JPS61204829A - Base film for magnetic recording medium and magnetic recording medium - Google Patents
Base film for magnetic recording medium and magnetic recording mediumInfo
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- JPS61204829A JPS61204829A JP4546185A JP4546185A JPS61204829A JP S61204829 A JPS61204829 A JP S61204829A JP 4546185 A JP4546185 A JP 4546185A JP 4546185 A JP4546185 A JP 4546185A JP S61204829 A JPS61204829 A JP S61204829A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は、磁気記録媒体用のベースフィルムと磁気記録
媒体に関するものである。 さらに詳しくは、特にコン
ピューター、ＯＡ機器、ビデオフロッピー等で用いられ
るテープ状もしくはディスク状の磁気記録媒体用のベー
スフィルムとそのペースフィルを用いた磁気記録媒体に
関する。Detailed Description of the Invention (1) Background Technical Field of the Invention The present invention relates to a base film for a magnetic recording medium and a magnetic recording medium. More specifically, the present invention relates to a magnetic recording medium using a base film and a pace fill for tape-shaped or disk-shaped magnetic recording media used particularly in computers, OA equipment, video floppies, and the like.
先行技術
］ンピューター、ＯＡ機器等で用いられるテープ状もし
くはディスク状の磁気記録媒体は通常、ポリエステル等
の可とう性を有する樹脂基板をベースフィルムとし、こ
の上に磁性層、さらにはトップコート層等を設層して形
成される。[Prior art] Tape-shaped or disk-shaped magnetic recording media used in computers, office automation equipment, etc. usually have a base film made of a flexible resin substrate such as polyester, and a magnetic layer and a top coat layer are formed on this base film. It is formed by layering etc.
この際に、ベースフィルムとして用いられる可とう性基
板の表面粗度は最終製品の品質に大きな影響を及ぼし、
たとえばドロップアウト等の原因になる。 従って、可
とう性基板の表面粗度の値はきわめて厳しい値が要求さ
れるが、このような要求値を満足する基板のコストは非
常に高価なものになる。At this time, the surface roughness of the flexible substrate used as the base film has a great influence on the quality of the final product.
For example, this may cause dropouts. Therefore, the surface roughness value of the flexible substrate is required to be extremely strict, but the cost of a substrate that satisfies such a required value is extremely high.
また、可とう性基板の表面は、搬送ローラー等によって
ケズレ等のキズも発生しやすく、このような厳しい表面
粗度を保証していくには、部材受入れ、製造工程中等の
管理に要する工数も必要となってくる。In addition, the surface of flexible substrates is prone to scratches and scratches caused by conveyance rollers, etc., and in order to guarantee such severe surface roughness, it takes a lot of man-hours to manage parts acceptance, manufacturing processes, etc. It becomes necessary.
これらの要因が、必然的に製品のコストアップをまねく
結果となっている。These factors inevitably result in increased product costs.
そのため、比較的に廉価で、表面粗度が大きく、そのま
まの状態では、通常実用に酎えないような可とう性基板
を、何らかの方法で使用可能にでき、しかも使用目的、
用途等に応じて任意に表面粗度を調整することができ、
さらにはこのように処理された表面はケズレ等のキズが
容易に発生しないという特性を有する磁気記録媒体用の
ベースフィルムおよびそのベースフィルムを用いた磁気
記録媒体が要望されている。Therefore, it is possible to use a flexible substrate that is relatively inexpensive, has a large surface roughness, and cannot be put to practical use in its original state, and can be used for various purposes.
The surface roughness can be adjusted arbitrarily according to the application, etc.
Furthermore, there is a need for a base film for a magnetic recording medium that has a characteristic that scratches such as scratches do not easily occur on the surface treated in this way, and for a magnetic recording medium using the base film.
また、工程流動中に、はこり等の異物が静電気等により
基板上トに付着すると、ドロップアウト等の原因となる
ため、異物付着の防止対策も要望されている。Furthermore, if foreign matter such as lumps adheres to the substrate due to static electricity or the like during process flow, it may cause dropouts, so there is a need for measures to prevent foreign matter from adhering.
ＩＩ 発明の目的
本発明は、上記のような問題を解決するためのものであ
る。 より具体的には第１の発明の目的は、比較的、表
面粗度が大きく、そのままの状態では通常実用に耐えな
いような可とう性基板を、表面処理によって使用可能に
し、しかも使用目的、用途等に応じて任意に表面粗度を
調整することができ、さらには、このように処理された
表面ばケズレ等のキズが容易に発生しないという特性を
有する磁気記録媒体用のベースフィルムを提供すること
にある
また、第２および第３の発明の目的は、第１の発明の目
的に加えて、さらに、工程流動中に、ホコリ等が静電気
等によりベースフィルム」−二に伯着するのを防ぎ、仕
上り製品の品質、特にドロップアウトの発生を防ぐ磁気
記録媒体用のベースフィルムを提供することにある。II. OBJECT OF THE INVENTION The present invention is intended to solve the above problems. More specifically, the first object of the invention is to make it possible to use a flexible substrate, which has a relatively large surface roughness and would normally be unusable in its original state, by surface treatment, and to achieve the intended use. Provided is a base film for a magnetic recording medium, which allows the surface roughness to be adjusted as desired depending on the intended use, and furthermore, has the characteristic that scratches such as scratches do not easily occur on the surface treated in this way. In addition to the object of the first invention, the object of the second and third inventions is to prevent dust from accumulating on the base film due to static electricity during the process flow. The objective of the present invention is to provide a base film for magnetic recording media that prevents dropouts and improves the quality of finished products, especially the occurrence of dropouts.
第４の発明の目的は、第１の発明の目的に加え、接着性
をより一層向上させた磁気記録媒体用ベースフィルムを
提供することにある。In addition to the object of the first invention, a fourth object of the invention is to provide a base film for a magnetic recording medium that has further improved adhesiveness.
第５の発明の目的は、第１の発明の特性を有するベース
フィルムを用いた磁気記録媒体を提供することにある。A fifth object of the invention is to provide a magnetic recording medium using a base film having the characteristics of the first invention.
第６の目的は、第５の発明の目的に加え、接着性をより
一層向−１ニさせた磁気記録媒体を提供することにある
。A sixth object, in addition to the object of the fifth invention, is to provide a magnetic recording medium that has even greater adhesion.
■ 発明の開示
このような目的は、下記の本発明によって達゛成される
。■ Disclosure of the Invention These objects are achieved by the present invention described below.
すなわち第１の発明は、表面粗度Ｒ，−〇、０２ｍ戸以
」二の可とう性基板上に、重合性バインダーと平均粒径
５０〜１５００人の微粒子顔料とを含有する被覆層を有
することを特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルムで
ある。That is, the first invention has a coating layer containing a polymerizable binder and a fine particle pigment having an average particle diameter of 50 to 1,500 on a flexible substrate with a surface roughness of R, -0, 02 m or more. This is a base film for magnetic recording media characterized by the following.
第２の発明は、表面粗度粗度Ｒ２ＴＩ＝０．０２ｍ戸以
」−の可とう性基板上にに、被覆層を設層した磁気記録
媒体用ベースフィルムにおいて、上記被覆層が、重合性
バインダーと平均粒径５０〜１５００人の微粒子顔料と
潤滑剤とを含有することを特徴とする磁気記録媒体用ベ
ースフィルムである。A second invention provides a base film for a magnetic recording medium in which a coating layer is provided on a flexible substrate having a surface roughness R2TI = 0.02 m or more, in which the coating layer is polymerizable. This is a base film for a magnetic recording medium characterized by containing a binder, a fine particle pigment having an average particle size of 50 to 1,500, and a lubricant.
第３の発明は、表面粗度Ｒ２ｇ＝０．０２ｍｐｍ以上の
可とう性基板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベ
ースフィルムにおいて、上記被覆層が、重合性バインダ
ーと平均粒径５０〜１５００人の微粒子顔料と帯電防１
Ｆ剤とを含有することを特徴とする磁気記録媒体用ベー
スフィルムである。A third invention is a base film for a magnetic recording medium in which a coating layer is provided on a flexible substrate having a surface roughness R2g of 0.02 mpm or more, wherein the coating layer includes a polymerizable binder and an average particle size of 50 mpm or more. ~1500 fine particle pigments and anti-static 1
This is a base film for a magnetic recording medium characterized by containing an F agent.
第４の発明は、表面粗度Ｒ２ｇ＝０．０２ｍ４以上の可
とう性基板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベー
スフィルムにおいて、」−認可とう性基板表面がコロナ
放電処理されており、しかも上記被覆層が、重合性バイ
ンダーと平均粒径５０〜１５００人の微粒子顔料とを含
有することを特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルム
である。A fourth invention provides a base film for a magnetic recording medium in which a coating layer is provided on a flexible substrate having a surface roughness of R2g=0.02m4 or more, in which the surface of the flexible substrate is subjected to a corona discharge treatment. The base film for a magnetic recording medium is further characterized in that the coating layer contains a polymerizable binder and a fine particle pigment having an average particle size of 50 to 1500 particles.
第５の発明は、表面粗度Ｒ２０＝０．０２層−以上の可
とう性基板上に、設けられた被覆層と、この被覆層上に
設けられた磁気記録層とを有する磁気記録媒体において
、上記被覆層が、重合性バインダーと平均粒径５０〜１
５００人の微粒子顔料とを含有することを特徴とする磁
気記録媒体である。A fifth invention provides a magnetic recording medium having a coating layer provided on a flexible substrate having a surface roughness of R20 = 0.02 layers or more, and a magnetic recording layer provided on the coating layer. , the coating layer contains a polymerizable binder and an average particle size of 50 to 1
500 particles of pigment.
第６の発明は、表面粗度Ｒ２ｏ＝０．０２ｍｇ以−トの
可とう性基板上に、設けられた被覆層と、この被覆層上
に設けられた磁気記録層とを有する磁気記録媒体におい
て、上認可とう性基板がコロナ放電処理されており、し
かも上記、被覆層が重合性バインダーと平均粒径５０〜
１５００人の微粒子顔料とを含有することを特徴とする
磁気記録媒体である。A sixth invention provides a magnetic recording medium having a coating layer provided on a flexible substrate having a surface roughness R2o of 0.02 mg or more, and a magnetic recording layer provided on the coating layer. , the above-approved flexible substrate has been subjected to corona discharge treatment, and the above-mentioned coating layer has a polymerizable binder and an average particle size of 50 to 50.
This is a magnetic recording medium characterized by containing 1,500 particles of pigment.
■ 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。■Specific structure of the invention Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be explained in detail.
本発明の磁気記録媒体用ベースフィルムは、表面粗度Ｒ
２０＝０．０２ｍμｓ以上の可とう性基板と、この基板
上に設けられる被覆層とを有している。 さらにこの被
覆層は重合性バインダーと平均粒径５０〜１５００人の
微粒子顔料とを含有している。The base film for magnetic recording media of the present invention has a surface roughness R
20=0.02 mμs or more flexible substrate and a coating layer provided on this substrate. Furthermore, this coating layer contains a polymerizable binder and a fine particle pigment having an average particle size of 50 to 1,500 people.
さらに詳しく説明すると、基板は可とう性を有し、通常
ポリエステル樹脂、ポリイミド樹ｌ旨、ポリカーボネー
ト、ポリサルホン、ポリエチレンテレフタレート、芳香
族アラミドなどの樹脂材料によって形成される。 そし
て基板の表面粗度はＲ２０＝０．０２ｍ戸以りである。More specifically, the substrate is flexible and is usually made of a resin material such as polyester resin, polyimide resin, polycarbonate, polysulfone, polyethylene terephthalate, or aromatic aramid. The surface roughness of the substrate is R20=0.02m or higher.
表面粗度がＲ２ｇ＝０．０２ｍ−未満の基板では、表面
粗度を向上させるための表面処理の必要性がないからで
ある。This is because a substrate with a surface roughness of less than R2g=0.02 m- does not require surface treatment to improve the surface roughness.
また、基板のコストはＲ２０＝０．０２ １１１μを界
にして、臨界的に著しく高くなるために、Ｒ２［ｌ＝０
．０２ｍ−未満の基板では容易に製品のコストダウンが
図れないからである。In addition, the cost of the substrate becomes critically high with R20=0.02 111μ as the limit, so R2[l=0
．． This is because a substrate with a thickness of less than 0.02 m cannot easily reduce the cost of the product.
ここでＲ２０の定義は、タリステップ
（ＴＡＹＬＯＲ−ＨＯＢＳＯＮ社製）を用いてカットオ
フ０．１７ｍｍ、 制圧０．ＩＸ２．５−の条件で得た
チャートから、２０点平均法で求めた表面粗度の値であ
る。Here, the definition of R20 is to use Talystep (manufactured by TAYLOR-HOBSON) with a cutoff of 0.17 mm and a suppression pressure of 0. This is the surface roughness value determined by the 20-point average method from the chart obtained under the condition of IX2.5-.
この場合、Ｒ２［］が０．０２〜０．５０ｍ−の基板で
あると、本発明の効果は、より一層大きいものとなる。In this case, the effects of the present invention will be even greater if the substrate has R2[] of 0.02 to 0.50 m.
そして、後述の被覆層を設けることにより、表面粗度は
３０％以上改良され、被覆層表面の表面粗度は、可とう
性基板表面の表面粗度の７０％以下となる。By providing the coating layer described below, the surface roughness is improved by 30% or more, and the surface roughness of the coating layer surface is 70% or less of the surface roughness of the flexible substrate surface.
このような基板の上には、被覆層が設層される。 被覆
層は、重合性バインダー中に微粒子顔料等を分散させた
ものを、基板上に塗布設層し、その後硬化させたもので
ある。A covering layer is provided on such a substrate. The coating layer is a layer in which a fine particle pigment or the like is dispersed in a polymerizable binder, which is coated on the substrate, and then cured.
重合性バインダーは放射線硬化型化合物または熱硬化型
化合物を、架橋重合させたものであ１す
る。The polymerizable binder is a compound obtained by crosslinking and polymerizing a radiation-curable compound or a thermosetting compound.
用いる放射線硬化型化合物としては、二重結合数が２以
」−；望ましくは３以Ｉ−の反応性アクリルオリゴマー
またはオリゴアクリレ−！・が望ましい。The radiation-curable compound to be used is a reactive acrylic oligomer or oligoacrylate having a double bond of 2 or more; preferably 3 or more.・is desirable.
このアクリル系化合物の具体例として挙げられる例えば
アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルとしては
、多価アルコールのポリアクリレート類及びポリメタク
リレート類（ここで「ポリ」とはジアクリレート以上を
指す。）がある。Specific examples of the acrylic compound include acrylic esters and methacrylic esters, including polyacrylates and polymethacrylates (herein, "poly" refers to diacrylate or higher) of polyhydric alcohols.
