JPS61204829A

JPS61204829A - 磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JPS61204829A
Application number: JP4546185A
Authority: JP
Inventors: Toru Shimozawa; 下沢　徹; Shigeyo Miyamori; 宮森　薫代; Masaharu Nishimatsu; 西松　正治
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1985-03-07
Filing date: 1985-03-07
Publication date: 1986-09-10
Anticipated expiration: 2010-04-10
Also published as: JPH0731808B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■　発明の背景技術分野本発明は、磁気記録媒体用のベースフィルムと磁気記録
媒体に関するものである。　さらに詳しくは、特にコン
ピューター、ＯＡ機器、ビデオフロッピー等で用いられ
るテープ状もしくはディスク状の磁気記録媒体用のベー
スフィルムとそのペースフィルを用いた磁気記録媒体に
関する。

先行技術］ンピューター、ＯＡ機器等で用いられるテープ状もし
くはディスク状の磁気記録媒体は通常、ポリエステル等
の可とう性を有する樹脂基板をベースフィルムとし、こ
の上に磁性層、さらにはトップコート層等を設層して形
成される。

この際に、ベースフィルムとして用いられる可とう性基
板の表面粗度は最終製品の品質に大きな影響を及ぼし、
たとえばドロップアウト等の原因になる。　従って、可
とう性基板の表面粗度の値はきわめて厳しい値が要求さ
れるが、このような要求値を満足する基板のコストは非
常に高価なものになる。

また、可とう性基板の表面は、搬送ローラー等によって
ケズレ等のキズも発生しやすく、このような厳しい表面
粗度を保証していくには、部材受入れ、製造工程中等の
管理に要する工数も必要となってくる。

これらの要因が、必然的に製品のコストアップをまねく
結果となっている。

そのため、比較的に廉価で、表面粗度が大きく、そのま
まの状態では、通常実用に酎えないような可とう性基板
を、何らかの方法で使用可能にでき、しかも使用目的、
用途等に応じて任意に表面粗度を調整することができ、
さらにはこのように処理された表面はケズレ等のキズが
容易に発生しないという特性を有する磁気記録媒体用の
ベースフィルムおよびそのベースフィルムを用いた磁気
記録媒体が要望されている。

また、工程流動中に、はこり等の異物が静電気等により
基板上トに付着すると、ドロップアウト等の原因となる
ため、異物付着の防止対策も要望されている。

ＩＩ　　発明の目的本発明は、上記のような問題を解決するためのものであ
る。　より具体的には第１の発明の目的は、比較的、表
面粗度が大きく、そのままの状態では通常実用に耐えな
いような可とう性基板を、表面処理によって使用可能に
し、しかも使用目的、用途等に応じて任意に表面粗度を
調整することができ、さらには、このように処理された
表面ばケズレ等のキズが容易に発生しないという特性を
有する磁気記録媒体用のベースフィルムを提供すること
にあるまた、第２および第３の発明の目的は、第１の発明の目
的に加えて、さらに、工程流動中に、ホコリ等が静電気
等によりベースフィルム」−二に伯着するのを防ぎ、仕
上り製品の品質、特にドロップアウトの発生を防ぐ磁気
記録媒体用のベースフィルムを提供することにある。

第４の発明の目的は、第１の発明の目的に加え、接着性
をより一層向上させた磁気記録媒体用ベースフィルムを
提供することにある。

第５の発明の目的は、第１の発明の特性を有するベース
フィルムを用いた磁気記録媒体を提供することにある。

第６の目的は、第５の発明の目的に加え、接着性をより
一層向−１ニさせた磁気記録媒体を提供することにある
。

■　発明の開示このような目的は、下記の本発明によって達゛成される
。

すなわち第１の発明は、表面粗度Ｒ，−〇、０２ｍ戸以
」二の可とう性基板上に、重合性バインダーと平均粒径
５０〜１５００人の微粒子顔料とを含有する被覆層を有
することを特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルムで
ある。

第２の発明は、表面粗度粗度Ｒ２ＴＩ＝０．０２ｍ戸以
」−の可とう性基板上にに、被覆層を設層した磁気記録
媒体用ベースフィルムにおいて、上記被覆層が、重合性
バインダーと平均粒径５０〜１５００人の微粒子顔料と
潤滑剤とを含有することを特徴とする磁気記録媒体用ベ
ースフィルムである。

第３の発明は、表面粗度Ｒ２ｇ＝０．０２ｍｐｍ以上の
可とう性基板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベ
ースフィルムにおいて、上記被覆層が、重合性バインダ
ーと平均粒径５０〜１５００人の微粒子顔料と帯電防１
Ｆ剤とを含有することを特徴とする磁気記録媒体用ベー
スフィルムである。

第４の発明は、表面粗度Ｒ２ｇ＝０．０２ｍ４以上の可
とう性基板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベー
スフィルムにおいて、」−認可とう性基板表面がコロナ
放電処理されており、しかも上記被覆層が、重合性バイ
ンダーと平均粒径５０〜１５００人の微粒子顔料とを含
有することを特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルム
である。

第５の発明は、表面粗度Ｒ２０＝０．０２層−以上の可
とう性基板上に、設けられた被覆層と、この被覆層上に
設けられた磁気記録層とを有する磁気記録媒体において
、上記被覆層が、重合性バインダーと平均粒径５０〜１
５００人の微粒子顔料とを含有することを特徴とする磁
気記録媒体である。

第６の発明は、表面粗度Ｒ２ｏ＝０．０２ｍｇ以−トの
可とう性基板上に、設けられた被覆層と、この被覆層上
に設けられた磁気記録層とを有する磁気記録媒体におい
て、上認可とう性基板がコロナ放電処理されており、し
かも上記、被覆層が重合性バインダーと平均粒径５０〜
１５００人の微粒子顔料とを含有することを特徴とする
磁気記録媒体である。

■　発明の具体的構成以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

本発明の磁気記録媒体用ベースフィルムは、表面粗度Ｒ
２０＝０．０２ｍμｓ以上の可とう性基板と、この基板
上に設けられる被覆層とを有している。　さらにこの被
覆層は重合性バインダーと平均粒径５０〜１５００人の
微粒子顔料とを含有している。

さらに詳しく説明すると、基板は可とう性を有し、通常
ポリエステル樹脂、ポリイミド樹ｌ旨、ポリカーボネー
ト、ポリサルホン、ポリエチレンテレフタレート、芳香
族アラミドなどの樹脂材料によって形成される。　そし
て基板の表面粗度はＲ２０＝０．０２ｍ戸以りである。

表面粗度がＲ２ｇ＝０．０２ｍ−未満の基板では、表面
粗度を向上させるための表面処理の必要性がないからで
ある。

また、基板のコストはＲ２０＝０．０２　１１１μを界
にして、臨界的に著しく高くなるために、Ｒ２［ｌ＝０
．０２ｍ−未満の基板では容易に製品のコストダウンが
図れないからである。

ここでＲ２０の定義は、タリステップ（ＴＡＹＬＯＲ−ＨＯＢＳＯＮ社製）を用いてカットオ
フ０．１７ｍｍ、　制圧０．ＩＸ２．５−の条件で得た
チャートから、２０点平均法で求めた表面粗度の値であ
る。

この場合、Ｒ２［］が０．０２〜０．５０ｍ−の基板で
あると、本発明の効果は、より一層大きいものとなる。

そして、後述の被覆層を設けることにより、表面粗度は
３０％以上改良され、被覆層表面の表面粗度は、可とう
性基板表面の表面粗度の７０％以下となる。

このような基板の上には、被覆層が設層される。　被覆
層は、重合性バインダー中に微粒子顔料等を分散させた
ものを、基板上に塗布設層し、その後硬化させたもので
ある。

重合性バインダーは放射線硬化型化合物または熱硬化型
化合物を、架橋重合させたものであ１する。

用いる放射線硬化型化合物としては、二重結合数が２以
」−；望ましくは３以Ｉ−の反応性アクリルオリゴマー
またはオリゴアクリレ−！・が望ましい。

このアクリル系化合物の具体例として挙げられる例えば
アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルとしては
、多価アルコールのポリアクリレート類及びポリメタク
リレート類（ここで「ポリ」とはジアクリレート以上を
指す。）がある。

