JPS61204827A - Base film for magnetic recording medium and magnetic recording medium - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To prevent streak-line chipping on a substrate during conveyance and to prevent drop-out by incorporating a polymerizable binder and pulverous pigment into a coating layer. CONSTITUTION:The coating layer contains the polymerizable binder and the pulverous pigment having 50-1,500Angstrom average grain size. The stable fixing of the coating layer on the substrate is not possible and streaks are liable to be formed on the coating layer; in addition, an inconvenience of the sticking to guide rollers arises if the average grain size is <50Angstrom . The surface roughness is poor and an electromagnetic conversion characteristic is adversely affected when the grain size exceeds 1,500Angstrom .

Description

【発明の詳細な説明】 ■　発明の背景 技術分野 本発明は、磁気記録媒体用ベースフィルムと磁気記録媒
体に関するものである。　さらに詳しくは、特にコンピ
ューター、ＯＡ機器、ビデオフロッピー等で用いられる
ディスク状の磁気記録＆Ｊｊ　体用のベースフィルムと
そのベースフィルムを用いた磁気記録媒体に関する。Detailed Description of the Invention (1) Background of the Invention Technical Field The present invention relates to a base film for a magnetic recording medium and a magnetic recording medium. More specifically, the present invention relates to a base film for disk-shaped magnetic recording bodies used in computers, OA equipment, video floppies, etc., and a magnetic recording medium using the base film.

先行技術 磁気記録媒体は、種々の分野で広範囲に使用されるよう
になっており、その需要は年々増加している。BACKGROUND OF THE INVENTION Magnetic recording media have become widely used in a variety of fields, and the demand for them is increasing year by year.

これらの需要の増加に伴い、生産性および品質の向上に
対する研究・開発が進められている。　通常の生産ライ
ンでは、樹脂製の基板フィルムが元巻から引き出され、
このフィルム上に磁性層、さらには八ツクコ−１・層等
が設層され、磁気記録媒体が製造される。As these demands increase, research and development to improve productivity and quality are progressing. On a normal production line, the resin substrate film is pulled out from the original roll.
A magnetic layer, further a Yatsukko-1 layer, etc., are formed on this film to produce a magnetic recording medium.

このような媒体製造工程中に発生する問題の一つとして
、製造ラインのスピードアップをはかるため、搬送スピ
ードを上げると、基板の表面にスジ状のケズレが発生し
やすくなるという問題がある。　これは、主として、初
期工程での基板の搬送中に、基板が数本のガイドローラ
と接触することにより発生するものである。One of the problems that occurs during such a media manufacturing process is that when the transport speed is increased in order to speed up the manufacturing line, streak-like scratches are more likely to occur on the surface of the substrate. This mainly occurs because the substrate comes into contact with several guide rollers during the transportation of the substrate in the initial process.

そして、ディスク用の基板など、搬送する基板の厚さが
厚くなると、基板の剛性が増すため、さらに一層このス
ジ状のケズレの発生は著しくなる。When the thickness of the substrate to be transported, such as a substrate for a disk, increases, the rigidity of the substrate increases, and the occurrence of this streak-like scratching becomes even more significant.

このような基板としては、通常ポリエステルなどの可と
う性を有する樹脂からなるが、本発明者らが種々の搬送
実験を行った結果、基板の厚さが２０μｍ未満では、基
板表面上のスジ状のケズレはほとんど発生しないが、２
０　ｇ”ｍ以上になるとケズレの発生はきわめて多くな
るという結果を得ている。Such substrates are usually made of flexible resin such as polyester, but as a result of various transportation experiments conducted by the present inventors, when the thickness of the substrate is less than 20 μm, streaks on the surface of the substrate may occur. Scratching rarely occurs, but 2
It has been found that when the thickness exceeds 0 g''m, the occurrence of scratches becomes extremely large.

このような基板上で発生したスジ状のケズレ″は、工程
中で、ガイドローラ等に付着したゴミを吸着しやすく、
その結果、磁気記録層等の塗りむらを生じ、製品の品質
、特にドロップアウト等の原因となる。These streak-like scratches that occur on the substrate tend to attract dust attached to guide rollers, etc. during the process.
As a result, uneven coating of the magnetic recording layer, etc. occurs, which causes problems in product quality, especially dropouts.

これらの問題を解決し、さらにその他の品質の向上、特
に基板と磁気記録層との接着性、ヘッドタッチ性および
耐溶剤性等の向上を目的として、基板表面状の改質ある
いは改質のための被覆層を設ける等、種々の研究がなさ
れているが、未だ満足のいく解決はなされていない。In order to solve these problems and further improve other qualities, especially the adhesion between the substrate and the magnetic recording layer, head touchability, and solvent resistance, we aim to modify or improve the surface condition of the substrate. Various studies have been conducted, such as providing a coating layer, but no satisfactory solution has yet been achieved.

ＩＩ　　発明の目的 本発明は、上記のような問題を解決するためのものであ
る。　より具体的には、第１の発明は搬送工程中に基板
」二にスジ状のケズレが発生するのを防止し、仕上り製
品の品質、特にドロップアウトの発生を防ぐものである
。　さらに加えて、その他の製品品質の向上、特に基板
と磁気記録層との接着性、ヘッドタッチ性および耐溶剤
性等を向上させる磁気記録媒体用ベースフィルムを提供
することにある。II. OBJECT OF THE INVENTION The present invention is intended to solve the above problems. More specifically, the first invention prevents the occurrence of streak-like scratches on the substrate during the conveyance process, thereby improving the quality of the finished product, particularly preventing the occurrence of dropouts. In addition, another object of the present invention is to provide a base film for a magnetic recording medium that improves other product qualities, particularly the adhesion between the substrate and the magnetic recording layer, head touchability, and solvent resistance.

さらに加えて第２および第３の発明では、基板−にのケ
ズレを防止しさらにホコリ等が静電気により基板」−に
付着するのを防ぎ、仕上り製品の品質、特にドロップア
ラ−の発生を防ぐ磁気記録媒体用ベースフィルムを提供
することを目的とする。In addition, in the second and third inventions, the magnetic material prevents scratches on the substrate, prevents dust etc. from adhering to the substrate due to static electricity, and improves the quality of the finished product, especially preventing the occurrence of drop errors. The purpose is to provide a base film for recording media.

第４の発明の目的は、第１の発明の目的である基板のケ
ズレ防止および接着性をより一層向上させた磁気記録媒
体用ベースフィルムを提供することのある。A fourth object of the invention is to provide a base film for a magnetic recording medium that further improves the prevention of scratching of the substrate and the adhesive properties, which are the objects of the first invention.

第５の発明の目的は、ドロップアウトの発生を防ぎ、ヘ
ッドタッチ性、耐溶剤性、接着性に優れた磁気記録媒体
を提供することのある。A fifth object of the invention is to provide a magnetic recording medium that prevents the occurrence of dropouts and has excellent head touchability, solvent resistance, and adhesiveness.

第６の発明の目的は、第５の発明の目的である基板のケ
ズレ防１．ｆ二および接着性をより一層向」ニさせた磁
気記録媒体を提供することにある。The object of the sixth invention is to prevent scratching of the substrate, which is the object of the fifth invention. The object of the present invention is to provide a magnetic recording medium with improved f2 and adhesive properties.

■　発明の開示 このような目的は、以下の本発明によって達成される。■Disclosure of invention Such objects are achieved by the present invention as described below.

すなわち、第１の発明は、厚さ２０ｐＬｍ以」−の可と
う性基板上に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベース
フィルムにおいて、上記被覆層が、重合性バインダーと
平均粒径５０〜１５００人の微粒子顔料とを含有するこ
とを特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルムである。That is, the first invention provides a base film for a magnetic recording medium in which a coating layer is provided on a flexible substrate having a thickness of 20 pLm or more, in which the coating layer includes a polymerizable binder and an average particle size of 50 to 50 pLm. This is a base film for a magnetic recording medium characterized by containing 1,500 particles of pigment.

第２の発明は、厚さ２０ｐＬｍ以−七の可どう性基板上
に、被覆層を設層した磁気記録媒体用ベースフィルムに
おいて、上記被覆層が、重合性バインダーと平均粒径５
０〜１５００人の微粒子顔料と潤滑剤とを含有すること
を特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルムである。A second invention provides a base film for a magnetic recording medium in which a coating layer is formed on a flexible substrate having a thickness of 20 pLm or more, wherein the coating layer includes a polymerizable binder and an average particle size of 5 pLm.
This is a base film for a magnetic recording medium, characterized in that it contains 0 to 1500 particles of pigment and a lubricant.

第３の発明は、厚さ２０μｍ以上の可どう性基板トに、
被覆層を設層した磁気記録媒体用ベースフィルムにおい
て、上記被覆層が、重合性バインダーと平均粒径５０〜
１５００人の微粒子顔料と帯電防ＩＦ剤とを含有するこ
とを特徴とする磁気記録媒体用ベースフィルムである。The third invention provides a flexible substrate having a thickness of 20 μm or more,
In the base film for magnetic recording media provided with a coating layer, the coating layer includes a polymerizable binder and an average particle size of 50 to 50.
This is a base film for magnetic recording media characterized by containing 1,500 particles of pigment and an antistatic IF agent.

第４の発明は、厚さ２０μｍ以上の可とう性基板上に、
被覆層を設層した磁気記録媒体用ベースフィルムにおい
て、上記可とう性基板表面がコロナ放電処理されており
、しかも、」−記被覆層が、重合性バインダーと平均粒
径５０〜１５００人の微粒子顔料とを含有することを特
徴とする磁気記録媒体用ベースフィルムである。The fourth invention provides, on a flexible substrate having a thickness of 20 μm or more,
In the base film for a magnetic recording medium provided with a coating layer, the surface of the flexible substrate is subjected to a corona discharge treatment, and the coating layer contains a polymerizable binder and fine particles having an average particle size of 50 to 1500 particles. A base film for magnetic recording media characterized by containing a pigment.

第５の発明は、厚さ２０μｍ以上の可とぅ性基板上に設
けられた被覆層と、この被覆層上に設けられた磁気記録
層とを有する磁気記録媒体において、−に記被覆層が、
重合性バインダーと平均粒径５０〜１５００人の微粒子
顔料とを含有することを特徴とする磁気記録媒体である
。A fifth invention is a magnetic recording medium having a coating layer provided on a flexible substrate having a thickness of 20 μm or more and a magnetic recording layer provided on the coating layer, in which the coating layer described in - ,
The present invention is a magnetic recording medium characterized by containing a polymerizable binder and a fine particle pigment having an average particle size of 50 to 1500 particles.

第６の発明は、厚さ２０μｍ以上の可どう性基板上に設
けられた被覆層と、この被覆層上に設けられた磁気記録
媒体層とを有する磁気記録媒体において、」二配回とう
性基板がコロナ放電処理されており、しかも上記被覆層
が、重合性バインダーと平均粒径５０〜１５００人の微
粒子顔料とを含有することを特徴とする磁気記録な葉体
である。A sixth invention provides a magnetic recording medium having a coating layer provided on a flexible substrate having a thickness of 20 μm or more and a magnetic recording medium layer provided on the coating layer, which The magnetic recording leaf is characterized in that the substrate is subjected to a corona discharge treatment, and the coating layer contains a polymerizable binder and a fine particle pigment having an average particle size of 50 to 1,500 people.

■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。■Specific structure of the invention Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be explained in detail.

本発明の磁気記録媒体用ベースフィルムは基板と、この
基板上に設層された重合性バインダーおよび微粒子顔料
を含有する被覆層とを有する。The base film for a magnetic recording medium of the present invention has a substrate and a coating layer containing a polymerizable binder and a fine particle pigment formed on the substrate.

さらに詳しく説明すると、基板は、可とう性を有し通常
ポリエステル樹脂、ポリイミド、ポリカーボネート、ポ
リサルホン、ポリエチレンナフタレート、芳香族アラミ
ドなどの樹脂からなる。　そして、前述したように、本
発明は搬送工程中におきる基板」−のスジ状のケズレ発
生防１１．を目的とするものであり、その対象となる基
板の厚さは２０ｐＬｍ以」−である。　これは、２０μ
ｍ未満の基板では、前述のように、ケズレの発生が少な
いからである。More specifically, the substrate has flexibility and is usually made of a resin such as polyester resin, polyimide, polycarbonate, polysulfone, polyethylene naphthalate, or aromatic aramid. As mentioned above, the present invention provides 11. prevention of streak-like scratches on the substrate during the transportation process; The target substrate has a thickness of 20 pLm or more. This is 20μ
This is because substrates with a thickness of less than m cause less scratching, as described above.

このような基板の七には、被覆層が設層される。　被覆
層は、重合性バインダー中に微粒子顔料等を分散させた
ものを、基板上に塗布設層し、その後、硬化させたもの
である。A covering layer is provided on the substrate. The coating layer is a layer in which a fine particle pigment or the like is dispersed in a polymerizable binder, which is coated on the substrate, and then cured.

重合性バインダーは、放射線硬化型化合物または熱硬化
型化合物を、架橋重合させたものである。The polymerizable binder is obtained by subjecting a radiation-curable compound or a thermosetting compound to crosslinking polymerization.

用いる放射線硬化型化合物としては、二重結合数が２以
」二、望ましくは３以上の反応性７クリルオリゴマー又
はオリゴアクリレートが望ましい。The radiation-curable compound used is preferably a reactive 7-acrylic oligomer or oligoacrylate having two or more double bonds, preferably three or more.

