JPS61270231A - 熱処理装置 - Google Patents
熱処理装置Info
- Publication number
- JPS61270231A JPS61270231A JP60108415A JP10841585A JPS61270231A JP S61270231 A JPS61270231 A JP S61270231A JP 60108415 A JP60108415 A JP 60108415A JP 10841585 A JP10841585 A JP 10841585A JP S61270231 A JPS61270231 A JP S61270231A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- core tube
- furnace
- differential pressure
- pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
- C03B37/0146—Furnaces therefor, e.g. muffle tubes, furnace linings
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Furnace Details (AREA)
- Muffle Furnaces And Rotary Kilns (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、例えば光フアイバ母材（多孔質体）を脱水及
び焼結処理して光フアイバプリフォームを得る等の用途
に使用する熱処理装置に関するものである。
び焼結処理して光フアイバプリフォームを得る等の用途
に使用する熱処理装置に関するものである。
［従来の技術］
従来、光フアイバ母材等の被処理物を熱処理する熱処理
装置は、第３図に示すように被処理物である多孔質の光
フアイバ母材１を収容して加熱を行なう炉芯管２を備え
、該炉芯管２の外周は加熱炉３の炉体４で包囲し、この
炉体４内に配置した発熱体５で炉芯管２を介して光フア
イバ母材１を加熱していた。この場合、炉芯管２の中央
に支持棒６で支持されて配置された光フアイバ母材１は
、該炉芯管２内で適当なガスの雰囲気中で加熱され、脱
水及び焼結が施されて透明なプリフォームになる。炉芯
管２には、給気管７を有する炉芯管ガス供給手段８で供
給され、母材１との反応ガスや水分及び余剰のガスは排
気管９を有する排気手段１０から排気ガス処理装置１１
を経て送風機１２により排気し−ていた。通常、排気手
段１０の排気管９には、炉芯管２からの排気の強さを調
節するための絞り弁１３と、炉芯管２内の内部圧力を監
視するための圧力計１４が設けられている。
装置は、第３図に示すように被処理物である多孔質の光
フアイバ母材１を収容して加熱を行なう炉芯管２を備え
、該炉芯管２の外周は加熱炉３の炉体４で包囲し、この
炉体４内に配置した発熱体５で炉芯管２を介して光フア
イバ母材１を加熱していた。この場合、炉芯管２の中央
に支持棒６で支持されて配置された光フアイバ母材１は
、該炉芯管２内で適当なガスの雰囲気中で加熱され、脱
水及び焼結が施されて透明なプリフォームになる。炉芯
管２には、給気管７を有する炉芯管ガス供給手段８で供
給され、母材１との反応ガスや水分及び余剰のガスは排
気管９を有する排気手段１０から排気ガス処理装置１１
を経て送風機１２により排気し−ていた。通常、排気手
段１０の排気管９には、炉芯管２からの排気の強さを調
節するための絞り弁１３と、炉芯管２内の内部圧力を監
視するための圧力計１４が設けられている。
炉芯管２は、高温に耐え、且つ光ファイバにとって有害
な不純物を避けるため石英で形成されていることが多い
。また、加熱炉３においては、充分な高温を得るために
発熱体５及び炉体４の内部の断熱材等の材料としてカー
ボンが使用されることが多い。
な不純物を避けるため石英で形成されていることが多い
。また、加熱炉３においては、充分な高温を得るために
発熱体５及び炉体４の内部の断熱材等の材料としてカー
ボンが使用されることが多い。
ところで、カーボンを高温で用いる場合、空気中では酸
化によって形を失うので、無酸素の雰囲気としなければ
ならない。その方法として、炉体４の内側に不活性ガス
を満たすことが行なわれているが、その場合、炉体４と
炉芯管２等との隙間からの空気の侵入及び酸素の拡散を
防ぐために、炉体４内部の圧力を炉体４の外部の圧力よ
り高（保たなければならない。
化によって形を失うので、無酸素の雰囲気としなければ
ならない。その方法として、炉体４の内側に不活性ガス