多価アルコールとしては、ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレンオキサイド、ポリブチレンオキサイド、ポ
リシクロヘキセンオキサイド、ポリエチレンオキサイド
、プロピレンオキサイド、ポリスチレンオキサイド、ポ
リオキセタン、ポリテトラヒドロフラン、シクロヘキサ
ンジオール、キシリレンジオール、ジー（β−ヒドロキ
シエトキシ）ベンゼン、グリセリン、ジグリセリン、ネ
オペンサルギリコール、トリメチロールプロパン、トリ
エチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタ
エリスリトール、ソルビタン、ソルビト−ル、ブタンジ
オール、ブタントリオール、２−ブテン−１゜４−ジオ
ール、２−ｎ−ブチル−２−エチル−プロパンジオール
、２−ブチン−１，４−ジオール、３−クロル−１，２
−プロパノジオール、１．４−シクロヘキサンジメタツ
ール、３−シクロヘキセン−１，ｍμｍジメタツール、
デカリンジオール、２，３−ジブニムー２−ブテンー１
．４−ジオール、２．２−ジエチル−１，３、プロパン
ジオール、１，５−ジヒドロキシ−１，２，３，４−テ
トラヒドロナフタレン、２．５−ジメチル−２，５−ヘ
キサンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパン
ジオール、２，２−ジフェニル−１，３−プロパンジオ
ール、ドデカンジオール、メゾエリスリトール、２−エ
チル−１，３−ヘキサンジオール、２−エチル−２−（
ヒドロキシメチ７Ｌｚ）−１，−３−プロパンジオール
、２−エチル−２−メチル−１，３−プロパンジオール
、ヘプタンジオール、ヘキサンジオール、３−ヘキセン
−２，５−ジオール、ヒドロキシベンジルアルコール、
ヒドロキシエチルレゾルシノール、２−メチル−１，４
−ブタンジオール、２−メチル−２，４−ベンタンジオ
ール、ノナンジオール、オクタンジオール、ベンタンジ
オール、■−フェニルー１，２−エンタンジオール、プ
ロパンジオール、２，２，４．４−テトラメチル−１，
３−シクロブタンジオール、２．３，５．６−テトラメ
チル−ｐ−キシレン−α、α′−ジオール、１，１，４
．４−テトラフェニル−１，４−ブタンジオール、１゜
１．４．４−テトラフェニル−２−ブチン−１，４−ジ
オール、ｌ、　２　、６−　ｈリヒドロキシヘキサン、
１．１′−ビー２−ナフトール、ジヒドロキシナフタレ
ン、１　、１′　−メチレンジー２−ナフトール、１，
２．４−ベンゼントリオール、ビフニノール、２．２′
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、ｌ、ｍμｍ
ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス
（ヒドロキシフェニル）メタン、カテコール、４−クロ
ルレゾルシノール、３．４−ジヒドロキシハイドロシン
ナミックアシッド、ハイドロキノン、ヒドロキシベンジ
ルアルコール、メチルハイドロキノン、メチル−２，４
，６−トリヒドロキシペンゾエート、フロログルシノー
ル、ヒロガロール、レゾルシノール、グルコース、α−
（ｍμｍアミノエチル）−ｐ−ヒドロキシベンジルアル
コール、２−アミノ−２−エチル−１，３−プロパンジ
オール、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジ
オール、３−アミノ−１，２−プロパンジオール、Ｎ−
（３−アミノプロピル）−ジェタノールアミン、Ｎ　、
　Ｎ’　−ビス−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン
、２．２−ビス（ヒドロキシメチル）、２．２’、２”
−ニトリロトリエタノール、２．２−ビス（ヒドロキシ
メチル）プロピオニックアシッド、１．３−ビス（ヒド
ロキシメチル）ウレア、１，２−ビス（４−ピリジル）
−１，２−エタンジオール、Ｎ−ｎ−ブチルジェタノー
ルアミン、ジェタノールアミン、Ｎ−エチルジェタノー
ルアミン、３−メルカプｌ−−１、２−プロパンジオー
ル、３−ピペリジノ−１，２−プロパンジオール、２−
（２−ピリジル）−１，３−プロパンジオール、トリエ
タノールアミン、α−（ｍμｍアミノエチル）−ｐ−ヒ
ドロキシベンジルアルコール、３−アミノ−４］ヒドロ
キシフエニル、スルホンなどがある。

これらのアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステ
ル類のうち好ましいものは１．その入手の容易さから、
エチレンジメタクリレート、エチレングリコールジアク
リレ−１・、ジエチレングリコールジメタクリレート、
ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、ペンタエリスリト−ルジメ
タクリレ−１・、ジペンタエリスリＩ・−ルペンタアク
リレート、グリセリントリアクリレート、ジグリセリン
ジメタクリレート、ｌ。

３−プロパンジオールアクリレ−１・、■、２゜４−ブ
タントリオールトリメタクリレート、１．４−シクロヘ
キサンジオールジアクリレート、１．５−ベンタンジオ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、エチレンオキサイド伺加したトリメチロールプ
ロパンのトリアクリル酸エステル等である。

またアクリル系化合物として使用可能なアクリルアミド
類及びメタクリルアミド類としては、メチレンビスアク
リルアミド、メチレンビスメタクリルアミドのほか、エ
チレンジアミン、ジアミノプロパン、ジアミノブタン、
ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレン、ビス（２−
アミノプロピル）アミン、ジエチレントリアミンジアミ
ン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン
、異種原子により中断ぎれたポリアミン、環を有するポ
リアミン〔例えばフェニレンジアミン、キシリレンジア
ミン、β−（４−アミノフェニル）エチルアミン、ジア
ミノベンゾイックアシッド、ジアミノトルエン、ジアミ
ノアントラキノン、ジアミノフルオレンなど〕のポリア
クリルアミド及びポリメタクリルアミドがある。

また、Ｎ−β−ヒドロキシエチル−β−（メタクリルア
ミド）エチルアクリレート、Ｎ、Ｎ−ビス（β−メタク
リロキシエチル）アクリルアミド、アリルメタクリレー
トなどの如く、異なった付加重合性不飽和結合を２つ以
上有する化合物もアクリル系化合物として好適である。

更に、アクリル系化合物として使用可能なものとして、
トリメチロールプロパンモノアクリレートとヘキサンジ
オールとアジピン酸との反応によって得られる各種重合
度のポリエステル強重合体がある。　この場合、トリメ
チロールプロパンモノアクリレートに換えて、ペンタエ
リスリトール等の脂肪族ポリオールのジアクリレートや
、脂環式ジグリシジルエーテルのジアクリレート等を使
用してよい。　またヘキサンジオールに換えて、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール、１．３−プロパ
ンジオ−ル、１．４−ブタンジオール、１．５−ベンタ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリ
コール、ジプロピレングリコール、２．２．４−トリメ
チル−１，３−ベンタンジオール、■、４−シクロヘキ
サンジメタツール、ビスフェノールＡのエチレンオキシ
ド付加物およびプロピレンオキシド付加物、水素化ビス
フェノールＡのエチレンオキシド付加物およびプロピレ
ンオキシド付加物、ポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等を
使用してよい。

トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリ
セリン、ペンタエリスリトール等の１・り及びテトラオ
ールを少量併用してよい。　更にアジピン酸に換えて、
テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、１，５
−ナフタル酸等の芳香族ジカルボン酸；ｐ−オキシ安息
香酸、ｐ−（ヒドロキシエトキシ）安息香酸等の芳香族
オキシカルボン酸；コハク酸、アゼライン酸、セバシン
酸、ドデカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸等を
使用してよい。　この場合、芳香族カルボン酸と脂肪族
カルボン酸とを併用するときには、それらのモル比は５
０１５０〜１００１０であり、芳香族カルボン酸の少な
くとも３０モル％がテレフタル酸であることが望ましい
。　　ｌ・リメリッｌ−ｍ、トリメシン酸、ピロメリッ
ト酸等のトリ及びテトラカルボン醇を少量併用してよい
。　なおアジピン酸等の酸成分はトリレンジイソシアネ
ート等の芳香族又は脂肪族のジイソシアネートと置換え
てポリウレタンとしてもよい。　才だ上記アクリレート
とポリオールとの割合は、モル比で、アクリレートがモ
ノアクリレートの場合は８０／２０〜１０／９０、アク
リレートがジアクリレートの場合は４０／６０〜５／９
５であるのが望ましい。