このアクリル系化合物の具体例として挙げられる例えば
アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルとしては
、多価アルコールのポリアクリレート類およびポリメタ
クリレート類（ここで「ポリ」とはジアクリレ−１・以
上を指す。）がある。Specific examples of the acrylic compounds include acrylic esters and methacrylic esters such as polyacrylates and polymethacrylates of polyhydric alcohols (herein, "poly" refers to diacrylate 1 or more). be.

多価アルコールとしては、ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレンオキサイド、ポリブチレンオキサイド、ポ
リシクロヘキセンオキサイド、ポリエチレンオキサイド
、プロピレンオキサイド、ポリスチレンオキサイド、ポ
リオキセタン、ポリテトラヒドロフラン、シクロヘキサ
ンジオール、キシリレンジオール、ジー（β−ヒドロキ
シエトキシ）ベンゼン、グリセリン、ジグリセリン、ネ
オペンサルギリコール、トリメチロールプロパン、トリ
メチロールプロパン、ペンタエリスリト−ル、ジペンタ
エリスリト−ル、ソルビタン、ソルビトール、ブタンジ
オール、ブタントリオール、２−ブテン−１゜４−ジオ
ール、２’−ｎ−ブチル−２−エチル−プロパンジオー
ル、２−ブチン−１，４−ジオール、３−クロル−１，
２−プロパノジオール、１．４−シクロヘキサンジメタ
ツール、３−シクロヘキセン−１，１−ジメタツール、
デカリンジオール、２，３−ジブニムー２−ブチソー１
，４−ジオール、２，２−ジエチル−１，３、プロパン
ジオール、■、５−ジヒドロキシー１．２，３．４−す
トラヒドロナフタレン、２，５−ジメチル−２，５−ヘ
キサンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパン
ジオール、２，２−ジフェニル−１，３−プロパンジオ
ール、ドデカンジオール、メゾエリスリＩ・−ル、２−
エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−エチル−２−
（ヒドロキシメチル）−１，３−プロパンジオール、２
−エチル−２−メチル−１，３−プロパンジオール、ヘ
プタンジオール、ヘキサンジオール、３−ヘキセン−２
，５−ジオール、ヒドロキシベンジルアルコール、ヒド
ロキシエチルレゾルシノール、２−メチル−１，４−ブ
タンジオール、２−メチル−２，４−ベンタンジオール
、ノナンジオール、オクタンジオール、ベンタンジオー
ル、■−フェニルー１，２−エンタンジオール、プロパ
ンジオール、２，２，４．４−テ１、ラメチル−１，３
−シクロブタンジオール、２．３，５．６−テトラメチ
ル−ｐ−キシレン−α、α′−ジオール、１，１，４．
４−テトラフェニル−１，４−ブタンジオール、ｌ。Polyhydric alcohols include polyethylene glycol, polypropylene oxide, polybutylene oxide, polycyclohexene oxide, polyethylene oxide, propylene oxide, polystyrene oxide, polyoxetane, polytetrahydrofuran, cyclohexanediol, xylylene diol, di(β-hydroxyethoxy)benzene. , glycerin, diglycerin, neopensalgylicol, trimethylolpropane, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitan, sorbitol, butanediol, butanetriol, 2-butene-1゜4 -diol, 2'-n-butyl-2-ethyl-propanediol, 2-butyne-1,4-diol, 3-chloro-1,
2-propanodiol, 1,4-cyclohexane dimetatool, 3-cyclohexene-1,1-dimetatool,
Decalin diol, 2,3-dibnimu-2-butiso 1
, 4-diol, 2,2-diethyl-1,3, propanediol, ■, 5-dihydroxy-1.2,3.4-trahydronaphthalene, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2,2-diphenyl-1,3-propanediol, dodecanediol, mesoerythritol, 2-
Ethyl-1,3-hexanediol, 2-ethyl-2-
(Hydroxymethyl)-1,3-propanediol, 2
-ethyl-2-methyl-1,3-propanediol, heptanediol, hexanediol, 3-hexene-2
, 5-diol, hydroxybenzyl alcohol, hydroxyethylresorcinol, 2-methyl-1,4-butanediol, 2-methyl-2,4-bentanediol, nonanediol, octanediol, bentanediol, ■-phenyl-1,2 -entanediol, propanediol, 2,2,4.4-te1, lamethyl-1,3
-cyclobutanediol, 2.3,5.6-tetramethyl-p-xylene-α,α'-diol, 1,1,4.
4-tetraphenyl-1,4-butanediol, l.

１．４．４−テトラフェニル−２−ブチン−１，４−ジ
オール、１，２．６−トリヒドロキシヘキサン、１，１
′−ビー２−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン、１
，１′−メチレンジー２−ナフトール、１，２．４−ベ
ンゼントリオール、ビフニノール、２，２′−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）ブタン、１．１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス（ヒドロキシ
フェニル）メタン、カテコール、４−クロルレゾルシノ
ール、３，４−ジヒドロキシハイドロシンナミックアシ
ッド、ハイドロキノン、ヒドロキシベンジルアルコール
、メチルハイドロキノン、メチル−２，４，６−トリヒ
ドロキシへンゾエート、フロログルシノール、ヒロガロ
ール、レゾルシノール、グルコース、α−（１−アミノ
エチル）−ｐ−ヒドロキシベンジルアルコール、２−ア
ミノ−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２−ア
ミ７−２−メチル−１，３−プロパンジオール、３−ア
ミノ−１，２−プロパンジオール、Ｎ−（３−アミノプ
ロピル）−ジェタノールアミン、Ｎ、Ｎ′　−ビス−（
２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、２．２−ビス（ヒ
ドロキシメチル）、２．２”、２”−二トリロトリエタ
ノール、２．２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオニ
ックアシッド、１．３−ビス（ヒドロキシメチル）ウレ
ア、１．２−ビス（４−ピリジル）−１，２−エタンジ
オール、Ｎ−ｎ−ブチルジェタノールアミン、ジェタノ
ールアミン、Ｎ−エチルジェタノールアミン、３−メル
カプ１−−１　、２−プロパンジオール、３−ピペリジ
ノ−１，２−プロパンジオール、２−（２−ピリジル）
−１，３−プロパンジオール、トリエタノールアミン、
α−（ｌ−アミノエチル）−ｐ−ヒドロキシベンジルア
ルコール、３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル、スル
ホンなどがある。1.4.4-tetraphenyl-2-butyne-1,4-diol, 1,2,6-trihydroxyhexane, 1,1
'-B-2-naphthol, dihydroxynaphthalene, 1
, 1'-methylenedi-2-naphthol, 1,2,4-benzenetriol, bifuninol, 2,2'-bis(4
-hydroxyphenyl)butane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane, bis(hydroxyphenyl)methane, catechol, 4-chlorresorcinol, 3,4-dihydroxyhydrocinnamic acid, hydroquinone, hydroxybenzyl alcohol, methyl Hydroquinone, methyl-2,4,6-trihydroxyhenzoate, phloroglucinol, hyrogallol, resorcinol, glucose, α-(1-aminoethyl)-p-hydroxybenzyl alcohol, 2-amino-2-ethyl-1, 3-propanediol, 2-ami7-2-methyl-1,3-propanediol, 3-amino-1,2-propanediol, N-(3-aminopropyl)-jetanolamine, N,N'- Bis(
2-hydroxyethyl)piperazine, 2.2-bis(hydroxymethyl), 2.2",2"-nitrilotriethanol, 2.2-bis(hydroxymethyl)propionic acid, 1.3-bis( hydroxymethyl)urea, 1,2-bis(4-pyridyl)-1,2-ethanediol, N-n-butylgetanolamine, jetanolamine, N-ethylgetanolamine, 3-mercap 1--1 , 2-propanediol, 3-piperidino-1,2-propanediol, 2-(2-pyridyl)
-1,3-propanediol, triethanolamine,
Examples include α-(l-aminoethyl)-p-hydroxybenzyl alcohol, 3-amino-4-hydroxyphenyl, and sulfone.

これらのアクリル酸エステル類およびメタクリル酸エス
テル類のうち好ましいものは、その入手の容易さから、
エチレンジメタクリレート、エチレングリコールジアク
リレート、ジエチレングリコールジメタクリレーＩ・、
ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリス
リトール］・リアクリレート、ペンタエリスリｉ・−ル
ジメタクリレーＩ・、ジペンタエリスリトールペンタア
クリレ−１・、グリセリントリアクリレート、ジグリセ
リンジメタクリレート、１．３−プロパンジオールアク
リレ−１・、ｌ。Among these acrylic esters and methacrylic esters, preferable ones are those that are easy to obtain,
Ethylene dimethacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate I.
polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol]・reacrylate, pentaerythritol i・-dimethacrylate I・, dipentaerythritol pentaacrylate-1・, glycerin triacrylate, diglycerin dimethacrylate, 1,3-propanediol acrylate-1・,l.

２．４−ブタントリオールトリメタクリレートレート、
１．５−ベンタンジオールジアクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、エチレンオキサイド不１
力口したトリメチロールプロパンの）・リアクリル酸エ
ステル等である。2.4-butanetriol trimethacrylate,
1.5-bentanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, ethylene oxide
(trimethylolpropane), lyacrylic acid ester, etc.

またアクリル系化合物として使用可能なアクリルアミド
類及びメタクリルアミド類としては、メチレンビスアク
リルアミド、メチレンビスメタクリルアミドのほか、エ
チレンジアミン、ジアミノプロパン、ジアミノブタン、
ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレン、ビス（２−
アミノプロピル）アミン、ジエチレントリアミンジアミ
ン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン
、異種原子により中断されたポリアミン、環を有するポ
リアミン〔例えばフェニレンジアミン、キシリレンジア
ミン、β−（４−アミノフェニル）エチルアミン、ジア
ミノベンゾイックアシッド、ジアミノ］・ルエン、ジア
ミノアントラキノン、ジアミノフルオレンなど〕のポリ
アクリルアミド及びポリメタクリルアミドがある。Acrylamides and methacrylamides that can be used as acrylic compounds include methylenebisacrylamide, methylenebismethacrylamide, ethylenediamine, diaminopropane, diaminobutane,
Pentamethylene diamine, hexamethylene, bis(2-
aminopropyl)amine, diethylenetriaminediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, polyamines interrupted by different atoms, polyamines containing rings [e.g. phenylenediamine, xylylenediamine, β-(4-aminophenyl)ethylamine, diaminobenzoic There are polyacrylamides and polymethacrylamides of acid, diamino], luene, diaminoanthraquinone, diaminofluorene, etc.

また、Ｎ−β−ヒドロキシエチル−β−（メタクリルア
ミド）エチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ビス（β−メタク
リロキシエチル）アクリルアミド、アリルメタクリレー
トなどの如く、異なった付加重合性不飽和結合を２つ以
−ヒ有する化合物もアクリル系化合物として好適である
。In addition, two or more different addition-polymerizable unsaturated bonds can be used, such as N-β-hydroxyethyl-β-(methacrylamide)ethyl acrylate, N,N-bis(β-methacryloxyethyl)acrylamide, allyl methacrylate, etc. Compounds having -H are also suitable as acrylic compounds.

更に、アクリル系化合物として使用可能なものとして、
）・リメチロールプロパンモノアクリレートとヘキサン
ジオールとアジピン酸との反応によって得られる各種重
合度のポリエステル強重合体がある。　この場合、トリ
メチロールプロパンモノアクリレートに換えて、ペンタ
エリスリトール等の脂肪族ポリオールのジアクリレート
や、脂環式ジグリシジルエーテルのジアクリレート等を
使用してよい。　またヘキサンジオールに換えて、エチ
レングリコール、プロピレングリコール、１．３−プロ
パンジオール、１．４−ブタンジオール、１，５−ベン
タンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレング
リコール、ジプロピレングリコール、２、２．４−７１
リメチル−１．３−ベンタンジオール、１．４−シクロ
ヘキサンジメタツール、ビスフェノールＡのエチレンオ
キシド付加物およびプロピレンオキシド付加物、水素化
ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物およびプロ
ピレンオキシド付加物、ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール
等を使用してよい。Furthermore, as acrylic compounds that can be used,
)・There are strong polyester polymers with various degrees of polymerization obtained by the reaction of limethylolpropane monoacrylate, hexanediol, and adipic acid. In this case, diacrylate of aliphatic polyol such as pentaerythritol, diacrylate of alicyclic diglycidyl ether, etc. may be used instead of trimethylolpropane monoacrylate. Also, instead of hexanediol, ethylene glycol, propylene glycol, 1.3-propanediol, 1.4-butanediol, 1,5-bentanediol, neopentyl glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 2,2.4- 71
Limethyl-1,3-bentanediol, 1,4-cyclohexane dimetatool, ethylene oxide and propylene oxide adducts of bisphenol A, ethylene oxide and propylene oxide adducts of hydrogenated bisphenol A, polyethylene glycol, polypropylene glycol, Polytetramethylene glycol and the like may be used.

トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリ
セリン、ペンタエリスリ）・−ル等の１・り及びテ）・
ラオールを少量併用してよい。　更にアジピン酸に換え
て、テレフタル酸、インフタル酸、オルソフタル酸、■
、５−ナフタル酎等耐芳香族ジカルボン酸；ｐ−オキシ
安息香酸、ｐ−（ヒドロキシエトキシ）安息香酸等の芳
香族オギシカルボン酸；コハク酸、アゼライン酸、セバ
シン酸、ドデカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸
等を使用してよい。　この場合、芳香族カルボン酸と脂
肪族カルボン酸とを併用するときには、それらのモル比
は５０１５０〜１００１０であり、芳香族カルボン酸の
少なくとも３０モル％がテレフタル酸であることが望ま
しい。　　トリメリット 酸、ピロメリット酸等のトリ及びテトラカルボン酎を少
量併用してよい。　なおアジピン酸等ノ酸成分はトリレ
ンジイソシアネート等の芳香族又は脂肪族のジインシア
ネートと置換えてポリウレタンとしてもよい。　また上
記アクリレートとポリオールとの割合は、モル比で、ア
クリレートがモノアクリレートの場合は８０／２０〜１
０／９０、アクリレートがジアクリレートの場合は４０
／６０〜５／９５であるのが望ましい。Trimethylolethane, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, etc.
Raol may be used in small amounts. Furthermore, in place of adipic acid, terephthalic acid, inphthalic acid, orthophthalic acid, ■
Aromatic dicarboxylic acids such as , 5-naphthalate; aromatic oxycarboxylic acids such as p-oxybenzoic acid and p-(hydroxyethoxy)benzoic acid; aliphatic dicarboxylic acids such as succinic acid, azelaic acid, sebacic acid, and dodecanedicarboxylic acid Acids etc. may be used. In this case, when aromatic carboxylic acid and aliphatic carboxylic acid are used together, their molar ratio is 50,150 to 10,010, and it is desirable that at least 30 mol% of the aromatic carboxylic acid is terephthalic acid. A small amount of tri- and tetracarboxylic acid such as trimellitic acid and pyromellitic acid may be used in combination. Note that the acid component such as adipic acid may be replaced with an aromatic or aliphatic diincyanate such as tolylene diisocyanate to form a polyurethane. The molar ratio of the acrylate and polyol is 80/20 to 1 when the acrylate is a monoacrylate.
0/90, 40 if acrylate is diacrylate
/60 to 5/95 is desirable.

これらの放射線感応性化合物は、具体的には柔軟性およ
び接着性向上のためにポリウレタン、ポリエステル、ゴ
ム系（例えばＡＢ）等の熱可塑性樹脂と混合されて使用
されてよい。These radiation-sensitive compounds may be used in combination with thermoplastic resins such as polyurethane, polyester, rubber-based (eg AB), specifically to improve flexibility and adhesion.

この熱可塑性樹脂はアクリル変性（二重結合が導入）さ
れていてもよいし、そうでなくてもよい。　また、上記
放射線感応性化合物のうち、活性水素基（例えば、−Ｏ
Ｈ、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ２）を有するものは、官能基の
ある熱可塑性樹脂例えば、末端に一〇ＣＮ、−ＯＨ等を
有するポリウレタン又は末端に一〇Ｈを有するポリエス
テル又はアクリロニトリルーブタジェン系ポリマーと反
応させ、この反応生成物を使用してよい。This thermoplastic resin may or may not be acrylic modified (introducing a double bond). In addition, among the above radiation-sensitive compounds, active hydrogen groups (for example, -O
H, -COOH, -NH2) are thermoplastic resins with functional groups, such as polyurethanes having 10CN, -OH, etc. at the terminals, polyesters or acrylonitrile-butadiene-based polymers having 10H at the terminals. The reaction product may be used.

］−述のアクリル系化合物、または」−記反応生成物を
用いる場合、いずれの場合もアクリル系二重結合１個当
りの分子量は２００〜２０。When using the acrylic compound mentioned above or the reaction product mentioned above, the molecular weight per acrylic double bond is 200 to 20 in either case.

ＯＯＯであるのが望ましい。　即ち、分子量が２００未
満であると、架橋反応の進行が速くなりすぎて硬くて脆
い塗膜となり、接着等の面で問題がある。　また、分子
量が２０　、０００を越えると、三次元網目構造を充分
に成長させ難くなる。It is desirable that it be OOO. That is, if the molecular weight is less than 200, the crosslinking reaction proceeds too quickly, resulting in a hard and brittle coating film, which causes problems in terms of adhesion, etc. Furthermore, if the molecular weight exceeds 20,000, it becomes difficult to sufficiently grow a three-dimensional network structure.

用いる放射線硬化型化合物の例としては、以下のような
ものがある。Examples of radiation-curable compounds to be used include the following.

■　インシアネート基と反応性を有する基を有する（メ
タ）アクリルエステル単量体とポリイソシアネート化合
物との反応生成物２モル以」二と、分子中に２個以上の
水酸基を有する化合物１モルとの反応生成物あるいはこ
れ等３者の反応性を変えて得られた反応生成物、 例えばプロピレングリコールにフロピレンオキサイドを
付加した二官能性のポリエーテル（アテ力ホリエーテル
Ｐ−１０００旭電化社製）１モルにトルエンジイソシア
ネート２モルを反応させ、その後２モルの２−ヒドロキ
シエチルメタクリレートを反応させ得た分子末端にアク
リル系二重結合を２個有する樹脂、フレホリマー、オリ
ゴマーもしくはテロマーを挙げることができる。■ 2 moles or more of a reaction product of a polyisocyanate compound and a (meth)acrylic ester monomer having a group reactive with incyanate groups, and 1 mole of a compound having two or more hydroxyl groups in the molecule. reaction product or a reaction product obtained by changing the reactivity of these three components, such as a bifunctional polyether obtained by adding propylene oxide to propylene glycol (Atheriki Folyether P-1000 manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.) ) 1 mole of toluene diisocyanate is reacted with 2 moles of toluene diisocyanate, and then 2 moles of 2-hydroxyethyl methacrylate are reacted.Resins having two acrylic double bonds at the molecular ends, phleformers, oligomers, or telomers can be mentioned. .

ここで、使用される水酸基を１個以上含有する化合物と
しては、アデカポリエーテルＰ−７００、アデカポリエ
ーテルＰ−１０００、アデカポリエーテルＧ−１５００
（以」−旭電化社製）、ポリメグ１０００、ポリメグ６
５０（以上フォーカー・コーラ社製）等の多官能性ポリ
エーテル類；ニトロセルローズ、アセチルセルローズ、
エチルセルローズの様な繊維素誘導体：ビニライ）ＶＡ
ＧＨ（米国ユニオンカーバイド社製）の様な水酸基を有
する一部ケン化された塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体
；ポリビニルアルコール；ポリビニルホルマール：ポリ
ビニルブチラール；ポリカプロラクトンＰＣＰ−〇２０
０、ポリカプロラクトンＰＣＰ−０２４０、ポリカプロ
ラクトンＰＣＦ−０３００（以−１ｘ、チッソ社製）等
の多官能性ポリエステルポリオール類；フタル酸、イソ
フタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、コハク酸、セパ
チン酸のような飽和多塩基耐とエチレングリコール、ジ
エチレングリコール、１．４−ブタンジオール、１．３
−ブタンジオール、１，２−プロピレングリコール、ジ
プロピレングリコール、１．６−ヘキサングリコール、
ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロール
フロパン、ペンタエリスリッ］・のような多価アルコー
ルとのエステル結合により得られる飽和ポリエステル樹
脂；水酸基を含有するアクリルエステルおよびメタクリ
ルエステルを少なくとも一種以上重合成分として含むア
クリル系重合体を挙げることができる。Here, the compounds containing one or more hydroxyl groups used include ADEKA Polyether P-700, ADEKA Polyether P-1000, ADEKA Polyether G-1500.
(manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.), Polymeg 1000, Polymeg 6
Polyfunctional polyethers such as 50 (manufactured by Fokker-Cola); nitrocellulose, acetylcellulose,
Cellulose derivatives such as ethyl cellulose (Vinyl) VA
Partially saponified vinyl chloride-vinyl acetate copolymer with hydroxyl groups such as GH (manufactured by Union Carbide, USA); polyvinyl alcohol; polyvinyl formal: polyvinyl butyral; polycaprolactone PCP-〇20
0, polyfunctional polyester polyols such as polycaprolactone PCP-0240, polycaprolactone PCF-0300 (hereinafter -1x, manufactured by Chisso Corporation); such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, adipic acid, succinic acid, and sepatic acid saturated polybase resistance and ethylene glycol, diethylene glycol, 1.4-butanediol, 1.3
-butanediol, 1,2-propylene glycol, dipropylene glycol, 1,6-hexane glycol,
Saturated polyester resin obtained by ester bonding with polyhydric alcohols such as neopentyl glycol, glycerin, trimethylolfuropane, pentaerythritol; contains at least one type of acrylic ester and methacrylic ester containing hydroxyl groups as a polymerization component Acrylic polymers can be mentioned.

また、ここで使用されるポリイソシアネート化合物とし
ては、２．４−１ルエンジイソシアネ−１・、２．６−
）ルエンジイソシアネート、■、４−キシレンジイソシ
アネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ　−フ
ェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジインシア
ネート、インオロンジイソシアネ−１・やデスモジュー
ルＬ、デスモジュールＩＬ（西ドイツ　バイエル社製）
等がある。In addition, the polyisocyanate compounds used here include 2.4-1-ruene diisocyanate-1., 2.6-
) Luene diisocyanate, ■, 4-xylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, inolone diisocyanate-1, desmodur L, desmodur IL (manufactured by Bayer AG, West Germany)
etc.

インシアネ−１・基と反応する基および放射線硬化性不
飽和二重結合を有する単量体としては、アクリル酸ある
いはメタクリル酸の２−ヒドロキシエチルエステル、２
−ヒドロキシプロピルエステル、２−ヒドロキシオクチ
ルエステル等水酸基を有するエステル類；アクリルアマ
イド、メタクリルアマイド、Ｎ−メチロールアクリルア
マイド等のイソシアネート基と反応する活性水素を持ち
かつアクリル系二重結合を含有する単量体；更に、アリ
ルアルコール、マレイン酸多価アルコールエステル化合
物、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノあるいは
ジグリセリド等インシアネート基と反応する活性水素を
持ちかつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合を含有す
る単量体も含まれる。Monomers having a group that reacts with the incyane-1 group and a radiation-curable unsaturated double bond include 2-hydroxyethyl ester of acrylic acid or methacrylic acid, 2-hydroxyethyl ester of acrylic acid or methacrylic acid,
-Esters with hydroxyl groups such as hydroxypropyl ester and 2-hydroxyoctyl ester; monomers containing an acrylic double bond and having active hydrogen that reacts with isocyanate groups such as acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, etc. In addition, allyl alcohol, maleic acid polyhydric alcohol ester compounds, mono- or diglycerides of long-chain fatty acids with unsaturated double bonds, etc., which have active hydrogen that reacts with incyanate groups and are radiation curable. Monomers containing linkages are also included.

１１　　分子中にエポキシ基を２個以−ヒ含む化合物１
分子と、エポキシ基と反応する基および電子線硬化性不
飽和二重結合を有する単量体２分子以−１−との反応物
、例えば、グリシジルメタクリルレートをラジカル重合
させて得たエポキシ基を含有する熱可塑性樹脂にアクリ
ル酸を反応させ、カルボキシル基とエポキシ基との開環
反応により、分子中にアクリル系二重結合をベンタクト
させた樹脂、プレポリマーもしくはオリゴマーを挙げる
ことができる。11 Compound 1 containing two or more epoxy groups in the molecule
A reaction product of a molecule and two or more molecules of a monomer having a group that reacts with an epoxy group and an electron beam curable unsaturated double bond, for example, an epoxy group obtained by radical polymerization of glycidyl methacrylate. Examples include resins, prepolymers, and oligomers in which an acrylic double bond is bent in the molecule by reacting a thermoplastic resin contained with acrylic acid and a ring-opening reaction between a carboxyl group and an epoxy group.

ここで分子中にエポキシ基を２酸以上含む化合物として
は、グリシジルアクリレ−１・、グリシジルメタクリレ
ートの如きエポキシ基を含むアクリルエステルあるいは
メタクリルエステルのホモポリマーあるいは他の重合性
モノマーとの共重合体；エピコート８２８、エピコート
１００１、エピコート１００７、エビコー）１００９（
以上シェル化学社製）等その他種々のタイプのエポキシ
樹脂等がある。Examples of compounds containing two or more epoxy groups in the molecule include homopolymers of acrylic esters or methacrylic esters containing epoxy groups, such as glycidyl acrylate-1 and glycidyl methacrylate, or copolymers with other polymerizable monomers. ; Epicort 828, Epicort 1001, Epicort 1007, Epicort) 1009 (
There are various other types of epoxy resins such as the above (manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.).

エポキシ基と反応する基および放射線硬化性不飽和二重
結合を有する単量体としてはアクリル酸、メタクリル酸
等のカルボキシル基を含有するアクリル系単量体、メチ
ルアミノエチルアクリレート、メチルアミノメタクリレ
ート等の第１級もしくは第２級アミノ基を有するアクリ
ル単量体等が使用できる。Examples of monomers having groups that react with epoxy groups and radiation-curable unsaturated double bonds include acrylic monomers containing carboxyl groups such as acrylic acid and methacrylic acid, methylaminoethyl acrylate, and methylaminomethacrylate. Acrylic monomers having a primary or secondary amino group can be used.