多価アルコールとしては、ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレンオキサイド、ポリブチレンオキサイド、ポ
リシクロヘキセンオキサイド、ポリエチレンオキサイド
、プロピレンオキサイド、ポリスチレンオキサイド、ポ
リオキセタン、ポリテトラヒドロフラン、シクロヘキサ
ンジオール、キシリレンジオール、ジー（β−ヒドロキ
シエトキシ）ベンゼン、グリセリン、ジグリセリン、ネ
オペンサルギリコール、トリメチロールプロパン、トリ
エチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタ
エリスリトール、ソルビタン、ソルビト−ル、ブタンジ
オール、ブタントリオール、２−ブテン−１゜４−ジオ
ール、２−ｎ−ブチル−２−エチル−プロパンジオール
、２−ブチン−１，４−ジオール、３−クロル−１，２
−プロパノジオール、１．４−シクロヘキサンジメタツ
ール、３−シクロヘキセン−１，ｍμｍジメタツール、
デカリンジオール、２，３−ジブニムー２−ブテンー１
．４−ジオール、２．２−ジエチル−１，３、プロパン
ジオール、１，５−ジヒドロキシ−１，２，３，４−テ
トラヒドロナフタレン、２．５−ジメチル−２，５−ヘ
キサンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパン
ジオール、２，２−ジフェニル−１，３−プロパンジオ
ール、ドデカンジオール、メゾエリスリトール、２−エ
チル−１，３−ヘキサンジオール、２−エチル−２−（
ヒドロキシメチ７Ｌｚ）−１，−３−プロパンジオール
、２−エチル−２−メチル−１，３−プロパンジオール
、ヘプタンジオール、ヘキサンジオール、３−ヘキセン
−２，５−ジオール、ヒドロキシベンジルアルコール、
ヒドロキシエチルレゾルシノール、２−メチル−１，４
−ブタンジオール、２−メチル−２，４−ベンタンジオ
ール、ノナンジオール、オクタンジオール、ベンタンジ
オール、■−フェニルー１，２−エンタンジオール、プ
ロパンジオール、２，２，４．４−テトラメチル−１，
３−シクロブタンジオール、２．３，５．６−テトラメ
チル−ｐ−キシレン−α、α′−ジオール、１，１，４
．４−テトラフェニル−１，４−ブタンジオール、１゜
１．４．４−テトラフェニル−２−ブチン−１，４−ジ
オール、ｌ、 ２ 、６− ｈリヒドロキシヘキサン、
１．１′−ビー２−ナフトール、ジヒドロキシナフタレ
ン、１ 、１′ −メチレンジー２−ナフトール、１，
２．４−ベンゼントリオール、ビフニノール、２．２′
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、ｌ、ｍμｍ
ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス
（ヒドロキシフェニル）メタン、カテコール、４−クロ
ルレゾルシノール、３．４−ジヒドロキシハイドロシン
ナミックアシッド、ハイドロキノン、ヒドロキシベンジ
ルアルコール、メチルハイドロキノン、メチル−２，４
，６−トリヒドロキシペンゾエート、フロログルシノー
ル、ヒロガロール、レゾルシノール、グルコース、α−
（ｍμｍアミノエチル）−ｐ−ヒドロキシベンジルアル
コール、２−アミノ−２−エチル−１，３−プロパンジ
オール、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジ
オール、３−アミノ−１，２−プロパンジオール、Ｎ−
（３−アミノプロピル）−ジェタノールアミン、Ｎ 、
Ｎ’ −ビス−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン
、２．２−ビス（ヒドロキシメチル）、２．２’、２”
−ニトリロトリエタノール、２．２−ビス（ヒドロキシ
メチル）プロピオニックアシッド、１．３−ビス（ヒド
ロキシメチル）ウレア、１，２−ビス（４−ピリジル）
−１，２−エタンジオール、Ｎ−ｎ−ブチルジェタノー
ルアミン、ジェタノールアミン、Ｎ−エチルジェタノー
ルアミン、３−メルカプｌ−−１、２−プロパンジオー
ル、３−ピペリジノ−１，２−プロパンジオール、２−
（２−ピリジル）−１，３−プロパンジオール、トリエ
タノールアミン、α−（ｍμｍアミノエチル）−ｐ−ヒ
ドロキシベンジルアルコール、３−アミノ−４］ヒドロ
キシフエニル、スルホンなどがある。Polyhydric alcohols include polyethylene glycol, polypropylene oxide, polybutylene oxide, polycyclohexene oxide, polyethylene oxide, propylene oxide, polystyrene oxide, polyoxetane, polytetrahydrofuran, cyclohexanediol, xylylene diol, di(β-hydroxyethoxy)benzene. , glycerin, diglycerin, neopensalgylicol, trimethylolpropane, triethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitan, sorbitol, butanediol, butanetriol, 2-butene-1°4-diol, 2 -n-butyl-2-ethyl-propanediol, 2-butyne-1,4-diol, 3-chloro-1,2
-propanodiol, 1,4-cyclohexane dimetatool, 3-cyclohexene-1, mμm dimetatool,
Decalindiol, 2,3-dibnim-2-butene-1
．． 4-diol, 2,2-diethyl-1,3, propanediol, 1,5-dihydroxy-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 2,2 -dimethyl-1,3-propanediol, 2,2-diphenyl-1,3-propanediol, dodecanediol, mesoerythritol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2-ethyl-2-(
hydroxymethy7Lz)-1,-3-propanediol, 2-ethyl-2-methyl-1,3-propanediol, heptanediol, hexanediol, 3-hexene-2,5-diol, hydroxybenzyl alcohol,
Hydroxyethylresorcinol, 2-methyl-1,4
-Butanediol, 2-methyl-2,4-bentanediol, nonanediol, octanediol, bentanediol, -phenyl-1,2-entanediol, propanediol, 2,2,4.4-tetramethyl-1 ，
3-cyclobutanediol, 2.3,5.6-tetramethyl-p-xylene-α,α′-diol, 1,1,4
．． 4-tetraphenyl-1,4-butanediol, 1゜1.4.4-tetraphenyl-2-butyne-1,4-diol, l,2,6-h-lyhydroxyhexane,
1.1'-bi-2-naphthol, dihydroxynaphthalene, 1,1'-methylenedi-2-naphthol, 1,
2.4-benzenetriol, bifuninol, 2.2'
-bis(4-hydroxyphenyl)butane, l, mμm
Bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane, bis(hydroxyphenyl)methane, catechol, 4-chlorresorcinol, 3,4-dihydroxyhydrocinnamic acid, hydroquinone, hydroxybenzyl alcohol, methylhydroquinone, methyl-2,4
, 6-trihydroxypenzoate, phloroglucinol, hyrogallol, resorcinol, glucose, α-
(mμm aminoethyl)-p-hydroxybenzyl alcohol, 2-amino-2-ethyl-1,3-propanediol, 2-amino-2-methyl-1,3-propanediol, 3-amino-1,2- Propanediol, N-
(3-aminopropyl)-jetanolamine, N,
N'-bis-(2-hydroxyethyl)piperazine, 2.2-bis(hydroxymethyl), 2.2', 2"
-Nitrilotriethanol, 2,2-bis(hydroxymethyl)propionic acid, 1,3-bis(hydroxymethyl)urea, 1,2-bis(4-pyridyl)
-1,2-ethanediol, N-n-butylgetanolamine, jetanolamine, N-ethylgetanolamine, 3-mercapl-1,2-propanediol, 3-piperidino-1,2-propane Diol, 2-
Examples include (2-pyridyl)-1,3-propanediol, triethanolamine, α-(mμm aminoethyl)-p-hydroxybenzyl alcohol, 3-amino-4]hydroxyphenyl, and sulfone.
これらのアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステ
ル類のうち好ましいものは１．その入手の容易さから、
エチレンジメタクリレート、エチレングリコールジアク
リレ−１・、ジエチレングリコールジメタクリレート、
ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、ペンタエリスリト−ルジメ
タクリレ−１・、ジペンタエリスリＩ・−ルペンタアク
リレート、グリセリントリアクリレート、ジグリセリン
ジメタクリレート、ｌ。Among these acrylic esters and methacrylic esters, preferred are 1. Due to its easy availability,
Ethylene dimethacrylate, ethylene glycol diacrylate-1, diethylene glycol dimethacrylate,
Polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol dimethacrylate-1., dipentaerythritol I.-lupentaacrylate, glycerin triacrylate, diglycerin dimethacrylate, l.
３−プロパンジオールアクリレ−１・、■、２゜４−ブ
タントリオールトリメタクリレート、１．４−シクロヘ
キサンジオールジアクリレート、１．５−ベンタンジオ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、エチレンオキサイド伺加したトリメチロールプ
ロパンのトリアクリル酸エステル等である。3-propanediol acrylate-1, ■, 2゜4-butanetriol trimethacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, 1,5-bentanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, ethylene oxide added These include triacrylic acid ester of trimethylolpropane.
またアクリル系化合物として使用可能なアクリルアミド
類及びメタクリルアミド類としては、メチレンビスアク
リルアミド、メチレンビスメタクリルアミドのほか、エ
チレンジアミン、ジアミノプロパン、ジアミノブタン、
ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレン、ビス（２−
アミノプロピル）アミン、ジエチレントリアミンジアミ
ン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン
、異種原子により中断ぎれたポリアミン、環を有するポ
リアミン〔例えばフェニレンジアミン、キシリレンジア
ミン、β−（４−アミノフェニル）エチルアミン、ジア
ミノベンゾイックアシッド、ジアミノトルエン、ジアミ
ノアントラキノン、ジアミノフルオレンなど〕のポリア
クリルアミド及びポリメタクリルアミドがある。Acrylamides and methacrylamides that can be used as acrylic compounds include methylenebisacrylamide, methylenebismethacrylamide, ethylenediamine, diaminopropane, diaminobutane,
Pentamethylene diamine, hexamethylene, bis(2-
aminopropyl) amines, diethylenetriamine diamine, heptamethylene diamine, octamethylene diamine, polyamines interrupted by different atoms, polyamines containing rings [e.g. phenylene diamine, xylylene diamine, β-(4-aminophenyl) ethylamine, diaminobenzoic acid, diaminotoluene, diaminoanthraquinone, diaminofluorene, etc.) and polymethacrylamide.
また、Ｎ−β−ヒドロキシエチル−β−（メタクリルア
ミド）エチルアクリレート、Ｎ、Ｎ−ビス（β−メタク
リロキシエチル）アクリルアミド、アリルメタクリレー
トなどの如く、異なった付加重合性不飽和結合を２つ以
上有する化合物もアクリル系化合物として好適である。In addition, two or more different addition-polymerizable unsaturated bonds, such as N-β-hydroxyethyl-β-(methacrylamide)ethyl acrylate, N,N-bis(β-methacryloxyethyl)acrylamide, allyl methacrylate, etc. Compounds having the above are also suitable as acrylic compounds.
更に、アクリル系化合物として使用可能なものとして、
トリメチロールプロパンモノアクリレートとヘキサンジ
オールとアジピン酸との反応によって得られる各種重合
度のポリエステル強重合体がある。 この場合、トリメ
チロールプロパンモノアクリレートに換えて、ペンタエ
リスリトール等の脂肪族ポリオールのジアクリレートや
、脂環式ジグリシジルエーテルのジアクリレート等を使
用してよい。 またヘキサンジオールに換えて、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール、１．３−プロパ
ンジオ−ル、１．４−ブタンジオール、１．５−ベンタ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリ
コール、ジプロピレングリコール、２．２．４−トリメ
チル−１，３−ベンタンジオール、■、４−シクロヘキ
サンジメタツール、ビスフェノールＡのエチレンオキシ
ド付加物およびプロピレンオキシド付加物、水素化ビス
フェノールＡのエチレンオキシド付加物およびプロピレ
ンオキシド付加物、ポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等を
使用してよい。Furthermore, as acrylic compounds that can be used,
There are strong polyester polymers with various degrees of polymerization obtained by the reaction of trimethylolpropane monoacrylate, hexanediol, and adipic acid. In this case, diacrylate of aliphatic polyol such as pentaerythritol, diacrylate of alicyclic diglycidyl ether, etc. may be used instead of trimethylolpropane monoacrylate. Also, instead of hexanediol, ethylene glycol, propylene glycol, 1.3-propanediol, 1.4-butanediol, 1.5-bentanediol, neopentyl glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 2.2. 4-trimethyl-1,3-bentanediol, ■, 4-cyclohexane dimetatool, ethylene oxide and propylene oxide adducts of bisphenol A, ethylene oxide and propylene oxide adducts of hydrogenated bisphenol A, polyethylene glycol, polypropylene Glycol, polytetramethylene glycol, etc. may be used.
トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリ
セリン、ペンタエリスリトール等の１・り及びテトラオ
ールを少量併用してよい。 更にアジピン酸に換えて、
テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、１，５
−ナフタル酸等の芳香族ジカルボン酸；ｐ−オキシ安息
香酸、ｐ−（ヒドロキシエトキシ）安息香酸等の芳香族
オキシカルボン酸；コハク酸、アゼライン酸、セバシン
酸、ドデカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸等を
使用してよい。 この場合、芳香族カルボン酸と脂肪族
カルボン酸とを併用するときには、それらのモル比は５
０１５０〜１００１０であり、芳香族カルボン酸の少な
くとも３０モル％がテレフタル酸であることが望ましい
。 ｌ・リメリッｌ−ｍ、トリメシン酸、ピロメリッ
ト酸等のトリ及びテトラカルボン醇を少量併用してよい
。 なおアジピン酸等の酸成分はトリレンジイソシアネ
ート等の芳香族又は脂肪族のジイソシアネートと置換え
てポリウレタンとしてもよい。 才だ上記アクリレート
とポリオールとの割合は、モル比で、アクリレートがモ
ノアクリレートの場合は８０／２０〜１０／９０、アク
リレートがジアクリレートの場合は４０／６０〜５／９
５であるのが望ましい。Small amounts of trimethylol and tetraol such as trimethylolethane, trimethylolpropane, glycerin, and pentaerythritol may be used in combination. Furthermore, in place of adipic acid,
Terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, 1,5
- Aromatic dicarboxylic acids such as naphthalic acid; Aromatic oxycarboxylic acids such as p-oxybenzoic acid and p-(hydroxyethoxy)benzoic acid; Aliphatic dicarboxylic acids such as succinic acid, azelaic acid, sebacic acid, and dodecanedicarboxylic acid. etc. may be used. In this case, when aromatic carboxylic acid and aliphatic carboxylic acid are used together, their molar ratio is 5.
0150 to 10010, and preferably at least 30 mol% of the aromatic carboxylic acid is terephthalic acid. A small amount of tri- and tetracarboxylic acid such as l.limellitic acid, trimesic acid, and pyromellitic acid may be used in combination. Note that the acid component such as adipic acid may be replaced with an aromatic or aliphatic diisocyanate such as tolylene diisocyanate to form a polyurethane. The molar ratio of the above acrylate and polyol is 80/20 to 10/90 when the acrylate is a monoacrylate, and 40/60 to 5/9 when the acrylate is a diacrylate.
5 is desirable.