これらの放射線感応性化合物は、具体的には柔軟性およ
び接着性向上のためにポリウレタン、ポリエステル、ゴ
ム系（例えばＡＢ）等の熱可塑性樹脂と混合されて使用
されてよい。

この熱可塑性樹脂はアクリル変性（二重結合が導入）さ
れていてもよいし、そうでなくてもよい。　また、上記
放射線感応性化合物のうち、活性水素基（例えば、−０
ＨｍμｍＣＯＯＨｌ−ＮＨ２）を有するものは、官能基
のある熱可塑性樹脂例えば、末端に一〇ＣＮ、−ＯＨ等
を有するポリウレタン又は末端に−ＯＨを有するポリエ
ステル又はアクリロニトリル−ブタジェン系ポリマーと
反応させ、この反応生成物を使用してよい。

」−述のアクリル系化合物、または上記反応生成物を用
いる場合、いずれの場合もアクリル系二重結合１個当り
の分子量は２００〜２０．０００であるのが望ましい。　即　ち　、分子量
が２００未満であると、架橋反応の進行が速くなりすぎ
て硬くて脆い塗膜となり、接着等の面で問題がある。　
また、分子量が２０．０００を越えると、三次元網目構
造を充分に成長させ難くなる゛。

用いる放射線硬化型化合物の例としては、以下のような
ものがある。

■　イソシアネート基と反応性を有する基を有する（メ
タ）アクリルエステル単量体とポリイソシアネート化合
物との反応生成物２モル以」−と、分子中に２個以上の
水酸基を有する化合物１モルとの反応生成物あるいはこ
れ等３者の反応性を変えて得られた反応生成物、例えばプロピレングリコールにフロピレンオキサイドを
付加した二官能性のポリエーテル（アテ力ホリエーテル
Ｐ−１０００旭電化社製）１モルにＩ・ルエンジイソシ
アネート２モルを反応させ、その後２モルの２−ヒドロ
キシエチルメタクリレートを反応させ得た分子末端にア
クリル系二重結合を２個有する樹脂、フレホリマー、オ
リゴマーもしくはテロマーを挙げることができる。

ここで、使用される水酸基を１個以上含有する化合物と
しては、アデカポリエーテルＰ−７００、アデカボリエ
ーテルＰ−１０００、アクリルエステルＧ−１５００（
以上旭電化社製）、ポリメグｔｏｏｏ、ポリメグ６５０
　（以」ニクオーカー・コーラ社製）等の多官能性ポリ
エーテル類；ニトロセルローズ、アセチルセルローズ、
エチルセルローズの様な繊維素誘導体；ビニライト■Ａ
ＧＨ（米国ユニオンカーバイド社製）の様な水酸基を有
する一部ケン化された塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
；ポリビニルアルコール；ポリビニルホルマール：ポリ
ビニルブチラール；ポリカプロラクトンＰＣＰ−０２０
０、ポリカプロラクトンＰＣＰ−０２４０、ポリカプロ
ラクトンＰＣＰ−０３００（以上チッソ社製）等の多官
能性ポリエステルポリオール類；フタル酸、イソフタル
酸、テ１／フタル酸、アジピン酸、コハク酸、セパチン
酸のような飽和多塩基酸とエチレングリコール、ジエチ
レングリコール、１．４−ブタンジオール、１．３−ブ
タンジオール、１．２−プロピレングリコール、ジプロ
ピレングリコール、１．６−ヘキサングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールフロ
パン、ペンタエリスリットのような多価アルコールとの
エステル結合により得られる飽和ポリエステル樹脂；水
酸基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエス
テルを少なくとも一種以上重合成分として含むアクリル
系重合体を挙げることができる。

また、ここで使用されるポリイソシアネート化合物とし
ては、２．４−）ルエンジインシアネート、２．６−）
ルエンジイソシアネ−１・、１，４−キシレンジイソシ
アネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ　−フ
ェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、インオロンジイソシアネ−１・やデスモジュー
ルＬ、デスモジュールＩＬ（西ドイツ　バイエル社製）
等がある。

インシアネート基、と反応する基および放射線硬化性不
飽和二重結合を有する単量体としては、アクリル酸ある
いはメタクリル酸の２−ヒドロギシエチルエステル、２
−ヒドロキシプロピルエステル、２−ヒドロキシオクチ
ルエステル等水酸基を有するエステル類；アクリルアマ
イド、メタクリルアマイド、Ｎ−メチロールアクリルア
マイド等のインシアネート基と反応する活性水素を持ち
かつアクリル系二重結合を含有する単量体；更に、アリ
ルアルコール、マレイン酸多価アルコールエステル化合
物、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノあるいは
ジグリセリド等インシアネート基と反応する活性水素を
持ちかつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合を含有す
る単量体も含まれる。

ＩＩ　　分子中にエポキシ基を２個以上含む化合物１分
子と、エポキシ基と反応する基および電子線硬化性不飽
和二重結合を有する単量体２分子以−ｍμｍとの反応物
、例えば、グリシジルアクリレ−１・をラジカル重合さ
せて得たエポキシ基を含有する熱可塑性樹脂にアクリル
酸を反応させ、カルボキシル基とエポキシ基との開環反
応により１分子中にアクリル系二重結合をベンタクトさ
せた樹脂、プレポリマーもしくはオリゴマーを挙げるこ
とができる。

ここで分子中にエポキシ基を２酸以−ヒ含む化合物とし
ては、グリシジルアクリレ−１・、グリシジルメタクリ
レートの如きエポキシ基を含むアクリルエステルあるい
はメタクリルエステル７のホモポリマーあるいは他の重
合性モノマーとの共重合体；エピコート８２８、エピコ
ート１００１、エピコートｊｏ０７、エピコート１００
９（以上シェル化学社製）等その他種々のタイプのエポ
キシ樹脂等がある。

エポキシ基と反応する基および放射線硬化性不飽和二重
結合を有する単量体としてはアクリル酸、メタクリル酸
等のカルボキシル基を含有するアクリル系単品体、メチ
ルアミノエチルアクリレート、メチルアミノメタクリレ
ート等の第１級もしくは第２級アミノ基を有するアクリ
ル単量体等が使用できる。

■　分子中にカルボキシル基を１個以上含む化合物１分
子とカルボキシル基と反応する基および放射線硬化性不
飽和二重結合を有する単量体１分子以上との反応物、例
えばメタクリル酸を溶液重合させて得たカルボキシル基
を含有する熱可塑性樹脂にグリシジルメタクリレートを
反応させ、第１Ｔ項と同様にカルボキシル基とエポキシ
基の開環反応により分子中にアクリル系二重結合を導入
させた樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げることが
できる。

分子中にカルボキシル基を１個以上含む化合物としては
、分子鎖中または分子末端にカルボキシル基を含むポリ
エステル類；アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン
酸、フマル酸等のラジカル重合性を持ち、かつカルボキ
シル基を有する単量体のホモポリマーあるいは他の重合
性モノマーとの共重合体等である。

カルボキシル基と反応する基および放射線硬化性不飽和
二重結合を有する単量体としてはグリシジルアクリレ−
）・、グリシジルメタクリレート等がある。

熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、塗布液の状態
では２０００００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、伺加等の反応により分子量
は無限大のものとなる。　また、これらの樹脂のなかで
、樹脂が熱分解するまでの間に軟化または溶融しないも
のが好ましい。

具体的には、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン軟化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アル
キッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポ
キシーボリアミト樹脂、ニトロセルロースメラミン樹脂
、高分子壁ポリエステル樹脂とインシアネートプレポリ
マーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネ
ートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールと
ポリイソシアネー）・の混合物、尿素ホルムアルデヒド
樹脂、低分子量グリコール／高分子ジオール／トリフェ
ニルメタントリインシアネートの混合物、ポリアミン樹
脂およびこれらの混合物である。