を満たすことが行なわれているが、その場合、炉体４と
炉芯管２等との隙間からの空気の侵入及び酸素の拡散を
防ぐために、炉体４内部の圧力を炉体４の外部の圧力よ
り高（保たなければならない。
［発明が解決しようとする問題点］
ところで、石英等よりなる炉芯１！２は、炉体４の中心
部で高温に熱せられているため軟化して変形し易くなっ
ており、炉芯管２の内側と外側との圧力関係で膨み又は
縮みを生じることがあり、それは発熱体５の温度を高く
する程、小さな圧力差で起る。また、母材１の長尺化に
より炉芯管２の長さを長くする程、該炉芯管２の変形は
生じ易くなる。
部で高温に熱せられているため軟化して変形し易くなっ
ており、炉芯管２の内側と外側との圧力関係で膨み又は
縮みを生じることがあり、それは発熱体５の温度を高く
する程、小さな圧力差で起る。また、母材１の長尺化に
より炉芯管２の長さを長くする程、該炉芯管２の変形は
生じ易くなる。
即ら、炉芯管２の内側の圧力をＰ＋、外側の圧力をＦ２
とすると、 Ｐ＋−Ｐ２≧に１のとき膨れ、 Ｐ＋−Ｐ２≦に２のとき縮み を生じる。ここで、Ｋ＋ 、に２は炉芯管２０寸法や温
度によって決る値である。
とすると、 Ｐ＋−Ｐ２≧に１のとき膨れ、 Ｐ＋−Ｐ２≦に２のとき縮み を生じる。ここで、Ｋ＋ 、に２は炉芯管２０寸法や温
度によって決る値である。
上記のことから、炉芯管２の内径の圧力を炉芯管２の変
形を生じない範囲に保って装置を運転しなければならな
い。また、カーボンの酸化を防ぐために必要な最小の圧
力Ｐ２があるが、それに対して圧力Ｐ１は＾過ぎても低
過ぎてもいけない。
形を生じない範囲に保って装置を運転しなければならな
い。また、カーボンの酸化を防ぐために必要な最小の圧
力Ｐ２があるが、それに対して圧力Ｐ１は＾過ぎても低
過ぎてもいけない。
しかしながら、雰囲気ガスの流量や温度の設定変更によ
って前記圧力が変化するし、排気系の圧力変動によって
も炉芯管２内の圧力が変動する。
って前記圧力が変化するし、排気系の圧力変動によって
も炉芯管２内の圧力が変動する。
それらの圧力変化が炉芯管２のつぶれや破損を惹起し、
熱処理が不能となる問題点があった。
熱処理が不能となる問題点があった。
本発明の目的は、炉芯管の変形を防止できる熱処理装置
を提供することにある。
を提供することにある。
［問題点を解決するための手段］
上記の目的を達成するための本発明の構成を、実施例に
対応する第１図及び第２図を参照して説明すると、本発
明は被処理物１を収容する炉芯管２と、該炉芯管２を包
囲する加熱炉３と、前記炉芯ｌＦ２内にガスを供給する
炉芯管ガス供給手段８と、前記加熱炉３の炉体４内にガ
スを供給する炉体ガス供給手段１８と、前記炉芯管２内
と前記炉体４内のガス圧の差圧を検出する差圧検出手段
２３と、前記差圧検出手段２３からの差圧信号に基づい
て前記炉芯管２内のガス圧と前記炉体４内のガス圧のガ
ス圧との差圧が許容範囲内になるように調整する差圧調
整手段２７とから成るものである。
対応する第１図及び第２図を参照して説明すると、本発
明は被処理物１を収容する炉芯管２と、該炉芯管２を包
囲する加熱炉３と、前記炉芯ｌＦ２内にガスを供給する
炉芯管ガス供給手段８と、前記加熱炉３の炉体４内にガ
スを供給する炉体ガス供給手段１８と、前記炉芯管２内
と前記炉体４内のガス圧の差圧を検出する差圧検出手段
２３と、前記差圧検出手段２３からの差圧信号に基づい
て前記炉芯管２内のガス圧と前記炉体４内のガス圧のガ
ス圧との差圧が許容範囲内になるように調整する差圧調
整手段２７とから成るものである。
［発明の作用］
このように差圧を検出して差圧が許容範囲内になるよう
にすると、炉芯管３の内圧の差圧による変形を防止でき
る。
にすると、炉芯管３の内圧の差圧による変形を防止でき
る。
［実施例］
以下本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する。
なお、前述した第３図と対応する部分には同一符号を付
して示している。
して示している。
第１図は本発明の第１実施例を示したものである。本実
施例では、炉芯管２から支持棒６の導出部分をシールす
るために、炉芯管２の端部にシール箱１５が設けられ、
給気管１６を有するシール箱ガス供給手段１７からシー
ル用ガスの供給を受けるようになっている。炉体４には
給気管１７を有する炉体ガス供給手段１８によりガスが
供給され排気口１９から排気されるようになっている。
施例では、炉芯管２から支持棒６の導出部分をシールす
るために、炉芯管２の端部にシール箱１５が設けられ、
給気管１６を有するシール箱ガス供給手段１７からシー
ル用ガスの供給を受けるようになっている。炉体４には