これらの放射線感応性化合物は、具体的には柔軟性およ
び接着性向上のためにポリウレタン、ポリエステル、ゴ
ム系（例えばＡＢ）等の熱可塑性樹脂と混合されて使用
されてよい。These radiation-sensitive compounds may be used in combination with thermoplastic resins such as polyurethane, polyester, rubber-based (eg AB), specifically to improve flexibility and adhesion.
この熱可塑性樹脂はアクリル変性（二重結合が導入）さ
れていてもよいし、そうでなくてもよい。 また、上記
放射線感応性化合物のうち、活性水素基（例えば、−０
ＨｍμｍＣＯＯＨｌ−ＮＨ２）を有するものは、官能基
のある熱可塑性樹脂例えば、末端に一〇ＣＮ、−ＯＨ等
を有するポリウレタン又は末端に−ＯＨを有するポリエ
ステル又はアクリロニトリル−ブタジェン系ポリマーと
反応させ、この反応生成物を使用してよい。This thermoplastic resin may or may not be acrylic modified (introducing a double bond). Furthermore, among the radiation-sensitive compounds described above, active hydrogen groups (for example, -0
HmμmCOOHl-NH2) is reacted with a thermoplastic resin having a functional group, such as polyurethane having 10CN, -OH, etc. at the end, or polyester or acrylonitrile-butadiene-based polymer having -OH at the end, and this reaction The product may be used.
」−述のアクリル系化合物、または上記反応生成物を用
いる場合、いずれの場合もアクリル系二重結合１個当り
の分子量は２００〜
２０．０００であるのが望ましい。 即 ち 、分子量
が２００未満であると、架橋反応の進行が速くなりすぎ
て硬くて脆い塗膜となり、接着等の面で問題がある。
また、分子量が２０．０００を越えると、三次元網目構
造を充分に成長させ難くなる゛。When using the acrylic compound described above or the reaction product described above, the molecular weight per acrylic double bond is preferably 200 to 20,000 in either case. That is, if the molecular weight is less than 200, the crosslinking reaction proceeds too quickly, resulting in a hard and brittle coating film, which causes problems in terms of adhesion, etc.
Furthermore, if the molecular weight exceeds 20,000, it becomes difficult to sufficiently grow a three-dimensional network structure.
用いる放射線硬化型化合物の例としては、以下のような
ものがある。Examples of radiation-curable compounds to be used include the following.
■ イソシアネート基と反応性を有する基を有する（メ
タ）アクリルエステル単量体とポリイソシアネート化合
物との反応生成物２モル以」−と、分子中に２個以上の
水酸基を有する化合物１モルとの反応生成物あるいはこ
れ等３者の反応性を変えて得られた反応生成物、
例えばプロピレングリコールにフロピレンオキサイドを
付加した二官能性のポリエーテル（アテ力ホリエーテル
Ｐ−１０００旭電化社製）１モルにＩ・ルエンジイソシ
アネート２モルを反応させ、その後２モルの２−ヒドロ
キシエチルメタクリレートを反応させ得た分子末端にア
クリル系二重結合を２個有する樹脂、フレホリマー、オ
リゴマーもしくはテロマーを挙げることができる。■ 2 moles or more of a reaction product of a polyisocyanate compound and a (meth)acrylic ester monomer having a group reactive with an isocyanate group and 1 mole of a compound having two or more hydroxyl groups in the molecule. Reaction products or reaction products obtained by changing the reactivity of these three components, such as a bifunctional polyether obtained by adding propylene oxide to propylene glycol (Atheriki Folyether P-1000 manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.) A resin having two acrylic double bonds at the end of the molecule, which can be obtained by reacting 1 mole with 2 moles of I-ruene diisocyanate and then with 2 moles of 2-hydroxyethyl methacrylate, may include a phleformer, an oligomer, or a telomer. can.
ここで、使用される水酸基を１個以上含有する化合物と
しては、アデカポリエーテルＰ−７００、アデカボリエ
ーテルＰ−１０００、アクリルエステルＧ−１５００（
以上旭電化社製）、ポリメグｔｏｏｏ、ポリメグ６５０
（以」ニクオーカー・コーラ社製）等の多官能性ポリ
エーテル類；ニトロセルローズ、アセチルセルローズ、
エチルセルローズの様な繊維素誘導体；ビニライト■Ａ
ＧＨ（米国ユニオンカーバイド社製）の様な水酸基を有
する一部ケン化された塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
；ポリビニルアルコール；ポリビニルホルマール：ポリ
ビニルブチラール；ポリカプロラクトンＰＣＰ−０２０
０、ポリカプロラクトンＰＣＰ−０２４０、ポリカプロ
ラクトンＰＣＰ−０３００（以上チッソ社製）等の多官
能性ポリエステルポリオール類；フタル酸、イソフタル
酸、テ１／フタル酸、アジピン酸、コハク酸、セパチン
酸のような飽和多塩基酸とエチレングリコール、ジエチ
レングリコール、１．４−ブタンジオール、１．３−ブ
タンジオール、１．２−プロピレングリコール、ジプロ
ピレングリコール、１．６−ヘキサングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールフロ
パン、ペンタエリスリットのような多価アルコールとの
エステル結合により得られる飽和ポリエステル樹脂；水
酸基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエス
テルを少なくとも一種以上重合成分として含むアクリル
系重合体を挙げることができる。Here, the compounds containing one or more hydroxyl groups used include Adeka Polyether P-700, Adeka Polyether P-1000, Acrylic Ester G-1500 (
(manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.), Polymeg tooo, Polymeg 650
Polyfunctional polyethers such as (manufactured by Nikoker-Cola); nitrocellulose, acetylcellulose,
Cellulose derivatives such as ethyl cellulose; vinylite A
Partially saponified vinyl chloride-vinyl acetate copolymer with hydroxyl groups such as GH (manufactured by Union Carbide, USA); polyvinyl alcohol; polyvinyl formal: polyvinyl butyral; polycaprolactone PCP-020
0, polyfunctional polyester polyols such as polycaprolactone PCP-0240 and polycaprolactone PCP-0300 (manufactured by Chisso Corporation); such as phthalic acid, isophthalic acid, te1/phthalic acid, adipic acid, succinic acid, and sepacic acid. saturated polybasic acids and ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,3-butanediol, 1,2-propylene glycol, dipropylene glycol, 1,6-hexane glycol, neopentyl glycol, glycerin, Saturated polyester resins obtained by ester bonding with polyhydric alcohols such as methylolfuropane and pentaerythritol; examples include acrylic polymers containing at least one kind of hydroxyl group-containing acrylic ester and methacryl ester as a polymerization component. .
また、ここで使用されるポリイソシアネート化合物とし
ては、２．４−）ルエンジインシアネート、２．６−）
ルエンジイソシアネ−１・、１，４−キシレンジイソシ
アネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ −フ
ェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、インオロンジイソシアネ−１・やデスモジュー
ルＬ、デスモジュールＩＬ（西ドイツ バイエル社製）
等がある。In addition, the polyisocyanate compounds used here include 2.4-) luene diincyanate, 2.6-)
Luene diisocyanate-1, 1,4-xylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, inolone diisocyanate-1, Desmodur L, Desmodur IL (manufactured by Bayer AG, West Germany) )
etc.
インシアネート基、と反応する基および放射線硬化性不
飽和二重結合を有する単量体としては、アクリル酸ある
いはメタクリル酸の２−ヒドロギシエチルエステル、２
−ヒドロキシプロピルエステル、２−ヒドロキシオクチ
ルエステル等水酸基を有するエステル類；アクリルアマ
イド、メタクリルアマイド、Ｎ−メチロールアクリルア
マイド等のインシアネート基と反応する活性水素を持ち
かつアクリル系二重結合を含有する単量体；更に、アリ
ルアルコール、マレイン酸多価アルコールエステル化合
物、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノあるいは
ジグリセリド等インシアネート基と反応する活性水素を
持ちかつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合を含有す
る単量体も含まれる。Monomers having a group that reacts with an incyanate group and a radiation-curable unsaturated double bond include 2-hydroxyethyl ester of acrylic acid or methacrylic acid, 2
-Esters having a hydroxyl group such as hydroxypropyl ester and 2-hydroxyoctyl ester; monomers containing an acrylic double bond and having active hydrogen that reacts with incyanate groups such as acrylamide, methacrylamide, and N-methylol acrylamide; In addition, allyl alcohol, maleic acid polyhydric alcohol ester compounds, mono- or diglycerides of long-chain fatty acids with unsaturated double bonds, etc. have active hydrogen that reacts with incyanate groups and are radiation-curable. Also included are monomers containing heavy bonds.
ＩＩ 分子中にエポキシ基を２個以上含む化合物１分
子と、エポキシ基と反応する基および電子線硬化性不飽
和二重結合を有する単量体２分子以−ｍμｍとの反応物
、例えば、グリシジルアクリレ−１・をラジカル重合さ
せて得たエポキシ基を含有する熱可塑性樹脂にアクリル
酸を反応させ、カルボキシル基とエポキシ基との開環反
応により１分子中にアクリル系二重結合をベンタクトさ
せた樹脂、プレポリマーもしくはオリゴマーを挙げるこ
とができる。II A reaction product of one molecule of a compound containing two or more epoxy groups in the molecule and two or more molecules of a monomer having an electron beam-curable unsaturated double bond and a group that reacts with the epoxy group, such as glycidyl Acrylic acid is reacted with a thermoplastic resin containing an epoxy group obtained by radical polymerization of Acryle-1, and an acrylic double bond is bent in one molecule through a ring-opening reaction between a carboxyl group and an epoxy group. Mention may be made of resins, prepolymers or oligomers.
ここで分子中にエポキシ基を２酸以−ヒ含む化合物とし
ては、グリシジルアクリレ−１・、グリシジルメタクリ
レートの如きエポキシ基を含むアクリルエステルあるい
はメタクリルエステル７のホモポリマーあるいは他の重
合性モノマーとの共重合体；エピコート８２８、エピコ
ート１００１、エピコートｊｏ０７、エピコート１００
９（以上シェル化学社製）等その他種々のタイプのエポ
キシ樹脂等がある。Here, compounds containing two or more epoxy groups in the molecule include homopolymers of acrylic esters or methacrylic esters 7 containing epoxy groups such as glycidyl acrylate 1, glycidyl methacrylate, or other polymerizable monomers. Copolymer; Epicote 828, Epicote 1001, Epicote jo07, Epicote 100
There are various other types of epoxy resins such as No. 9 (manufactured by Shell Kagaku Co., Ltd.).
エポキシ基と反応する基および放射線硬化性不飽和二重
結合を有する単量体としてはアクリル酸、メタクリル酸
等のカルボキシル基を含有するアクリル系単品体、メチ
ルアミノエチルアクリレート、メチルアミノメタクリレ
ート等の第１級もしくは第２級アミノ基を有するアクリ
ル単量体等が使用できる。Examples of monomers having groups that react with epoxy groups and radiation-curable unsaturated double bonds include acrylic monomers containing carboxyl groups such as acrylic acid and methacrylic acid, and monomers such as methylaminoethyl acrylate and methylaminomethacrylate. Acrylic monomers having a primary or secondary amino group can be used.
■ 分子中にカルボキシル基を１個以上含む化合物１分
子とカルボキシル基と反応する基および放射線硬化性不
飽和二重結合を有する単量体１分子以上との反応物、例
えばメタクリル酸を溶液重合させて得たカルボキシル基
を含有する熱可塑性樹脂にグリシジルメタクリレートを
反応させ、第１Ｔ項と同様にカルボキシル基とエポキシ
基の開環反応により分子中にアクリル系二重結合を導入
させた樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げることが
できる。■ Solution polymerization of one molecule of a compound containing one or more carboxyl groups in the molecule and one or more molecules of a monomer having a group that reacts with carboxyl groups and one or more radiation-curable unsaturated double bonds, such as methacrylic acid. A resin or prepolymer obtained by reacting glycidyl methacrylate with a thermoplastic resin containing a carboxyl group obtained by the above method, and introducing an acrylic double bond into the molecule by a ring-opening reaction between a carboxyl group and an epoxy group as in Section 1T. , oligomers.
分子中にカルボキシル基を１個以上含む化合物としては
、分子鎖中または分子末端にカルボキシル基を含むポリ
エステル類；アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン
酸、フマル酸等のラジカル重合性を持ち、かつカルボキ
シル基を有する単量体のホモポリマーあるいは他の重合
性モノマーとの共重合体等である。Examples of compounds containing one or more carboxyl groups in the molecule include polyesters containing carboxyl groups in the molecular chain or at the end of the molecule; compounds with radical polymerizability such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, and fumaric acid, These include homopolymers of monomers having groups or copolymers with other polymerizable monomers.
カルボキシル基と反応する基および放射線硬化性不飽和
二重結合を有する単量体としてはグリシジルアクリレ−
）・、グリシジルメタクリレート等がある。Glycidyl acrylate is a monomer having a group that reacts with a carboxyl group and a radiation-curable unsaturated double bond.
), glycidyl methacrylate, etc.
熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、塗布液の状態
では２０００００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、伺加等の反応により分子量
は無限大のものとなる。 また、これらの樹脂のなかで
、樹脂が熱分解するまでの間に軟化または溶融しないも
のが好ましい。The thermosetting resin or reactive resin has a molecular weight of 200,000 or less in the state of a coating liquid, and when heated after coating and drying, the molecular weight becomes infinite due to reactions such as condensation and addition. Moreover, among these resins, those that do not soften or melt before the resin is thermally decomposed are preferable.
具体的には、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン軟化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アル
キッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポ
キシーボリアミト樹脂、ニトロセルロースメラミン樹脂
、高分子壁ポリエステル樹脂とインシアネートプレポリ
マーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネ
ートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールと
ポリイソシアネー）・の混合物、尿素ホルムアルデヒド
樹脂、低分子量グリコール／高分子ジオール／トリフェ
ニルメタントリインシアネートの混合物、ポリアミン樹
脂およびこれらの混合物である。Specifically, for example, phenol resins, epoxy resins, polyurethane softening resins, urea resins, melamine resins, alkyd resins, silicone resins, acrylic reaction resins, epoxy polyamide resins, nitrocellulose melamine resins, and polymer-walled polyester resins. mixtures of incyanate prepolymers, mixtures of methacrylate copolymers and diisocyanate prepolymers, mixtures of polyester polyols and polyisocyanates, urea-formaldehyde resins, low molecular weight glycols/high molecular weight diols/triphenylmethane triincyanates. mixtures, polyamine resins and mixtures thereof.