特に好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレタ
ンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）、ある
いは塩化ビニル−酢酪ビニルービニルアルコール共重合
体（カルボン酸導入のものも含む）、またはアクリル変
性塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（カルボン酸導入のものも含む）およびウレタンアクリ
レートからなる放射線硬化系樹脂からなるものであり、
放射線硬化系樹脂については前記の好ましい組合わせの
外に、ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すア
クリル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化
合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレート
のようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘
導体等の不飽和結合等の、放射線照射による架橋あるい
は重合乾燥する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または
導入した樹脂等を用いることができる。

その他、使用可能なバインダー成分としては、単量体と
してアクリル酸、メタクリル酸アクリルアミド等がある
。　二重結合のあるノくイングーとしては、種々のポリ
エステル、ポリオール、ポリウレタン等をアクリル二重
結合を有する化合物で変性することもできる。　さらに
、必要に応じて多価アルコールと多価カルボン酸を配合
することによって種々の分子量のものもできる。　放射
線感応樹脂として上記のものはその一部であり、これら
は混合して用いることもできる。

このような重合性バインダー中には微粒子顔料が添加・
分散される。

用いる微粒子顔料としては、通常コロイド粒子として知
られているものであって、例えば５ｉ０２（コロイダル
シリカ）、Ａ文２０３（アリミナゾル）　、ＭｇＯ，Ｔ
　ｉ　０２、Ｃｒ２０３　、Ｙ２０３　、ＣｅＯ２，５
ｎ０２、Ｓ　ｂ２０５　、Ｚ　ｎｏ、Ｆｅ２０３、Ｆ　
ｅ３０４　、Ｃｅ０２ジルコニア、ＺｎＯ１ＺｎＳ　ｉ
０４　、ＣｄＯ，Ｎｉｐ、ＣａＷＯ４、ＣａＣＯ３、Ｂ
ａＣＯ３、ＣｏＣＯ３、“ＢａＴｉＯ３、Ｔｉ　　（チ
タンブラック）、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｆｅ、各種
ヒドロシルや、樹脂粒子等が使用可能である。　この場
合、特に無機物質を用いるのが好ましい。

また、タルク、カオリン、ＣａＳＯ４，窒化硼素、テフ
ロン粉末、フッ化黒鉛、二硫化モリブデン、ジルコニア
、Ｃａ５ｉ０２．アスベスト、チタンホワイト、ホワイ
トカーボン、クロムイエロー、オイルイエロー、オイル
ブルー、オイルレッドなどのものであってもよい。

これら微粒子は、例えば５ｉ０２の場合、■無水珪酸の
超微粒子コロイド溶液（スノーテックス、水系、メタノ
ールシリカゾル、日産化学） ■精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子
状無水シリカ（標準品１００人）（アエロジル、日本ア
エロジル株式会社）などが挙げられる。　また前記■の
超微粒子コロイド溶液および■と同様の気相法で製造さ
れる超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに酸化チタン
および前述微粒子顔料が使用され得る。

このような微粒子は、各種溶媒を用いて塗布液とし、こ
れを基板状に塗布、乾燥してもよく、あるいは塗布液中
に各種水性エマルジョン等の樹脂分を添加したものを塗
布乾燥してもよい。

なお、これらの微粒子顔料は必ずしも１種ずつ使用する
とは限らず、２種、３種とする場合もある。

そして、この微粒子顔料の平均粒径は５０〜１５００人
であり、より好ましくは、５０〜１０００人である。さ
らにより好ましくは８０〜５００人である。

平均粒径が５０人未満になると安定に基板上に固着でき
ず、被覆層にスジが発生しやすく、またガイドローラー
に付着したりするとし＼う不都合が生じ、１５００人を
こえると表面粗度が悪く、電磁変換特性に悪影響を及ぼ
すという不都合を生じる。

このような微粒子顔料の平均配設密度は１０４〜ｌＯ９
個／ｍｍ２テあり、より好ましくはｌＯ４〜ｌＯ７個／
ｆｆ１ｍ２テある。

゛　　　この平均配設密度が１０４個／■２未満である
と、被覆層の耐摩耗性が悪く、ケズレが発生しやすく１
０９個／ｍｍ２をこえると被覆層がもろくなるという欠
点がある。

さらにバインダー中には、微粒子顔料のほかに、潤滑剤
、帯電防止剤を添加してもよい。

バインダー中に潤滑剤を添加することにより、被覆層上
の摩擦抵抗を下げることができ、搬送工程中でのベース
フィルム表面のケズレおよびホコリ等の異物付着を防１
１二するのに特に有効である。

潤滑剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸
、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸
、ステアロール酸等の炭素数１２以」−の脂：［ガ酸（
ＲＣＯＯＨｌＲは炭素数１１以上のアル」１し基）；前
記の脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、に等）または
アルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）から成る金属
石鹸；レシチン等が使用される。

この他に炭素数１２以」二の高級アルコール、およびこ
れらの硫酸エステル、界面活性剤、チタンカップリング
剤、シランカップリング剤等も使用可能である。

これらの潤滑剤（分散剤）はバインダー１００重量部に
対して０．１〜２５重量部の範囲で添加される。

潤滑剤としては上記の他にシリコーンオイル、フッ素オ
イル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性剤、グラ
ファイト、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、炭
素数１２〜１６個の一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個
の一価のアルコールからなる脂肪酸エステル類、炭素数
１７個測具］二の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と
合計して炭素数が２１〜２３個より成る一価のアルコー
ルとか４成る脂肪酸エステル等が使用される。

シリコーンとしては、脂肪酸変性によりなるもの、一部
フッ素変性されているものが使用される。

アルコールとしては高級アルコールよりなるもの、フッ
素としては電解置換、テロメリゼーション、オリゴメリ
ゼーション等によって得られるものが使用される。

潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。

放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＲ１ＣＨ３管ＣＨ２＝Ｃ−Ｃ００Ｒ１ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２Ｃ００Ｒ１ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２０ＣＯＲ１ＣＨ２０ＣＯＣ
Ｈ＝ＣＨ２ＨＯＣＯＲＣＨ２０ＣＯＲ１ＲＣＯＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＨ３ ■ ＲＣＯＯＣ＝ＣＨ２、ＲＣＯＯＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２等で、ここでＲは直鎖又
は分子状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で炭素数は７
以上、好ましくは１２以」二２３以下であり、これらは
弗素置換体とすることもできる。　弗素置換体としてはＣｎ　Ｆ　２ｎ＋ｍμｍ１ＣｎＦ　　　　（’ＣＨ２）
２ｎ＋１畳−（但し、ｍ＝１〜５）、１・パＣｎＦ　　　　　３０２　　ＮＣ）（２ＣＨ２−，２ｎ
＋１ＣＨ＝ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２−、等がある。

これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセリンのメタクリレ−１・（アクリレート）、グリコ
ールのメタクリレート　（アクリレート）、シリコーン
のメタクリレート（アクリレート）等が挙げられる。

さらにバインダー中に帯電防止剤を添加することによっ
て、搬送中に、ベースフィルム上に静電気が発生するの
を防ぐことができる。　そのため、工程流動中に静電気
によるベースフィルム上のゴミφホコリ等の異物付着は
なくなる。　これらの処理によりドロップアウトの発生
を抑えることができる。

帯電時１Ｌ剤としては、界面滑性剤を用いることが好ま
しい。

帯電時Ｉ（二剤としての界面滑性剤は、アニオン型とし
て、脂肪酸石鹸、エーテルカルボン酸およびその塩（高
級）脂肪酸とアミノ酸の結合物等のカルボン酸塩類、（
高級）アルコール硫酸エステル塩、アルキルおよびアル
キルアリルエーテル硫酸エステル塩、（高級）脂肪酸エ
ステルの硫酸エステル塩、（高級）脂肪酸アルキロール
アミドの硫酸エステル塩等の硫酸誘導体、りん塩アルギ
ル塩（高級）アルコールよりなるアルキルりん酸エステ
ル塩、りん酸アミド塩、（高級）アルコールよりなるア
ルコールりん酸エステル、天然界面活性剤としてレシチ
ン、ケファリン等のりん酸誘導体、ペンタアルキルポリ
ホスフェート、ヘキサアルキルテトラポリホスフェート
、ジアルキルホスホン酸、（高級）アルキルスルホン酸
塩、α−オレフィンスルホン酸塩、（高級）脂肪酸エス
テルのスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩（高
級）脂肪酸アミドのスルホン酸塩等のスルホン酸等であ
る。