■　分子中にカルボキシル基を１個以上含む化合物１分
子とカルボキシル基と反応する基および放射線硬化性不
飽和二重結合を有する単量体１分子以上との反応物、例
えばメタクリル酸を溶液重合させて得たカルボキシル基
を含有する熱可塑性樹脂にグリシジルメタクリレートを
反応させ、第１Ｉ項と同様にカルボキシル基とエポキシ
基の開環反応により分子中にアクリル系二重結合を導入
させた樹脂、プ］／ホリマー、オリゴマーを挙げること
ができる。■ Solution polymerization of one molecule of a compound containing one or more carboxyl groups in the molecule and one or more molecules of a monomer having a group that reacts with carboxyl groups and one or more radiation-curable unsaturated double bonds, such as methacrylic acid. A resin containing a carboxyl group obtained by reacting glycidyl methacrylate with a thermoplastic resin containing a carboxyl group, and introducing an acrylic double bond into the molecule by a ring-opening reaction between a carboxyl group and an epoxy group in the same manner as in Section 1I. /holimers and oligomers can be mentioned.

分子中にカルボキシル基を１個以−Ｆ含む化合物として
は、分子鎖中または分子末端にカルボキシル基を含むポ
リエステル類；アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイ
ン酸、フマル酸等のラジカル重合性を持ち、かつカルボ
キシル基を有する単量体のホモポリマーあるいは他の重
合性モノマーとの共重合体等である。Examples of compounds containing one or more carboxyl groups in the molecule include polyesters containing carboxyl groups in the molecular chain or at the end of the molecule; radically polymerizable compounds such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, and fumaric acid; In addition, it is a homopolymer of a monomer having a carboxyl group or a copolymer with other polymerizable monomers.

カルボキシル基と反応する基および放射線硬化性不飽和
二重結合を有する単量体としてはグリシジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレート等がある。Examples of monomers having a group that reacts with a carboxyl group and a radiation-curable unsaturated double bond include glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate.

熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、塗！１］液の
状態では２０００００以下の分子量であり、塗布、乾燥
後に加熱することにより、縮合、伺加等の反応により分
子量は無限大のものとなる。　また、これらの樹脂のな
かで、樹脂が熱分解するまでの間に軟化または溶融しな
いものが好ましい。As a thermosetting resin or reactive resin, coating! 1] In the liquid state, the molecular weight is 200,000 or less, and when heated after coating and drying, the molecular weight becomes infinite due to reactions such as condensation and addition. Moreover, among these resins, those that do not soften or melt before the resin is thermally decomposed are preferable.

置体的には、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン軟化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アル
キッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポ
キシ−ポリアミド４８　脂、ニトロセルロースメラミン
樹脂、高分子酸ポリエステル樹脂とインシアネートプレ
ポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ル 物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／
高分子ジオール／トリフェニルメタントリイソシアネー
トの混合物、ポリアミン樹脂およびこれらの混合物であ
る。For example, phenol resin, epoxy resin, polyurethane softening resin, urea resin, melamine resin, alkyd resin, silicone resin, acrylic reaction resin, epoxy-polyamide 48 resin, nitrocellulose melamine resin, high molecular acid polyester Mixtures of resins and incyanate prepolymers, mixtures of methacrylate copolymers and diisocyanate prepolymers, polyester polyols, urea formaldehyde resins, low molecular weight glycols/
These are polymeric diol/triphenylmethane triisocyanate mixtures, polyamine resins, and mixtures thereof.

特に好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレタ
ンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）、ある
いは塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体（カルボン酸導入のものも含む）、またはアクリル変
性塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（カルボン酸導入のものも含む）およびウレタンアクリ
レートからなる放射線硬化系樹脂からなるものであり、
放射線硬化系樹脂については前記の好ましい組合わせの
外に、ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すア
クリル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化
合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレート
のようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン醇誘
導体等の不飽和結合等の、放射線照射による架橋あるい
は重合乾燥する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または
導入した樹脂等を用いることができる。Particularly preferred are cellulose resins (nitrified cotton, etc.), vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymers, thermosetting resins made of a combination of urethane (using a curing agent), or vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol. It is made of a radiation-curable resin consisting of a copolymer (including those introduced with carboxylic acid) or an acrylic modified vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer (including those introduced with carboxylic acid) and urethane acrylate. ,
In addition to the above-mentioned preferred combinations, radiation-curable resins include acrylic double bonds such as acrylic acid, methacrylic acid, or ester compounds thereof, which exhibit radically polymerizable unsaturated double bonds, and diallylphthalate. It is possible to use resins containing or introducing into the molecule of thermoplastic resin groups that can be crosslinked or polymerized and dried by radiation irradiation, such as allylic double bonds, maleic acid, unsaturated bonds such as maleic acid derivatives, etc. .

その他、使用可能なバインダー成分としては、単量体と
してアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド等があ
る。　二重結合のあるバインダーとしては、種々のポリ
エステル、ポリオール、ポリウレタン等をアクリル二重
結合を有する化合物で変性することもできる。　さらに
必要に応じて、多価アルコールと多価カルボン酸を配合
することによって、種々の分子量のものもできる。　放
射線感応樹脂として」−記のものはその一部であり、こ
れらは混合して用いることもできる。Other usable binder components include monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, and acrylamide. As binders having double bonds, various polyesters, polyols, polyurethanes, etc. can be modified with compounds having acrylic double bonds. Furthermore, by blending a polyhydric alcohol and a polyhydric carboxylic acid as necessary, products with various molecular weights can be produced. Those listed under "As a radiation-sensitive resin" are some of them, and these can also be used in combination.

このような重合性バインダー中には微粒子顔料が添加・
分散される。Fine particle pigments are added to such polymerizable binders.
distributed.

用いる微粒子顔料としては、通常コロイド粒子として知
られているものであって、例えばＳｉ０２（コロイダル
シリカ）、Ａｌ２Ｏ２（アルミナゾル）、ＭｇＯ　、Ｔ
　ｉ０２　　。The fine particle pigments used are those commonly known as colloidal particles, such as Si02 (colloidal silica), Al2O2 (alumina sol), MgO2, T
i02.

Ｃｒ２　０３　、Ｙ２　０３　　、Ｃｅ０２　　、Ｓｎ
０２　　。Cr2 03 , Y2 03 , Ce02 , Sn
02.

Ｓｂ２　　０５　　、Ｚｎ’Ｏ，Ｆｅ２　０３　　。Sb2 05, Zn’O, Fe2 03.

Ｆｅ３　０４　　、Ｃｅ０２　　、ジルコニア、ＺｎＯ
。Fe304, Ce02, zirconia, ZnO
.

ＺｎＳｉＯ４、ＣｄＯ，ＮｉＯ，ＣａＷＯ４。ZnSiO4, CdO, NiO, CaWO4.

ＣａｃＯ３、Ｂ　　ａｃＯ３、Ｃｏ　　ＣＯ３。CacO3, B acO3, Co CO3.

ＢａＴｉＯ３、Ｔｉ　　（チタンブラ、り）。BaTiO3, Ti (titanium bra, ri).

Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｆｅ、各種ヒドロシルや、樹
脂おｌ子等が使用可能である。　この場合、特に無機物
質を用いるのが好ましい。Au, Ag, Cu, Ni, Fe, various hydrosils, resin moldings, etc. can be used. In this case, it is particularly preferable to use inorganic substances.

また、タルク、カオリン、ＣａＳＯ４，窒化硼素、テフ
ロン粉末、フッ化黒鉛、二硫化モリブデン、ジルコニア
、Ｃａ５ｉ０２．アスベスト、チタンホワイト、ホワイ
トカーボン、クロムイエロー、オイルイエロー、オイル
ブルー。Also, talc, kaolin, CaSO4, boron nitride, Teflon powder, graphite fluoride, molybdenum disulfide, zirconia, Ca5i02. Asbestos, titanium white, white carbon, chrome yellow, oil yellow, oil blue.

オイルレッドなどのものであってもよい。It may also be oil red or the like.

これら微粒子は１例えばＳｉＯ２の場合、■無水珪酸の
超微粒子コロイド溶液（スノーテンクス、水系、メタノ
ールシリカゾル、１産化学） （シ）精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微
粒子状無水シリカ（標準品１００人）（アエロジル、日
木アエロジル株式会社）などが挙げられる。　また、前
記（ｉ’）の超微粒子コロイド溶液および■と同様の気
相法で製造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並び
に酸化チタンおよび前述微粒子顔料が使用され得る。These fine particles are 1.For example, in the case of SiO2, ■Ultrafine particle colloidal solution of silicic anhydride (Snowtenx, water-based, methanol silica sol, Ichisan Kagaku) (C)Ultrafine anhydrous silica produced by combustion of purified silicon tetrachloride (standard product) 100 people) (Aerosil, Hiki Aerosil Co., Ltd.). Further, the ultrafine particle colloidal solution of (i') above, ultrafine aluminum oxide produced by the same vapor phase method as in (2), titanium oxide, and the above-mentioned fine particle pigment may be used.

このような微粒子は、各種溶媒を用いて塗布液とし、こ
れを基板状に塗布、乾燥してもよく、あるいは塗布液中
に各種水性エマルジョン等の樹脂分を添加したものを塗
布、乾燥してもよい。Such fine particles may be prepared by forming a coating liquid using various solvents, applying this to a substrate and drying it, or by applying a coating liquid containing a resin component such as various aqueous emulsions and drying it. Good too.

なお、これらの微粒子顔料は、必ずしも１種づつ使用す
るとは限らず、２種３種とする場合もある。Note that these fine particle pigments are not necessarily used one at a time, and two or three types may be used.

そして、この微粒子顔料の平均粒径は５０〜１５００人
であり、より女子ましくは５０〜１０００人であり、さ
らにより好ましくは８０〜５００人である。The average particle diameter of this fine particle pigment is 50 to 1,500 particles, more preferably 50 to 1,000 particles, and even more preferably 80 to 500 particles.

平均粒径が５０人未満になると、安定に基板」−に固着
できず、被覆層にスジが発生しやすく、またガイドロー
ラーに付着したりするという不都合を生じ、１５００人
をこえると表面粗度が悪く、電磁変換特性に悪影響を及
ぼすという不都合を生じる。If the average particle size is less than 50 particles, it will not be able to stably adhere to the substrate, streaks will easily occur in the coating layer, and it will stick to the guide roller, and if it exceeds 1500 particles, surface roughness will occur. This causes the inconvenience that the electromagnetic conversion characteristics are adversely affected.

このような微粒子顔料の平均配設密度は１０４〜１０９
個／　Ｂ　ｍ２であり、より好ましくは１０４−１０７
個／ｍｍ２である。The average arrangement density of such fine particle pigments is 104 to 109
pieces/B m2, more preferably 104-107
pieces/mm2.

この平均配設密度が１０４個／ｍｍ２未満で、あると、
被覆層の耐摩耗性が悪く、ケズレが発生しやすくｌＯｑ
個／ｍｌ１１２をこえると被覆層がもろくなるという欠
点がある。If this average arrangement density is less than 104 pieces/mm2,
The abrasion resistance of the coating layer is poor and scratches easily occur 1Oq
If the amount exceeds 112 pieces/ml, there is a drawback that the coating layer becomes brittle.

さらにバインダー中には、微粒子顔料のほかに、潤滑剤
、帯電防止剤を添加してもよい。Furthermore, in addition to the fine particle pigment, a lubricant and an antistatic agent may be added to the binder.

バインダー中に潤滑剤を添加することにより、被覆層上
の摩擦抵抗を下げることができ、搬送工程中でのベース
フィルム表面のケズレおよびホコリ等の付着を防止する
のに特に有効である。By adding a lubricant to the binder, the frictional resistance on the coating layer can be lowered, and this is particularly effective in preventing scratching of the surface of the base film and the adhesion of dust during the conveyance process.

潤滑剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸
、ミリスチン酸、パルミチン酪、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸
、ステアロール酸等の炭素数１２以七の脂肪酸（ＲＣＯ
ＯＨｌＲは炭素数１１以」−のアルキル基）；前記の脂
肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、に等）またはアルカ
リ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）から成る金属石鹸；
レシチン等が使用される。As lubricants, fatty acids having 12 or more carbon atoms such as caprylic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, behenic acid, oleic acid, elaidic acid, linoleic acid, lylunic acid, and stearolic acid are used. (R.C.O.
OHlR is an alkyl group having 11 or more carbon atoms); a metal soap consisting of an alkali metal (Li, Na, etc.) or an alkaline earth metal (Mg, Ca, Ba, etc.) of the above fatty acid;
Lecithin etc. are used.

この他に炭素数１２以」−の高級アルコール、およびこ
れらの硫酸エステル、界面活性剤、チタンカップリング
剤、シランカップリング剤等も使用可能である。In addition, higher alcohols having 12 or more carbon atoms, sulfuric esters thereof, surfactants, titanium coupling agents, silane coupling agents, etc. can also be used.

これらの潤滑剤（分散剤）はバインダー１００重量部に
対して０．１〜２５重量部の範囲で添加される。　潤滑
剤としては上記の他にシリコーンオイル、フッ素オイル
、パラフィン、流動パラフィン、界面活性剤、グラフア
イＩ・、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、炭素
数１２〜１６個の一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個の
一価のアルコールからなる脂肪酸エステル類、炭素数１
７個以」−の−塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計
して炭素数か２１〜２３個より成る一価のアルコールと
から成る脂肪酸エステル等が使用される。These lubricants (dispersants) are added in an amount of 0.1 to 25 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder. In addition to the above, lubricants include silicone oil, fluorine oil, paraffin, liquid paraffin, surfactants, Graphi I, molybdenum disulfide, tungsten disulfide, monobasic fatty acids with 12 to 16 carbon atoms, and carbon atoms. Fatty acid esters consisting of 3 to 12 monohydric alcohols, carbon number 1
Fatty acid esters are used which are composed of a basic fatty acid having 7 or more carbon atoms and a monohydric alcohol having 21 to 23 carbon atoms in total.