特に好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレタ
ンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）、ある
いは塩化ビニル−酢酪ビニルービニルアルコール共重合
体（カルボン酸導入のものも含む）、またはアクリル変
性塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（カルボン酸導入のものも含む）およびウレタンアクリ
レートからなる放射線硬化系樹脂からなるものであり、
放射線硬化系樹脂については前記の好ましい組合わせの
外に、ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すア
クリル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化
合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレート
のようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘
導体等の不飽和結合等の、放射線照射による架橋あるい
は重合乾燥する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または
導入した樹脂等を用いることができる。Particularly preferred are cellulose resins (nitrified cotton, etc.), vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymers, thermosetting resins made of a combination of urethane (using a hardening agent), or vinyl chloride-acetate butylene vinyl rubinyl. It is made of radiation-curable resin consisting of alcohol copolymer (including those with carboxylic acid introduced) or acrylic modified vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer (including those with carboxylic acid introduced) and urethane acrylate. can be,
In addition to the above-mentioned preferred combinations, radiation-curable resins include acrylic double bonds such as acrylic acid, methacrylic acid, or ester compounds thereof, which exhibit radically polymerizable unsaturated double bonds, and diallylphthalate. It is possible to use resins containing or introducing into the molecule of thermoplastic resin groups that can be crosslinked or polymerized and dried by radiation irradiation, such as allylic double bonds, unsaturated bonds such as maleic acid, maleic acid derivatives, etc. .
その他、使用可能なバインダー成分としては、単量体と
してアクリル酸、メタクリル酸アクリルアミド等がある
。 二重結合のあるノくイングーとしては、種々のポリ
エステル、ポリオール、ポリウレタン等をアクリル二重
結合を有する化合物で変性することもできる。 さらに
、必要に応じて多価アルコールと多価カルボン酸を配合
することによって種々の分子量のものもできる。 放射
線感応樹脂として上記のものはその一部であり、これら
は混合して用いることもできる。Other usable binder components include acrylic acid, methacrylic acid acrylamide, and the like as monomers. As compounds having double bonds, various polyesters, polyols, polyurethanes, etc. can be modified with compounds having acrylic double bonds. Furthermore, by blending a polyhydric alcohol and a polyhydric carboxylic acid as necessary, products with various molecular weights can be produced. The above-mentioned radiation-sensitive resins are some of them, and these can also be used in combination.
このような重合性バインダー中には微粒子顔料が添加・
分散される。Fine particle pigments are added to such polymerizable binders.
distributed.
用いる微粒子顔料としては、通常コロイド粒子として知
られているものであって、例えば５ｉ０２（コロイダル
シリカ）、Ａ文２０３（アリミナゾル） 、ＭｇＯ，Ｔ
ｉ ０２、Ｃｒ２０３ 、Ｙ２０３ 、ＣｅＯ２，５
ｎ０２、Ｓ ｂ２０５ 、Ｚ ｎｏ、Ｆｅ２０３、Ｆ
ｅ３０４ 、Ｃｅ０２ジルコニア、ＺｎＯ１ＺｎＳ ｉ
０４ 、ＣｄＯ，Ｎｉｐ、ＣａＷＯ４、ＣａＣＯ３、Ｂ
ａＣＯ３、ＣｏＣＯ３、“ＢａＴｉＯ３、Ｔｉ （チ
タンブラック）、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｆｅ、各種
ヒドロシルや、樹脂粒子等が使用可能である。 この場
合、特に無機物質を用いるのが好ましい。The fine particle pigments used are those commonly known as colloidal particles, such as 5i02 (colloidal silica), Abun 203 (Ariminasol), MgO, T.
i02, Cr203, Y203, CeO2,5
n02, S b205, Z no, Fe203, F
e304, Ce02 zirconia, ZnO1ZnS i
04, CdO, Nip, CaWO4, CaCO3, B
ACO3, CoCO3, BaTiO3, Ti (titanium black), Au, Ag, Cu, Ni, Fe, various hydrosils, resin particles, etc. can be used. In this case, it is particularly preferable to use an inorganic substance.
また、タルク、カオリン、ＣａＳＯ４，窒化硼素、テフ
ロン粉末、フッ化黒鉛、二硫化モリブデン、ジルコニア
、Ｃａ５ｉ０２．アスベスト、チタンホワイト、ホワイ
トカーボン、クロムイエロー、オイルイエロー、オイル
ブルー、オイルレッドなどのものであってもよい。Also, talc, kaolin, CaSO4, boron nitride, Teflon powder, graphite fluoride, molybdenum disulfide, zirconia, Ca5i02. It may be asbestos, titanium white, white carbon, chrome yellow, oil yellow, oil blue, oil red, etc.
これら微粒子は、例えば５ｉ０２の場合、■無水珪酸の
超微粒子コロイド溶液（スノーテックス、水系、メタノ
ールシリカゾル、日産化学）
■精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子
状無水シリカ（標準品１００人）（アエロジル、日本ア
エロジル株式会社）などが挙げられる。 また前記■の
超微粒子コロイド溶液および■と同様の気相法で製造さ
れる超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに酸化チタン
および前述微粒子顔料が使用され得る。For example, in the case of 5i02, these fine particles are: ■Ultrafine particle colloidal solution of silicic anhydride (Snowtex, water-based, methanol silica sol, Nissan Chemical) ■Ultrafine anhydrous silica produced by combustion of purified silicon tetrachloride (standard product 100 people) ) (Aerosil, Nippon Aerosil Co., Ltd.). Further, the ultrafine particle colloidal solution of (1) above, ultrafine aluminum oxide produced by the same vapor phase method as (2), titanium oxide, and the above-mentioned fine particle pigment may be used.
このような微粒子は、各種溶媒を用いて塗布液とし、こ
れを基板状に塗布、乾燥してもよく、あるいは塗布液中
に各種水性エマルジョン等の樹脂分を添加したものを塗
布乾燥してもよい。Such fine particles may be obtained by forming a coating liquid using various solvents, applying this to a substrate and drying it, or by applying and drying a coating liquid to which a resin component such as various aqueous emulsions is added. good.
なお、これらの微粒子顔料は必ずしも１種ずつ使用する
とは限らず、２種、３種とする場合もある。Note that these fine particle pigments are not necessarily used one by one, and two or three types may be used.
そして、この微粒子顔料の平均粒径は５０〜１５００人
であり、より好ましくは、５０〜１０００人である。さ
らにより好ましくは８０〜５００人である。The average particle diameter of this fine particle pigment is 50 to 1,500 particles, more preferably 50 to 1,000 particles. Even more preferably 80 to 500 people.
平均粒径が５０人未満になると安定に基板上に固着でき
ず、被覆層にスジが発生しやすく、またガイドローラー
に付着したりするとし＼う不都合が生じ、１５００人を
こえると表面粗度が悪く、電磁変換特性に悪影響を及ぼ
すという不都合を生じる。If the average particle size is less than 50 particles, it will not be able to stably adhere to the substrate, streaks will easily occur in the coating layer, and problems will occur if it adheres to the guide roller, and if it exceeds 1,500 particles, surface roughness will occur. This causes the inconvenience that the electromagnetic conversion characteristics are adversely affected.
このような微粒子顔料の平均配設密度は１０４〜ｌＯ９
個／ｍｍ２テあり、より好ましくはｌＯ４〜ｌＯ７個／
ｆｆ１ｍ２テある。The average density of such fine particle pigments is 104 to 1O9.
pieces/mm2, more preferably lO4 to lO7 pieces/
There are ff1m2te.
゛ この平均配設密度が１０４個／■２未満である
と、被覆層の耐摩耗性が悪く、ケズレが発生しやすく１
０９個／ｍｍ２をこえると被覆層がもろくなるという欠
点がある。゛ If this average arrangement density is less than 104 pieces/■2, the abrasion resistance of the coating layer will be poor and scratches will easily occur.
If the number exceeds 0.9 pieces/mm2, there is a disadvantage that the coating layer becomes brittle.
さらにバインダー中には、微粒子顔料のほかに、潤滑剤
、帯電防止剤を添加してもよい。Furthermore, in addition to the fine particle pigment, a lubricant and an antistatic agent may be added to the binder.
バインダー中に潤滑剤を添加することにより、被覆層上
の摩擦抵抗を下げることができ、搬送工程中でのベース
フィルム表面のケズレおよびホコリ等の異物付着を防１
１二するのに特に有効である。By adding a lubricant to the binder, the frictional resistance on the coating layer can be lowered, which prevents scratching of the base film surface and the adhesion of foreign substances such as dust during the conveyance process.
It is particularly effective for 12.
潤滑剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸
、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸
、ステアロール酸等の炭素数１２以」−の脂：［ガ酸（
ＲＣＯＯＨｌＲは炭素数１１以上のアル」１し基）；前
記の脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、に等）または
アルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）から成る金属
石鹸；レシチン等が使用される。As lubricants, lubricants with carbon atoms of 12 or more, such as caprylic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, behenic acid, oleic acid, elaidic acid, linoleic acid, lylunic acid, stearolic acid, etc. Fat: [Galic acid (
RCOOHlR is an alkali group having 11 or more carbon atoms); a metal soap made of the alkali metals (Li, Na, etc.) or alkaline earth metals (Mg, Ca, Ba, etc.) of the above-mentioned fatty acids; lecithin, etc. are used be done.
この他に炭素数１２以」二の高級アルコール、およびこ
れらの硫酸エステル、界面活性剤、チタンカップリング
剤、シランカップリング剤等も使用可能である。In addition, higher alcohols having 12 or more carbon atoms, sulfuric esters thereof, surfactants, titanium coupling agents, silane coupling agents, etc. can also be used.
これらの潤滑剤（分散剤）はバインダー１００重量部に
対して０．１〜２５重量部の範囲で添加される。These lubricants (dispersants) are added in an amount of 0.1 to 25 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder.
潤滑剤としては上記の他にシリコーンオイル、フッ素オ
イル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性剤、グラ
ファイト、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、炭
素数１２〜１６個の一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個
の一価のアルコールからなる脂肪酸エステル類、炭素数
１７個測具］二の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と
合計して炭素数が２１〜２３個より成る一価のアルコー
ルとか４成る脂肪酸エステル等が使用される。In addition to the above, lubricants include silicone oil, fluorine oil, paraffin, liquid paraffin, surfactants, graphite, molybdenum disulfide, tungsten disulfide, monobasic fatty acids with 12 to 16 carbon atoms, and 3 to 12 carbon atoms. Fatty acid esters consisting of monohydric alcohols, carbon number 17 measurement tool] Monobasic fatty acids and monohydric alcohols consisting of 21 to 23 carbon atoms in total with the carbon number of the fatty acids, etc. Fatty acid esters and the like are used.
シリコーンとしては、脂肪酸変性によりなるもの、一部
フッ素変性されているものが使用される。As the silicone, silicones that are modified with fatty acids or partially modified with fluorine are used.
アルコールとしては高級アルコールよりなるもの、フッ
素としては電解置換、テロメリゼーション、オリゴメリ
ゼーション等によって得られるものが使用される。The alcohol used is one made of higher alcohol, and the fluorine used is one obtained by electrolytic substitution, telomerization, oligomerization, etc.
潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。Among the lubricants, radiation-curable ones are also advantageously used.
放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＲ１
ＣＨ３
管
ＣＨ２＝Ｃ−Ｃ００Ｒ１
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２Ｃ００Ｒ１
ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２０ＣＯＲ１ＣＨ２０ＣＯＣ
Ｈ＝ＣＨ２
ＨＯＣＯＲ
ＣＨ２０ＣＯＲ１
ＲＣＯＯＣＨ＝ＣＨ２、
ＣＨ３
■
ＲＣＯＯＣ＝ＣＨ２、
ＲＣＯＯＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２等で、ここでＲは直鎖又
は分子状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で炭素数は７
以上、好ましくは１２以」二２３以下であり、これらは
弗素置換体とすることもできる。 弗素置換体としては
Ｃｎ Ｆ ２ｎ＋ｍμｍ１ＣｎＦ （’ＣＨ２）
２ｎ＋１
畳−（但し、ｍ＝１〜５）、
１・パ
ＣｎＦ ３０２ ＮＣ）（２ＣＨ２−，２ｎ
＋１
ＣＨ＝ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２−、等がある。Radiation-curable lubricants include compounds that have a molecular chain exhibiting lubricity and an acrylic double bond in their molecules, such as acrylic esters, methacrylic esters, vinyl acetate esters, acrylic amide compounds, and vinyl alcohol esters. , methyl vinyl alcohol ester, allyl alcohol ester, glyceride, etc. These lubricants are represented by the structural formula: CH2=CHCOOR1 CH3 tube CH2=C-C00R1 CH2=CH-CH2C00R1 CH2=CHC0NHCH20COR1CH20COC
H=CH2 HOCOR CH20COR1 RCOOCH=CH2, CH3 ■ RCOOC=CH2, RCOOCH2-CH=CH2, etc., where R is a linear or molecular saturated or unsaturated hydrocarbon group with a carbon number of 7
The above number is preferably 12 or more and 223 or less, and these may also be fluorine-substituted products. As a fluorine substituted substance, Cn F 2n+mμm1CnF ('CH2)
2n+1 tatami- (however, m=1~5), 1・PaCnF 302 NC) (2CH2-, 2n
+1 CH=CH2CH2NHCH2CH2-, etc.
これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセリンのメタクリレ−１・（アクリレート）、グリコ
ールのメタクリレート （アクリレート）、シリコーン
のメタクリレート（アクリレート）等が挙げられる。Preferred specific examples of these radiation-curing lubricants include:
Examples include stearic acid methacrylate (acrylate), stearyl alcohol methacrylate (acrylate), glycerin methacrylate-1 (acrylate), glycol methacrylate (acrylate), and silicone methacrylate (acrylate).
さらにバインダー中に帯電防止剤を添加することによっ
て、搬送中に、ベースフィルム上に静電気が発生するの
を防ぐことができる。 そのため、工程流動中に静電気
によるベースフィルム上のゴミφホコリ等の異物付着は
なくなる。 これらの処理によりドロップアウトの発生
を抑えることができる。Furthermore, by adding an antistatic agent to the binder, it is possible to prevent static electricity from being generated on the base film during transportation. Therefore, foreign matter such as dirt and dust on the base film due to static electricity during process flow is eliminated. These processes can suppress the occurrence of dropouts.
帯電時１Ｌ剤としては、界面滑性剤を用いることが好ま
しい。As the 1L agent for charging, it is preferable to use an interfacial lubricant.