またカチオン型として、アルキルアミン塩、ポリアミン
およびアミノアルコール脂肪酸誘導体等のアミン類、ア
ルキル４級アンモニラ１、用、アルキルトリメチルアン
モニウム塩、アルキルアミド４級アンモニウム塩、ジア
ルキルジメチルアンモニウム塩、アルキルジメチルベン
ジルアンモニウム塩、環式４級アンモニウム塩、エーテ
ル結合を有する４級アンモニウム塩等の第４級アンモニ
ウム塩、エーテル結合を有する４級アンモニウム塩等の
第４級アンモニウム塩類、イミダシリン、ポリオキシエ
チレン（１加リン酸塩等のイミダシリン、ポリオキシエ
チレンアルキルアミン、アルキルアミン、アルキルアミ
ンオキシド等のアミン酸化エチレン付加体、フィチン酸
第４級等である。

ノニオン型どして、アルキルエーテル、ポリエチレング
リコール等の多価アルコール類、ポリオキシソルビタン
脂肪酸エステル、ポリオキジエチレングリセリン脂肪酸
エステル、ポリオキシエチレンプロピレングリコール七
）脂肪酸エステル等の多価アルコールエステル類、ポリ
オキシエチレンアルキルフェニルエーテルアルキルフェ
ノールホルマリン縮合物の酸化エチレンＭ　導体等のア
ルキルフェノール酸化エチレン付加体、ポリオキシエチ
レン脂肪酸エステル、（高級）脂肪酸グリセリンエステ
ル、ソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル
、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル等の脂肪酸化エ
チレン伺加体、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、等の
アミド酸化エチレン付加体、トリエタノールアミン脂肪
酸部分エステル等のアミン酸化エチレン付加体、アルキ
ロールアミド等のアミド等である。

両性型として、アミノ酸型、ベタイン型等のカルボン酸
類、スルホン酸型等のスルホン酸類、アミド型金属用等
の金属塩類、アルキルベタイン、アルキルアミドベタイ
ンイミダツリウムベタイン等のアルキルベタイン類等で
ある。

界面活性剤の量としては樹脂に対し１重量部以上でない
とバック層の帯電防止効果がなく、２０重量部以上にす
ると、表面へのにじみだしが出るため望ましくない。

また、これらの界面活性剤として末端にアクリル系二重
結合を付加してＣＨ３ＣＨ２＝Ｃ−ＣＯＯＣＨ２ＳＯ３Ｈ１Ｉのようにしたものを用いたり、潤滑剤としてやはり、末
端にアクリル二重結合を付加することによってＣＨ２＝ＣＨＣ０ＯＲ、ｃ）ｌ、、　＝ＣＩＧＯＮＣＨ
２０ＧＯＲ（ＲはＣｎＨ−、ＣｎＨ等でよい）２ｎ＋１　　　　２ｎ−１などを用いることによって、アクリル系二重結合が放射
線の照射処理によってラジカルを発生し、バインダー成
分に生じたラジカルと反応して強固に結合し、表面性が
一層優れ、電磁特性も向上する。　また、塗布溶媒とし
ては特に制限はないが、バインダーの溶解性および相溶
性等を考慮して適宜選択される。　例えば、アセトン、
メチメエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、イ
ンプロパツール、ブタノール等のアルコール類、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、
イソプロピルエーテル、エチルエーテル、ジオキサン等
のエーテル類、テトラヒドロフラン、フルフラール等の
フラン類等を単一溶剤またはこれらの混合溶剤として用
いられる。

以上、述べたように、重合性化合物中に微粒子顔料等の
添加剤を加えてさらに必要に応じ溶媒を加えて混合・分
散した組成物を、グラビアコート、リバースロールコー
ト、エアーナイフコート、エアードクターコート、ブレ
ードコート、キスコート、スプレイコ−１・等を用いて
基板上に塗布する。　その後、バインダーを架橋重合さ
せて固化Ｓせる。

重合性バインダーとして放射線硬化型化合物を用いた場
合、その架橋に使用する活性エネルギー線としては、放
射線加速器を線源とした電子線、Ｃｏ６０を線源とした
γ−線、５ｒ９０を線源としたβ−線、Ｘ線発生器を線
源としたＸ線あるいは紫外線等が使用される。

特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。

上記被覆層を硬化する際に使用する放射線特性としては
、透過力の面から加速電圧ｌＯＯ〜７５０ＫＶ、好マシ
くは１５０〜３００ＫＶ（７）放射線加速器を用い吸収
線量を０．５〜１０メ労ラツドになるように照射するの
が好都合である。

本発明の放射線硬化に際しては、米国エナージーサイエ
ンス社にて製造されている低線量りＣ１□ イブの放射線加速器（エレクトロカーテンシステム）等
がテープコーティング加エラインへの導入、加速器内部
の２次Ｘ線の遮蔽等に極めて有利である。

勿論、従来より放射線加速材として広く活用されている
ところのファンデグラフ型加速器を使用してもよい。

また放射線架橋に際しては、Ｎ２ガス、Ｈｅガス等の不
活性ガス気流中で放射線を被覆層に照射することが重要
であり、空気中で放射線を照射することは、バインダー
成分の架橋に際し放射線照射により生じた０３等の影響
でポリマー中に生じたラジカルが有利に架橋反応に働く
ことを阻害するので極めて不利である。

従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は、
特に酸素濃度が最大で５％である、Ｎ２　、Ｈｅ、ＣＯ
２等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。

本発明の被覆層には光重合増感剤を加えることにより紫
外線硬化を行なうこともできる。

このような光重合増感剤としては従来公知のものでよく
、例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシ
ベンゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセト
フェノン、アセトフェノン、ビスジアルキルアミノベン
ゾフェノン等のケトン類、アントラキノン、フエナント
ラキノン等のキノン類、ベンジルジスルフィド、テトラ
メチルチウラムモノスルフィド等のスルフィド類、等を
挙げることができる。

光重合増感剤は樹脂固形分に対し、０．１〜１０重量％
の範囲が望ましい。

本発明では、放射線硬化性バインダーを用いた時は、巻
きしまりによる電磁変換特性の劣化やポットライフの低
下が少ない等の点で有利である。

なお、重合性バインダーとして熱硬化型化合物を用いた
場合は、公知の種々の加熱装置および加熱室を用いて、
架橋重合させればよい。

このようにして設層された被覆層の厚さは２０〜２００
００人であり、より好ましくは４０〜１００００人さら
により好ましくは、４０〜６０００人である。　２０人
未満では本発明の実効がなく、２００００人をこえると
被覆層がもろくなるからである。

そして、このような被覆層と基板とからなる磁気記録媒
体用ベースフィルムの被覆層の上には、通常、ａ−Ｆ　
Ｃ２０３、Ｆ　Ｃ３０４、ＣＯドープａ−Ｆｅ２　０３
　、Ｃｏドープα−Ｆｅ２０３−Ｆｅ３０４固溶体、Ｃ
ｒ　Ｏ２、ＣＯ系化合物被着型ａ−Ｆｅ２０３　、Ｃｏ
系化合物被着型Ｆｅ３Ｏ４、（ｙ−Ｆｅ２０３との中間
酸化状態も含む。　又ここで言うＣｏ系化合物とは、酸
化コバルト、水酸化コバルト、コバルトフェライト、コ
バルトイオン吸着物等コバルト磁気異方性を保持力向上
に活用する場合をいう。）等の磁性体微粉末とバインダ
ーを主成分とする磁気記録層あるいはＣｏ、Ｆｅ−Ｃｏ
、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｇｏ−Ｎｉ等の強磁性金属元素と
バインダーを特徴とする特許記録層が設層されて、磁気
記録媒体が形成される。