給気管１７を有する炉体ガス供給手段１８によりガスが
供給され排気口１９から排気されるようになっている。
絞り弁１３の手前の排気管９と、炉体４とにはそれぞれ
導圧管２０．２１が接続され、炉芯管２内と炉体４内と
のガス圧の検出が行なわれるようになっている。これら
導圧管２０，２１で検出されたガス圧、は差圧検出器２
２に入力され、炉芯管２内と炉体４内のガスの差圧、即
ら炉芯管２の内外の差圧の検出が行なわれるようになっ
ている。これら導圧管２０．２１と、差圧検出器２２と
で差圧検出手段２３が構成されている。差圧検出手段２
３からの差圧信号（電気信号又は空気圧信号）は調節計
２４に入力され、そこで設定器２５からの設定信号レベ
ルと比較され、偏差に応じた調節を行なうべく電動弁等
よりなる自動の調節弁２６Ａに動作信号が送られるよう
になっている。：１ｗ弁２６Ａは絞り弁１３の出口側で
排気管９に接続され、その開閉調節により外部空気の導
入量が可変され、これにより較り弁１３の出口側の圧力
調節がなされるようになっている。これら調節計２４、
設定器２５、調節弁２６Ａにて差圧調整手段２７が構成
されている。
導圧管２０．２１が接続され、炉芯管２内と炉体４内と
のガス圧の検出が行なわれるようになっている。これら
導圧管２０，２１で検出されたガス圧、は差圧検出器２
２に入力され、炉芯管２内と炉体４内のガスの差圧、即
ら炉芯管２の内外の差圧の検出が行なわれるようになっ
ている。これら導圧管２０．２１と、差圧検出器２２と
で差圧検出手段２３が構成されている。差圧検出手段２
３からの差圧信号（電気信号又は空気圧信号）は調節計
２４に入力され、そこで設定器２５からの設定信号レベ
ルと比較され、偏差に応じた調節を行なうべく電動弁等
よりなる自動の調節弁２６Ａに動作信号が送られるよう
になっている。：１ｗ弁２６Ａは絞り弁１３の出口側で
排気管９に接続され、その開閉調節により外部空気の導
入量が可変され、これにより較り弁１３の出口側の圧力
調節がなされるようになっている。これら調節計２４、
設定器２５、調節弁２６Ａにて差圧調整手段２７が構成
されている。
この実施例では、炉体ガス供給手段１８及びシール箱ガ
ス供給手段１７からのガスの流入量は一定とされ、かか
る状態で導圧管２０．２１を経て差圧検出器２２により
炉芯管２内と炉体４内とのガス圧の差圧を検出する。検
出された差圧信号と設定器２５からの設定信号との偏差
を調節計２４で検出してその偏差に応じて自動的に調節
弁２６Ａの開度を変化させる。調節弁２６Ａの開度を変
化させると、絞り弁１３の出口側の圧力が変化し、その
変化によって炉芯管２内の圧力が調整され、差圧が許容
範囲内に入るように調整がなされる。
ス供給手段１７からのガスの流入量は一定とされ、かか
る状態で導圧管２０．２１を経て差圧検出器２２により
炉芯管２内と炉体４内とのガス圧の差圧を検出する。検
出された差圧信号と設定器２５からの設定信号との偏差
を調節計２４で検出してその偏差に応じて自動的に調節
弁２６Ａの開度を変化させる。調節弁２６Ａの開度を変
化させると、絞り弁１３の出口側の圧力が変化し、その
変化によって炉芯管２内の圧力が調整され、差圧が許容
範囲内に入るように調整がなされる。
かかる熱処理装置で、炉芯管ガス供給手段８からのガス
流量変化、発熱体５の温度変化、排気系の圧力変化が生
じ、これにより炉芯管２内の圧力Ｐ１と炉体４の圧力Ｐ
２との差圧（Ｐ＋ −Ｐｚ ）が減少或いは増加した場
合の制御は次の通りである。
流量変化、発熱体５の温度変化、排気系の圧力変化が生
じ、これにより炉芯管２内の圧力Ｐ１と炉体４の圧力Ｐ
２との差圧（Ｐ＋ −Ｐｚ ）が減少或いは増加した場
合の制御は次の通りである。
差圧（Ｐ＋ −Ｐｚ ）が減少すると、調節弁２６への
開度が増加するような制御がなされ、これにより送Ｊ［
１２側からの吸引力が弱まって絞り弁１３の出口側の圧
力が上昇し、炉芯管２内の圧力Ｐ１が増加し、差圧（Ｐ
Ｉ −Ｐｚ ）が増加し、その値が許容範囲内に入るよ
うに制御される。
開度が増加するような制御がなされ、これにより送Ｊ［
１２側からの吸引力が弱まって絞り弁１３の出口側の圧
力が上昇し、炉芯管２内の圧力Ｐ１が増加し、差圧（Ｐ
Ｉ −Ｐｚ ）が増加し、その値が許容範囲内に入るよ
うに制御される。
差圧（Ｐ＋ −Ｐｚ ）が増加すると、調節弁２６Ａの
開度が減少するように制御がなされ、これにより炉芯管
２内の圧力Ｐ１が減少し、差圧（Ｐ＋−Ｐｚ）が減少し
、その値が許容範囲内に入るように制御される。
開度が減少するように制御がなされ、これにより炉芯管
２内の圧力Ｐ１が減少し、差圧（Ｐ＋−Ｐｚ）が減少し