帯電時Ｉ（二剤としての界面滑性剤は、アニオン型とし
て、脂肪酸石鹸、エーテルカルボン酸およびその塩（高
級）脂肪酸とアミノ酸の結合物等のカルボン酸塩類、（
高級）アルコール硫酸エステル塩、アルキルおよびアル
キルアリルエーテル硫酸エステル塩、（高級）脂肪酸エ
ステルの硫酸エステル塩、（高級）脂肪酸アルキロール
アミドの硫酸エステル塩等の硫酸誘導体、りん塩アルギ
ル塩（高級）アルコールよりなるアルキルりん酸エステ
ル塩、りん酸アミド塩、（高級）アルコールよりなるア
ルコールりん酸エステル、天然界面活性剤としてレシチ
ン、ケファリン等のりん酸誘導体、ペンタアルキルポリ
ホスフェート、ヘキサアルキルテトラポリホスフェート
、ジアルキルホスホン酸、（高級）アルキルスルホン酸
塩、α−オレフィンスルホン酸塩、（高級）脂肪酸エス
テルのスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩（高
級）脂肪酸アミドのスルホン酸塩等のスルホン酸等であ
る。When charged I (interfacial lubricant as a two-part agent is anionic type, fatty acid soap, ether carboxylic acid and its salt (higher) carboxylic acid salts such as a combination of a fatty acid and an amino acid, (
Sulfuric acid derivatives such as (higher) alcohol sulfate ester salts, alkyl and alkylaryl ether sulfate ester salts, (higher) fatty acid ester sulfate ester salts, (higher) fatty acid alkylolamide sulfate ester salts, phosphate argyl salts (higher) alcohols Alkyl phosphate ester salts and phosphoric acid amide salts, alcohol phosphate esters consisting of (higher) alcohols, phosphoric acid derivatives such as lecithin and cephalin as natural surfactants, pentaalkyl polyphosphates, hexaalkyl tetrapolyphosphates, dialkyl Sulfonic acids such as phosphonic acid, (higher) alkyl sulfonate, α-olefin sulfonate, (higher) fatty acid ester sulfonate, dialkyl sulfosuccinate (higher) fatty acid amide sulfonate, and the like.
またカチオン型として、アルキルアミン塩、ポリアミン
およびアミノアルコール脂肪酸誘導体等のアミン類、ア
ルキル４級アンモニラ１、用、アルキルトリメチルアン
モニウム塩、アルキルアミド４級アンモニウム塩、ジア
ルキルジメチルアンモニウム塩、アルキルジメチルベン
ジルアンモニウム塩、環式４級アンモニウム塩、エーテ
ル結合を有する４級アンモニウム塩等の第４級アンモニ
ウム塩、エーテル結合を有する４級アンモニウム塩等の
第４級アンモニウム塩類、イミダシリン、ポリオキシエ
チレン（１加リン酸塩等のイミダシリン、ポリオキシエ
チレンアルキルアミン、アルキルアミン、アルキルアミ
ンオキシド等のアミン酸化エチレン付加体、フィチン酸
第４級等である。In addition, as cationic types, amines such as alkylamine salts, polyamines and amino alcohol fatty acid derivatives, alkyl quaternary ammonium salts, alkyl trimethyl ammonium salts, alkylamido quaternary ammonium salts, dialkyl dimethyl ammonium salts, alkyl dimethyl benzyl ammonium salts , cyclic quaternary ammonium salts, quaternary ammonium salts such as quaternary ammonium salts having an ether bond, quaternary ammonium salts such as quaternary ammonium salts having an ether bond, imidacillin, polyoxyethylene (monophosphoric acid), These include imidacillin salts, amine oxidized ethylene adducts such as polyoxyethylene alkyl amines, alkyl amines, and alkyl amine oxides, and quaternary phytic acid.
ノニオン型どして、アルキルエーテル、ポリエチレング
リコール等の多価アルコール類、ポリオキシソルビタン
脂肪酸エステル、ポリオキジエチレングリセリン脂肪酸
エステル、ポリオキシエチレンプロピレングリコール七
）脂肪酸エステル等の多価アルコールエステル類、ポリ
オキシエチレンアルキルフェニルエーテルアルキルフェ
ノールホルマリン縮合物の酸化エチレンＭ 導体等のア
ルキルフェノール酸化エチレン付加体、ポリオキシエチ
レン脂肪酸エステル、（高級）脂肪酸グリセリンエステ
ル、ソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル
、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル等の脂肪酸化エ
チレン伺加体、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、等の
アミド酸化エチレン付加体、トリエタノールアミン脂肪
酸部分エステル等のアミン酸化エチレン付加体、アルキ
ロールアミド等のアミド等である。Nonionic types such as alkyl ethers, polyhydric alcohols such as polyethylene glycol, polyoxysorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene glycerin fatty acid esters, polyoxyethylene propylene glycol (7) polyhydric alcohol esters such as fatty acid esters, polyoxy Ethylene oxide ethylene oxide M of ethylene alkyl phenyl ether alkyl phenol formalin condensate, alkyl phenol ethylene oxide adducts such as conductors, polyoxyethylene fatty acid ester, (higher) fatty acid glycerin ester, sorbitan fatty acid ester, sucrose fatty acid ester, pentaerythritol fatty acid ester, etc. These include amide ethylene oxide adducts such as polyoxyethylene fatty acid amide, amine oxide ethylene adducts such as triethanolamine fatty acid partial ester, and amides such as alkylolamides.
両性型として、アミノ酸型、ベタイン型等のカルボン酸
類、スルホン酸型等のスルホン酸類、アミド型金属用等
の金属塩類、アルキルベタイン、アルキルアミドベタイ
ンイミダツリウムベタイン等のアルキルベタイン類等で
ある。Examples of the amphoteric type include carboxylic acids such as amino acid type and betaine type, sulfonic acids such as sulfonic acid type, metal salts such as amide type metal salts, alkyl betaines such as alkyl betaine, alkylamide betaine, imidathulium betaine, etc.
界面活性剤の量としては樹脂に対し１重量部以上でない
とバック層の帯電防止効果がなく、２０重量部以上にす
ると、表面へのにじみだしが出るため望ましくない。If the amount of surfactant is not 1 part by weight or more based on the resin, the back layer will not have an antistatic effect, and if it is 20 parts by weight or more, it will bleed onto the surface, which is undesirable.
また、これらの界面活性剤として末端にアクリル系二重
結合を付加して
ＣＨ３
ＣＨ２＝Ｃ−ＣＯＯＣＨ２ＳＯ３Ｈ１
Ｉ
のようにしたものを用いたり、潤滑剤としてやはり、末
端にアクリル二重結合を付加することによって
ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＯＲ、ｃ）ｌ、、 ＝ＣＩＧＯＮＣＨ
２０ＧＯＲ（ＲはＣｎＨ−、ＣｎＨ等でよい）
２ｎ＋１ ２ｎ−１
などを用いることによって、アクリル系二重結合が放射
線の照射処理によってラジカルを発生し、バインダー成
分に生じたラジカルと反応して強固に結合し、表面性が
一層優れ、電磁特性も向上する。 また、塗布溶媒とし
ては特に制限はないが、バインダーの溶解性および相溶
性等を考慮して適宜選択される。 例えば、アセトン、
メチメエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、イ
ンプロパツール、ブタノール等のアルコール類、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、
イソプロピルエーテル、エチルエーテル、ジオキサン等
のエーテル類、テトラヒドロフラン、フルフラール等の
フラン類等を単一溶剤またはこれらの混合溶剤として用
いられる。Additionally, as these surfactants, those with acrylic double bonds added to the terminals such as CH3 CH2=C-COOCH2SO3H1 I may be used, and as lubricants, acrylic double bonds may also be added to the terminals. by CH2=CHC0OR, c) l,, = CIGONCH
By using 20GOR (R may be CnH-, CnH, etc.) 2n+1 2n-1, etc., the acrylic double bond generates radicals through radiation treatment, and reacts with the radicals generated in the binder component to become stronger. bond, resulting in better surface properties and improved electromagnetic properties. Further, the coating solvent is not particularly limited, but is appropriately selected in consideration of the solubility and compatibility of the binder. For example, acetone,
Ketones such as methimethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, esters such as ethyl formate, ethyl acetate, and butyl acetate, alcohols such as methanol, ethanol, impropatol, butanol, and aromas such as toluene, xylene, and ethylbenzene. group hydrocarbons,
Ethers such as isopropyl ether, ethyl ether, and dioxane, and furans such as tetrahydrofuran and furfural are used as a single solvent or a mixed solvent thereof.
以上、述べたように、重合性化合物中に微粒子顔料等の
添加剤を加えてさらに必要に応じ溶媒を加えて混合・分
散した組成物を、グラビアコート、リバースロールコー
ト、エアーナイフコート、エアードクターコート、ブレ
ードコート、キスコート、スプレイコ−１・等を用いて
基板上に塗布する。 その後、バインダーを架橋重合さ
せて固化Ｓせる。As mentioned above, a composition in which additives such as fine particle pigments are added to a polymerizable compound, and a solvent is added as necessary to mix and disperse the composition can be coated with gravure coating, reverse roll coating, air knife coating, air doctor coating, etc. Coat, blade coat, kiss coat, spray coat 1, etc. are used to coat the substrate. Thereafter, the binder is cross-linked and polymerized to solidify it.
重合性バインダーとして放射線硬化型化合物を用いた場
合、その架橋に使用する活性エネルギー線としては、放
射線加速器を線源とした電子線、Ｃｏ６０を線源とした
γ−線、５ｒ９０を線源としたβ−線、Ｘ線発生器を線
源としたＸ線あるいは紫外線等が使用される。When a radiation-curable compound is used as a polymerizable binder, the active energy rays used for crosslinking include electron beams using a radiation accelerator as a source, γ-rays using a Co60 source, and γ-rays using a 5r90 source. β-rays, X-rays using an X-ray generator as a radiation source, ultraviolet rays, etc. are used.
特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。In particular, as an irradiation source, it is advantageous to use radiation using a radiation heater from the viewpoints of controlling the absorbed dose, introducing it into the manufacturing process line, and shielding ionizing radiation.
上記被覆層を硬化する際に使用する放射線特性としては
、透過力の面から加速電圧ｌＯＯ〜７５０ＫＶ、好マシ
くは１５０〜３００ＫＶ（７）放射線加速器を用い吸収
線量を０．５〜１０メ労ラツドになるように照射するの
が好都合である。The characteristics of the radiation used when curing the above-mentioned coating layer include an accelerating voltage of 100 to 750 KV, preferably 150 to 300 KV in terms of penetrating power. It is convenient to irradiate in a rad manner.
本発明の放射線硬化に際しては、米国エナージーサイエ
ンス社にて製造されている低線量りＣ１□
イブの放射線加速器（エレクトロカーテンシステム）等
がテープコーティング加エラインへの導入、加速器内部
の２次Ｘ線の遮蔽等に極めて有利である。For radiation curing of the present invention, a low-dose C1□ Eve radiation accelerator (electrocurtain system) manufactured by Energy Sciences, Inc. in the United States is introduced into the tape coating processing line, and secondary X-rays inside the accelerator are used. This is extremely advantageous for shielding, etc.
勿論、従来より放射線加速材として広く活用されている
ところのファンデグラフ型加速器を使用してもよい。Of course, a van de Graaf type accelerator, which has been widely used as a radiation accelerating material, may also be used.
また放射線架橋に際しては、Ｎ２ガス、Ｈｅガス等の不
活性ガス気流中で放射線を被覆層に照射することが重要
であり、空気中で放射線を照射することは、バインダー
成分の架橋に際し放射線照射により生じた０３等の影響
でポリマー中に生じたラジカルが有利に架橋反応に働く
ことを阻害するので極めて不利である。In addition, when crosslinking with radiation, it is important to irradiate the coating layer with radiation in an inert gas stream such as N2 gas or He gas. This is extremely disadvantageous because the radicals generated in the polymer due to the influence of the generated 03 etc. are inhibited from working advantageously in the crosslinking reaction.
従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は、
特に酸素濃度が最大で５％である、Ｎ２ 、Ｈｅ、ＣＯ
２等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。Therefore, the atmosphere of the area to be irradiated with active energy rays is
In particular, N2, He, CO where the oxygen concentration is up to 5%
It is important to maintain the atmosphere in an inert gas atmosphere of grade 2.
本発明の被覆層には光重合増感剤を加えることにより紫
外線硬化を行なうこともできる。The coating layer of the present invention can also be cured by ultraviolet rays by adding a photopolymerizable sensitizer.
このような光重合増感剤としては従来公知のものでよく
、例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシ
ベンゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセト
フェノン、アセトフェノン、ビスジアルキルアミノベン
ゾフェノン等のケトン類、アントラキノン、フエナント
ラキノン等のキノン類、ベンジルジスルフィド、テトラ
メチルチウラムモノスルフィド等のスルフィド類、等を
挙げることができる。Such photopolymerization sensitizers may be conventionally known ones, such as benzoin series such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, α-methylbenzoin, α-chlordeoxybenzoin, benzophenone, acetophenone, acetophenone, bisdialkylamino. Examples include ketones such as benzophenone, quinones such as anthraquinone and phenanthraquinone, and sulfides such as benzyl disulfide and tetramethylthiuram monosulfide.
光重合増感剤は樹脂固形分に対し、０．１〜１０重量％
の範囲が望ましい。The photopolymerization sensitizer is 0.1 to 10% by weight based on the resin solid content.
range is desirable.
本発明では、放射線硬化性バインダーを用いた時は、巻
きしまりによる電磁変換特性の劣化やポットライフの低
下が少ない等の点で有利である。In the present invention, when a radiation-curable binder is used, it is advantageous in that there is less deterioration of electromagnetic conversion characteristics due to tight winding and less decrease in pot life.
なお、重合性バインダーとして熱硬化型化合物を用いた
場合は、公知の種々の加熱装置および加熱室を用いて、
架橋重合させればよい。In addition, when a thermosetting compound is used as a polymerizable binder, using various known heating devices and heating chambers,
What is necessary is to carry out crosslinking polymerization.
このようにして設層された被覆層の厚さは２０〜２００
００人であり、より好ましくは４０〜１００００人さら
により好ましくは、４０〜６０００人である。 ２０人
未満では本発明の実効がなく、２００００人をこえると
被覆層がもろくなるからである。The thickness of the coating layer formed in this way is 20 to 200 mm.
00 people, more preferably 40 to 10,000 people, even more preferably 40 to 6,000 people. This is because the present invention is not effective when there are fewer than 20 people, and when there are more than 20,000 people, the coating layer becomes brittle.
そして、このような被覆層と基板とからなる磁気記録媒
体用ベースフィルムの被覆層の上には、通常、ａ−Ｆ
Ｃ２０３、Ｆ Ｃ３０４、ＣＯドープａ−Ｆｅ２ ０３
、Ｃｏドープα−Ｆｅ２０３−Ｆｅ３０４固溶体、Ｃ
ｒ Ｏ２、ＣＯ系化合物被着型ａ−Ｆｅ２０３ 、Ｃｏ
系化合物被着型Ｆｅ３Ｏ４、（ｙ−Ｆｅ２０３との中間
酸化状態も含む。 又ここで言うＣｏ系化合物とは、酸
化コバルト、水酸化コバルト、コバルトフェライト、コ
バルトイオン吸着物等コバルト磁気異方性を保持力向上
に活用する場合をいう。）等の磁性体微粉末とバインダ
ーを主成分とする磁気記録層あるいはＣｏ、Ｆｅ−Ｃｏ
、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｇｏ−Ｎｉ等の強磁性金属元素と
バインダーを特徴とする特許記録層が設層されて、磁気
記録媒体が形成される。Then, on the coating layer of the base film for magnetic recording media consisting of such a coating layer and a substrate, a-F is usually applied.
