添加剤を含むことが
できる。添加剤としては、特にアルカリハライドまたは
アンモニウムハライド、例えば臭化カリウム、臭化ナト
リウム、塩化ナトリウム、臭化アンモニウム等の再ハロ
ゲン化剤、金属塩、キレート剤を含有させることが望ま
しい。

また硼酸塩、蓚酸塩、酢酸塩、炭酸塩、燐酸塩等のＤＨ
緩衝剤、アルキルアミン類、ポリエチレンオキサイド類
等の通常漂白液に添加することが知られているものを適
宜添加することができる。

更に、定着液及び漂白定着液は、亜硫酸アンモニウム、
亜硫酸カリウム、重亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸カリ
ウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸アンモニウム
、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸カリウム等の亜
硫酸塩や硼酸、硼砂、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重亜硫酸ナトリウ
ム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、酢酸、酢酸ナ
トリウム、水酸化アンモニウム等の各種の塩から成るｐ
Ｈ１ｌｉＩ剤を単独或いは２種以上含むことができる。

漂白定着液（浴）に漂白定着補充剤を補充しながら本発
明の処理を行なう場合、該漂白定着液（浴）にチオＴａ
酸塩、チオシアン酸塩又は亜硫酸塩等を含有Ｃしめて６
よいし、該漂白定着補充液にこれらの塩類を含有せしめ
て処理浴に補充してもよい。

本発明においては漂白定着液の活性度を高める為に、漂
白定着浴中及び漂白定着補充液の貯蔵タンク内で所望に
より空気の吹き込み、又は酸素の吹き込みをおこなって
もよく、或いは適当な酸化剤、例えば：ａ！ｌ化水素、
臭素酸塩、過硫酸塩等を適宜添加しＣもよい。

以下余白 ［実施例］ 以下に具体的実施例を示して本発明を更に詳しく説明す
るが、本発明の実施の態様はこれにより限定されない。

実施例１ 前記例示マゼンタカプラー５９の４０ａを例示高沸点有
機溶媒（Ｓ−２）３０■β及び酢酸エチル１００−λの
混合溶媒に溶解し、この溶液をドデシルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウムを含む５％ゼラチン水溶液ａｏｏ＊Ｒに
添加した後、ホモジナイザーにて分散し得られた分散液
を緑感光性塩臭化銀乳剤５０Ｇり　（Ａ　Ｑ量３０１）
含有）に混合し、これに塗布助剤を加えて塗布液を調製
した１次いでこの塗布液をポリエチレン被覆紙支持体上
に塗布し、更にこの塗布層上に、２−（２’　−ヒドロ
キシ−３’　、５’−ジ−ｔ−アミル−ベンゾトリアゾ
ール）、ゼラチン、延展剤及び硬膜剤を含有する塗布液
を塗設し保護層とした。

この際２−（２’　−ヒドロキシ−３’　、５’　−ジ
−ｔ−アミル−ベンゾトリアゾール）は−、５１ｇ／ｄ
１２、ゼラチンは１５ｍｇ／ｄａ”の付置となるように
塗設しハロゲン化銀写真感光材料を作製し試料１（比較
）とした。

次に試料１の第１ＦＪにおけるマゼンタカプラー、退色
防止剤および高沸点有機溶媒の組合せを表１に示したよ
うにした以外は試料１と同一の試料２乃至９を作成した
。なお、カプラー［ＩＩとカプラー［ａ　］の併用比率
はモル比率にて示し、合計が試料１におけるマゼンタカ
プラー５９と等モルとなるように添加し、退色防止剤は
２１１Ｇ／　ｄａ　　。

高沸点有機溶媒は３−０／　６ｇ＋２となるようにした
。

以下余白 く表１〉 用いた高沸点有機溶媒の誘電率を以下に示す。

Ｓ−２：５．２　　　　ＤＢＰ（フタル酸ジブチル）：
６．４Ｓ−１３：４．５ 得られた試料について感光計（小西六写真工業ｃ株）製
、ＫＳ−７型）を用いて緑色光により光Ｉ！露光を行な
った模次の処理工程ＡまたはＢを施した。

処理液組成 （発色現像液） ベンジルアルコール　　　　　　　　１５１１エチレン
グリコ〜ル　　　　　　　　１５１！亜硫酸カリウム　
　　　　　　　　　　２．ＯＱ塩化ナトナトリウム　　
　　　　　　　０．２ｇ炭酸カリウム　　　　　　　　
　　　３０．ＯＱヒドロキシルアミン硫Ｍｍ　　　　　
　　４．ＩＩ（例示ヒドロキシアミン類（２）　）　　
（０，０５モル）ポリリンＩＩ（ＴＰＰＳ）　　　　　
　　　２．５ｇ３−メチル−４−アミノ−Ｎ−エチル −Ｎ−（β−メタンスルホンアミド エチル）−アニリン硫酸塩　　　　　　５．５ｇ蛍光増
白剤（４，４’　−ジアミノ スチルベンズスルホン酸誘導体）１．ｏΩ水酸化カリウ
ム　　　　　　　　　　２．ＯＱ水を加えて全量をＩＪ
、！：Ｌ／、Ｉ）Ｈｌｏ、２０　ニ１１！Ｉする。