シリコーンとしては、脂肋酪変性よりなるもの、−・部
フン素変性されているものが使用される。As the silicone, those which are modified with butyrobutyrolyte or those which are partially fluorinated are used.

アルコールとしては高級アルコールよりなるもの、フッ
素としては電解置換、テロメリゼーション、オリゴメリ
ゼーション等によって得られるものが使用ｙれる。The alcohol used is one made of higher alcohol, and the fluorine used is one obtained by electrolytic substitution, telomerization, oligomerization, etc.

潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。Among the lubricants, radiation-curable ones are also advantageously used.

放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル醇アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、 ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＲ１ ＣＨ３ ＣＨ２＝Ｃ−Ｃ０ＯＲ、 ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２Ｃ０ＯＲ、 ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２０ＣＯＲ、ＣＨ２０ＣＯＲ
、 ＲＣＯＯＣＨ＝ＣＨ２、 ＣＨ３ ＲＣＯＯＣ＝ＣＨ２、 ＲＣＯＯＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２等で、ここでＲは直鎖ま
たは分枝状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で炭素数は
７以」−１好ましくは１２以上２３以下であり、これら
は弗素置換体とすることもできる。　弗素置換体として
は ＣｎＦ２ｎ＋１−。Radiation-curable lubricants include compounds that have a molecular chain exhibiting lubricity and an acrylic double bond in their molecules, such as acrylic esters, methacrylic esters, vinyl acetate esters, acrylamide compounds, and vinyl alcohol esters. , methyl vinyl alcohol ester, allyl alcohol ester, glyceride, etc. These lubricants are represented by the structural formula as follows: CH2=CHCOOR1 CH3 CH2=C-C0OR, CH2=CH-CH2C0OR, CH2=CHC0NHCH20COR, CH20COR
, RCOOCH=CH2, CH3 RCOOCH=CH2, RCOOCH2-CH=CH2, etc., where R is a straight chain or branched saturated or unsaturated hydrocarbon group with a carbon number of 7 or more"-1, preferably 12 or more23 These are as follows, and these can also be fluorine-substituted products. The fluorine substituted product is CnF2n+1-.

ＣｎＦ　　’　　（ＣＨ２）　　− ２ｎ＋１　　　　　　ｍ （但し、ｍ＝１〜５）、 Ｃｎ　Ｆ　２　ｎ、Ｉ　Ｓ　Ｏ２Ｎ　ＣＨ２ＣＨ２−Ｃ
ｎ　　Ｆ　　　　　ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２−１
２ｎ＋１ ＣｎＦ２ｎ＋１Ｏ−Ｃ）−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２−等があ
る。CnF' (CH2) - 2n+1 m (however, m=1 to 5), CnF2n, I S O2N CH2CH2-C
n F CH2CH2NHCH2CH2-1
2n+1 CnF2n+1O-C)-COOCH2CH2-, etc.

これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレ−１・（アクリレート）、ステ
アリルアルコールのメタクリレ−１−（アクリレート）
、グリセリンのメタクリレ−１・（アクリレート）、グ
リコールのメタクリレ−１・（アクリレート）、シリコ
ーンのメタクリレート（アクリレート）等が挙げられる
。Preferred specific examples of these radiation-curing lubricants include:
Stearic acid methacrylate-1-(acrylate), stearyl alcohol methacrylate-1-(acrylate)
, glycerin methacrylate-1 (acrylate), glycol methacrylate-1 (acrylate), silicone methacrylate (acrylate), and the like.

さらにバインダー中に帯電防止剤を添加することによっ
て、搬送中にベースフィルム上に静電気が発生するのを
防ぐことができる。Furthermore, by adding an antistatic agent to the binder, it is possible to prevent static electricity from being generated on the base film during transportation.

そのため、工程流動中に静電気によるベースフィルム」
−のゴミ・ホコリ等の伺着はなくなる。　これらの処理
によりド°ロップアウトの発生を抑えることができる。Therefore, the base film due to static electricity during flow process.
- No more dirt, dust, etc. These processes can suppress the occurrence of dropouts.

帯電防＋Ｉ−剤としては、界面活性剤を用いることが好
ましい。As the antistatic +I- agent, it is preferable to use a surfactant.

帯電防１ト剤としての界面活性剤は、アニオン型として
、脂肪酸セッケン、エーテルカルボン酸およびその塩（
高級）脂肪酸とアミノ酸の縮合物等のカルボン酸塩類、
（高級）アルコール硫酸エステル塩、アルキルおよびア
ルキルアリルエーテル硫酸エステル塩、（高級）脂肪酸
エステルの硫酸エステル塩、（高級）脂肪酸アルキロー
ルアミドの硫酸エステル塩等の硫酸誘導体、りん酸アル
キル塩、（高級）アルコールよりなるアルキルりん酸エ
ステル塩、りん酸アミド塩、（高級）アルコールよりな
るアルキルりん酸エステル、天然界面活性剤としてレシ
チン、ケファリン等のりん酸誘導体、ペンタアルキルポ
リホスフェート、ヘキサアルキルテトラポリホスフェー
ト、ジアルキルホスホン酸、（高級）アルキルスルホン
酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、（高級）脂肪酸エ
ステルのスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸基、
（高級）脂肪酸アミドのスルホン酸塩、アルキルベンゼ
ンスルホン酸塩等のスルホン酸類等である。Surfactants as antistatic agents include fatty acid soaps, ether carboxylic acids, and their salts (as anionic types).
Carboxylic acid salts such as condensates of fatty acids and amino acids (higher),
Sulfuric acid derivatives such as (higher) alcohol sulfate ester salts, alkyl and alkyl allyl ether sulfate ester salts, (higher) fatty acid ester sulfate ester salts, (higher) fatty acid alkylolamide sulfate ester salts, alkyl phosphate salts, (higher) ) Alkyl phosphate ester salts made of alcohol, phosphoric acid amide salts, alkyl phosphate esters made of (higher) alcohols, phosphoric acid derivatives such as lecithin and cephalin as natural surfactants, pentaalkyl polyphosphate, hexaalkyl tetrapolyphosphate , dialkylphosphonic acid, (higher) alkyl sulfonate, α-olefin sulfonate, (higher) fatty acid ester sulfonate, dialkyl sulfosuccinic acid group,
These include sulfonic acids such as (higher) fatty acid amide sulfonates and alkylbenzene sulfonates.

またカチオン型として、アルキルアミン塩、ポリアミン
およびアミノアルコール脂肪酸誘導体等のアミン類、ア
ルキル４級アンモニウム塩、アルギルトリメチルアンモ
ニウム塩、アルキルアミド４級アンモニウム塩、ジアル
キルジメチルアンモニウム用、アルキルジメチルベンジ
ルアンモニウム塩、環式４級アンモニウム１ｎ、エーテ
ル結合を有する４級アンモニウム塩等の第４級アンモニ
ウム塩類、イミダシリン、ポリオキシエチレン付加リン
酸塩等のイミダシリン、ポリオキシエチレンアルキルア
ミン、アルキルアミンオキシド等のアミン酸化エチレン
伺加俸、フィチン醇第４級等である。In addition, as cationic types, amines such as alkyl amine salts, polyamines and amino alcohol fatty acid derivatives, alkyl quaternary ammonium salts, algyl trimethyl ammonium salts, alkylamido quaternary ammonium salts, dialkyl dimethyl ammonium salts, alkyl dimethyl benzyl ammonium salts, Cyclic quaternary ammonium 1n, quaternary ammonium salts such as quaternary ammonium salts having an ether bond, imidacillin such as imidacillin, polyoxyethylene addition phosphate, amine ethylene oxide such as polyoxyethylene alkylamine, alkylamine oxide, etc. These include Kikka-ryo, Fichin-dou 4th grade, etc.

ノニオン型として、アルキルエーテル、ポリエチレング
リコール等の多価アルコール類、ポリオキソソルビタン
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸
エステル、ポリオキシエチレンプロピレングリコール千
ノ脂肪酸エステル等の多価アルコールエステル類、ポリ
オギシエチレンアルキルフェニルエーテルアルキルフェ
ノールホルマリン縮合物の酸化エチレン誘導体等のアル
キルフェノール酸化エチレンイｑ加体、ポリオキシエチ
レン脂肪酸エステル、（高級）脂肪酸グリセリンエステ
ル、ンルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル
、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル等の脂肪酸化エ
チレン付加体、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、等の
アミド酸化エチレン伺加体、トリエタノールアミン脂肪
酸部分エステル等のアミン酸化エチレン伺加体、アルキ
ロールアミド等のアミド等である。Nonionic types include alkyl ethers, polyhydric alcohols such as polyethylene glycol, polyhydric alcohol esters such as polyoxosorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene propylene glycol 1,000 fatty acid ester, and polyoxyethylene alkyl. Alkylphenol oxidized ethylene q adducts such as ethylene oxide derivatives of phenyl ether alkylphenol formalin condensates, fatty acid ethylene such as polyoxyethylene fatty acid esters, (higher) fatty acid glycerin esters, nrubitan fatty acid esters, sucrose fatty acid esters, pentaerythritol fatty acid esters These include adducts, amide oxide ethylene derivatives such as polyoxyethylene fatty acid amide, amine oxidized ethylene derivatives such as triethanolamine fatty acid partial ester, and amides such as alkylolamides.

両性型として、アミノ酸型、ベタイン型等のカルボン酸
類、スルホン酸型等のスルホン酸類、アミド型金属塩等
の金属塩類、アルキルベタイン、アルキルアミドベタイ
ンイミダゾリウムベタイン等のアルキルベタイン類等で
ある。Examples of the amphoteric type include carboxylic acids such as amino acid type and betaine type, sulfonic acids such as sulfonic acid type, metal salts such as amide type metal salts, alkyl betaines such as alkyl betaine, alkylamide betaine, imidazolium betaine, etc.

界面活性剤の量としては樹脂に対し１重量部具」−でな
いと、バック層の帯電防止効果がなく、２０重昂一部以
上になると、表面へのにじみだしが出るため望ましくな
い。If the amount of surfactant is less than 1 part by weight based on the resin, the back layer will not have an antistatic effect, and if it exceeds 20 parts by weight, it will undesirably bleed onto the surface.

また、これらの界面活性剤として末端にアクリル系二重
結合を付加して ＣＨ３ ＣＨ２＝Ｃ−ＣＯＯＣＨ２５ｏ３Ｈ。In addition, as these surfactants, an acrylic double bond is added to the terminal to form CH3 CH2=C-COOCH25o3H.

ＣＨ３０ ｌｌ ＣＨ２＝Ｃ−−−−Ｃ−０−［：Ｃ−Ｒ２−Ｃ０Ｒ１０
）ｎ　Ｈ のようにしたものを用いたり、潤滑剤としてやはり東端
にアクリル二重結合を伺加することによって ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＯＲ。CH30 ll CH2=C----C-0-[:C-R2-C0R10
) n H or by adding an acrylic double bond to the east end as a lubricant, CH2=CHC0OR.

ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２０ＣＯＲ （ＲはＣｎ　Ｈ２ｎ＋１−　、　Ｃｎ　Ｈ２ｎ＝。CH2=CHC0NHCH20COR (R is Cn H2n+1-, Cn H2n=.

ＣｎＨ等でよい） ｎ−１ などを用いることによって、アクリル系二重結合が放射
線の照射処理によってラジカルを発生し、バインダー成
分に生じたラジカルと反応して強固に結合し、表面性が
一層優れ、電磁特性も向上する。By using n-1 (which may be CnH, etc.), the acrylic double bond generates radicals through radiation treatment, and reacts with the radicals generated in the binder component to form a strong bond, resulting in even better surface properties. , the electromagnetic properties are also improved.

また、塗布溶媒としては特に制限はないが、バインダー
の溶解性および相溶性等を名書して適宜選択される。　
例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケＩ・ン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノ
ール、エタノール、インプロパツール、ブタノール等の
アルコール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等
の芳香族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエ
ーテル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラ
ン、フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれ
らの混合溶剤として用いられる。Further, the coating solvent is not particularly limited, but is appropriately selected based on the solubility and compatibility of the binder.
For example, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, esters such as ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate, alcohols such as methanol, ethanol, impropatol, butanol, toluene, xylene, Aromatic hydrocarbons such as ethylbenzene, ethers such as isopropyl ether, ethyl ether, and dioxane, and furans such as tetrahydrofuran and furfural are used as a single solvent or a mixed solvent thereof.

以ヒ述べたように、重合性化合物中に微粒子顔料等の添
加剤を加え、さらに必要に応じ溶媒を加えて混合・分散
した組成物を、グラビアコート、り八−スロールコート
、エアーナイフコート、エアードクターコート、ブレー
ドコー！・、キスコート、スプレイコーＩ・等を用いて
基板上に塗布する。　その後、バインダーを架橋重合さ
せて固化させる。As described below, a composition in which additives such as fine particle pigments are added to a polymerizable compound, and a solvent is added as necessary to mix and disperse the composition can be coated with gravure coating, roller coating, air knife coating, Air Doctor Coat, Blade Coat!・Coat on the substrate using Kiss Coat, Spray Coat I, etc. Thereafter, the binder is cross-linked and polymerized to solidify it.