C203, FC304, CO doped a-Fe2 03
, Co-doped α-Fe203-Fe304 solid solution, C
r O2, CO-based compound-coated type a-Fe203, Co
Co-based compounds include intermediate oxidation states with Fe3O4 and (y-Fe203). Also, the Co-based compounds mentioned here refer to cobalt magnetic anisotropy such as cobalt oxide, cobalt hydroxide, cobalt ferrite, and cobalt ion adsorbates. This refers to the case where the magnetic recording layer is mainly composed of magnetic fine powder and binder such as Co, Fe-Co, etc.).
A patented recording layer characterized by a ferromagnetic metal element such as , Fe--Co--Ni, or Go--Ni and a binder is deposited to form a magnetic recording medium.
バインダーとしては、熱硬化性、放射線硬化性のバイン
ダーのいずれを用いてもよい。As the binder, either a thermosetting binder or a radiation curable binder may be used.
なお用いるこれらの磁性体微粉末の製法としては、ＢＩ
３等の還元剤による湿式還元法や酸化鉄表面をＳｉ化合
物で処理後Ｈ２ガス等により、乾式還元法により、ある
いは低圧アルゴンガス気流中で真空蒸発させることによ
って得られる手法等があげられる。The manufacturing method of these magnetic fine powders used is BI
Examples include a wet reduction method using a reducing agent such as No. 3, a method in which the iron oxide surface is treated with a Si compound and then subjected to H2 gas, a dry reduction method, or a method obtained by vacuum evaporation in a low-pressure argon gas stream.
また、上述したような磁性体微粉末の他に単結晶バリウ
ムフェライト微粉末あるいはバリウムフェライトのバリ
ウム、鉄の一部をＣｕ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎｉ、その
他金属で置換したものを用いることもできる。In addition to the above-mentioned magnetic powder, single-crystal barium ferrite powder or barium ferrite in which part of the barium or iron is replaced with Cu, Sr, Pb, Co, Ni, or other metals may also be used. can.
これらは、セラミック法、ガラス化結晶化法、水熱合成
法、共沈焼成法等を用いて製造される。These are manufactured using ceramic methods, vitrification crystallization methods, hydrothermal synthesis methods, coprecipitation firing methods, and the like.
以−ｍμｍの磁性体微粒子は、針状形態、粒状形態、あ
るいは多面体状のものを使用し、磁気記録媒体として用
いる用途によって選択される。The magnetic fine particles having a size of less than 100 m μm may be acicular, granular, or polyhedral, and are selected depending on the intended use as a magnetic recording medium.
さらに、磁気記録層はＣ０１ＣｏＮｉ、ＣｏＣｒ、Ｃｏ
ｄ、ＣｏＮ１Ｐ等の蒸着膜、スパッタ膜、メッキ膜等で
あってもよい。Furthermore, the magnetic recording layer is made of CO1CoNi, CoCr, Co
d, a vapor deposited film such as CoN1P, a sputtered film, a plated film, etc.
可とう性基板の表面には、コロナ放電処理、プラズマ処
理、スパッタ処理等の処理を行うことが好ましい。The surface of the flexible substrate is preferably subjected to treatments such as corona discharge treatment, plasma treatment, and sputtering treatment.
特にコロナ放電処理は好ましく、コロナ放電処理を行う
ことにより、上記基板のケズケ防止および接着強度を向
」ニさせることができる。Corona discharge treatment is particularly preferred, and by performing corona discharge treatment, it is possible to improve the prevention of scratching of the substrate and the adhesive strength.
コロナ放電は、気体放電の１種であり、不平等電解によ
って部分的に持続放電が起きている状態である。Corona discharge is a type of gas discharge, and is a state in which sustained discharge occurs partially due to uneven electrolysis.
コロナ放電の条件は通常のものでよい。The conditions for corona discharge may be normal.
また、磁気記録層の」−やベースフィルムの表面には、
公知のｉ々のトップコ−１・層、バックコート層を形成
することもできる。In addition, on the surface of the magnetic recording layer and the base film,
It is also possible to form each known topcoat layer and backcoat layer.
■ 発明の具体的作用効果
本発明のベースフィルムおよび磁気記録媒体は、コンピ
ューター、Ｏ，Ａｉａ器等で用いられるテープ状もしく
はディスク状の磁気記録媒体用のベースフィルムおよび
磁気記録媒体として用いられる。(2) Specific effects of the invention The base film and magnetic recording medium of the present invention are used as a base film and magnetic recording medium for tape-shaped or disk-shaped magnetic recording media used in computers, O, Aia devices, etc.
第１の発明のベースフィルムは、表面粗度Ｒ２ｇ＝０．
０２ｍμｍ以上の可とう性基板と、この基板上に設けら
れた被覆層とによって形成されており、しかもこの被覆
層は、重合性バインダーと平均粒径５０〜１５００人の
微粒子を含有している。The base film of the first invention has a surface roughness R2g=0.
It is formed of a flexible substrate with a diameter of 0.2 mm or more and a coating layer provided on the substrate, and the coating layer contains a polymerizable binder and fine particles with an average particle size of 50 to 1500 particles.
このようなベースフィルムを用いることによって、表面
粗度を任意に調整することができ、表面のケズレ等のキ
ズの発生を防止し、低源でしかもドロップアウト等がき
わめて少ない品質の安定した磁気記録媒体が得られる。By using such a base film, the surface roughness can be adjusted arbitrarily, preventing the occurrence of scratches such as scratches on the surface, and producing stable magnetic recording of low quality with very little dropout etc. A medium is obtained.
さらに加えて、その他の製品品質の向上、特に接着性、
ヘッドタッチ性および耐溶剤性等の、 向−Ｌを図る
ことができる。In addition, other product quality improvements, particularly adhesion,
It is possible to improve head touch properties, solvent resistance, etc.
また第２および第３の発明は、上記第１の発明の被覆層
の組成成分に加えて、潤滑剤および帯電防止剤のうち少
なくとも一種を含む。 このため第１の発明の効果に加
えて、搬送工程中でのベースフィルム表面のケズレを防
止し、さらにホコリ等の異物が静電気によりベースフィ
ルム上に付着するのを防ぎ、仕−］ニリ製品の品質、特
にドロップアウトの発生を防ぐことができる。Further, the second and third inventions contain at least one of a lubricant and an antistatic agent in addition to the constituent components of the coating layer of the first invention. Therefore, in addition to the effects of the first invention, it prevents the surface of the base film from being scratched during the conveyance process, and also prevents foreign matter such as dust from adhering to the base film due to static electricity, making it possible to improve the quality of the finished product. Quality, especially the occurrence of dropouts can be prevented.
第４の発明は、上記第１の発明の効果のうち、コロナ放
電処理によって、特に接着性をより一層、良好にしたも
のである。The fourth invention is one in which, among the effects of the first invention, the adhesiveness in particular is further improved by corona discharge treatment.
第５の発明は、」−品温１の発明の効果を有するベース
フィルムを用いた磁気記録媒体であり、特にドロップア
ウト等の発生を防止することができる。The fifth invention is a magnetic recording medium using a base film having the effect of the invention of ``-material temperature 1'', and in particular can prevent the occurrence of dropouts and the like.
第６の発明は、上記第５の発明の効果のうち、コロナ放
電処理によって、特に接着性をより一層良好にしたもの
である。A sixth invention is one in which, among the effects of the fifth invention, the adhesiveness is particularly improved by corona discharge treatment.
■ 発明の具体的実施例
以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。(2) Specific Examples of the Invention Hereinafter, specific examples of the present invention will be shown and the present invention will be explained in more detail.
実施例１
（１）被覆層の形成
ＬＴＬＪＬＸ（放射線硬化型化合 重量部物バイン
ダー）
微粒子顔料
コロイダル５ｉ０２ ０．’０５平均粒径５００
人
重合性バインダー
フェノキシアクリレート変性体６０
公子量３００００ （固形分換算）カプロラクタム
４０
分子ｉ１’ｏｏｏ （固形分換算）混合溶剤
ＭＥＫ／ｌ・ルエンー１／１ １０００−ｍμｍ記混
合物を攪拌機中で１詩間分散させ、表１に示される表面
粗度および厚さを有するポリエチレンテレフタレートの
基板上に、乾燥厚１０００人になるようにグラビ゛アコ
ートシ、その後カレンダ加工を行い、エレクトロカーテ
ンタイプ電子線加速装置を用いて加速電圧１５０ＫｅＶ
、電極型ＩＩｔｌＯｍＡ、吸収線量３Ｍｔａｄ、Ｎ２ガ
ス中で電子線を被覆層に照射した。Example 1 (1) Formation of coating layer LTLJLX (radiation curable compound heavy duty binder) Fine particle pigment colloidal 5i02 0. '05 average particle size 500
Polymerizable binder Phenoxy acrylate modified product 60 Public weight: 30,000 (in terms of solid content) Caprolactam 40 molecules i1'ooo (in terms of solid content) Mixed solvent MEK/l・Luene-1/1 1000-mμm The mixture was stirred for 1 hour in a stirrer. The particles were dispersed, gravure coated on a polyethylene terephthalate substrate having the surface roughness and thickness shown in Table 1 to a dry thickness of 1000 mm, and then calendered using an electrocurtain type electron beam accelerator. acceleration voltage 150KeV
The coating layer was irradiated with an electron beam in N2 gas using an electrode type IItlOmA and an absorbed dose of 3 Mtad.
なお、被覆層形成後のバインダー中に分散した微粒子顔
料の平均配設密度および被覆層の表面粗度は表１に示さ
れているとおりであった。The average density of the fine particle pigments dispersed in the binder after the coating layer was formed and the surface roughness of the coating layer were as shown in Table 1.
ＩＬＩ（放射線硬化型 重置部化合物バインダ
ー）
微粒子顔料
コロイダルＳ＋０２
平均粒径２５０人 ０，１
重合性バインダー
アクリル変性ポリウレタン
エラスＩ・マー ｌＯ
分子昂４０００ （固形分換算）アクリル変性ポ
リエステル １０
分子量２００００ （固形分換算）混合溶剤
’ ＭＥＫ／）ルエン−１／ｌ １０００これら
を、被覆層１の場合と同様に、表１に示されるようなポ
リエチレンテレフタレート基板上に
１１上」（放射線硬化型 重量部化合物バイン
ダー）
微粒子顔料
Ｓ ’ｉ ０２平均粒径３００人 ５重合性バ
インダー
アクリル変性塩ビ ６分子量２０００
０ （固形分換算）アクリル変性ポリウレタン
７０分子量６０００ （固形分換算）Ｎ
ビニルピロリドン １０
４１配合溶剤
ＭＥＫ／トルエン＝１７１ １０００これらを、上記
と同様に表１に示されるようなポリエチレンテレフタレ
ート基板上に処理、設層した。ILI (radiation curing type superposition compound binder) Fine particle pigment colloidal S+02 Average particle size 250 0,1 Polymerizable binder acrylic modified polyurethane Elas I/Mer IO Molecular weight 4000 (solid content equivalent) Acrylic modified polyester 10 Molecular weight 20000 (solid (in terms of parts) mixed solvent 'MEK/) luene-1/l 1000 These were coated on a polyethylene terephthalate substrate as shown in Table 1 in the same manner as in the case of coating layer 1. ) Fine particle pigment S'i 02 Average particle size 300 5 Polymerizable binder Acrylic modified PVC 6 Molecular weight 2000
0 (solid content equivalent) Acrylic modified polyurethane
70 molecular weight 6000 (solid content equivalent) N
Vinylpyrrolidone 10 41 Blended solvent MEK/Toluene=171 1000 These were treated and layered on a polyethylene terephthalate substrate as shown in Table 1 in the same manner as above.
１１１」（放射線硬化型 重量部化合物バイン
ダー）
微粒子顔料
ＺｒＯ２平均粒径２００人 ｏ、ｏｏｉ重合性バインダ
ー
エポキシ 分子量３０００ ２０ポリウレタン
分子量２０００ １０（固形分換算）
混合溶剤
ＭＥＫ／トルエン＝ｌ／１ １０００これらの混合物
を攪拌機中１時間分散させ表１に示される表面粗度およ
び厚さを有するポリエチレンテレフタレートの基板上に
、乾燥厚４００人になるように塗布し８０℃２４時間で
架橋させた。111'' (radiation curing type compound binder by weight) Fine particle pigment ZrO2 average particle size 200 o, ooi polymerizable binder epoxy molecular weight 3000 20 polyurethane
Molecular weight 2000 10 (solid content equivalent) Mixed solvent MEK/toluene = 1/1 1000 These mixtures were dispersed in a stirrer for 1 hour, and the dry thickness was spread on a polyethylene terephthalate substrate having the surface roughness and thickness shown in Table 1. It was applied to 400 people and cross-linked at 80°C for 24 hours.
１１量」
被覆層ｌで用いた微粒子顔料５ｉ０２の平均粒径を３０
人とした。 その他の組成は被覆層■の組成と同一とし
た。The average particle size of the fine particle pigment 5i02 used in the coating layer 1 was 30
As a person. The other compositions were the same as those of the coating layer (2).
１１月」
被覆層ｌで用いた微粒子顔料５ｉ０２の平均粒径を１７
００人とした。 その他の組成は被覆層１の組成と同一
とした。"November" The average particle size of the fine particle pigment 5i02 used in the coating layer 1 was 17
00 people. The other compositions were the same as those of the coating layer 1.
被覆層ｌで用いた微粒子顔料５ｉ０２の重量部を０．０
００１重量部とした。 その他の組成は被覆層１の組成
と同一とした。The weight part of the fine particle pigment 5i02 used in the coating layer 1 was 0.0
001 parts by weight. The other compositions were the same as those of the coating layer 1.
１１１」
被覆層ｌで用いた微粒子顔料５ｉ０２の重量部を３００
重量部とした。 その他の組成は被覆層ｌの組成と同一
とした。111'' 300 parts by weight of fine particle pigment 5i02 used in coating layer l
Parts by weight. The other compositions were the same as those of the coating layer 1.
なお、被覆層１〜８形成後のバインダー中に分散した微
粒子顔料の平均配設密度および被覆層の表面粗度は表１
に示すとおりであった。The average distribution density of the fine particle pigments dispersed in the binder and the surface roughness of the coating layer after the formation of coating layers 1 to 8 are shown in Table 1.
It was as shown in
表面粗度の測定は、下記の方法に従って行った。Surface roughness was measured according to the method below.
（１）表面粗度の測定
タリステップ（ＴＡＹＬＯＲ−ＨＯＢＳＯＮ社製）を用
いて得たチャートから２０点平均法で求めた。(1) Measurement of surface roughness Surface roughness was determined using a 20-point average method from a chart obtained using Talystep (manufactured by TAYLOR-HOBSON).
カットオフ０．１７ｍｍ、ｉｔ電圧、ｌ×２．５ｋを用
いた。A cutoff of 0.17 mm and an it voltage of l×2.5k were used.
（２）磁性層の設層
−ｍμｍ述した各々の被覆層１〜８の」−に、以下に示
すような磁性層を設層した。(2) Formation of magnetic layer - mμm A magnetic layer as shown below was formed on each of the above-mentioned coating layers 1 to 8.