バインダーとしては、熱硬化性、放射線硬化性のバイン
ダーのいずれを用いてもよい。

なお用いるこれらの磁性体微粉末の製法としては、ＢＩ
３等の還元剤による湿式還元法や酸化鉄表面をＳｉ化合
物で処理後Ｈ２ガス等により、乾式還元法により、ある
いは低圧アルゴンガス気流中で真空蒸発させることによ
って得られる手法等があげられる。

また、上述したような磁性体微粉末の他に単結晶バリウ
ムフェライト微粉末あるいはバリウムフェライトのバリ
ウム、鉄の一部をＣｕ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎｉ、その
他金属で置換したものを用いることもできる。

これらは、セラミック法、ガラス化結晶化法、水熱合成
法、共沈焼成法等を用いて製造される。

以−ｍμｍの磁性体微粒子は、針状形態、粒状形態、あ
るいは多面体状のものを使用し、磁気記録媒体として用
いる用途によって選択される。

さらに、磁気記録層はＣ０１ＣｏＮｉ、ＣｏＣｒ、Ｃｏ
ｄ、ＣｏＮ１Ｐ等の蒸着膜、スパッタ膜、メッキ膜等で
あってもよい。

可とう性基板の表面には、コロナ放電処理、プラズマ処
理、スパッタ処理等の処理を行うことが好ましい。

特にコロナ放電処理は好ましく、コロナ放電処理を行う
ことにより、上記基板のケズケ防止および接着強度を向
」ニさせることができる。

コロナ放電は、気体放電の１種であり、不平等電解によ
って部分的に持続放電が起きている状態である。

コロナ放電の条件は通常のものでよい。

また、磁気記録層の」−やベースフィルムの表面には、
公知のｉ々のトップコ−１・層、バックコート層を形成
することもできる。

■　発明の具体的作用効果本発明のベースフィルムおよび磁気記録媒体は、コンピ
ューター、Ｏ，Ａｉａ器等で用いられるテープ状もしく
はディスク状の磁気記録媒体用のベースフィルムおよび
磁気記録媒体として用いられる。

第１の発明のベースフィルムは、表面粗度Ｒ２ｇ＝０．
０２ｍμｍ以上の可とう性基板と、この基板上に設けら
れた被覆層とによって形成されており、しかもこの被覆
層は、重合性バインダーと平均粒径５０〜１５００人の
微粒子を含有している。

このようなベースフィルムを用いることによって、表面
粗度を任意に調整することができ、表面のケズレ等のキ
ズの発生を防止し、低源でしかもドロップアウト等がき
わめて少ない品質の安定した磁気記録媒体が得られる。

さらに加えて、その他の製品品質の向上、特に接着性、
ヘッドタッチ性および耐溶剤性等の、　　向−Ｌを図る
ことができる。

また第２および第３の発明は、上記第１の発明の被覆層
の組成成分に加えて、潤滑剤および帯電防止剤のうち少
なくとも一種を含む。　このため第１の発明の効果に加
えて、搬送工程中でのベースフィルム表面のケズレを防
止し、さらにホコリ等の異物が静電気によりベースフィ
ルム上に付着するのを防ぎ、仕−］ニリ製品の品質、特
にドロップアウトの発生を防ぐことができる。

第４の発明は、上記第１の発明の効果のうち、コロナ放
電処理によって、特に接着性をより一層、良好にしたも
のである。

第５の発明は、」−品温１の発明の効果を有するベース
フィルムを用いた磁気記録媒体であり、特にドロップア
ウト等の発生を防止することができる。

第６の発明は、上記第５の発明の効果のうち、コロナ放
電処理によって、特に接着性をより一層良好にしたもの
である。

■　発明の具体的実施例以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。

実施例１（１）被覆層の形成ＬＴＬＪＬＸ（放射線硬化型化合　　　重量部物バイン
ダー）微粒子顔料コロイダル５ｉ０２　　　　０．’０５平均粒径５００
人重合性バインダーフェノキシアクリレート変性体６０公子量３００００　　　（固形分換算）カプロラクタム
　　　　　　　　４０分子ｉ１’ｏｏｏ　　　　（固形分換算）混合溶剤ＭＥＫ／ｌ・ルエンー１／１　　１０００−ｍμｍ記混
合物を攪拌機中で１詩間分散させ、表１に示される表面
粗度および厚さを有するポリエチレンテレフタレートの
基板上に、乾燥厚１０００人になるようにグラビ゛アコ
ートシ、その後カレンダ加工を行い、エレクトロカーテ
ンタイプ電子線加速装置を用いて加速電圧１５０ＫｅＶ
、電極型ＩＩｔｌＯｍＡ、吸収線量３Ｍｔａｄ、Ｎ２ガ
ス中で電子線を被覆層に照射した。

なお、被覆層形成後のバインダー中に分散した微粒子顔
料の平均配設密度および被覆層の表面粗度は表１に示さ
れているとおりであった。

ＩＬＩ（放射線硬化型　　　　　重置部化合物バインダ
ー）微粒子顔料コロイダルＳ＋０２平均粒径２５０人　　　　　　０，１重合性バインダーアクリル変性ポリウレタンエラスＩ・マー　　　　　　　　ｌＯ分子昂４０００　　　　（固形分換算）アクリル変性ポ
リエステル　　　１０分子量２００００　　　（固形分換算）混合溶剤 ’　　　ＭＥＫ／）ルエン−１／ｌ　　１０００これら
を、被覆層１の場合と同様に、表１に示されるようなポ
リエチレンテレフタレート基板上に１１上」（放射線硬化型　　　　　重量部化合物バイン
ダー）微粒子顔料Ｓ　’ｉ　０２平均粒径３００人　　　　　５重合性バ
インダーアクリル変性塩ビ　　　　　　　　　６分子量２０００
０　　　　（固形分換算）アクリル変性ポリウレタン　
　　　７０分子量６０００　　　　　（固形分換算）Ｎ
ビニルピロリドン　　　　　　１０４１配合溶剤ＭＥＫ／トルエン＝１７１　　１０００これらを、上記
と同様に表１に示されるようなポリエチレンテレフタレ
ート基板上に処理、設層した。

１１１」（放射線硬化型　　　　　重量部化合物バイン
ダー）微粒子顔料ＺｒＯ２平均粒径２００人　ｏ、ｏｏｉ重合性バインダ
ーエポキシ　分子量３０００　　　　２０ポリウレタン　
分子量２０００　　１０（固形分換算）混合溶剤ＭＥＫ／トルエン＝ｌ／１　　１０００これらの混合物
を攪拌機中１時間分散させ表１に示される表面粗度およ
び厚さを有するポリエチレンテレフタレートの基板上に
、乾燥厚４００人になるように塗布し８０℃２４時間で
架橋させた。

１１量」被覆層ｌで用いた微粒子顔料５ｉ０２の平均粒径を３０
人とした。　その他の組成は被覆層■の組成と同一とし
た。

１１月」被覆層ｌで用いた微粒子顔料５ｉ０２の平均粒径を１７
００人とした。　その他の組成は被覆層１の組成と同一
とした。

被覆層ｌで用いた微粒子顔料５ｉ０２の重量部を０．０
００１重量部とした。　その他の組成は被覆層１の組成
と同一とした。

１１１」被覆層ｌで用いた微粒子顔料５ｉ０２の重量部を３００
重量部とした。　その他の組成は被覆層ｌの組成と同一
とした。

なお、被覆層１〜８形成後のバインダー中に分散した微
粒子顔料の平均配設密度および被覆層の表面粗度は表１
に示すとおりであった。

表面粗度の測定は、下記の方法に従って行った。

（１）表面粗度の測定タリステップ（ＴＡＹＬＯＲ−ＨＯＢＳＯＮ社製）を用
いて得たチャートから２０点平均法で求めた。

カットオフ０．１７ｍｍ、ｉｔ電圧、ｌ×２．５ｋを用
いた。

（２）磁性層の設層 −ｍμｍ述した各々の被覆層１〜８の」−に、以下に示
すような磁性層を設層した。

ｆ１＋゛門１（化Ｊ　−と）　　重量部コバルト被覆針
状γ−Ｆｅ２０３　１２０部（長軸０．４−１短軸０．
０５鱗Ｈｃ６０００ｅ） α−Ａ文２０３粉末（０，５鱗粉状）　２部分散剤（大
豆油精製レシチン）　　　　　３部溶剤（ＭＥＫ／ｌ・
ルエン　５０１５０　’）　１００部」下記組成物をボ
ールミル中にて３時間混合し、針状磁性酸化鉄を分散剤
により良く湿潤させる。