重合性バインダーとして放射線硬化型化合物を用いた場
合、その架橋に使用する活性エネルギー線としては、放
射線加速器を線源とした電子線、Ｃｏ６０を線源とした
γ−線、５ｒ９０を線源としたβ−線、Ｘ線発生器を線
源としたＸ線あるいは紫外線等が使用される。When a radiation-curable compound is used as a polymerizable binder, the active energy rays used for crosslinking include electron beams using a radiation accelerator as a source, γ-rays using a Co60 source, and γ-rays using a 5r90 source. β-rays, X-rays using an X-ray generator as a radiation source, ultraviolet rays, etc. are used.

特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。In particular, as an irradiation source, it is advantageous to use radiation using a radiation heater from the viewpoints of controlling the absorbed dose, introducing it into the manufacturing process line, and shielding ionizing radiation.

上記被覆層を硬化する際に使用する放射線特性としては
、透過力の面から加速電圧１００〜７５０ＫＶ、好マシ
くは１５０〜３００Ｋｖの放射線加速器を用い吸収線量
を０．５〜１０メカラットになるように照射するのが好
都合である。Regarding the characteristics of the radiation used when curing the above-mentioned coating layer, from the viewpoint of penetrating power, a radiation accelerator with an accelerating voltage of 100 to 750 KV, preferably 150 to 300 KV is used, and the absorbed dose is set to 0.5 to 10 mecarats. It is convenient to irradiate.

本発明の放射線硬化に際しては、米国エナージーサイエ
ンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速器
（エレクトロカーテンシステム）等がテープコーティン
グ加エラインへの導入、加速器内部の２次Ｘ線の遮蔽等
に極めて有利である。For the radiation curing of the present invention, a low-dose type radiation accelerator (Electro Curtain System) manufactured by Energy Sciences, Inc. in the United States is used for introducing into the tape coating processing line and shielding secondary X-rays inside the accelerator. Extremely advantageous.

勿論、従来より放射線加速材として広く活用されている
ところのファンデグラフ型加速器を使用してもよい。Of course, a van de Graaf type accelerator, which has been widely used as a radiation accelerating material, may also be used.

また放射線架橋に際しては、Ｎ２ガス、Ｈｅカス等の不
活性ガス気流中で放射線を被覆層に照射することが重要
であり、空気中で放射線を照射することは、バインダー
成分の架橋に際し放射線照射により生じた０３等の影響
でポリマーに生じたラジカルが有利に架橋反応に働くこ
とを阻害するので極めて不利である。　従って、活性エ
ネルギー線を照射する部分の雰囲気は、特に酸素濃度が
最大で５％である、Ｎ２、Ｈｅ、ＣＯ２等の不活性ガス
雰囲気に保つことが重要となる。In addition, during radiation crosslinking, it is important to irradiate the coating layer with radiation in an inert gas stream such as N2 gas or He scum. This is extremely disadvantageous because the radicals generated in the polymer due to the influence of the generated 03 etc. are inhibited from working advantageously in the crosslinking reaction. Therefore, it is important to maintain the atmosphere of the part to be irradiated with active energy rays in an inert gas atmosphere such as N2, He, CO2, etc., in which the oxygen concentration is at most 5%.

本発明の被覆層には光重合増感剤を加えることにより紫
外線硬化を行なうこともできる。The coating layer of the present invention can also be cured by ultraviolet rays by adding a photopolymerizable sensitizer.

このような光重合増感剤としては従来公知のものでもよ
く１例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、α−メチルベンツイン１、α−クロルデオ
キシベンゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、ア
セトフェノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等
のケトン類、アントラキノン、フエナントラキノン等の
キノン類、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラ
ムモノスルフィド等のスルフィド類等を挙げることがで
きる。　光重合増感剤は樹脂固形分に対し、０．１−１
０重量％の範囲が望ましい。Such photopolymerization sensitizers may be conventionally known ones, such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, α-methylbentuin, α-chlordeoxybenzoin, benzophenone, acetophenone, bisdialkylamino, etc. Examples include ketones such as benzophenone, quinones such as anthraquinone and phenanthraquinone, and sulfides such as benzyl disulfide and tetramethylthiuram monosulfide. The photopolymerization sensitizer is 0.1-1 based on the resin solid content.
A range of 0% by weight is desirable.

本発明では、放射線硬化性バインダー゛を用いた時は、
巻きしまりによる電磁変換特性の劣化やポットライフの
低下がない等の点で有利である。In the present invention, when a radiation curable binder is used,
It is advantageous in that there is no deterioration of electromagnetic conversion characteristics or decrease in pot life due to tight winding.

なお、重合性バインダーとして熱硬化型化合物を用いた
場合は、公知の種々の加熱装置および加熱室を用いて、
架橋重合させればよい。In addition, when a thermosetting compound is used as a polymerizable binder, using various known heating devices and heating chambers,
What is necessary is to carry out crosslinking polymerization.

このようにして設層された被覆層の厚さは２０〜２００
００人であり、より好ましくは４０〜１００００人、さ
らに好ましくは４０〜６０００人である。The thickness of the coating layer formed in this way is 20 to 200 mm.
00 people, more preferably 40 to 10,000 people, still more preferably 40 to 6,000 people.

２０人未満では本発明の実効がなく、 １００００人をこえると被覆層がもろくなるからである
。This is because the present invention is not effective if the number of participants is less than 20, and the coating layer becomes brittle if the number exceeds 10,000.

そして、このような被覆層と基板とからなる磁気記録媒
体用ベースフィルムの被覆層の上には、通常、γ−Ｆｅ
２０３　、Ｆｅ３０４、Ｃｏ　ドープｙ−Ｆｅ２０３　
、Ｃｏドープγ−Ｆ　ｅ２０３−Ｆｅ３０４固溶体、Ｃ
ｒＯ２、ＣＯ系化合物被着型ｙ−Ｆ　ｅ２０３　、Ｃｏ
系化合物被着型Ｆｅ３Ｏ４（ｙ−Ｆｅ２０３との中間酸
化状態も含む。　またここで言うＣｏ系化合物とは、酸
化コノ＜ルト、水酸化コバルト、コバルトフェライト、
コバルトイオン吸着物等コバルト磁気異方性を保持力向
」−に活用する場合を示す。）等の磁性体微粉末とバイ
ンダーを主成分とする磁気記録層、あるいはＣＯ１Ｆｅ
−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ等の強磁性金属
元素とバインダーを主成とする磁気記録層が設層されて
、磁気記録媒体が形成される。Then, on the coating layer of a base film for a magnetic recording medium consisting of such a coating layer and a substrate, γ-Fe is usually deposited.
203, Fe304, Co-doped y-Fe203
, Co-doped γ-F e203-Fe304 solid solution, C
rO2, CO-based compound-coated y-F e203, Co
Co-based compounds include Fe3O4 (including intermediate oxidation states with y-Fe203). The Co-based compounds mentioned here include cobalt oxide, cobalt hydroxide, cobalt ferrite,
A case is shown in which the cobalt magnetic anisotropy of cobalt ion adsorbates is utilized in the direction of coercive force. ), magnetic recording layer mainly composed of magnetic fine powder and binder, or CO1Fe
A magnetic recording medium is formed by forming a magnetic recording layer mainly composed of a ferromagnetic metal element such as -Co, Fe-Co-Ni, Co-Ni, and a binder.

バインダーとしては、熱可塑性、熱硬化性、放射線硬化
性のバインダーのいずれを用いてもよい。As the binder, any of thermoplastic, thermosetting, and radiation curable binders may be used.

なお、用いるこれらの磁性体微粉末の製法としては、Ｂ
Ｈ４等の還元剤による湿式還元法や醇化鉄表面Ｓｔ化合
物で処理後、Ｈ２ガス等により乾式還元法により、ある
いは低圧アルゴンガス気流中で真空蒸着させることによ
って得られる手法等があげられる。The manufacturing method of these magnetic fine powders used is B.
Examples include a wet reduction method using a reducing agent such as H 4 , a dry reduction method using H 2 gas after treating the iron ferrite surface with an St compound, or a method obtained by vacuum evaporation in a low-pressure argon gas stream.

また上述したような磁性体微粉末の他に単結晶バリウム
フェライト微粉あるいはバリウムフェライトのバリウム
、鉄の一部をＣｕ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎｉ、その他の
金属で置換したものを用いることもできる。In addition to the above-mentioned magnetic powder, single-crystal barium ferrite powder or barium ferrite in which part of the barium or iron is replaced with Cu, Sr, Pb, Co, Ni, or other metals can also be used. .

これらは、セラミック法、ガラス化結晶化法、水熱合成
法、共沈焼成法等を用いて製造される。These are manufactured using ceramic methods, vitrification crystallization methods, hydrothermal synthesis methods, coprecipitation firing methods, and the like.

以１−の磁性体微粒子は、針状形態、粒状形態あるいは
多面体状のものを使用し、磁気記録媒体として用いる用
途によって選択される。The magnetic fine particles described in 1- below are acicular, granular, or polyhedral, and are selected depending on the intended use as a magnetic recording medium.

さらに、磁気記録層は、Ｃ０１ＣｏＮｉ、ＣｏＣｒ、Ｃ
ｏｄ、ＣｏＮ１Ｐ等の蒸着膜、スパッタ膜、メッキ膜等
であってもよい。Furthermore, the magnetic recording layer includes C01CoNi, CoCr, C
It may be a vapor deposited film such as od, CoN1P, a sputtered film, a plated film, or the like.

可とう性基体の表面（被覆層上）には、コロナ放電処理
、プラズマ処理、スパッタ処理等の処理を行うことが好
ましい。The surface of the flexible substrate (on the coating layer) is preferably subjected to treatments such as corona discharge treatment, plasma treatment, and sputtering treatment.

特にコロナ放電処理は好ましく、コロナ放電処理を行う
ことにより、」−記基板のケズレ防止および接着強度を
向」ニさせることできる。　コロナ放電は、気体放電の
一種であり、不平等電解によって部分的に持続放電が起
きている状態である。Corona discharge treatment is particularly preferred, and by performing corona discharge treatment, it is possible to improve the prevention of scratching of the substrate and the adhesive strength. Corona discharge is a type of gas discharge, and is a state in which sustained discharge occurs partially due to unequal electrolysis.

コロナ放電の条件は通常のものでよい。The conditions for corona discharge may be normal ones.

また、磁気記録層の上やベースフィルムの裏面には、公
知の種々のトップコート層バックコート層を形成するこ
ともできる。Further, various known top coat layers and back coat layers can be formed on the magnetic recording layer or on the back surface of the base film.

■　発明の具体的作用効果 本発明のベースフィルムおよび磁気記録媒体は、磁気デ
ィスク、磁気カメラ等の磁気記録媒体のベースフィルム
および磁気記録媒体として用いられる。(2) Specific effects of the invention The base film and magnetic recording medium of the present invention are used as base films and magnetic recording media of magnetic recording media such as magnetic disks and magnetic cameras.

そして、第１の発明のベースフィルムは可どう性基板と
、その基板」二に設けられた被覆層とによって形成され
ており、この被覆層は重合性へインダーと平均粒径５０
〜１５００人の微粒子顔料とを含有している。The base film of the first invention is formed by a flexible substrate and a coating layer provided on the substrate, and this coating layer includes a polymerizable inder and an average particle size of 50
~1500 fine particle pigments.

このようなベースフィルムを用いることにより、工程流
動中に、ベースフィルム表面−ににスジＪ−のケズレが
発生するのを防止し、仕上り製品の品質、特にドロップ
アウトが発生するのを防ぐことができる。By using such a base film, it is possible to prevent the formation of streaks on the surface of the base film during the process flow, and to improve the quality of the finished product, especially to prevent dropouts from occurring. can.

さらに加えて、その他の製品品質の向上、特にベースフ
ィルムと磁気記録層との接着性、ベッドタッチ性および
耐溶剤性等の向」−が図れる。In addition, it is possible to improve other product qualities, particularly the adhesion between the base film and the magnetic recording layer, bed touch properties, and solvent resistance.

また第２および第３の発明は、」−品温１の発明の被覆
層の組成成分に加えて、潤滑剤および帯電防止剤のうち
少なくとも一種を含む。　このため第１の発明の効果に
加えて、搬送工程中でのベースフィルム表面のケズレを
防止し、さらにホコリ等が静電気によりベースフィルム
上に付着するのを防ぎ、仕上り製品の品質、特にドロッ
プアウトの発生を防ぐことができる。Further, the second and third inventions contain at least one of a lubricant and an antistatic agent in addition to the composition components of the coating layer of the invention of Item Temperature 1. Therefore, in addition to the effects of the first invention, it prevents the surface of the base film from becoming scratched during the conveyance process, and also prevents dust etc. from adhering to the base film due to static electricity, thereby improving the quality of the finished product, especially dropout. can be prevented from occurring.

第４の発明は、ベースフィルム表面にコロナ放電処理が
なされているため、第１の発明の効果に加えて、さらに
接着性を向上させることができる。In the fourth invention, since the surface of the base film is subjected to corona discharge treatment, in addition to the effects of the first invention, it is possible to further improve adhesiveness.

第５の発明の磁気記録媒体は、ドロップアウトが従来に
比べきわめて少なく、ヘッドタッチ性、耐溶剤性、接着
性が良好である。The magnetic recording medium of the fifth invention has significantly less dropout than conventional media, and has good head touchability, solvent resistance, and adhesiveness.