（漂白定着液） エチレンジアミンテトラ酢ｍ第２鉄 アンモニウム２水塩　　　　　　　　　６０Ｑエチレン
ジアミンテトラ酢ＷＩ３１１Ｉチオ硫酸アンモニウム（
７０％溶液）　　　１０１）τ亜硫酸アンモニウム（４
０％溶液）　　　２７．５ｔｌ炭酸カリウムまたは氷酢
酸でＥＩＨ７，１に調整し水を加えて全量を１１とする
。

以下金白 ［安定液］ ５−りＯロー２−メチル−４− イソチアゾリン−３−オン　　　　　　１．０１７エチ
レングリコール　　　　　　　　１．０ｇ水酸化アンモ
ニウム（２８％水溶液）　　　３．０１；１１−ヒドロ
キシエチリデン−１，１ −ジホスホン酸　　　　　　　　　　２．０ｇ亜硫酸ア
ンモニウム　　　　　　　　３．ＯＱ塩化ビスマス　　
　　　　　　　　　　０．４ｇ蛍光増白剤　　（注１　
）　　　　　　　　１．５　ａ水を加えて１λにし、硫
酸でＥＩＨ６，５に１！整した。

（注１）　螢光増姿白剤としてはチバガイギー会社製品
のチノバールＭＳＰを使用した。

上記処理の施された試料について、マゼンタ色素ｉｍ＊
の光堅牢性および分光吸収特性を下記方法によって試験
した。

［光堅牢性試験］ アンダーグラス屋外曝露台を用いて３０日間太陽光を照
射した時の、色素残存率で示した。

ここで、Ｄｏ：初濃度１，００：試験後の濃度［Ｙ−ス
ティン試験］ ７０℃、８０％ＲＨの恒温恒湿機にて２週間保存試験を
施した時の青色濃度の変化で示した。

Ｙ−スティン−ＤＢ　−ＤＢ。

ここで、ＤＢｏ　：試験前濃度　ＤＢ＝試験後濃度以下
余白 く表２〉 上記表２の結果から、比較試料１および２については処
理工程Ａ、Ｂの差は殆ど無いが本発明に係る試料３乃至
９については処理工程Ｂの方が光堅牢性およびＹ−ステ
ィンは共に改良されており、カプラー［Ｉ］および［ａ
　］の組合せによる特異的効果を示している。この効果
は退色防止剤を含有した試料４乃至９において顕著であ
り、′Ｎ誘電率の高沸点有機ｗｉｔｓを用いた試料５よ
りも低誘電率の高沸点有機溶媒の方が良好な結果であっ
た。

更に本発明に係る試料の副吸収濃度は、比較試料２に比
べて低く０再現性が、良好であった。

すなわち、本発明に係るカラー写真画像の形成方法を用
いた試料は低公言性、色再現性Ｙ−スティンおよび光堅
牢性が著しく良好であることが確認された。

実施例２ ポリエチレン被覆紙からなる支持体上に、下記の各層を
支持体側から順次塗設し、多色用ハロゲン化銀写真感光
林料の試料Ｎｏ、１０を作製した。

第１層：青感性ハロゲン化銀乳剤層 イエローカプラーとしてα−ヒビバリル−α−１−ベン
ジル−２，４−ジオキソ−イミダゾリジン−３−イル）
−２−クロロ−５−Ｌγ−（２゜４−ジ−ｔ−アミルフ
ェノキシ）ブチルアミド〕−アセトアニリドをｆ３　ｇ
ｉｇ／　ｄａ　　、青感性塩臭化銀乳剤を銀に換算して
３　ｍａ／　ｄｉ　　、例示高沸点有機溶媒（Ｓ−６）
を３ｍｇ／ｄ−およびゼラチンを１６１ｇ／ｄ−の塗布
付量となる様に塗設した。

第２層：中間層 ゼラチンを４１０／ｄｌ　　の塗布付量となる様に塗設
した。

第３Ｍ：緑感性塩臭化銀乳剤層 前記例示マゼンタカプラー６０を４　ｍｇ／　ｄｉ　　
。

退色防止剤Ｃ−２を３１Ｍｄｌ　　、緑感性塩臭化銀乳
剤を銀に換算して２１Ｍｄ■　、例示′ｌｉ沸点有機１
１（Ｓ−２）ｅ４ｕ／ｄａ　　およＵゼラチ＞を１６ｍ
Ｇ／ｄ＋ｅ　　の塗布付量となる様に塗設した。