次にアクリル二重結合導入飽和ポリエステル樹脂ｌＯ部（固
形分換算）アクリル二重結合導入塩酢ビ共重合体１０部（固形分換算）アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー　　　１０部（固形分換算）溶剤（ＭＥＫ／ｌ−ルエ
ン　５０１５０　）　２００部潤滑剤（高級脂肪酸変性
シリコーンオイル）３部のバインダーの混合物を良く混合溶解させる。

これを先の磁性粉処理を行なったボールミル中に投入し
再び４２時間混合分散させる。

この様にして得られた磁性塗料を上記の各々の被覆層上
に２−の厚さに塗布し、赤外線ランプ又は熱風により溶
剤を乾燥させた後、表面平滑化処理後、ＥＳＩ社エレク
トロカーテンタイプ電子線加速装置を使用して、加速電
圧１５０ＫｅＶ、電極電流２０　ｍ　Ａ、全照射量５　
Ｍ　ｒ　ａ　ｄの条件下でＮ２雰囲気下にて電子線を照
射し、塗膜を硬化させた。

これらを用いて、実際に磁気テープを作製し、電磁変換
特性を測定した。

（１）出力４０ＭＨｚの相対出力をＶＨＳデツキで測定した。

結果を表１に示した。

実施例２下記に示すような磁性層を用い、被覆層の上に、３．５
−の厚さに塗布し、電子線硬化とカレンダ加工を行い、
実施例１と同様に、磁気テープを作製し、電磁変換特性
を測定した。

糺止１」　　　　　　　　　　　　　重量部Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｎｉ合金粉末　　　　１００（Ｈｃ＝１２０００ｅ、長袖０．４−２短軸０．０５ｇ＋＊ＢＥＴ比表面積５２ｍ″／ｇ）塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重６体　　　　１５（米国ＵＣＣ社
製ＶＡＧ）ｌ）ポリビニルブラチール樹脂　　　　　ｌＯアクリル二重
結合導入ウレタン　　　１０メチルエチルケトン／トル
エン　　２５０結果を表２に示した。

実施例３下記に示すような磁性層を用い、実施例１と同様に磁気
テープを作製し、電磁変換特性を測定した。

１止１」ベースフィルムを円筒上冷却キャンの周面に沿わせて移
動させ、０２＋Ａｒ（容積比ｌ：ｌ）を毎分８００ｃｃ
の早さで流し、真空度を１．０Ｘ１０−’Ｔｏｒｒとし
たチー？７バー内で、Ｃ０８０、Ｎｉ２Ｏよりなる合金
を溶融し、入射角９０″〜３０°の部分のみ斜め蒸着し
、膜厚０．１５ＪＩＪｌのＧｏ−Ｎｉ＝−０薄膜を形成
した。

また、ベースと反対側の表面は、はぼ酸化物のみに覆わ
れていた。

Ｈｃ＝１０００　０ｅ。

膜中の平均酸素量は、ＣＯとＮｉに対する原子比で４０％であった。

結果を表３に示した。

実施例４１１暑１」実施例１に示される被覆層ｌの組成に、さらしこ潤滑剤
としてミリスチン酸を７重量部加えて、これらの混合物
を被覆層１の場合と同様に厚さ３０−のポリエステル基
板上に処理・設層した。

なお、この時の微粒子顔料の平均配設密度は１０５個／
ｆｆ１Ｉ！２であった・！実施例１に示される被覆層ｌの組成に、さらに帯電防止
剤として第４級アンモニウム塩を１０重量部加えて、こ
れらの混合物を被覆層ｌの場合と同様に厚さ３０−のポ
リエステル基板上に処理・設層した。

なお、この時の微粒子顔料の平均配設密度は１０５個／
ｌ１１２であった・この被覆層４１および４２を有するベースフィルムを工
程流動させた時、スムーズに走行するために、フィルム
巻き取り時の巻きしまりがなく、シかも工程走行中での
フィルム表面の帯電がないために、巻き取りによるハリ
ツキを防止することができた。

実施例５１４）ｌ！１１厚さ、Ｒ２Ｂ＝０．０１５１ｐのポリエ
チレンテレフタレートの基板上に、実施例１で用いた被
覆層１〜４および磁性層ｌを設層した。

この被覆層設層前に、基板に対しコロナ放電処理を施し
た。

コロナ放電処理は、ピラー社製コロナ処理機Ｐ−５００
ＶＡを用いてフィルム処理速度３０ｍ／分、電圧２００
Ｖで実施した。

このようなコロナ放電をしたベースフィルムの接着強度
を下記のように測定した。

（イ）接着強度作製したｌ／４インチ幅テープの磁性塗膜側に接着テー
プを一定の圧力で接着させ、この接着テープを１８０°
の角度方向に一定の速度で引き離し、剥離に要した力を
測定した。

結果を表４に示した。

表　　　　４サンプル　ベースフィルム　　接着強Ｉｆ　（ｇ　）陥
　　　　被覆層組成　　無処理　コロナ放電処理表１〜表４の結果より本発明の効果が明らかである。

また本発明のベースフィルムを用いることにより、その
製造コストは従来のものに比べ３０〜７０％安価にする
ことができた。

出願人　　ティーディーケー株式会社代理人　　弁理士　　石　井　陽　− 手続ネｍｊＥ書　（自発）昭和６１年　１月　８日昭和６０年特許願第４５４６１号２、発明の名称磁気記録媒体用ベースフィルムおよび磁気記録媒体３、
補正をする洛事件との関係　　　　　　　　特許出願人任　　所　　
　　東京都中央区日本橋−下目１３番１号名　　称　　
　（３０６）　　ティーディーケイ株式会社イ侭者　大
蔵　寛４、代理人　〒１０１住　　所　　　　東京都千代田区岩木町３丁目２番２号
千代田岩本ビル４階ｆｆ１８６４−４４９８　　Ｆａｘ、８６４−６２８０
氏　　名　　　　（８２８６）　　弁理士　　石　井　
陽　−５、補正の対象明細書の「特許請求の範囲および「発明の詳細な説明」
の欄６、補正の内容（１）明細書の「２、特許請求の範囲」の項の記載を別
紙の通り補正する。

（２）明細書の「３、発明の詳細な説明」の項の記載の
下記のとおり補正する。

１）第７頁１８行目のｒｍμｍｌをｒ４１ｍ　Ｊと補正
する。

２）第８頁３行目、９行目および１６６行目「　ｍμｍ
」をそれぞれ「μｍ」と補正する。

３）第９頁４　ｂ　目ｂ　ヨび１１１行目７）’ｍμｍ
」をそれぞれｒμｍ」と補正する。

４）第１０頁５行目、１５５行目１６６行目よび１９９
行目「ｍμｍ」をそれぞれ「ｍμｍ」と補正する。

５）第１１頁１行目および８行目の「ｍμｍ」をそれぞ
れ「μｍ」と補正する。

６）第１１頁３行〜７行目の「ここでＲ２＋１の定義は
、・・・・の値である。」を以下のとおり補正する。

「この場合、平均粗度Ｒ２［ｌの定義と表示は１、ＪＩ
ＳＢＯ６０１に記載されている１０点平均粗度ＲＩＯに
準じ、測定点を１０点から２０点に増して新たに規定し
たものである。

すなわち、２０点平均粗度Ｒ２０は、例えば触針計によ
り描き出された断面曲線を用い、この断面曲線から基準
長５だけ抜き取った部分において、記録チャート進行方
向に記入した各山頂、谷底の平均線に平行、かつ断面曲
線を横切らない任意の基準直線から縦倍率の方向に測定
した最高から１０番目までの山頂の標高の平均値と、最
深か６１０番目までの谷底までの山頂の標高の平均値と
、最深から１０番目までの谷底の標高の平均値との差を
マイクロメーター（μｍ）で表わしたものをいう。