ｆ１＋゛門１（化Ｊ −と） 重量部コバルト被覆針
状γ−Ｆｅ２０３ １２０部（長軸０．４−１短軸０．
０５鱗
Ｈｃ６０００ｅ）
α−Ａ文２０３粉末（０，５鱗粉状） ２部分散剤（大
豆油精製レシチン） ３部溶剤（ＭＥＫ／ｌ・
ルエン ５０１５０ ’） １００部」下記組成物をボ
ールミル中にて３時間混合し、針状磁性酸化鉄を分散剤
により良く湿潤させる。f1+゛phylum 1 (chemical J-) Parts by weight Cobalt-coated acicular γ-Fe203 120 parts (major axis 0.4-1 minor axis 0.
05 scales Hc6000e) α-A Bun 203 powder (0.5 scales) 2 parts dispersant (soybean oil refined lecithin) 3 parts solvent (MEK/l.
100 parts of Luene 50150') The following composition was mixed in a ball mill for 3 hours to better wet the acicular magnetic iron oxide with the dispersant.
次に
アクリル二重結合導入飽和ポリエステル樹脂ｌＯ部（固
形分換算）
アクリル二重結合導入塩酢ビ共重合体
１０部（固形分換算）
アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー １０部（固形分換算）溶剤（ＭＥＫ／ｌ−ルエ
ン ５０１５０ ） ２００部潤滑剤（高級脂肪酸変性
シリコーンオイル）３部
のバインダーの混合物を良く混合溶解させる。Next, 10 parts of acrylic double bond-introduced saturated polyester resin (solid content equivalent) 10 parts of acrylic double bond-introduced salt-vinyl acetate copolymer (solid content equivalent) 10 parts of acrylic double bond-introduced polyether urethane elastomer (solid content equivalent) ) A mixture of 200 parts of solvent (MEK/l-luene 50150), 3 parts of lubricant (higher fatty acid-modified silicone oil), and 3 parts of binder is thoroughly mixed and dissolved.
これを先の磁性粉処理を行なったボールミル中に投入し
再び４２時間混合分散させる。This was put into the ball mill that had been subjected to the magnetic powder treatment and mixed and dispersed again for 42 hours.
この様にして得られた磁性塗料を上記の各々の被覆層上
に２−の厚さに塗布し、赤外線ランプ又は熱風により溶
剤を乾燥させた後、表面平滑化処理後、ＥＳＩ社エレク
トロカーテンタイプ電子線加速装置を使用して、加速電
圧１５０ＫｅＶ、電極電流２０ ｍ Ａ、全照射量５
Ｍ ｒ ａ ｄの条件下でＮ２雰囲気下にて電子線を照
射し、塗膜を硬化させた。The magnetic paint obtained in this way was applied to a thickness of 2 mm on each of the above coating layers, the solvent was dried using an infrared lamp or hot air, and after surface smoothing treatment, ESI Electro Curtain Type Using an electron beam accelerator, the acceleration voltage was 150 KeV, the electrode current was 20 mA, and the total irradiation amount was 5.
The coating film was cured by irradiation with an electron beam in an N2 atmosphere under the conditions of M r a d.
これらを用いて、実際に磁気テープを作製し、電磁変換
特性を測定した。Using these, magnetic tapes were actually produced and their electromagnetic conversion characteristics were measured.
（１）出力 ４０ＭＨｚの相対出力をＶＨＳデツキで測定した。(1) Output Relative output at 40 MHz was measured with a VHS deck.
結果を表１に示した。The results are shown in Table 1.
実施例２
下記に示すような磁性層を用い、被覆層の上に、３．５
−の厚さに塗布し、電子線硬化とカレンダ加工を行い、
実施例１と同様に、磁気テープを作製し、電磁変換特性
を測定した。Example 2 Using a magnetic layer as shown below, 3.5
- coated to a thickness of -, subjected to electron beam curing and calendering,
A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1, and its electromagnetic conversion characteristics were measured.
糺止１」 重量部Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｎｉ合金粉末 １００（Ｈｃ＝１２０００ｅ、
長袖０．４−２
短軸０．０５ｇ＋＊
ＢＥＴ比表面積５２ｍ″／ｇ）
塩化ビニル・酢酸ビニル・
ビニルアルコール共重６体 １５（米国ＵＣＣ社
製ＶＡＧ）ｌ）
ポリビニルブラチール樹脂 ｌＯアクリル二重
結合導入ウレタン １０メチルエチルケトン／トル
エン ２５０結果を表２に示した。Adhesive 1” Weight part Fe-Co
-Ni alloy powder 100 (Hc=12000e, long sleeve 0.4-2 short axis 0.05g+* BET specific surface area 52m''/g) Vinyl chloride/vinyl acetate/vinyl alcohol copolymer 6-polymer 15 (VAG manufactured by UCC, USA) l) Polyvinyl brachyl resin lO Acrylic double bond introduced urethane 10 Methyl ethyl ketone/toluene 250 The results are shown in Table 2.
実施例３
下記に示すような磁性層を用い、実施例１と同様に磁気
テープを作製し、電磁変換特性を測定した。Example 3 A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 using a magnetic layer as shown below, and its electromagnetic conversion characteristics were measured.
１止１」
ベースフィルムを円筒上冷却キャンの周面に沿わせて移
動させ、０２＋Ａｒ（容積比ｌ：ｌ）を毎分８００ｃｃ
の早さで流し、真空度を１．０Ｘ１０−’Ｔｏｒｒとし
たチー？７バー内で、Ｃ０８０、Ｎｉ２Ｏよりなる合金
を溶融し、入射角９０″〜３０°の部分のみ斜め蒸着し
、膜厚０．１５ＪＩＪｌのＧｏ−Ｎｉ＝−０薄膜を形成
した。1 stop 1'' The base film was moved along the circumferential surface of the cylindrical cooling can, and 02+Ar (volume ratio l:l) was applied at 800 cc/min.
The water flowed at a speed of An alloy consisting of C080 and Ni2O was melted in a 7-bar chamber and obliquely deposited only on the portion with an incident angle of 90'' to 30° to form a Go-Ni=-0 thin film with a film thickness of 0.15 JIJl.
また、ベースと反対側の表面は、はぼ酸化物のみに覆わ
れていた。Furthermore, the surface opposite to the base was covered only with oxide.
Ｈｃ＝１０００ ０ｅ。Hc=1000 0e.
膜中の平均酸素量は、ＣＯとＮｉに対する原子比 で４０％であった。The average amount of oxygen in the film is the atomic ratio of CO to Ni. It was 40%.
結果を表３に示した。The results are shown in Table 3.
実施例４
１１暑１」
実施例１に示される被覆層ｌの組成に、さらしこ潤滑剤
としてミリスチン酸を７重量部加えて、これらの混合物
を被覆層１の場合と同様に厚さ３０−のポリエステル基
板上に処理・設層した。Example 4 To the composition of the coating layer 1 shown in Example 1, 7 parts by weight of myristic acid was added as a lubricant, and the mixture was prepared to a thickness of 30 mm as in the case of the coating layer 1. It was processed and layered on a polyester substrate.
なお、この時の微粒子顔料の平均配設密度は１０５個／
ｆｆ１Ｉ！２であった・
！
実施例１に示される被覆層ｌの組成に、さらに帯電防止
剤として第４級アンモニウム塩を１０重量部加えて、こ
れらの混合物を被覆層ｌの場合と同様に厚さ３０−のポ
リエステル基板上に処理・設層した。In addition, the average arrangement density of fine particle pigments at this time was 105 pieces/
ff1I! It was 2! To the composition of the coating layer 1 shown in Example 1, 10 parts by weight of a quaternary ammonium salt as an antistatic agent was further added, and the mixture was spread on a 30-thick polyester substrate in the same manner as in the case of the coating layer 1. Processed and layered.
なお、この時の微粒子顔料の平均配設密度は１０５個／
ｌ１１２であった・
この被覆層４１および４２を有するベースフィルムを工
程流動させた時、スムーズに走行するために、フィルム
巻き取り時の巻きしまりがなく、シかも工程走行中での
フィルム表面の帯電がないために、巻き取りによるハリ
ツキを防止することができた。In addition, the average arrangement density of fine particle pigments at this time was 105 pieces/
When the base film having the coating layers 41 and 42 is flown in the process, in order to run smoothly, there is no curling when the film is wound up, and the surface of the film is not charged during the process. Because there is no burr, it was possible to prevent stiffness due to winding.
実施例５
１４）ｌ！１１厚さ、Ｒ２Ｂ＝０．０１５１ｐのポリエ
チレンテレフタレートの基板上に、実施例１で用いた被
覆層１〜４および磁性層ｌを設層した。Example 5 14) l! Covering layers 1 to 4 and magnetic layer 1 used in Example 1 were formed on a polyethylene terephthalate substrate having a thickness of 11 and an R2B of 0.0151p.
この被覆層設層前に、基板に対しコロナ放電処理を施し
た。Before this coating layer was applied, the substrate was subjected to a corona discharge treatment.
コロナ放電処理は、ピラー社製コロナ処理機Ｐ−５００
ＶＡを用いてフィルム処理速度３０ｍ／分、電圧２００
Ｖで実施した。Corona discharge treatment is carried out using Corona treatment machine P-500 manufactured by Pillar.
Using VA, film processing speed 30 m/min, voltage 200
It was carried out in V.
このようなコロナ放電をしたベースフィルムの接着強度
を下記のように測定した。The adhesive strength of the base film subjected to such corona discharge was measured as follows.
（イ）接着強度
作製したｌ／４インチ幅テープの磁性塗膜側に接着テー
プを一定の圧力で接着させ、この接着テープを１８０°
の角度方向に一定の速度で引き離し、剥離に要した力を
測定した。(B) Adhesive Strength Adhere the adhesive tape to the magnetic coating side of the prepared 1/4 inch wide tape with a constant pressure, and bend the adhesive tape 180°.
The force required for peeling was measured by peeling at a constant speed in the angular direction.
結果を表４に示した。The results are shown in Table 4.
表 ４
サンプル ベースフィルム 接着強Ｉｆ （ｇ ）陥
被覆層組成 無処理 コロナ放電処理
表１〜表４の結果より本発明の効果が明らかである。Table 4 Sample Base Film Adhesive Strength If (g) Defect Coating Layer Composition Untreated Corona Discharge Treatment The effects of the present invention are clear from the results in Tables 1 to 4.
また本発明のベースフィルムを用いることにより、その
製造コストは従来のものに比べ３０〜７０％安価にする
ことができた。Furthermore, by using the base film of the present invention, the manufacturing cost could be reduced by 30 to 70% compared to conventional ones.
出願人 ティーディーケー株式会社
代理人 弁理士 石 井 陽 −
手続ネｍｊＥ書 （自発）
昭和６１年 １月 ８日
昭和６０年特許願第４５４６１号
２、発明の名称
磁気記録媒体用ベースフィルムおよび磁気記録媒体３、
補正をする洛
事件との関係 特許出願人任 所
東京都中央区日本橋−下目１３番１号名 称
（３０６） ティーディーケイ株式会社イ侭者 大
蔵 寛
４、代理人 〒１０１
住 所 東京都千代田区岩木町３丁目２番２号
千代田岩本ビル４階
ｆｆ１８６４−４４９８ Ｆａｘ、８６４−６２８０
氏 名 （８２８６） 弁理士 石 井
陽 −５、補正の対象
明細書の「特許請求の範囲および「発明の詳細な説明」
の欄６、補正の内容
（１）明細書の「２、特許請求の範囲」の項の記載を別
紙の通り補正する。Applicant TDC Co., Ltd. Agent Patent Attorney Yo Ishii - Procedure NemjE (spontaneous) January 8, 1985 Patent Application No. 45461 2, filed in 1985, Title of invention: Base film for magnetic recording media and magnetism Recording medium 3,
Relationship to the Raku case for which amendments are made Patent applicant office
Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo - Shimome 13-1 Name
(306) T.D.K Co., Ltd. Hiroshi Okura 4, Agent 101 Address 4th floor, Chiyoda Iwamoto Building, 3-2-2 Iwaki-cho, Chiyoda-ku, Tokyo ff1864-4498 Fax, 864-6280
Name (8286) Patent Attorney Ishii
Yang-5, "Claims and Detailed Description of the Invention" of the specification subject to amendment
Column 6, Contents of amendment (1) The statement in the section "2. Scope of Claims" of the specification is amended as shown in the attached sheet.
（２）明細書の「３、発明の詳細な説明」の項の記載の
下記のとおり補正する。(2) The statement in the section "3. Detailed Description of the Invention" of the specification shall be amended as follows.
１）第７頁１８行目のｒｍμｍｌをｒ４１ｍ Ｊと補正
する。1) Correct rmμml on page 7, line 18 to r41mJ.
２）第８頁３行目、９行目および１６６行目「 ｍμｍ
」をそれぞれ「μｍ」と補正する。2) Page 8, lines 3, 9, and 166 “mμm
” are corrected to “μm”.
３）第９頁４ ｂ 目ｂ ヨび１１１行目７）’ｍμｍ
」をそれぞれｒμｍ」と補正する。3) Page 9 4 b Eye b Yobi line 111 7) 'mμm
'' are corrected to rμm, respectively.
４）第１０頁５行目、１５５行目１６６行目よび１９９
行目「ｍμｍ」をそれぞれ「ｍμｍ」と補正する。4) Page 10, line 5, line 155, line 166 and 199
Each line "mμm" is corrected to "mμm".
５）第１１頁１行目および８行目の「ｍμｍ」をそれぞ
れ「μｍ」と補正する。5) Correct "mμm" in the 1st and 8th lines of page 11 to "μm".
６）第１１頁３行〜７行目の「ここでＲ２＋１の定義は
、・・・・の値である。」を以下のとおり補正する。6) "Here, the definition of R2+1 is the value of..." on page 11, lines 3 to 7 is corrected as follows.
「この場合、平均粗度Ｒ２［ｌの定義と表示は１、ＪＩ
ＳＢＯ６０１に記載されている１０点平均粗度ＲＩＯに
準じ、測定点を１０点から２０点に増して新たに規定し
たものである。“In this case, the definition and display of average roughness R2[l is 1, JI
In accordance with the 10-point average roughness RIO described in SBO601, the number of measurement points was increased from 10 to 20 and newly defined.