第６の発明の磁気記録媒体は、ベースフィルム表面にコ
ロナ放電処理がされているため、第５の発明の効果に加
えて、さらにケズレ防止と接着性とを向−ヒさせること
ができる。In the magnetic recording medium of the sixth invention, since the surface of the base film is subjected to corona discharge treatment, in addition to the effects of the fifth invention, it is possible to further improve scratch prevention and adhesiveness.

■　発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。(2) Specific Examples of the Invention Hereinafter, specific examples of the present invention will be shown and the present invention will be explained in more detail.

実施例１ （１）被覆層の形成 ｌＬｔ！、（放射線硬化型化合物バインダー）重量部 微粒子顔料 コロイダル５ｉ０２ 平均粒径１００人　　　　　　０．０１重合性バインダ
ー フェノキシアクリレート変性体 分子量３００００　　　　　　　５ （固形分換算） カプロラクタム 分子量１０００　　　　　　　５ （固形分換算） 混合溶剤 ＭＥＫ／トルエン ＝１／１　　　　　　　１０００ 」−記４昆合物を攪拌機中１時間分散させ、表１に示す
厚さのポリエチレンテレフタレートの基板」二に、乾燥
厚１００人になるように塗布し、エレクトロカーテンタ
イプ電子線加速装置を用いて加速電圧１５０ＫｅＶ、電
極電流１０ｍＡ、吸収線量５Ｍｒａｄ、Ｎ２ガス中で電
子線を被覆層に照射した。Example 1 (1) Formation of coating layer 1Lt! (Radiation curable compound binder) Part by weight Fine particle pigment colloidal 5i02 Average particle size 100 0.01 Polymerizable binder Phenoxy acrylate modified product Molecular weight 30000 5 (Solid content equivalent) Caprolactam molecular weight 1000 5 (Solid content equivalent) Mixed solvent MEK/ Toluene = 1/1 1000'' - Disperse the mixture in a stirrer for 1 hour, apply it to a polyethylene terephthalate substrate with the thickness shown in Table 1 to a dry thickness of 100 mm, and apply it to an electrocurtain type. The coating layer was irradiated with an electron beam using an electron beam accelerator in N2 gas at an acceleration voltage of 150 KeV, an electrode current of 10 mA, and an absorbed dose of 5 Mrad.

なお、被覆層形成後のバインダー中に分散した微粒子顔
料の平均配設密度は１０５個／■２であった。The average distribution density of the fine particle pigments dispersed in the binder after the coating layer was formed was 105 particles/2.

（ｌ１」（放射線硬化型化合物バインダー）重量部 微粒子顔料 Ｔ　ｉ　Ｏ２ 平均粒径３００Ａ　　　　　　　０．５重合性バインダ
ー アクリル変性ポリウレタン エラストマー 混合溶剤 ＭＥＫ／ｌ・ルエン 、＝１／１　　　　　　　　１０００ これらを、被覆層１の場合と同様に処理、設層した。　
なおこの時の微粒子顔料の平均配設密度は５Ｘ１０６個
／ｍｍ２であった。(l1" (Radiation curable compound binder) Part by weight Fine particle pigment T i O2 Average particle size 300A 0.5 Polymerizable binder Acrylic modified polyurethane elastomer mixed solvent MEK/l・Luene, = 1/1 1000 These were mixed into coating layer 1 It was treated and layered in the same way as in the case of .
Incidentally, the average arrangement density of the fine particle pigments at this time was 5×10 6 particles/mm 2 .

ＬＭＪＬｕ（放射線硬化型化合物バインダー）重量部 微粒子顔料 コロイダルＳｉ０２ 平均粒径５００人　　　　　　５ 重合性バインダー アクリル変性基ビー酢ビー ビニルアルコール共重合体 （マレイン酸含有） アクリル変性ポリウレタン エラストマー Ｎビニルピロリドン　　　　１。LMJLu (radiation curable compound binder) parts by weight fine particle pigment Colloidal Si02 Average particle size 500 people 5 polymerizable binder Acrylic modified base bee vinegar bee vinyl alcohol copolymer (contains maleic acid) Acrylic modified polyurethane elastomer N-vinylpyrrolidone 1.

混合溶剤 ＭＥＫ／トルエン ＝　１　／　Ｌ　　　　　　　　１　０　０　０これら
を、上記と同様に処理、設層した。Mixed solvent MEK/toluene=1/L 1000 These were treated and layered in the same manner as above.

なお、この時の微粒子顔料の平均配設密度は５Ｘ１０７
個／ｍｆｆ１２であった。In addition, the average arrangement density of the fine particle pigment at this time is 5×107
number/mff12.

被覆層４（熱硬化型化合物バインダー）重量部 微粒子顔料 Ｔ　ｉ　０　２ 平均粒径５００λ　　　　　　１ 重合性バインダー エポキシ 分子量　３０００　　　　　　２５ ポリウレタンエラストマー 分子量２００００　　　　　　２５ （固形分換算） 混合溶剤 ＭＥＫ／トルエン ＝１／１　　　　　　　　１０００ これらの混合物を攪拌機で１時間分散させ、厚さ３０μ
ｍのポリエチレンテレフタレートの基板上に、乾燥厚８
００人になるように塗４１し、８０°Ｃ２４時間で架橋
させた。Coating layer 4 (thermosetting compound binder) Particulate pigment T i 0 2 Average particle size 500λ 1 Polymerizable binder epoxy molecular weight 3000 25 Polyurethane elastomer molecular weight 20000 25 (solid content conversion) Mixed solvent MEK/toluene = 1/1 1000 Disperse these mixtures with a stirrer for 1 hour to form a 30μ thick
m on a polyethylene terephthalate substrate with a dry thickness of 8 m.
The coating was coated to give a coating thickness of 0.000, and cross-linked at 80°C for 24 hours.

この時の微粒子顔料の平均配設密度は１０７個／ｍｍ２
であった。The average arrangement density of fine particle pigments at this time was 107 pieces/mm2
Met.

ｔｌ量」 被覆層ｌで用いた微粒子顔料５ｉ０２の平均粒径を３０
人とした。　その組成は被覆層ｌの組成と同一とした。tl amount" The average particle diameter of the fine particle pigment 5i02 used in the coating layer l is 30
As a person. Its composition was the same as that of the coating layer 1.

なお、設層方法・条件等は被覆層ｌの場合と同様に行っ
た。The layer formation method and conditions were the same as in the case of the coating layer 1.

この時の微粒子顔料の平均配設密度は１０５個／ｒｎｍ
２であった・ ｔｌ上」 被覆層ｌで用いた微粒子顔料５ｉ０２の平均粒径を２０
００人とした。　その他の組成は被覆層ｌの組成と同一
とした。The average arrangement density of fine particle pigments at this time is 105 pieces/rnm
The average particle size of the fine particle pigment 5i02 used in the coating layer l was 20.
00 people. The other compositions were the same as those of the coating layer 1.

なお、設層方法・条件等は被覆層１の場合と同様に行っ
た。Note that the layer formation method, conditions, etc. were the same as in the case of the coating layer 1.

この時の微粒子顔料の平均配設密度は１０５個／ｍｌ１
１２であった・ ｔｌ量１ 被覆層ｌで用いた微粒子顔料５ｉ０２の重量部を０．０
００１重量部とした。　その組成は被覆層ｌの組成と同
一とした。The average arrangement density of fine particle pigments at this time was 105 pieces/ml1
12・tl amount 1 Weight part of fine particle pigment 5i02 used in coating layer 1 was 0.0
001 parts by weight. Its composition was the same as that of the coating layer 1.

なお、設層方法・条件等は被覆層ｌの場合と同様に行っ
た。The layer formation method and conditions were the same as in the case of the coating layer 1.

この時の微粒子顔料の平均配設密度は１０３個／　１１
１１１１２であった。At this time, the average arrangement density of fine particle pigments was 103/11
It was 11112.

１歪量」 被覆層１で用いた微粒子顔料５ｉ０２の重量部を１００
０重量部とした。　その組成は被覆層ｌの組成と同一と
じた。1 strain amount'' 100 parts by weight of fine particle pigment 5i02 used in coating layer 1
The amount was 0 parts by weight. Its composition was the same as that of the coating layer 1.

なお、設層方法ψ条件等は被覆層１の場合と同様に行っ
た。Note that the layer formation method ψ conditions, etc. were the same as in the case of the coating layer 1.

この時の微粒子顔料の平均配設密度は１０１０個／ｍｍ
２であった・ このような被覆層１〜８を有する磁気記録媒体用ベース
フィルムをそれぞれ、実際に工程流動した。　そして、
工程中でベースフィルム表面に発生するスジ状のキズの
有無を目視にて確認した。　なお工程の流動条件および
スジ状のキズの発生度の評価は下記に示す通りである。The average arrangement density of fine particle pigments at this time was 1010 particles/mm.
2. Each of the base films for magnetic recording media having such coating layers 1 to 8 was actually subjected to a process flow. and,
The presence or absence of streak-like scratches generated on the surface of the base film during the process was visually confirmed. The flow conditions of the process and the evaluation of the degree of occurrence of streak-like scratches are as shown below.

（１）工程の流動条件 アルマイ）・処理されたアルミ製のガイドローラ（φ５
０　ｍｍ）を５０本、配設した工程中を通過させた。(1) Process flow conditions
0 mm) were passed through the installed process.

この時の工程流動のスピードは１００ｍ／ｍｉｎであっ
た。The flow speed of the process at this time was 100 m/min.

（２）スジ状のキズの発生度の評価 Ｏ・・・・・・０〜３本／巾１　ｃｍＸ長さ１ｍベース
フィルム Δ　・・・・・・４〜１０木／　ｉｌ　１　ｃｍＸ長さ
１ｍベースフィルム ×　・・・・・・１０木以」−／ｌコ１　ｃｍＸ長さ１
ｍベースフィルム ××・・・・・・２０木以」二／巾１　ｃｍＸ長さ１ｍ
ベースフィルム 結果を表１に示した。(2) Evaluation of the incidence of streak-like scratches O: 0 to 3 lines/width 1 cm x length 1 m Base film Δ...4 to 10 wood/il 1 cm x length 1 m Base film
m Base film XX...20 wood size 2/width 1 cm x length 1 m
The base film results are shown in Table 1.

なお、比較例は、被覆層１の組成から微粒子顔料ＳｉＯ
２を除いた被覆層（被覆層１０）および被Ｖｋ−Ｊごな
しのものを用いた。In addition, in the comparative example, from the composition of the coating layer 1, the fine particle pigment SiO
The coating layer except for the coating layer 2 (coating layer 10) and the one subjected to Vk-J were used.

表　　　　　１ 基板厚　　　ベースフィルム　　ベースフィルムサンプ
ルＮＯ，（戸）　　　被覆層組成　表面のケズレ実施例
２ 実施例１で作製した被覆層ｌを有するベースフィルム（
基板の厚さ３０μｍ）の被覆層１−に、以下に示すよう
な磁性層を形成した。Table 1 Substrate thickness Base film Base film sample No. (door) Coating layer composition Surface scratching Example 2 Base film with coating layer l prepared in Example 1
A magnetic layer as shown below was formed on the coating layer 1- of the substrate (thickness: 30 μm).

磁性層１（放射線硬ヒ型磁性層） 重量部 コバルト被覆針状 γ−Ｆｅ２Ｏ３ （長軸０．４川ｍ、 短軸０．０５ルｍ、 Ｈｃ　　６０００ｅ）　　　１２０部 α−Ａ文２０３粉末 （０，５μｍ粉状）　　　　　　２部 分散剤（大豆油精製レシチン）　３部 溶剤（ＭＥＫ／ｌ・ルエン ５０１５０）　　　　　１００部 に記組成物をボールミル中にて３時間混合し、針状磁性
酸化鉄を分散剤により良く湿潤させる。　次に アクリルニ重結合導入飽和 ポリエステル樹脂 １０部（固型分換算） アクリル二重結合導入塩酢ビ共重合体 １０部（固型分換算） アクリル二重結合導入ポリエーテル ウレタンエラス）・マー １０部（固型分換算） 溶剤（ＭＥＫ／）ルエン５０１５０） ２００部 潤滑剤（高級脂肪酸変性シリコーンオイル）３部 の／へインダーの混合物を良く混合溶解きせる。Magnetic layer 1 (radiation hardened magnetic layer) Part by weight Cobalt-coated acicular γ-Fe2O3 (long axis 0.4 m, short axis 0.05 m, Hc 6000e) 120 parts α-A texture 203 powder (0 , 5 μm powder) 2 parts powder (soybean oil refined lecithin) 3 parts solvent (MEK/l luene 50150) 100 parts of the above composition were mixed in a ball mill for 3 hours, and the acicular magnetic iron oxide was dispersed with a dispersant. Moisten well. Next, 10 parts of acrylic double bond-introduced saturated polyester resin (in terms of solid content) 10 parts of acrylic double bond-introduced salt-vinyl acetate copolymer (in terms of solid content) 10 parts of acrylic double bond-introduced polyether urethane elastomer (In terms of solid content) Solvent (MEK/)Luene 50150) 200 parts Lubricant (higher fatty acid modified silicone oil) 3 parts/Hinder mixture was well mixed and dissolved.