なお、２０点平均粗度Ｒｍを求める場合の基準長さＬは
、原則として２０点平均粗さＲ諺の範囲によって異なり
、０．８μｍ≦Ｒ２［ｌの場合　Ｌ＝０．２５ｍｍ０　、
８　μｍ　＜　Ｒ２０≦６．３μｍの場合１．、＝０．
８ｍｍ６．３μｍ＜Ｒ２ｏ≦２５μｍの場合Ｌ＝２．５ｍｍ２５μｍ＜Ｒ２１６１００μｍの場合し二８ｍｍ１０’０　μｍ　＜　Ｒ２１５４００μｍの場合Ｌ＝２
５ｍｍとする。

また、カットオフ値は、触針スピード３０μｍ１ｓｅｃ
で、０．１８〜９１１ｚ程度とする。

また、触針針の針先端面の大きさは０．ＩＸ２．５μｍ
、針圧は２ｍｇとする。」７）第３７頁２行目のｒ　ＣｎＦｏＧ１１２ＣＩｈＮＩＩＣｌ１２ＣＨ□Ｊを
Ｆ　ＣｎＦ２ｎ＋＋ＣＩ！２ＣＩＩｚＮＩＩＣ１ｂＣＨ
２Ｊと補正する。

８）第３７頁３行目のｒ　Ｃ８Ｆ１８−１ｏＯＧＯＯＣ１ｈＣｌ１２−Ｊをｒ
　ＣＨＦ２ｎ＋ＩＱＯＧＯＯＣ１ｈＣＩ１２−Ｊと補正
する。

９）第４８頁１０行目の「ケズケ」を「ケズレ」と補正
する。

１０）第４９頁８行目の「ｍμｍ」を「μｍ」と補正す
る。

１１）第５６頁３〜４行目の［カットオフ・・・・を用
いた。」を「カットオ）値は、触針スピード３０　ｐｍ
　／ｓｅｃで、０．１８〜９Ｈｚ程度とし、触針針の針
先端面の大きさは０．１×２．５μｍ、針圧は２ｍｇと
した。」と補正する。

１２）第５９頁表１中に示される評価項目の１つである
表面粗度の単位「ｍμｍ」をすべて「μｍ」と補正する
。

１３）第６１頁表２中に示される評価項目の１つである
表面粗度の単位「ｍμｍ」をすべて「μｌ」と補正する
。

１４）第６４頁表３中に示される評価項目の１つである
表面粗度の単位「ｍμｌ」をすべて「μｍ」と補正する
。

１５）第６６頁５行目の「ｍＡＬｍ」をｒμｍＪと補正
する。

２、特許請求の範囲（１）表面粗度Ｒ２ｏ＝０．０２μｍ以七の可とう性基
板トに、重合性バインダーと平均粒径５０〜１５００人
の微粒子顔料とを含有する被覆層を有ｍμｍることを特
徴とする磁気記録媒体用ベースフィルム。

（２）重合性バインダーが、放射線硬化型化合物を架橋
重合させたものである特許請求の範囲第１項に記載の磁
気記録媒体用ベースフィルム。

（３）重合性バインダーが、熱硬化型化合物を架橋重合
させたものである特許請求の範囲第１項に記載の磁気記
録媒体ベースフィルム。

（４）微粒子顔料の平均配設密度が、１０４〜１０９個
／ｍｍ２である特許請求の範囲第１項ないし第３項のい
ずれかに記載の磁気記録媒体用ベースフィルム。

（５）被覆層表面の表面粗度が、可とう性基板の表面粗
度の７０％以下である特許請求の範囲第１項ないし第４
項のいずれかに記載の磁気記録＆を体用ベースフィルム
。

（６）表面粗度Ｒ丸＝０．０２μｍ以」−の可とう性基
板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベースフィル
ムにおいて、上記被覆層が、重合性バインダーと平均粒
径５０〜１５００人の微粒子顔料と潤滑剤とを含有する
ことを特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルム。

（７）表面粗度Ｒ２ｇ＝０．０２μｍ以上の可とう性基
板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベースフィル
ムにおいて、上記被覆層が、重合性バインダーと平均粒
径５０〜１５００人の微粒子顔料と帯電防止剤とを含有
することを特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルム。

（８）表面粗度Ｒ２ｏ＝０．０２μｍ以上の可とう性基
板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベースフィル
ムにおいて、上認可とう性基板表面がコロナ放電処理さ
れており、しかも上記被覆層が、重合性バインダーと平
均粒径５０〜１５００人の微粒子顔料とを含有すること
を特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルム。

（９）表面粗度Ｒ２０−０．０２μｍ以上の可とう性基
板ｍμｍに設けられた被覆層と、この被覆層上に設けら
れた磁気記録層とを有する磁気記録媒体において、上記
被覆層が、重合性バインダーと平均粒径５０〜１５００
人の微粒子顔料とを含有することを特徴とする磁気記録
媒体。

（１０）表面粗度Ｒ２０＝　０　、０２　μｍ以上の可
とう性基板上４二に設けられた被覆層と、この被覆層上
に設けられた磁気記録層とを有する磁気記録媒体におい
て、上認可とう性基板がコロナ放電処理されており、し
かも上記、被覆層が重合性バインダーと平均粒径５０〜
１５００人の微粒子顔料とを含有することを特徴とする
磁気記録媒体。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）表面粗度Ｒ＿２＿０＝０．０２ｍμｍ以上の可と
う性基板上に、重合性バインダーと平均粒径５０〜１５
００Åの微粒子顔料とを含有する被覆層を有することを
特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルム。
（２）重合性バインダーが、放射線硬化型化合物を架橋
重合させたものである特許請求の範囲第１項に記載の磁
気記録媒体用ベースフィルム。
（３）重合性バインダーが、熱硬化型化合物を架橋重合
させたものである特許請求の範囲第１項に記載の磁気記
録媒体用ベースフィルム。
（４）微粒子顔料の平均配設密度が、１０＾４〜１０＾
９個／ｍｍ＾２である特許請求の範囲第１項ないし第３
項のいずれかに記載の磁気記録媒体用ベースフィルム。
（５）被覆層表面の表面粗度が、可とう性基板の表面粗
度の７０％以下である特許請求の範囲第１項ないし第４
項のいずれかに記載の磁気記録媒体用ベースフィルム。
（６）表面粗度Ｒ＿２＿０＝０．０２ｍμｍ以上の可と
う性基板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベース
フィルムにおいて、上記被覆層が、重合性バインダーと
平均粒径５０〜１５００Åの微粒子顔料と潤滑剤とを含
有することを特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルム
。
（７）表面粗度Ｒ＿２＿０＝０．０２ｍμｍ以上の可と
う性基板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベース
フィルムにおいて、上記被覆層が、重合性バインダーと
平均粒径５０〜１５００Åの微粒子顔料と帯電防止剤と
を含有することを特徴とする磁気記録媒体用ベースフィ
ルム。
（８）表面粗度Ｒ＿２＿０＝０．０２ｍμｍ以上の可と
う性基板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベース
フィルムにおいて、上記可とう性基板表面がコロナ放電
処理されており、しかも上記被覆層が、重合性バインダ
ーと平均粒径５０〜１５００Åの微粒子顔料とを含有す
ることを特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルム。
（９）表面粗度Ｒ＿２＿０＝０．０２ｍμｍ以上の可と
う性基板上に設けられた被覆層と、この被覆層上に設け
られた磁気記録層とを有する磁気記録媒体において、上
記被覆層が、重合性バインダーと平均粒径５０〜１５０
０Åの微粒子顔料とを含有することを特徴とする磁気記
録媒体。
（１０）表面粗度Ｒ＿２＿０＝０．０２ｍμｍ以上の可
とう性基板上に、設けられた被覆層と、この被覆層上に
設けられた磁気記録層とを有する磁気記録媒体において
、上記可とう性基板がコロナ放電処理されており、しか
も上記、被覆層が重合性バインダーと平均粒径５０〜１
５００Åの微粒子顔料とを含有することを特徴とする磁
気記録媒体。