、その値が許容範囲内に入るように制御される。
このように制御をすると、炉芯管２の内外の差圧を常に
許容範囲の値若しくは適切な値に保つことができ、従っ
てカーボンの酸化も炉芯管２の変形も起こさず、安定し
て光フアイバ母材１の熱処理を行なうことができる。
許容範囲の値若しくは適切な値に保つことができ、従っ
てカーボンの酸化も炉芯管２の変形も起こさず、安定し
て光フアイバ母材１の熱処理を行なうことができる。
第２因は本発明の第２実施例を示したものである。本実
施例では、絞り弁１３の出口側の排気管９に手動の調整
弁２６Ａが設けられ、その開度が固定されている。シー
ルガス供給手段１７は、給気管１６の途中に流量制御器
２８が設けられ、この流量制御器２８を通ってシールガ
スの供給が行なわれるようになっている。また、調節計
２４の出力は、流量制御器２８に流量設定信号として入
力されるようになっている。流量制御器２８としては、
例えば市販のマスフローコントローラを使用することが
できる。その他は、第１図と同様の構成になっている。
施例では、絞り弁１３の出口側の排気管９に手動の調整
弁２６Ａが設けられ、その開度が固定されている。シー
ルガス供給手段１７は、給気管１６の途中に流量制御器
２８が設けられ、この流量制御器２８を通ってシールガ
スの供給が行なわれるようになっている。また、調節計
２４の出力は、流量制御器２８に流量設定信号として入
力されるようになっている。流量制御器２８としては、
例えば市販のマスフローコントローラを使用することが
できる。その他は、第１図と同様の構成になっている。
かかる熱処理装置では、炉体ガス供給手段１８からのガ
ス流量と、弁１３，２６８の開度は一定としておき、差
圧検出器２２で差圧（Ｐ＋ −Ｐｚ ）の検出値と設定
器２５からの設定値との偏差を検出し、その偏差に応じ
て流量制御器２８の流量設定値を変化させ、これにより
シール箱１５への流入ガス流量、ひいてはシール箱１５
から炉芯管２への流入ガス量を変化させる。その変化に
より炉芯管２の内部圧力を調整し、差圧（Ｐ＋ −Ｐｚ
）が許容範囲内若しくは適正な値になるように制御す
る。
ス流量と、弁１３，２６８の開度は一定としておき、差
圧検出器２２で差圧（Ｐ＋ −Ｐｚ ）の検出値と設定
器２５からの設定値との偏差を検出し、その偏差に応じ
て流量制御器２８の流量設定値を変化させ、これにより
シール箱１５への流入ガス流量、ひいてはシール箱１５
から炉芯管２への流入ガス量を変化させる。その変化に
より炉芯管２の内部圧力を調整し、差圧（Ｐ＋ −Ｐｚ
）が許容範囲内若しくは適正な値になるように制御す
る。
かかる熱処理装置で、炉芯管ガス供給手段８からのガス
流量変化、発熱体５の温度変化、排気系の圧力変化が生
じ、これにより差圧（ＰＩ −Ｐｚ ）が減少、或いは
増加した場合の制御は次の通りである。
流量変化、発熱体５の温度変化、排気系の圧力変化が生
じ、これにより差圧（ＰＩ −Ｐｚ ）が減少、或いは
増加した場合の制御は次の通りである。
差圧（Ｐ＋ −Ｐｚ ）が減少すると、流量制御器２８
の設定ｉ量が増加され、これにより炉芯管２の圧力Ｐ１
が上昇して差圧（Ｐ＋ −Ｐｚ ）が増加し、その値が
許容範囲内に入るように制御される。
の設定ｉ量が増加され、これにより炉芯管２の圧力Ｐ１
が上昇して差圧（Ｐ＋ −Ｐｚ ）が増加し、その値が
許容範囲内に入るように制御される。
差圧（Ｐ＋ −Ｐｚ ）が増加すると、流量制御器２８
の設定流量が減少され、これにより炉芯管２の圧力Ｐ１
が減少して差圧（Ｐ＋ −Ｐ２ ）が減少し、その値が
許容範囲内に入るように制御される。
の設定流量が減少され、これにより炉芯管２の圧力Ｐ１
が減少して差圧（Ｐ＋ −Ｐ２ ）が減少し、その値が
許容範囲内に入るように制御される。
特に、本実施例のように調節弁２６Ａ又は流量制御器２
８側で差圧制御を行なうと、炉芯管２内に供給するガス
は熱処理により要求される量を確保でき、しかもａｌ１
１！ＯＬ、易いところで即ち制御の影響が効果的に現わ
れるところで制御を行なうことができる。
８側で差圧制御を行なうと、炉芯管２内に供給するガス
は熱処理により要求される量を確保でき、しかもａｌ１
１！ＯＬ、易いところで即ち制御の影響が効果的に現わ
れるところで制御を行なうことができる。
なお、制御は差圧をみて手動で適宜時間おきに行なうこ
ともできる。
ともできる。
なお、被処理物１としては光ファイバ母・材に限らず、
半導体等でもよい。
半導体等でもよい。
［発明の効果］
以上説明したように本発明では、炉芯管内のガス圧と、
該炉芯管を包囲する炉体内の圧力との差圧を検出し、そ
の差圧が許容範囲内になるように制御をするので、差圧