すなわち、２０点平均粗度Ｒ２０は、例えば触針計によ
り描き出された断面曲線を用い、この断面曲線から基準
長５だけ抜き取った部分において、記録チャート進行方
向に記入した各山頂、谷底の平均線に平行、かつ断面曲
線を横切らない任意の基準直線から縦倍率の方向に測定
した最高から１０番目までの山頂の標高の平均値と、最
深か６１０番目までの谷底までの山頂の標高の平均値と
、最深から１０番目までの谷底の標高の平均値との差を
マイクロメーター（μｍ）で表わしたものをいう。In other words, the 20-point average roughness R20 is determined by using, for example, a cross-sectional curve drawn with a stylus meter, and using the average line of each mountain peak and valley bottom drawn in the traveling direction of the recording chart in a portion extracted from this cross-sectional curve by a reference length of 5. The average value of the elevation of the highest to 10th mountain peak measured in the direction of vertical magnification from an arbitrary reference straight line that is parallel to and does not cross the cross-sectional curve, and the average value of the altitude of the mountain peak to the deepest or 610th valley floor. and the average value of the elevations of the 10th valley bottom from the deepest, expressed in micrometers (μm).
なお、２０点平均粗度Ｒｍを求める場合の基準長さＬは
、原則として２０点平均粗さＲ諺の範囲によって異なり
、
０．８μｍ≦Ｒ２［ｌの場合 Ｌ＝０．２５ｍｍ０ 、
８ μｍ ＜ Ｒ２０≦６．３μｍの場合１．、＝０．
８ｍｍ
６．３μｍ＜Ｒ２ｏ≦２５μｍの場合
Ｌ＝２．５ｍｍ
２５μｍ＜Ｒ２１６１００μｍの場合
し二８ｍｍ
１０’０ μｍ ＜ Ｒ２１５４００μｍの場合Ｌ＝２
５ｍｍ
とする。Note that the standard length L when determining the 20-point average roughness Rm varies depending on the range of the 20-point average roughness R, and is as follows: 0.8 μm≦R2[l, L=0.25 mm0,
8 μm < R20≦6.3 μm 1. ,=0.
8mm If 6.3μm<R2o≦25μm, L=2.5mm If 25μm<R216100μm, 28mm If 10'0 μm<R215400μm, L=2
It shall be 5mm.
また、カットオフ値は、触針スピード３０μｍ１ｓｅｃ
で、０．１８〜９１１ｚ程度とする。In addition, the cutoff value is a stylus speed of 30 μm 1 sec.
So, it is about 0.18 to 911z.
また、触針針の針先端面の大きさは０．ＩＸ２．５μｍ
、針圧は２ｍｇとする。」７）第３７頁２行目の
ｒ ＣｎＦｏＧ１１２ＣＩｈＮＩＩＣｌ１２ＣＨ□Ｊを
Ｆ ＣｎＦ２ｎ＋＋ＣＩ！２ＣＩＩｚＮＩＩＣ１ｂＣＨ
２Ｊと補正する。In addition, the size of the needle tip surface of the stylus needle is 0. IX2.5μm
, needle pressure is 2 mg. ”7) Page 37, line 2 r CnFoG112CIhNIICl12CH□J to F CnF2n++CI! 2CIIzNIIC1bCH
Correct it to 2J.
８）第３７頁３行目の
ｒ Ｃ８Ｆ１８−１ｏＯＧＯＯＣ１ｈＣｌ１２−Ｊをｒ
ＣＨＦ２ｎ＋ＩＱＯＧＯＯＣ１ｈＣＩ１２−Ｊと補正
する。8) Page 37, line 3 r C8F18-1oOGOOC1hCl12-J
Correct as CHF2n+IQOGOOC1hCI12-J.
９）第４８頁１０行目の「ケズケ」を「ケズレ」と補正
する。9) Correct "kezuke" on page 48, line 10 to "kezure".
１０）第４９頁８行目の「ｍμｍ」を「μｍ」と補正す
る。10) Correct "mμm" in the 8th line of page 49 to "μm".
１１）第５６頁３〜４行目の［カットオフ・・・・を用
いた。」を「カットオ）値は、触針スピード３０ ｐｍ
／ｓｅｃで、０．１８〜９Ｈｚ程度とし、触針針の針
先端面の大きさは０．１×２．５μｍ、針圧は２ｍｇと
した。」と補正する。11) [Cutoff...] on page 56, lines 3 and 4 was used. ” to “cutoff” value is stylus speed 30 pm
/sec, about 0.18 to 9 Hz, the size of the tip of the stylus needle was 0.1 x 2.5 μm, and the needle pressure was 2 mg. ” he corrected.
１２）第５９頁表１中に示される評価項目の１つである
表面粗度の単位「ｍμｍ」をすべて「μｍ」と補正する
。12) All units of surface roughness "mμm", which is one of the evaluation items shown in Table 1 on page 59, are corrected to "μm".
１３）第６１頁表２中に示される評価項目の１つである
表面粗度の単位「ｍμｍ」をすべて「μｌ」と補正する
。13) The unit of surface roughness, "mμm", which is one of the evaluation items shown in Table 2 on page 61, is all corrected to "μl".
１４）第６４頁表３中に示される評価項目の１つである
表面粗度の単位「ｍμｌ」をすべて「μｍ」と補正する
。14) The unit of surface roughness, "mμl", which is one of the evaluation items shown in Table 3 on page 64, is all corrected to "μm".
１５）第６６頁５行目の「ｍＡＬｍ」をｒμｍＪと補正
する。15) Correct "mALm" on page 66, line 5 to rμmJ.
２、特許請求の範囲
（１）表面粗度Ｒ２ｏ＝０．０２μｍ以七の可とう性基
板トに、重合性バインダーと平均粒径５０〜１５００人
の微粒子顔料とを含有する被覆層を有ｍμｍることを特
徴とする磁気記録媒体用ベースフィルム。2. Claims (1) A coating layer containing a polymerizable binder and a fine particle pigment with an average particle size of 50 to 1500 mμm on a flexible substrate with a surface roughness R2o = 0.02μm or more. A base film for magnetic recording media characterized by:
（２）重合性バインダーが、放射線硬化型化合物を架橋
重合させたものである特許請求の範囲第１項に記載の磁
気記録媒体用ベースフィルム。(2) The base film for a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the polymerizable binder is obtained by crosslinking polymerizing a radiation-curable compound.
（３）重合性バインダーが、熱硬化型化合物を架橋重合
させたものである特許請求の範囲第１項に記載の磁気記
録媒体ベースフィルム。(3) The magnetic recording medium base film according to claim 1, wherein the polymerizable binder is a crosslinking polymerized thermosetting compound.
（４）微粒子顔料の平均配設密度が、１０４〜１０９個
／ｍｍ２である特許請求の範囲第１項ないし第３項のい
ずれかに記載の磁気記録媒体用ベースフィルム。(4) The base film for a magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 3, wherein the average arrangement density of the fine particle pigments is 104 to 109 pieces/mm2.
（５）被覆層表面の表面粗度が、可とう性基板の表面粗
度の７０％以下である特許請求の範囲第１項ないし第４
項のいずれかに記載の磁気記録＆を体用ベースフィルム
。(5) Claims 1 to 4, wherein the surface roughness of the coating layer is 70% or less of the surface roughness of the flexible substrate.
A base film for magnetic recording and body use as described in any of the above.
（６）表面粗度Ｒ丸＝０．０２μｍ以」−の可とう性基
板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベースフィル
ムにおいて、上記被覆層が、重合性バインダーと平均粒
径５０〜１５００人の微粒子顔料と潤滑剤とを含有する
ことを特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルム。(6) A base film for a magnetic recording medium in which a coating layer is provided on a flexible substrate with a surface roughness R of 0.02 μm or more, in which the coating layer contains a polymerizable binder and an average particle size of 50 μm or less. A base film for a magnetic recording medium, characterized in that it contains a pigment of ~1,500 particles and a lubricant.
（７）表面粗度Ｒ２ｇ＝０．０２μｍ以上の可とう性基
板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベースフィル
ムにおいて、上記被覆層が、重合性バインダーと平均粒
径５０〜１５００人の微粒子顔料と帯電防止剤とを含有
することを特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルム。(7) In a base film for a magnetic recording medium in which a coating layer is provided on a flexible substrate having a surface roughness R2g of 0.02 μm or more, the coating layer has a polymerizable binder and an average particle size of 50 to 1500 μm. A base film for a magnetic recording medium, comprising a fine particle pigment and an antistatic agent.
（８）表面粗度Ｒ２ｏ＝０．０２μｍ以上の可とう性基
板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベースフィル
ムにおいて、上認可とう性基板表面がコロナ放電処理さ
れており、しかも上記被覆層が、重合性バインダーと平
均粒径５０〜１５００人の微粒子顔料とを含有すること
を特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルム。(8) In a base film for a magnetic recording medium in which a coating layer is formed on a flexible substrate with a surface roughness R2o of 0.02 μm or more, the surface of the flexible substrate has been subjected to a corona discharge treatment, and the above-mentioned A base film for a magnetic recording medium, wherein the coating layer contains a polymerizable binder and a fine particle pigment having an average particle size of 50 to 1,500 particles.
（９）表面粗度Ｒ２０−０．０２μｍ以上の可とう性基
板ｍμｍに設けられた被覆層と、この被覆層上に設けら
れた磁気記録層とを有する磁気記録媒体において、上記
被覆層が、重合性バインダーと平均粒径５０〜１５００
人の微粒子顔料とを含有することを特徴とする磁気記録
媒体。(9) A magnetic recording medium having a coating layer provided on a flexible substrate mμm with a surface roughness R20-0.02 μm or more, and a magnetic recording layer provided on the coating layer, wherein the coating layer is Polymerizable binder and average particle size 50-1500
A magnetic recording medium characterized in that it contains a human microparticle pigment.
（１０）表面粗度Ｒ２０＝ ０ 、０２ μｍ以上の可
とう性基板上４二に設けられた被覆層と、この被覆層上
に設けられた磁気記録層とを有する磁気記録媒体におい
て、上認可とう性基板がコロナ放電処理されており、し
かも上記、被覆層が重合性バインダーと平均粒径５０〜
１５００人の微粒子顔料とを含有することを特徴とする
磁気記録媒体。(10) In a magnetic recording medium having a coating layer provided on a flexible substrate with a surface roughness R20 = 0, 02 μm or more, and a magnetic recording layer provided on this coating layer, The flexible substrate has been subjected to corona discharge treatment, and the coating layer has a polymerizable binder and an average particle size of 50 to 50.
1. A magnetic recording medium comprising 1,500 microparticle pigments.
Claims (10)
う性基板上に、重合性バインダーと平均粒径５０〜１５
００Åの微粒子顔料とを含有する被覆層を有することを
特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルム。(1) A polymerizable binder and an average particle size of 50 to 15
1. A base film for a magnetic recording medium, comprising a coating layer containing a fine particle pigment of 00 Å.
重合させたものである特許請求の範囲第１項に記載の磁
気記録媒体用ベースフィルム。(2) The base film for a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the polymerizable binder is obtained by crosslinking polymerizing a radiation-curable compound.
させたものである特許請求の範囲第１項に記載の磁気記
録媒体用ベースフィルム。(3) The base film for a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the polymerizable binder is a crosslinking polymerized thermosetting compound.
９個／ｍｍ＾２である特許請求の範囲第１項ないし第３
項のいずれかに記載の磁気記録媒体用ベースフィルム。(4) The average arrangement density of the fine particle pigment is 10^4 to 10^
Claims 1 to 3 which are 9 pieces/mm^2
The base film for a magnetic recording medium according to any one of Items 1 to 9.
度の７０％以下である特許請求の範囲第１項ないし第４
項のいずれかに記載の磁気記録媒体用ベースフィルム。(5) Claims 1 to 4, wherein the surface roughness of the coating layer is 70% or less of the surface roughness of the flexible substrate.
The base film for a magnetic recording medium according to any one of Items 1 to 9.
う性基板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベース
フィルムにおいて、上記被覆層が、重合性バインダーと
平均粒径５０〜１５００Åの微粒子顔料と潤滑剤とを含
有することを特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルム
。(6) A base film for a magnetic recording medium in which a coating layer is formed on a flexible substrate having a surface roughness R_2_0=0.02 mμm or more, in which the coating layer has a polymerizable binder and an average particle size of 50 to 1500 Å. A base film for magnetic recording media characterized by containing a fine particle pigment and a lubricant.
う性基板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベース
フィルムにおいて、上記被覆層が、重合性バインダーと
平均粒径５０〜１５００Åの微粒子顔料と帯電防止剤と
を含有することを特徴とする磁気記録媒体用ベースフィ
ルム。(7) A base film for a magnetic recording medium in which a coating layer is formed on a flexible substrate having a surface roughness R_2_0=0.02 mμm or more, in which the coating layer has a polymerizable binder and an average particle size of 50 to 1500 Å. A base film for magnetic recording media characterized by containing a fine particle pigment and an antistatic agent.
う性基板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベース
フィルムにおいて、上記可とう性基板表面がコロナ放電
処理されており、しかも上記被覆層が、重合性バインダ
ーと平均粒径５０〜１５００Åの微粒子顔料とを含有す
ることを特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルム。(8) A base film for a magnetic recording medium in which a coating layer is formed on a flexible substrate having a surface roughness R_2_0=0.02 mμm or more, in which the surface of the flexible substrate has been subjected to a corona discharge treatment, and A base film for a magnetic recording medium, wherein the coating layer contains a polymerizable binder and a fine particle pigment having an average particle size of 50 to 1500 Å.
う性基板上に設けられた被覆層と、この被覆層上に設け
られた磁気記録層とを有する磁気記録媒体において、上
記被覆層が、重合性バインダーと平均粒径５０〜１５０
０Åの微粒子顔料とを含有することを特徴とする磁気記
録媒体。(9) In a magnetic recording medium having a coating layer provided on a flexible substrate having a surface roughness R_2_0=0.02 mμm or more, and a magnetic recording layer provided on the coating layer, the coating layer is Polymerizable binder and average particle size 50-150
A magnetic recording medium characterized by containing a fine particle pigment of 0 Å.
とう性基板上に、設けられた被覆層と、この被覆層上に
設けられた磁気記録層とを有する磁気記録媒体において
、上記可とう性基板がコロナ放電処理されており、しか
も上記、被覆層が重合性バインダーと平均粒径５０〜１
５００Åの微粒子顔料とを含有することを特徴とする磁
気記録媒体。(10) In a magnetic recording medium having a coating layer provided on a flexible substrate having a surface roughness R_2_0=0.02 mμm or more, and a magnetic recording layer provided on the coating layer, the above-mentioned flexibility The substrate has been subjected to corona discharge treatment, and the coating layer has a polymerizable binder and an average particle size of 50 to 1.
1. A magnetic recording medium comprising: a 500 Å fine particle pigment.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60045461A JPH0731808B2 (en) | 1985-03-07 | 1985-03-07 | Method of manufacturing magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60045461A JPH0731808B2 (en) | 1985-03-07 | 1985-03-07 | Method of manufacturing magnetic recording medium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61204829A true JPS61204829A (en) | 1986-09-10 |
| JPH0731808B2 JPH0731808B2 (en) | 1995-04-10 |
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|---|---|---|---|
| JP60045461A Expired - Lifetime JPH0731808B2 (en) | 1985-03-07 | 1985-03-07 | Method of manufacturing magnetic recording medium |
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|---|---|
| JP (1) | JPH0731808B2 (en) |
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