これを先の磁性粉処理を行ったボールミル中に投入し再
び４２時間混合分散させる。This was put into the ball mill that had been subjected to the magnetic powder treatment and mixed and dispersed again for 42 hours.

この様にして得られた磁性塗料を実施例１で作製したベ
ースフィルム」−に２μｍの厚さに塗布し、赤外線ラン
プまたは熱風により溶剤を乾燥させた後、表面平滑化処
理後、ＥＳＩ社製エレクトロカーテンタイプ電子線加速
装置を使用して、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流２０
ｍＡ、全照射量５　Ｍ　Ｒａ　ｄの条件下でＮ２雰囲気
下にて電子線を照射し、塗膜を硬化させた。The magnetic paint thus obtained was applied to a thickness of 2 μm on the base film prepared in Example 1, and after drying the solvent with an infrared lamp or hot air, after surface smoothing treatment, Using an electro-curtain type electron beam accelerator, the acceleration voltage was 150 KeV and the electrode current was 20.
The coating film was cured by irradiation with an electron beam in an N2 atmosphere under the conditions of mA and a total irradiation dose of 5 M Rad.

直重り瞥ヱ 重量部 Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金粉末 （Ｈｃ＝１２０００ｅ、 長袖０．４ｇ、ｍ、 短軸０，０５ルｍ、 ＢＥＴ比表面積５２ｍ２／ｇ）　　１２０塩化ビニル・
酢酸ビニル・ ビニルアルコール共重合体 （米国ＵＣＣ社製ＶＡＧＨ）　　　　　　７アクリル二
重結合導入 塩酢ビ共重合体　　　　　　　　　２０アクリル二重結
合導入ウレタン　　　　５ペンタエリスリトールアクリ
レート　　３メチルエチルケｉ・ン／トルエン を実施例１で作製したベースフィルム上に２１部ｍの厚
さに塗布し、電子線硬化とカレンダー加工を行った。Weight: Fe-Co-Ni alloy powder (Hc = 12000e, long sleeve 0.4g, m, short axis 0.05m, BET specific surface area 52m2/g) 120 Vinyl chloride.
Vinyl acetate/vinyl alcohol copolymer (VAGH manufactured by UCC, USA) 7 Acrylic double bond-introduced salt vinyl acetate copolymer 20 Acrylic double bond-introduced urethane 5 Pentaerythritol acrylate 3 Methyl ethyl cane/toluene in Example 1 It was coated onto the prepared base film to a thickness of 21 parts m, and subjected to electron beam curing and calendering.

これらを用いて、実際にフロッピーディスクを作製し、
ドロップアウト、接着性、耐久性、耐溶剤性を確認した
。　確認方法は以下に示すとおりである。Using these, we actually made a floppy disk,
Dropout, adhesion, durability, and solvent resistance were confirmed. The confirmation method is as shown below.

（１）　　ドロップアウト １２５ＫＨｚの単一信号を記録し、再生した場合の信号
が平均再生レベルの４０％未満の時間が８ｇ秒以上であ
るものの個数を全トラックについて数えた。　なお、表
１に示した数値は、ディスクシート１００枚中、１測具
」ニトロツブアウトのある枚数である。(1) A single signal with a dropout of 125 KHz was recorded, and the number of times when the signal was reproduced for less than 40% of the average reproduction level for 8 g seconds or more was counted for all tracks. The numerical values shown in Table 1 are the number of disks with 1 gage tool out of 100 disk sheets.

（２）耐久性 同一トラックの再生出力を連続して記録し、初期出力の
８０％の出力となる時間を耐久時間とする。(2) Durability The reproduction output of the same track is continuously recorded, and the time when the output reaches 80% of the initial output is defined as the durability time.

なお、サンプルＮｏ、１〜２は６００　ｒ、ｐ、、ｍ、
、ヘッドキャップｉｎｍのフェライトヘッドを用いた。In addition, samples No. 1 to 2 are 600 r, p, , m,
A ferrite head with a head cap of inm was used.

サンプルＮｏ、３−４は、３６００　ｒ、ｐ、ｍ、、ヘ
ッドキャップ０．４ｎｍセンダストヘッドを用いた。For samples No. 3-4, a 3600 r, p, m, head cap 0.4 nm Sendust head was used.

（３）接着性 セロテープにて、はり合わせて、引っ ばったときのハガレの状態を観察した。(3) Adhesiveness Glue them together with Sellotape and pull them together. I observed the state of the peeling when it hit.

（４）耐溶剤性 ガーゼにＭＥＫを浸し、塗膜がとける 状態を観察した。(4) Solvent resistance Soak MEK in gauze and dissolve the paint film. I observed the condition.

実施例３ 劃１１」 実施例１に示きれる被覆層１の組成に、さらに潤滑剤と
してミリスチン酩を７重量部加えて、これらの混合物を
被覆層ｌの場合と同様に厚さ３０μｍのポリエステル基
板上に処理・設層した。Example 3, Part 11'' To the composition of the coating layer 1 shown in Example 1, 7 parts by weight of myristic acid was added as a lubricant, and the mixture was applied to a polyester substrate with a thickness of 30 μm as in the case of the coating layer 1. Processed and layered on top.

なお、この時の微粒子顔料のｑｚ均配設密度は１０５個
／ｍ＋ｎ２であった。Incidentally, the qz uniform distribution density of the fine particle pigments at this time was 105 pieces/m+n2.

被覆層３２ 実施例１に示される被覆層ｌの組成に、さらに帯電防止
剤として第４級アンモニウム塩を１０重量部加えて、こ
れらの混合物を被覆層ｌの場合と同様に厚さ３０μｍの
ポリエステル基板上に処理・設層した。Covering layer 32 To the composition of the coating layer 1 shown in Example 1, 10 parts by weight of a quaternary ammonium salt as an antistatic agent was further added, and the mixture was formed into a polyester film having a thickness of 30 μm as in the case of the coating layer 1. Processed and layered on the substrate.

なお、この時の微粒子顔料の平均配設密度は１０５個／
Ｂｍ２であった。In addition, the average arrangement density of fine particle pigments at this time was 105 pieces/
It was Bm2.

これらの被覆層３工および被覆層３１の上に、実施例２
で示される磁性層ｌを設層した。On top of these three coating layers and coating layer 31, Example 2
A magnetic layer l shown in was formed.

そして実際にフロンピーディスクを作製し、ドロップア
ウトを測定した。　確認方法は以下に示すとおりである
。Then, we actually made a floppy disk and measured the dropout. The confirmation method is as shown below.

（１）ドロップアウト 実施例２と同様な方法で行った。(1) Dropout The same method as in Example 2 was used.

なお、Ｍｉｌｌ定雰囲気は２０’Ｃ５６０％ＲＨおよび
Ｏ’Ｃ！　６０％ＲＨの２つの条件で行った。In addition, Mill constant atmosphere is 20'C560%RH and O'C! The test was carried out under two conditions: 60% RH.

なお、比較例としては、被覆層ｌの−にに磁性層１を設
層したものを用いた。In addition, as a comparative example, one in which the magnetic layer 1 was provided on the - side of the covering layer 1 was used.

結果を表３に示した。The results are shown in Table 3.

実施例４ ３０μｍ厚さのポリエチレンテレフタレートの基板上に
、実施例１で用いた被覆層１を設層した。Example 4 The coating layer 1 used in Example 1 was formed on a polyethylene terephthalate substrate having a thickness of 30 μm.

この被覆層を設層前に、基板に対しコロナ放電処理を施
した。Before applying this coating layer, the substrate was subjected to corona discharge treatment.

コロナ放電処理は、ピラー社製コロナ処理機Ｐ−５００
ＶＡを用いてフィルム処理速度３０ｍ／分、電圧２００
ｖで実施した。Corona discharge treatment is carried out using Corona treatment machine P-500 manufactured by Pillar.
Using VA, film processing speed 30 m/min, voltage 200
It was carried out with v.

このようなコロナ放電処理をしたベースフィルムの表面
のケズレを下記のように判定した。The scratches on the surface of the base film subjected to such corona discharge treatment were determined as follows.

■　　０〜３本／　１　ｃｍＸ　１０ｍ○　　４〜１０
本／　１　ｃ＋ｎＸ　１０ｍ結果を表４に示した。■ 0~3 pieces/1 cmX 10m○ 4~10
This/1 c+nX 10m results are shown in Table 4.

表　　　　４ ）＆板厚ヘースフィルム　　　ベースフィルム表面のケ
ズレに）　　　被覆層組成　　（無処理）　　（コロナ
放電処理）表１〜表４の結果より、本発明の効果が明ら
かである。Table 4) & Plate Thickness Heath Film Base Film Surface Scraping) Coating Layer Composition (No Treatment) (Corona Discharge Treatment) From the results in Tables 1 to 4, the effects of the present invention are clear.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] （１）厚さ２０μｍ以上の可とう性基板上に、被覆層を
設層した磁気記録媒体用ベースフィルムにおいて、上記
被覆層が、重合性バインダーと平均粒径５０〜１５００
Åの微粒子顔料とを含有することを特徴とする磁気記録
媒体用ベースフィルム。(1) In a base film for a magnetic recording medium in which a coating layer is provided on a flexible substrate with a thickness of 20 μm or more, the coating layer contains a polymerizable binder and an average particle size of 50 to 1500 μm.
A base film for a magnetic recording medium, characterized in that it contains a fine particle pigment of . （２）重合性バインダーが、放射線硬化型化合物を架橋
重合させたものである特許請求の範囲第１項に記載の磁
気記録媒体用ベースフィルム。(2) The base film for a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the polymerizable binder is obtained by crosslinking polymerizing a radiation-curable compound. （３）重合性バインダーが、熱硬化型化合物を架橋重合
させたものである特許請求の範囲第１項に記載の磁気記
録媒体用ベースフィルム。(3) The base film for a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the polymerizable binder is a crosslinking polymerized thermosetting compound. （４）微粒子顔料の平均配設密度が、１０＾４〜１０＾
９個／ｍｍ＾２である特許請求の範囲第１項ないし第３
項のいずれかに記載の磁気記録媒体用ベースフィルム。(4) The average arrangement density of the fine particle pigment is 10^4 to 10^
Claims 1 to 3 which are 9 pieces/mm^2
The base film for a magnetic recording medium according to any one of Items 1 to 9. （５）厚さ２０μｍ以上の可とう性基板上に、被覆層を
設層した磁気記録媒体用ベースフィルムにおいて、上記
被覆層が、重合性バインダーと平均粒径５０〜１５００
Åの微粒子顔料と潤滑剤とを含有することを特徴とする
磁気記録媒体用ベースフィルム。(5) In a base film for a magnetic recording medium in which a coating layer is provided on a flexible substrate having a thickness of 20 μm or more, the coating layer contains a polymerizable binder and an average particle size of 50 to 1500 μm.
A base film for a magnetic recording medium, characterized by containing a fine particle pigment and a lubricant. （６）厚さ２０μｍ以上の可とう性基板上に、被覆層を
設層した磁気記録媒体用ベースフィルムにおいて、上記
被覆層が、重合性バインダーと平均粒径５０〜１５００
Åの微粒子顔料と帯電防止剤とを含有することを特徴と
する磁気記録媒体用ベースフィルム。(6) A base film for a magnetic recording medium in which a coating layer is provided on a flexible substrate with a thickness of 20 μm or more, in which the coating layer contains a polymerizable binder and an average particle size of 50 to 1500 μm.
A base film for a magnetic recording medium, characterized by containing a fine particle pigment and an antistatic agent. （７）厚さ２０μｍ以上の可とう性基板上に、被覆層を
設層した磁気記録媒体用ベースフィルムにおいて、上記
可とう性基板表面がコロナ放電処理されており、しかも
、上記被覆層が、重合性バインダーと平均粒径５０〜１
５００Åの微粒子顔料とを含有することを特徴とする磁
気記録媒体用ベースフィルム。(7) In a base film for a magnetic recording medium in which a coating layer is provided on a flexible substrate having a thickness of 20 μm or more, the surface of the flexible substrate is subjected to a corona discharge treatment, and the coating layer is Polymerizable binder and average particle size 50-1
A base film for a magnetic recording medium, comprising a fine particle pigment of 500 Å. （８）厚さ２０μｍ以上の可とう性基板上に設けられた
被覆層と、この被覆層上に設けられた磁気記録層とを有
する磁気記録媒体において、上記被覆層が、重合性バイ
ンダーと平均粒径５０〜１５００Åの微粒子顔料とを含
有することを特徴とする磁気記録媒体。(8) In a magnetic recording medium having a coating layer provided on a flexible substrate with a thickness of 20 μm or more, and a magnetic recording layer provided on this coating layer, the coating layer has a polymerizable binder and an average A magnetic recording medium comprising a fine particle pigment having a particle size of 50 to 1500 Å. （９）厚さ２０μｍ以上の可とう性基板上に設けられた
被覆層と、この被覆層上に設けられた磁気記録層とを有
する磁気記録媒体において、上記可とう性基板がコロナ
放電処理されてぉり、しかも上記被覆層が、重合性バイ
ンダーと平均粒径５０〜１５００Åの微粒子顔料とを含
有することを特徴とする磁気記録媒体。(9) In a magnetic recording medium having a coating layer provided on a flexible substrate with a thickness of 20 μm or more and a magnetic recording layer provided on the coating layer, the flexible substrate is treated with corona discharge. A magnetic recording medium further characterized in that the coating layer contains a polymerizable binder and a fine particle pigment having an average particle size of 50 to 1500 Å.