により炉芯管が変形されるのを防止でき、安定して熱処
理を行なうことができる。
該炉芯管を包囲する炉体内の圧力との差圧を検出し、そ
の差圧が許容範囲内になるように制御をするので、差圧
により炉芯管が変形されるのを防止でき、安定して熱処
理を行なうことができる。
第１図及び第２図は本発明に係る装置の第１゜第２実施
例の概略構成図、第３図は従来の装置の概略構成図であ
る。 １・・・被処理物、２・・・炉芯管、３・・・加熱炉、
４・・・炉体、５・・・発熱体、６・・・支持棒、８・
・・炉芯管ガス供給手段、９・・・排気管、１ｏ・・・
排気手段、１３・・・絞り弁、１５・・・シール箱、１
７・・・シール箱ガス供給手段、１８・・・炉体ガス供
給手段、２０．２１・・・導圧管、２６Ａ・・・調整弁
、２３・・・差圧検出手段、２７・・・差圧調整手段、
２８・・・流量制御器。 手続補正書（０胴 昭和６１年 ３月２７日 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿 １、事件の表示 特願昭６０−１０８４１５号２、発明
の名称 熱処理装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 （５２９）古河電気工業株式会社 ４、代理人 東京都港区新橋４−３１−６ 支出ビル６階明細書の
「発明の詳細な説明」の欄 ６、補正の内容 明細書第９頁第１０行の「調整弁２６Ａ」を「調整弁２
６Ｂ」に訂正する。 以上
例の概略構成図、第３図は従来の装置の概略構成図であ
る。 １・・・被処理物、２・・・炉芯管、３・・・加熱炉、
４・・・炉体、５・・・発熱体、６・・・支持棒、８・
・・炉芯管ガス供給手段、９・・・排気管、１ｏ・・・
排気手段、１３・・・絞り弁、１５・・・シール箱、１
７・・・シール箱ガス供給手段、１８・・・炉体ガス供
給手段、２０．２１・・・導圧管、２６Ａ・・・調整弁
、２３・・・差圧検出手段、２７・・・差圧調整手段、
２８・・・流量制御器。 手続補正書（０胴 昭和６１年 ３月２７日 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿 １、事件の表示 特願昭６０−１０８４１５号２、発明
の名称 熱処理装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 （５２９）古河電気工業株式会社 ４、代理人 東京都港区新橋４−３１−６ 支出ビル６階明細書の
「発明の詳細な説明」の欄 ６、補正の内容 明細書第９頁第１０行の「調整弁２６Ａ」を「調整弁２
６Ｂ」に訂正する。 以上
Claims (1)
- 被処理材を収容する炉芯管と、該炉芯管を包囲する加熱
炉と、前記炉芯管内にガスを供給する炉芯管ガス供給手
段と、前記加熱炉の炉体内にガスを供給する炉体ガス供
給手段と、前記炉芯管内と前記炉体内のガス圧の差圧を
検出する差圧検出手段と、前記差圧検出手段からの差圧
信号に基づいて前記炉芯管内のガス圧と前記炉体内のガ
ス圧との差圧が許容範囲内になるように調整する差圧調
整手段とから成る熱処理装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60108415A JPS61270231A (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | 熱処理装置 |
| US06/865,445 US4726764A (en) | 1985-05-22 | 1986-05-21 | Heat treating apparatus and method of operating heat treating apparatus |
| CA000509669A CA1290149C (en) | 1985-05-22 | 1986-05-21 | Heat treating apparatus and method of operating heat treating apparatus |
| CN86103451.1A CN1014232B (zh) | 1985-05-22 | 1986-05-21 | 热处理方法及其装置 |
| GB8612518A GB2175986B (en) | 1985-05-22 | 1986-05-22 | Heat treating apparatus and method of operating heat treating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60108415A JPS61270231A (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | 熱処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61270231A true JPS61270231A (ja) | 1986-11-29 |