第４１１：中ＷＡＭ 紫外線吸収剤２−　（２’　−ヒドロキシ−３′。

５′−ジ−ｔ−アミルフェノール）−ベンゾトリアゾー
ルを３慣ａ／ｄ■　、２−（２’　−ヒドロキシ−３’
　、５’−ジ−ｔ−ブチルフェノール）−べλ ンゾトリアゾールを３　ｍｇ／　ｄｍ　　、例示應沸点
有機溶ｌ５（Ｓ−２）を４１ｇ／ｄｌ　およびゼラチン
を１４１ＩｇＺｄ■　の塗布付量となる様に塗設した。

第５１：赤感性塩臭化銀乳剤層 シアンカプラーとして２．４−ジクロロ−３−メチル−
６−［α−（２，４−ジ−ｔ−７ミルフｒノキシ）ブチ
ルアミド１−フェノールを１ｍＭｄｍ　　、２−　（２
，３，４，５，６−ペンタ゛クルオロフェニル）アシル
アミノ−４−クロロ−５−［α−（２，４−ジーｔａｒ
ｔ−アミルフェノキシ）ペンチルアミド］を３１１１ｇ
／ｄＩ１２、例示高沸点有魔１１（Ｓ−２）を２＋ａ／
ｄａ　　お、Ｊ、Ｕ赤感性ｍ臭化銀乳剤を銀に換算して
３　＠Ｑ／　ｄｅ＋２の塗布付量となる様に塗設した。

第６Ｉｉ：中間層 紫外線吸収剤として２−（２’　−ヒドロキシ−３’　
、５’−ジー【−アミルフェノール）−ベンソトｕ７’
１−）Ｌｔヲ３ｍａ／ｄａ　　、　２−　（２’　−ヒ
ドロキシ−３’　、５’−ジー【−ブチルフェノール）
−ベンゾトリアゾールを２ｍｇ／ｄ■　、例示高沸点有
機溶媒（Ｓ−２）を２１（１／　ｄａ２−およびゼラチ
ンを６■Ｍｄｌ”の塗布付量となる様に塗設した。

第７層：保護層 ゼラチンを９１ｇ／ｄａ　　の塗布付量となる様に塗設
した。

このようにして作成した試料Ｎｏ、１０について、第３
層に用いたマゼンタカプラーおよび退色防止剤を表３の
如く変更した以外は試料１０と同一の試料１１乃至１９
を作成した。

得られた各試料について実施例１と同様にして露光を行
なった後、実施例１に示した処理Ｂおよび特性試験を施
し、得られた結果を表３に示した。

以下余白 く表３〉 上記表３より実施例１と同様に本発明に係る試料におい
て１２乃至１９において光堅牢性とＹスティンが同時に
著しく改良されており、この事実は比較試料１０および
１１の結果のみからでは全く予測できないことである。

また、実写プリントによる色再現性評価の結果、本発明
に係る試料で特に赤色の再現性が優れていた。更にこの
特性が処理工程Ｂという低公害、省エネルギー性の高い
処理との組合せで特に顕著に発揮されたことは驚くべき
ことである。

特許出願人　小西六写真工業株式会社 手続郭ｌ正書（自発） 昭和６１年０８月１１日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 支持体上に下記一般式［ I ］で表わされるマゼンタカ
   プラーの少なくとも１種および下記一般式［ａ］で表わ
   されるマゼンタカプラーの少なくとも１種を含有するハ
   ロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀カラー写真感光
   材料を像様露光した後、少なくとも発色現像処理する工
   程、定着能を有する処理液で処理する工程、及び実質的
   な水洗工程を含まず安定化処理する工程を施すことを特
   徴とするカラー写真画像の形成方法。 一般式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中Ｚは含窒素複素環を形成するに必要な非金属原子
   群を表し、該Ｚにより形成される環は置換基を有しても
   よい。 Ｘは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
   り離脱しうる置換基を表す。 またＲは水素原子または置換基を表す。］ 一般式［ａ］ ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ａｒはアリール基を表わし、Ｒ＿１は水素原子
   又は置換基を表わし、Ｒ＿２は置換基を表わす。Ｙは水
   素原子または発色現像主薬の酸化体との反応により離脱
   しうる置換基を、Ｗは−ＮＨ−、−ＮＨＣＯ−（Ｎ原子
   はピラゾロン核の炭素原子に結合）または−ＮＨＣＯＮ
   Ｈ−を表わし、ｍは１または２の整数である。）