Family
ID=14484178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60108415A Pending JPS61270231A (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | 熱処理装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4726764A (ja) |
| JP (1) | JPS61270231A (ja) |
| CN (1) | CN1014232B (ja) |
| CA (1) | CA1290149C (ja) |
| GB (1) | GB2175986B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6748766B2 (en) | 1999-08-26 | 2004-06-15 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Porous preform vitrification apparatus |
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Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6007330A (en) * | 1998-03-12 | 1999-12-28 | Cosmos Factory, Inc. | Liquid precursor delivery system |
| DE19939765C1 (de) * | 1999-08-21 | 2001-03-01 | Ald Vacuum Techn Ag | Einrichtung zum Entwachsen von Sintermaterial |
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| US20040173315A1 (en) * | 2003-03-04 | 2004-09-09 | Charles Leung | Apparatus and method for reducing impurities in a semiconductor material |
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| CN104236823A (zh) * | 2014-10-10 | 2014-12-24 | 慈溪市三洋电子有限公司 | 一种测试电机阀密封性能的装置 |
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| CN112645583A (zh) * | 2021-01-13 | 2021-04-13 | 烽火通信科技股份有限公司 | 一种光纤预制棒烧结炉炉内压力自动控制***及方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1985
- 1985-05-22 JP JP60108415A patent/JPS61270231A/ja active Pending
-
1986
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- 1986-05-22 GB GB8612518A patent/GB2175986B/en not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6748766B2 (en) | 1999-08-26 | 2004-06-15 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Porous preform vitrification apparatus |
| JP2017088458A (ja) * | 2015-11-13 | 2017-05-25 | 住友電気工業株式会社 | 多孔質ガラス母材の脱水焼結装置および脱水焼結方法 |
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